JPH0644934A - 低速陽電子発生装置 - Google Patents
低速陽電子発生装置Info
- Publication number
- JPH0644934A JPH0644934A JP19520592A JP19520592A JPH0644934A JP H0644934 A JPH0644934 A JP H0644934A JP 19520592 A JP19520592 A JP 19520592A JP 19520592 A JP19520592 A JP 19520592A JP H0644934 A JPH0644934 A JP H0644934A
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- JP
- Japan
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- target
- positron
- motor
- cooling
- slow
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ビームパワーを上げることを可能にし、高強
度の陽電子ビームを得ることができる低速陽電子発生装
置を得ることを目的とする。 【構成】 この発明においては、内部に冷却通路１０ａ
が形成されたターゲット１０と、このターゲット１０の
中心部に一端が接続され他端がモータ１２に接続された
軸１１とを備え、軸１１の内部には冷却通路１０ａと液
体連通した流路１１ａ，１１ｂが形成されたものであ
る。
度の陽電子ビームを得ることができる低速陽電子発生装
置を得ることを目的とする。 【構成】 この発明においては、内部に冷却通路１０ａ
が形成されたターゲット１０と、このターゲット１０の
中心部に一端が接続され他端がモータ１２に接続された
軸１１とを備え、軸１１の内部には冷却通路１０ａと液
体連通した流路１１ａ，１１ｂが形成されたものであ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は例えば陽電子顕微鏡な
どの線源として用いる低速陽電子発生装置に関するもの
である。
どの線源として用いる低速陽電子発生装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】図３は、例えばジャパニーズ・ジャーナ
ル・オブ・アプライド（Japanese Journal of Applied
Physics）Vol.30,No.5B,1991年５月 Ｌ936-Ｌ939頁に記
載された論文「モジュール光子位置コンバータによる多
数の低速陽電子を発生させる方法(Method to Generate
a Large Number of SlowPositrons with a Modular Pho
ton-Positron Converter)」に示された従来の低速陽電
子発生装置の概念図である。図において、１は熱に強い
金属で、例えばタンタル製のターゲット、２はターゲッ
ト１に対向して配設されたタングステン製のモデレータ
ー、３はモデレーター２に直交して配設された網目状の
引出し電極である。
ル・オブ・アプライド（Japanese Journal of Applied
Physics）Vol.30,No.5B,1991年５月 Ｌ936-Ｌ939頁に記
載された論文「モジュール光子位置コンバータによる多
数の低速陽電子を発生させる方法(Method to Generate
a Large Number of SlowPositrons with a Modular Pho
ton-Positron Converter)」に示された従来の低速陽電
子発生装置の概念図である。図において、１は熱に強い
金属で、例えばタンタル製のターゲット、２はターゲッ
ト１に対向して配設されたタングステン製のモデレータ
ー、３はモデレーター２に直交して配設された網目状の
引出し電極である。
【０００３】次に、動作について説明する。低速陽電子
発生装置は、線形加速器などにより加速したパルス状の
電子ビームを金属（ターゲット）にあて制動放射による
ｘ線の対生成を利用して陽電子を発生させる装置であ
る。まず、線形加速器で加速された１．０２ＭｅＶ以上
の電子ビームをターゲット１にあてる。電子は減速され
る時、制動放射によりｘ線を発生する。そのｘ線は、エ
ネルギーが１．０２ＭｅＶ以上であると対生成により陽
電子と電子を生成する断面積をもつ。発生した高速の陽
電子は、モデレーター２に飛び込む。その後、電子と非
弾性散乱を繰り返し、急速にそのエネルギーを失う。さ
らに、エキシトンの生成、フォノンの励起などを生じさ
せながら熱エネルギー程度まで減速される。このように
低速化された陽電子は再びモデレーター２の金属の表面
から再放出される。この陽電子を引出し電極３により引
き出し、その後取り出された低速陽電子を陽電子顕微鏡
等に用いる。
発生装置は、線形加速器などにより加速したパルス状の
電子ビームを金属（ターゲット）にあて制動放射による
ｘ線の対生成を利用して陽電子を発生させる装置であ
る。まず、線形加速器で加速された１．０２ＭｅＶ以上
の電子ビームをターゲット１にあてる。電子は減速され
る時、制動放射によりｘ線を発生する。そのｘ線は、エ
ネルギーが１．０２ＭｅＶ以上であると対生成により陽
電子と電子を生成する断面積をもつ。発生した高速の陽
電子は、モデレーター２に飛び込む。その後、電子と非
弾性散乱を繰り返し、急速にそのエネルギーを失う。さ
らに、エキシトンの生成、フォノンの励起などを生じさ
せながら熱エネルギー程度まで減速される。このように
低速化された陽電子は再びモデレーター２の金属の表面
から再放出される。この陽電子を引出し電極３により引
き出し、その後取り出された低速陽電子を陽電子顕微鏡
等に用いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の低速陽電子発生
装置においては、ターゲット１は、タンタル等の熱に強
い一枚の金属板を空間的に固定したものを用いていた。
そのため高エネルギーの電子ビームが速い周期でターゲ
ット１に当たると、強制水冷しているにもかかわらず、
高熱が発生して使用不能になるおそれがあり、そのた
め、ビームパワーや繰り返し周期を上げられないという
課題があった。
装置においては、ターゲット１は、タンタル等の熱に強
い一枚の金属板を空間的に固定したものを用いていた。
そのため高エネルギーの電子ビームが速い周期でターゲ
ット１に当たると、強制水冷しているにもかかわらず、
高熱が発生して使用不能になるおそれがあり、そのた
め、ビームパワーや繰り返し周期を上げられないという
課題があった。
【０００５】この発明は、上記のような課題を解消する
ためになされたもので、ビームパワーを上げることを可
能にし、高強度の陽電子ビームを得ることができる低速
陽電子発生装置を提供することを目的とする。
ためになされたもので、ビームパワーを上げることを可
能にし、高強度の陽電子ビームを得ることができる低速
陽電子発生装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に係
る低速陽電子発生装置においては、ターゲットの中心部
に、モータと直結したターゲットを回転させるための軸
を接続したものである。
る低速陽電子発生装置においては、ターゲットの中心部
に、モータと直結したターゲットを回転させるための軸
を接続したものである。
【０００７】この発明の請求項２に係る低速陽電子発生
装置においては、内部に冷却部が形成されたターゲット
と、このターゲットの中心部に一端が接続され他端がモ
ータに接続された軸とを備え、前記軸の内部には前記冷
却部と連通した流路が形成されたものである。
装置においては、内部に冷却部が形成されたターゲット
と、このターゲットの中心部に一端が接続され他端がモ
ータに接続された軸とを備え、前記軸の内部には前記冷
却部と連通した流路が形成されたものである。
【０００８】
【作用】この発明の請求項１の低速陽電子発生装置にお
いては、回転しているターゲットに電子が衝突するの
で、電子はターゲットに均等に衝突する。
いては、回転しているターゲットに電子が衝突するの
で、電子はターゲットに均等に衝突する。
【０００９】この発明の請求項２の低速陽電子発生装置
においては、回転しているターゲットに電子が衝突する
と共に、ターゲットは軸の流路から冷却部に入った冷却
水により冷却される。
においては、回転しているターゲットに電子が衝突する
と共に、ターゲットは軸の流路から冷却部に入った冷却
水により冷却される。
【００１０】
実施例１．以下、この発明の実施例を図について説明す
る。図１（ａ），１（ｂ）、図２はこの発明の一実施例
を示す図であり、図３と同一または相当部分は同一符号
を付し、その説明は省略する。図において、１０はラセ
ン状の冷却通路１０ａ（冷却部）を有するターゲット、
１１は先端部がターゲット１０の中心部に固着され内部
に流入路１１ａおよび流出路１１ｂを有する軸、１２は
軸１１の他端に取り付けられたモータ、１３は先端部が
モータ１２に接続された冷却配管である。
る。図１（ａ），１（ｂ）、図２はこの発明の一実施例
を示す図であり、図３と同一または相当部分は同一符号
を付し、その説明は省略する。図において、１０はラセ
ン状の冷却通路１０ａ（冷却部）を有するターゲット、
１１は先端部がターゲット１０の中心部に固着され内部
に流入路１１ａおよび流出路１１ｂを有する軸、１２は
軸１１の他端に取り付けられたモータ、１３は先端部が
モータ１２に接続された冷却配管である。
【００１１】上記の低速陽電子発生装置では、モータ１
２を駆動することでターゲット１０を回転させることが
できる。この状態でハイパワーの電子ビームをターゲッ
ト１０に衝突させてもターゲット１０は回転しているの
で、単位時間、単位面積当りに衝突する実効的な電子の
数は少なくなり、よって発熱、放射化、格子欠陥等を抑
えることが可能となり、線形加速器の繰り返し同期、パ
ワーを上げることができる。
２を駆動することでターゲット１０を回転させることが
できる。この状態でハイパワーの電子ビームをターゲッ
ト１０に衝突させてもターゲット１０は回転しているの
で、単位時間、単位面積当りに衝突する実効的な電子の
数は少なくなり、よって発熱、放射化、格子欠陥等を抑
えることが可能となり、線形加速器の繰り返し同期、パ
ワーを上げることができる。
【００１２】また、ターゲット１０の回転と同時に、冷
却水は、冷却配管１３、流入路１１ａ、ターゲット１０
内の冷却通路１０ａを通って流出路１１ｂを流れるよう
になっており、ターゲット１０は冷却水により積極的に
冷却される。
却水は、冷却配管１３、流入路１１ａ、ターゲット１０
内の冷却通路１０ａを通って流出路１１ｂを流れるよう
になっており、ターゲット１０は冷却水により積極的に
冷却される。
【００１３】なお、上記実施例ではターゲット１０のみ
を回転させたが、モデレータ２も回転させてもよい。ま
た、冷却部としてラセン形状の冷却通路１０ａについて
説明したが、勿論この形状に限定されるものではなく、
例えばターゲット内部が中空であってもよい。
を回転させたが、モデレータ２も回転させてもよい。ま
た、冷却部としてラセン形状の冷却通路１０ａについて
説明したが、勿論この形状に限定されるものではなく、
例えばターゲット内部が中空であってもよい。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の請求項
１の低速陽電子発生装置によれば、回転しているターゲ
ットに電子が衝突するようになっているので、電子はタ
ーゲットに均等に衝突し、ターゲットの発熱を低く抑え
えることができ、ターゲットの放射化や、その表面の格
子欠陥を抑えることができる。その結果、線形加速器の
繰り返し同期や出力を上げることが可能となり、大出力
の低速陽電子ビームを得ることができる。
１の低速陽電子発生装置によれば、回転しているターゲ
ットに電子が衝突するようになっているので、電子はタ
ーゲットに均等に衝突し、ターゲットの発熱を低く抑え
えることができ、ターゲットの放射化や、その表面の格
子欠陥を抑えることができる。その結果、線形加速器の
繰り返し同期や出力を上げることが可能となり、大出力
の低速陽電子ビームを得ることができる。
【００１５】また、この発明の請求項２の低速陽電子発
生装置によれば、回転しているターゲットに電子が衝突
するとともに、冷却水によりターゲットは冷却するよう
になっているので、ターゲットの発熱をより低く抑える
ことができ、請求項１の低速陽電子発生装置よりもさら
に大出力の低速陽電子ビームを得ることができる。
生装置によれば、回転しているターゲットに電子が衝突
するとともに、冷却水によりターゲットは冷却するよう
になっているので、ターゲットの発熱をより低く抑える
ことができ、請求項１の低速陽電子発生装置よりもさら
に大出力の低速陽電子ビームを得ることができる。
【図１】（ａ）はこの発明の一実施例を示す斜視図、
（ｂ）は（ａ）のターゲットの側断面図である。
（ｂ）は（ａ）のターゲットの側断面図である。
【図２】この発明の説明図である。
【図３】従来の低速陽電子発生装置の一例を示す説明図
である。
である。
１０ ターゲット １０ａ 冷却通路（冷却部） １１ 軸 １１ａ 流入路 １１ｂ 流出路 １２ モータ
Claims (2)
- 【請求項１】 ターゲットに電子ビームを衝突させ、陽
電子を発生させる低速陽電子発生装置において、前記タ
ーゲットの中心部にモータと直結されてターゲットを回
転させるための軸を接続したことを特徴とする低速陽電
子発生装置。 - 【請求項２】 内部に冷却部が形成されたターゲット
と、このターゲットの中心部に一端が接続され他端がモ
ータに接続されているとともに、内部に前記冷却部と連
通する流路が形成されている軸とを備え、前記ターゲッ
トは、前記モータにより回転されるとともに冷却部を通
る冷却水により冷却されるようになっていることを特徴
とする低速陽電子発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19520592A JPH0644934A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 低速陽電子発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19520592A JPH0644934A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 低速陽電子発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0644934A true JPH0644934A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16337209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19520592A Pending JPH0644934A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 低速陽電子発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644934A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996003663A1 (en) * | 1994-07-28 | 1996-02-08 | The Trustees Of The University Of Pennsylvania | AN ELECTRONIC PHANTOM SOURCE FOR η-RAY CAMERAS |
| JP2002181999A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 電子線照射装置 |
| JP2006284344A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hitachi Eng Co Ltd | 二次荷電粒子発生装置 |
-
1992
- 1992-07-22 JP JP19520592A patent/JPH0644934A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996003663A1 (en) * | 1994-07-28 | 1996-02-08 | The Trustees Of The University Of Pennsylvania | AN ELECTRONIC PHANTOM SOURCE FOR η-RAY CAMERAS |
| US5502303A (en) * | 1994-07-28 | 1996-03-26 | Trustees Of The University Of Pennsylvania | Electronic phantom source for gamma-ray cameras |
| JP2002181999A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 電子線照射装置 |
| JP2006284344A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hitachi Eng Co Ltd | 二次荷電粒子発生装置 |
| JP4704788B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2011-06-22 | 株式会社日立エンジニアリング・アンド・サービス | 二次荷電粒子発生装置 |
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