JP2002181453A

JP2002181453A - 真空アーク再溶解法装置およびその方法

Info

Publication number: JP2002181453A
Application number: JP2001260798A
Authority: JP
Inventors: Mark Gilbert Benz; マーク・ギルバート・ベンツ; Michael Francis Henry; マイケル・フランシス・ヘンリー; Thomas Carter William Jr; ウィリアム・トーマス・カーター，ジュニア; Bernard Patrick Bewlay; バーナード・パトリック・ビウレイ
Original assignee: General Electric Co
Current assignee: General Electric Co
Priority date: 2000-08-31
Filing date: 2001-08-30
Publication date: 2002-06-26
Also published as: EP1184470B1; RU2258089C2; KR20020018135A; CN1351181A; EP1184470A3; DE60121395T2; KR100845371B1; DE60121395D1; EP1184470A2; US6295309B1

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】真空アーク再溶解（ＶＡＲプロセス＝Ｖａｃｃ
ｕｍＡｒｃＲｅｍｅｌｔｉｎｇ）におけるインゴットシ
ェルフの崩壊による溶融物汚染の防止。【解決手段】ＶＡＲ装置は、炉室１４、炉室内で再溶解
される材料で形成された消耗電極１２および炉室内のル
ツボ１６を含む。ルツボは、消耗電極からの溶解物を収
集するための容器を形成する壁を備える。壁の少なくと
も一部は、シェルフの下側が溶解しシェルフの上側が形
成されるにつれて、シェルフの機械的安定化のための面
積を付与するようにテクスチャ加工されている。ＶＡＲ
プロセスにおいて、消耗電極の先端から材料の溶解を生
じるために電極とルツボの底部との間で直流電流を励起
し、消耗電極からの溶解物を収集するための容器を形成
するテクスチャ加工した壁を備える冷却ルツボの上で炉
室に装填される。溶解物は、凝固材料の下側境界に先ん
じてルツボのテクスチャ加工した部分に隣接して形成さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空アーク再溶解
（ＶＡＲ=Vaccum arc remelting）のための装置および
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＶＡＲは、偏析感応性合金(egregation-
sensitive alloys)を制御しながら凝固するためのプロ
セスである。そのプロセスでは、円筒形の合金電極を、
炉の水冷式銅ルツボ内に装填する。炉内の空気を抜き、
電極（カソード）とルツボ（アノード）底部の原料との
間に直流アークを励起する。アークは原料と電極チップ
の両方を加熱し、最終的に両者を溶解する。電極チップ
が溶解してしまうと、溶解金属はルツボ内にしたたり落
ちる。このプロセスでは、完全に凝固インゴットへの転
移帯である軟泥状領域に至る液状溶解池が維持される。
ルツボの直径は電極の直径より大きい。その結果、常時
収縮する電極を、アノード池表面に向けて下方に移動
し、電極チップと池との間の平均距離を一定に保つこと
ができる。電極チップから液状金属池表面までの平均距
離は、電極ギャップ（ｇ_e）と呼ばれる。

【０００３】冷却水がルツボ壁から抽熱するにつれて、
壁に隣接する溶解金属が凝固する。池表面の近傍でルツ
ボ壁に接して凝固する材料の固体層は、「シェルフまた
は棚(shelf)」と呼ばれる。溶融池表面下のある距離
で、材料は、完全に凝固し、非常に稠密な合金インゴッ
トを生じる。十分な時間の経過後、定常状態の状態が、
完全に凝固インゴットベース上部に位置する溶解物のシ
ェルフとなった「ボウル(bowl)」からなるものに徐々に
変化する。

【０００４】ＶＡＲにより、材料電極が、微細な粒径を
有し、改善された化学的並びに物理的均質性を有するイ
ンゴットに転換される。ＶＡＲは、（「合金７１８」の
ような）ニッケル系「超合金」の溶解に特に適する。こ
れらの材料は、相当量の反応性元素を含有する。ＶＡＲ
では、含有ガス、特に水素および酸素、非金属介在物、
中心ポロシティおよび偏析が低減される。再溶解合金の
延性や疲労強度といった機械的特性は改善される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ＶＡＲプロセスにおい
ては、マンガン、アルミニウム、クロムといった揮発性
汚染種が蒸発する。これらの元素の蒸発種(vapor speci
es)は、凝固物質のシェルフのすぐ上のルツボ壁の領域
といった冷表面で凝縮する。さらに、電極アークが電極
表面を移動すると、一部の粒子は溶融池からルツボ壁に
対して飛散し、そこで凝縮している蒸気種の形成皮膜に
よって捕獲され得る。

【０００６】シェルフが形成されるにつれ、高融点の溶
質希薄材料は、凝縮された揮発性種およびルツボ壁を覆
う飛沫に接して固化する最初の液状の金属である。さら
に、溶解が進むにつれ、液状の金属池の表面に存在する
酸化物および窒化物の介在物は通常、溶融池の側方に押
しやられ、シェルフにおいて凝固物に固化する。

【０００７】電極が溶解し液状の金属がルツボを満たす
につれて、インゴットシェルフは下側から溶解し、他
方、上側に新しいシェルフが形成される。溶解とシェル
フ形成の定常状態が維持される場合、シェルフが漸次的
に形をなし、溶解し、溶融池の表面とともに上方に進
む。定常状態が持続する限り、シェルフは、ルツボ壁に
接して凝固する溶融飛沫と凝縮する蒸気種との間のバリ
ヤーとして機能する。しかし定常状態が維持できない場
合、シェルフは不安定になり、崩壊し、蒸気種皮膜、飛
沫および高融点溶質希薄材料をドラグしながら、溶融池
に落下する。溶質希薄材料は、光沢のある「白点」とし
てインゴットに現れる。溶質希薄材料が酸化物種を伴っ
ている場合、溶質希薄材料は「くすんだ白点」として現
れる。溶質希薄材料および酸化物種のこうした領域は、
初期破壊の開始の場であり、その材料から製造された部
品の寿命は結果として短縮する。

【０００８】飛沫および酸化物種の領域による溶融物の
汚染を回避するＶＡＲ炉およびプロセスが必要である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、突然の破壊を
防ぐためにインゴットシェルフを安定させることによっ
て汚染を回避するＶＡＲプロセスおよび炉を提供する。
ＶＡＲプロセスは、シェルフが不安定にならないように
固定させるルツボ壁を特徴とする新規な設計の装置にお
いて実施される。ＶＡＲ装置は、炉室、炉室内で再溶解
される材料で形成された消耗電極および炉室内のルツボ
を含む。ルツボは、消耗電極からの溶融物を収集する容
器を形成する壁を備える。壁は、凝固する溶融物を機械
的に安定させる増大した表面積を付与するようにテクス
チャ加工されている。

【００１０】真空アーク再溶解プロセスは、消耗電極か
らの溶解物を収集する容器を形成するテクスチャ加工し
た壁を備える冷却ルツボの上で消耗電極炉室に装填する
ことからなる。プロセスは、電極の先端から材料の溶解
を生じる電極とルツボの底部との間で直流電流を励起す
ることを含む。溶融物はルツボ内で先端から収集され
る。溶解物は冷却されてインゴットを形成するが、凝固
材料の下側境界に先んじてルツボのテクスチャ加工した
壁に隣接して形成される凝固物のシェルフを特徴とす
る。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明によれば、ＶＡＲルツボ壁
は、シェルフの下側が溶解しシェルフの上側が形をなす
につれて、シェルフの機械的安定化のために増大した表
面積を付与するようにテクスチャ加工されている。テク
スチャ加工した表面とは、平坦な表面全体にわたって増
大した表面積を付与する不均一または乱様な表面であ
る。その表面は、図示の通り溝を付けるか、または交番
するリッジ（ridge）やリブ（rib）によりパターン化ま
たは波形加工してもよい。表面を、丸溝（flute）、襞
（pleat）、溝（groove）やくぼみ（indent）といった
刻印（impression）により特徴づけしてもよく、また
は、表面を、筋（furrow）、波皺（ripple）またはリッ
ジ（ridge）による輪郭形成することもできる。

【００１２】上記および他の特徴は、本発明の好適な実
施形態を、非限定的な実施例として記載する、図面およ
び以下の詳細な検討によって明白になるであろう。

【００１３】図１はＶＡＲ炉１０の略切取内部図であ
り、図２は、凝固インゴットの一部を示す炉ルツボ壁３
８１の断面の略図である。図１および図２において、円
筒形の合金電極１２が、水冷式銅ルツボ１６の上で炉室
１４内に装填される。炉１０は、直流電源１８、真空ポ
ート２０、冷却水ガイド２２、ラム駆動スクリュー２４
およびラム駆動モータアセンブリ２６を含む。

【００１４】図１および図２において、操作にあたり、
炉室１４内の空気を引き、電極（カソード）１２とルツ
ボ１６底部（アノード）の原料（例えば金属チップ）と
の間に直流（ｄｃ）アークが励起する。アークは原料と
電極チップ２８の両方を加熱し、最終的に両者を溶解す
る。電極チップ２８が溶解してしまうと、溶解金属はし
たたり落ち、下方に溶解池３０を形成する。ルツボの直
径は代表的には電極の直径より５０〜１５０ｍｍ大きい
ので、電極１２は、アノードの池に向け下方に移動し、
電極チップ２８と池表面３２の間の平均距離を維持す
る。

【００１５】冷却水３６がルツボ壁３８から抽熱する
につれて、壁に隣接する溶解金属が凝固する。溶融池表
面下のある距離で、合金は完全に凝固し、非常に稠密な
インゴット４０を生じる。ある時間経過後、定常状態
は、十分に凝固したインゴットベースの上部に位置する
溶解した「ボウル」を特徴とするものに徐々に変化す
る。さらに多くの材料が凝固するにつれて、インゴット
４０は成長する。

【００１６】溶解が進むにつれ、電極に存在する酸化物
および窒化物の介在物が、溶解池３０の表面３２に浮上
する。酸化物および窒化物種は、通常、溶解池３０の側
方に押しやられ、溶解池表面３２の直下の溶解界面にお
ける凝固物よりなるシェルフ４２において凝固物に固化
する。シェルフ４２のすぐ上では、飛沫と蒸気種の凝線
物が、クラウン（王冠）４４と呼ばれる外皮状の縁を形
成する。

【００１７】溶解シーケンスの間に、条件によってはシ
ェルフ４２またはクラウン４４をルツボ壁３８から脱離
させることもできる。シェルフ４２が崩壊し、シェルフ
物およびクラウン物が溶解池３０に落下する。それらの
物は溶解池に沈み、そこでシェルフ物は再溶解し、クラ
ウンの酸化物および窒化物をクラスタ欠陥として残す。
または、シェルフが塊として大きい場合、それは部分的
に再溶解され得るにすぎず、結果的に酸化物または窒化
物の種が付着したまま固化する。

【００１８】図３、４、５、６および７は、本発明によ
るテクスチャ加工した表面５２を備えたルツボ壁３８を
示す。図３は、溝付きルツボ壁３８の略平面図である。
図４は、炉ルツボ壁３８、テクスチャ加工したルツボ壁
の表面５２および凝固インゴット４０の略断面図であ
る。図５は、溝付きルツボ壁３８の一部の略立面図であ
る。図６は、テクスチャ加工した表面５２が垂直向きの
溝４６によりもうけられたルツボの全円周の略平面図で
ある。図７は、テクスチャ加工した表面５２が垂直向き
の溝４６により設けられたルツボ１６の断面の略平面図
である。各図において、ルツボ壁３８は、シェルフと基
礎インゴットとの間において一つまたは連続した支持リ
ガメント(ligament)が凝固するようにテクスチャ加工さ
れている。リガメントは、シェルフの下側が溶解しシェ
ルフの上側が形をなすにつれ、シェルフの機械的安定化
を賄う。テクスチャ加工した壁表面５２に相補的である
インゴットのテクスチャ化された凝固表面は、シェルフ
を支持し、機械的に安定させる。また、テクスチャ加工
した表面５２は、水冷された銅と液状金属池との間の増
大した接触面積により、形成シェルフからの抽熱も増大
させる。増大した抽熱はシェルフの厚さを増大させ、シ
ェルフを強化しさらに安定させる。より厚くなり、支持
され、より安定化、したシェルフは、凝固インゴットの
突然の破壊および結果として生じる汚染に抵抗する。

【００１９】図３、４、５、６および７には、傾斜側壁
４８と別の平坦なルツボ壁表面５２に、組付けた平坦な
底部５０よりなる溝４６を設けたルツボ壁３８が示され
ている。溝４６の形状、深さおよび間隔は、溝が容易に
液状の金属で満たされ、リブに凝固し、シェルフ４２が
下側から溶解し上側に形成される際に完全には再溶解し
ないように選択される。

【００２０】溝４６は溝のベースに直角な垂直線から外
方に曲げることができ、溝のコーナは、溝の充填の容易
さおよび、インゴット凝固後のルツボからのインゴット
の取り出しの容易さを考慮して丸めることができる。溝
４６は、垂直線から約６０°まで、望ましくは垂直線か
ら約５°から３０°曲げることができる。好ましくは、
溝４６は、垂直線から約１０°から２０°曲げることが
できる。

【００２１】いずれのテクスチャ加工構成についても、
鋭角なコーナにアールをつけ、インゴットの取り出しを
容易にし、結果として得られるインゴットの鋭角なコー
ナを避けることができる。アールの測度は、アール付け
弧の内側から測定されたアールを付けたコーナの半径に
より記述することができる。コーナのアール付けにあた
っては、溝幅の最大１／２倍、望ましくは溝の約１／８
〜１／２倍、好ましくは溝幅の約１／４〜１／２倍と、
広範な半径が適用できる。

【００２２】溝の形状は、矩形から、台形、半円形まで
変えることができる。容易に充填され、インゴットが完
全に凝固した後ルツボ１６からのインゴット４０の取り
出しを可能にするすべての形状が、適用できる。溝の深
さは、１／８〜３／４インチ、好適には約１／４〜１／
２インチの範囲をとり得る。典型的な溝幅は、約１／８
〜２インチ、好適には約１／４〜１／２インチの範囲を
とり得。ほとんどの例において、溝の大きさはルツボの
大きさによって変わる。ルツボの円周に対する溝の深さ
または幅の比率は、約０．００１〜０．０５、望ましく
は約０．００２〜０．０４、好ましくは約０．００６〜
０．０２の範囲で変えることができ、内側円周のインチ
あたりの溝の頻度は、約０．１〜５、望ましくは約０．
３〜４、好ましくは０．５から３の範囲で変えることが
できる。

【００２３】図３、４、５、６および７は、ルツボ壁３
８が台形の溝４６により溝を付けられた、好適な実施例
を示している。矩形から半円形までの他さまざまな形状
が使用することができる。例えば、容易に充填され、イ
ンゴットが完全に凝固した後ルツボからの、インゴット
の取り出しを可能にするすべての形状が、適用できる。

【００２４】上記および他の特徴は、本発明の好適な実
施形態を、非限定的な実施例として記載する、図８およ
び以下の詳細な検討によって明白になるであろう。

【００２５】

【実施例】図８は、１例として本発明の好適な態様を用
いて形成された小試験片による標準の商用ＶＡＲ溶解条
件のもとで凝固した超合金インゴット、「合金７１８」
（概ねＮｉ，Ｃｒ１９％，Ｆｅ１８％，Ｎｂ５％，Ｍｏ
３％，Ｔｉ１％，Ａｌ０．６％）の表面の写真である。
この実施例では、標準の商用グレード２０インチ径の、
ＶＡＲルツボの上側部分が、２つの９０°円弧の平滑な
壁の比較区分により分離された２つの９０°円弧のテク
スチャ加工した壁の試験区分を備えるように修正され
た。

【００２６】ルツボ壁のテクスチャ加工では、ルツボ壁
の内側円周の１／２インチあたり１個の間隔で生じる約
１／４インチの深さで幅１／４インチの一連の垂直溝を
設けた。深さおよび幅は、溝内で凝固するリブが、ルツ
ボ内の液状の金属が上昇するにつれて再溶解しないよう
に選択された。内側円周での位置の頻度は、再溶解シェ
ルフの堅固な安定を与えるように選択された。側壁の溝
は、溝のベースに直角な垂直線から外方に約１４°曲
げ、溝のコーナは、液状の金属による溝の充填の容易さ
およびインゴットが凝固した後、のルツボからのインゴ
ットの取り出しの容易さを考慮してアールをつけた。

【００２７】プロセスにより、鋳造プロセスの間に安定
したシェルフが製造されたことが観察され、図８に示し
た「合金７１８」の鋳物は、テクスチャ加工した壁を設
けていない炉で鋳造したインゴットに比べて、白点やく
すんだ白点が少ないこと特徴とした。

【００２８】本発明の好適な実施形態を説明したが、本
発明は変更および修正が可能であり、従って、実施例の
厳密な詳細に限定されるべきではない。例えば、本発明
は、高合金鉄基鋼またはＴｉ−１７（Ｔｉ，Ａｌ５％，
Ｃｒ４％，Ｍｏ４％，Ｓｎ２％、Ｚｒ２％）のような高
合金チタンといった好適な材料のいかなるものを鋳造す
るためのプロセスと連係して使用することができる。図
９、１０、１１および１２は、テクスチャ加工した壁５
２の別の例を示している。図９はクレバス（crevice）
５６およびピーク５８のテクスチャ加工を示し、図１０
は平坦な底部５０を有するピーク５８を示し、図１１は
クレバス５６を有する平坦な頂部６０を示しており、図
１２はアールを付けた波状の輪郭６２よりなる別の好適
な構造を示す。本発明は、以下の請求項の範囲に該当す
る変更および改変の全てを含む。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＶＡＲ炉の略切取内部図である。

【図２】炉ルツボ壁および凝固インゴットの断面の略図
である。

【図３】溝付きルツボ壁の略平面図である。

【図４】凝固インゴットの一部を有する溝付きルツボ壁
の略平面図である。

【図５】溝付きルツボ壁の一部の略立面図である。

【図６】ルツボの全円周の略平面図である。

【図７】テクスチャ加工した炉ルツボ壁および凝固イン
ゴットの断面の略図である。

【図８】リブ押込み加工の試験パターンを有するインゴ
ットの表面の写真である。

【図９】代替的なテクスチャ加工した壁の略図である。

【図１０】代替的なテクスチャ加工した壁の略図であ
る。

【図１１】代替的なテクスチャ加工した壁の略図であ
る。

【図１２】代替的なテクスチャ加工した壁の略図であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者マイケル・フランシス・ヘンリーアメリカ合衆国、ニューヨーク州、スケネクタデイ、ロウ・ロード、1302番 (72)発明者ウィリアム・トーマス・カーター，ジュニアアメリカ合衆国、ニューヨーク州、ゴールウェイ、パース・ロード、1949番 (72)発明者バーナード・パトリック・ビウレイアメリカ合衆国、ニューヨーク州、スケネクタデイ、ボールタウン・ロード、2305番Ｆターム(参考） 4K046 AA03 BA03 CB01 CC01 CD04 CE09 4K063 AA04 AA16 BA03 CA03 DA19 EA01 FA53 FA73

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】炉室（１４）と、前記炉室（１４）内で再溶解する材料で形成された消耗
電極（１２）と、前記炉室（１４）内のルツボ（１６）であって、前記ル
ツボ（１６）は、前記消耗電極（１２）からの溶解物を
収集する容器を形成する壁から構成されており、前記壁
はテクスチャ加工されることにより凝固溶解物を機械的
に安定させるべく増大した表面積を付与することを特徴
とする、真空アーク再溶解法装置（１０）。
【請求項２】前記テクスチャ加工した壁が、前記凝固
溶解物質のシェルフ（４２）の固定を行う請求項１記載
の装置（１０）。
【請求項３】前記テクスチャ加工した壁が、平坦な表
面にわたって増大した表面積を付与する不均一または乱
様な表面（５２）を設けた、請求項１記載の装置（１
０）。
【請求項４】前記テクスチャ加工した壁が、交番する
リッジや溝を有す施条、パターン化または波形にされた
表面（５２）を設けた、請求項１記載の装置（１０）。
【請求項５】前記テクスチャ加工した壁が、丸溝、
襞、刻印、くぼみまたは溝を設けた請求項１記載の装置
（１０）。
【請求項６】前記テクスチャ加工した壁が、筋、波皺
またはリッジによる輪郭形状にされている請求項１記載
の装置（１０）。
【請求項７】前記テクスチャ加工した壁が、ほぼ垂直
向きの溝による輪郭形状にされている請求項１記載の装
置（１０）.
【請求項８】前記テクスチャ加工した壁が、垂直線か
ら６０°未満で曲げた溝（４６）にって輪郭形状にされ
ている請求項１記載の装置（１０）。
【請求項９】前記テクスチャ加工した壁が、垂直線か
ら約１０°〜２０°曲げた溝（４６）によって輪郭形状
にされている請求項１記載の装置（１０）。
【請求項１０】前記テクスチャ加工した壁が、約１／
８〜３／４インチの溝深さ、約１／８〜２インチの幅、
および約３／８〜４インチの溝間隔を有するほぼ垂直の
溝（４６）によって輪郭形状にされている請求項１記載
の装置（１０）。
【請求項１１】前記テクスチャ加工した壁が、約１／
４〜１／２インチの溝深さ、約１／４〜１／２インチの
幅、および約１／２〜３／４インチの溝間隔を有するほ
ぼ垂直の溝（４６）によって郭形状にされている請求項
１記載の装置（１０）。
【請求項１２】前記テクスチャ加工した壁が、溝幅の
約１／２倍まででアールを付けたほぼ垂直の溝（４６）
によって郭形状にされている請求項１記載の装置（１
０）。
【請求項１３】前記テクスチャ加工した壁が、溝幅の
約１／４〜１／２倍でアールをつけたほぼ垂直の溝（４
６）によって郭形状にされている請求項１記載の装置
（１０）。
【請求項１４】前記テクスチャ加工した壁がほぼ垂直
の溝（４６）によって輪郭形状にされており、ルツボ
（１６）の円周に対する溝（４６）の深さまたは幅の比
率が約０．００１〜０．０５であり、ルツボ（１６）の
内側円周のインチあたりの溝（４６）の頻度が約０．１
〜５である請求項１記載の装置（１０）。
【請求項１５】前記テクスチャ加工した壁が、ほぼ垂
直の溝（４６）によって輪郭形状にされており、ルツボ
（１６）の円周に対する溝（４６）の深さまたは幅の比
率が約０．００２〜０．０４であり、ルツボ（１６）の
内側円周のインチあたりの溝（４６）の頻度が約０．３
〜４である、請求項１記載の装置（１０）。
【請求項１６】前記テクスチャ加工した壁がほぼ垂直
向きの溝（４６）によって輪郭形状にされており、ルツ
ボ（１６）の円周に対する溝（４６）の深さまたは幅の
比率が約０．００６〜０．０２であり、ルツボ（１６）
の内側円周のインチあたりの溝（４６）の頻度が約０．
５〜３である請求項１記載の装置（１０）。
【請求項１７】前記テクスチャ加工した壁が、交番す
るクレバス（５６）およびピーク（５８）を設けた請求
項１記載の装置（１０）。
【請求項１８】前記テクスチャ加工した壁が、交番す
る平坦な底部およびピーク（５８）を設けた請求項１記
載の装置（１０）。
【請求項１９】前記テクスチャ加工した壁が、交番す
る平坦な頂部（６０）およびクレバス（５６）を設けた
請求項１記載の装置（１０）。
【請求項２０】前記テクスチャ加工した壁が、アール
を付けた波状の輪郭（６２）を設けた請求項１記載の装
置（１０）。
【請求項２１】消耗電極（１２）から溶解物を収集する
ための容器を形成するべくテクスチャ加工した壁から構
成される冷却ルツボ（１６）の上で前記消耗電極（１
２）を炉室（１４）内に装填し、前記電極（１２）とルツボ（１６）の底部との間に直流
電流を励起して前記電極（１２）の先端から材料の溶解
を生ぜしめ、前記先端からの溶解物を前記ルツボ（１６）に収集し、前記溶解物を冷却してンゴットを形成する真空アーク再
溶解プロセスであって、前記インゴットは、この真空アーク再溶解プロセス凝固
材料の下側境界に先んじて前記ルツボ（１６）の前記テ
クスチャ加工した壁に隣接して形成される凝固物からな
るものであることを特徴とするインゴットを形成するこ
とを含む、真空アーク再溶解方法。
【請求項２２】前記テクスチャ加工した壁が、前記シ
ェルフ（４２）を安定させ、前記壁からの前記シェルフ
（４２）の突然の脱落を予防する、請求項２１記載の方
法。
【請求項２３】前記テクスチャ加工した壁が、増大し
た表面積を平坦な表面にわたって付与する不均一または
乱様な表面（５２）を設けた請求項２１記載の方法。
【請求項２４】前記テクスチャ加工した壁が、ほぼ垂
直の溝によって輪郭形状にされている請求項２１記載の
方法。
【請求項２５】前記テクスチャ加工した壁が、垂直線
から６０°未満で曲げた溝（４６）によって輪郭形状に
されている請求項２１記載の方法。
【請求項２６】前記テクスチャ加工した壁が、垂直線
から約１０°〜２０°曲げた溝（４６）によって輪郭形
状にされている請求項２１記載の方法。
【請求項２７】前記テクスチャ加工した壁が、約１／
８〜３／４インチの溝深さ、約１／８〜２インチの幅、
および約３／８〜４インチの溝間隔を有するほぼ垂直の
溝（４６）によって輪郭形状にされている請求項２１記
載の方法。
【請求項２８】前記テクスチャ加工した壁が、約１／
４〜１／２インチの溝深さ、約１／４〜１／２インチの
幅、および約１／２〜３／４インチの溝間隔を有するほ
ぼ垂直の溝（４６）によって輪郭形状にされている請求
項２１記載の方法。
【請求項２９】前記テクスチャ加工した壁が、溝幅の
約１／２倍まででアールを付けたほぼ垂直の溝（４６）
によって郭形状にされている請求項２１記載の方法。
【請求項３０】前記テクスチャ加工した壁が、溝幅の
約１／４〜１／２倍でアールをつけたほぼ垂直の溝（４
６）によって郭形状にされている請求項２１記載の方
法。
【請求項３１】前記テクスチャ加工した壁が、ルツボ
（１６）の内壁の約３／８インチ〜４インチあたりに１
個の溝の頻度で台形の溝（４６）を設けた請求項２１記
載の方法。
【請求項３２】前記テクスチャ加工した壁が台形の溝
（４６）を設けており、ルツボ（１６）の円周に対する
溝（４６）の深さまたは幅の比率が約０．００１〜０．
０５であり、ルツボ（１６）の内側円周のインチあたり
の溝（４６）の頻度が約０．１〜５である請求項２１記
載の方法。
【請求項３３】前記テクスチャ加工した壁が、台形の
溝（４６）を設けており、ルツボ（１６）の円周に対す
る溝（４６）の深さまたは幅の比率が約０．００２〜
０．０４であり、ルツボ（１６）の内側円周のインチあ
たりの溝（４６）の頻度が約０．３〜４である請求項２
１記載の方法。
【請求項３４】前記テクスチャ加工した壁が台形の溝
（４６）を設けており、ルツボ（１６）の円周に対する
溝（４６）の深さまたは幅の比率が約０．００６〜０．
０２であり、ルツボ（１６）の内側円周のインチあたり
の溝（４６）の頻度が約０．５〜３である請求項２１記
載の方法。
【請求項３５】前記テクスチャ加工した壁が、ルツボ
（１６）の内壁の約１／２インチ〜３／４インチあたり
に１個の溝の頻度で台形の溝（４６）を設けた請求項２
１記載の方法。
【請求項３６】前記テクスチャ加工した壁が、交番す
るクレバスおよびピーク（５８）を設けた請求項２１記
載の方法。
【請求項３７】前記テクスチャ加工した壁が、交番す
る平坦な底部およびピーク（５８）を設けた請求項２１
記載の方法。
【請求項３８】前記テクスチャ加工した壁が、交番す
る平坦な頂部（６０）およびクレバス（５６）を設けた
請求項２１記載の方法。
【請求項３９】前記テクスチャ加工した壁が、アール
を付けた波状の輪郭（６２）を設けた請求項２１記載の
方法。