CN100582289C - 组合式坩埚 - Google Patents

组合式坩埚 Download PDF

Info

Publication number
CN100582289C
CN100582289C CN200610061368A CN200610061368A CN100582289C CN 100582289 C CN100582289 C CN 100582289C CN 200610061368 A CN200610061368 A CN 200610061368A CN 200610061368 A CN200610061368 A CN 200610061368A CN 100582289 C CN100582289 C CN 100582289C
Authority
CN
China
Prior art keywords
crucible
combined type
copple
projection
resettlement section
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN200610061368A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101096748A (zh
Inventor
简士哲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd, Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority to CN200610061368A priority Critical patent/CN100582289C/zh
Publication of CN101096748A publication Critical patent/CN101096748A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100582289C publication Critical patent/CN100582289C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

本发明涉及一种组合式坩埚。该组合式坩埚包括坩埚及坩埚底座，该坩埚底座具有收容部，该坩埚设置在该收容部内，该坩埚的外壁与该收容部的内壁通过凹凸结构相啮合，用以增大坩埚及坩埚底座的接触面积。该组合式坩埚具有良好导热效果。

Description

组合式坩埚
技术领域
本发明涉及一种组合式坩埚，特别是一种蒸镀用坩埚(Crucible for Thermal Evaporation)。
背景技术
蒸镀(Evaporation)法是一种属于物理气相沉积(PhysicalVapor Deposition)的镀膜应用技术，其是将一种用于沉积薄膜的材料放置在一个坩埚(Crucible)内施加热能，使该材料分解为气态的原子、原子集合体或分子，以凝聚在待镀膜基板表面而形成薄膜，施加热能可以使用电阻加热器、卤素灯加热器或感应加热器等。蒸镀法可广泛应用于制造太阳能电池、半导体晶片、平面显示器、光学镜片、装饰镀膜等领域。坩蜗是蒸镀设备中的重要元件之一。
请同时参考图1和图2，一种组合式坩埚100由无底锥形坩埚110和坩埚底座120组成，该无底锥形坩埚110的尾部112放置在坩埚底座120的收容部122内。该坩埚110也可为尾部为U型坩埚及开口侧壁向外延伸具有一延伸部的坩埚等。蒸镀用坩埚通常采用耐高温抗蒸发的材质所制备，如钼、钨等。当无底锥形坩埚110放置在坩埚底座的收容部122内时，无底锥形坩埚110与坩埚底座的收容部122接触面积较小且无底锥形坩埚110与坩埚底座的收容部122之间存在一定的间隙130，进而造成导热效果不良。
有鉴于此，提供一种导热效果较好的组合式坩埚实为必要。
发明内容
以下将以实施例说明一种组合式坩埚。
一种组合式坩埚，其包括坩埚及坩埚底座，该坩埚底座具有收容部，该坩埚设置在该收容部内，该坩埚的外壁与该收容部的内壁通过凹凸结构相啮合，用以增大坩埚及坩埚底座的接触面积。
该组合式坩埚可以用于多种不同蒸镀设备，利用不同的加热方式对该组合式坩埚进行加热时，由于该坩埚的外壁与该收容部的内壁上相啮合，故坩埚会受热膨胀从而和坩埚底座紧密的贴合，所以二者之间具有很好的导热效果。由于制程的需要，需要利用冷却装置对组合式坩埚进行冷却时，由于该坩埚的外壁与该收容部的内壁上相啮合，坩埚和坩埚底座之间可以很好的贴合且具有较大的接触面积，故该组合式坩埚具有很好的冷却效果。
附图说明
图1是现有组合式坩埚的结构示意图。
图2是图1中组合式坩埚沿II-II的截面示意图。
图3是本发明组合式坩埚第一实施例的结构示意图。
图4是图3中组合式坩埚沿IV-IV的截面示意图。
图5是本发明组合式坩埚第二实施例的结构示意图。
图6是图5中组合式坩埚沿VI-VI的截面示意图。
图7是本发明组合式坩埚第三实施例的结构示意图。
图8是图7中组合式坩埚沿VIII-VIII的截面示意图。
图9是本发明组合式坩埚第四实施例的结构示意图。
图10是图9中组合式坩埚沿IX-IX的截面示意图。
图11是本发明组合式坩埚的坩埚的截面示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步详细说明。
请同时参考图3和图4，本发明第一实施例的组合式坩埚200包括坩埚210和坩埚底座220，该坩埚210为圆筒形，该坩埚210的外壁上的凸起为螺纹型排布的螺牙212，该坩埚底座220具有收容部222。该收容部222的内壁具有与上述螺牙212相配合的螺纹型凹槽224，该坩埚210可以旋入该坩埚底座220的收容部222内。该坩埚210的材料可以是钼、铜、钨、石英玻璃等。
请同时参考图5和图6，本发明第二实施例的组合式坩埚300和第一实施例的组合式坩埚200基本相同，不同之处在于：坩埚底座220所具有的收容部222的内壁上亦可具有螺纹型排布的螺牙224’，则该坩埚210的外壁具有与该收容部222的内壁上的螺牙224’相配合的凹槽212’。
利用不同的加热方式对该组合式坩埚200进行加热时，坩埚210因受热会少许膨胀，由于坩埚210的外壁具有螺纹型排布的螺牙212，该收容部222的内壁具有与该坩埚210的外壁上的螺牙212相配合的螺纹型凹槽224，坩埚210和坩埚底座220之间具有较大的接触面积，所以二者之间具有很好的导热效果。同理，利用冷却装置(图未示)对组合式坩埚200进行冷却时，坩埚210和坩埚底座220之间具有较大的接触面积，故该组合式坩埚200具有很好的冷却效果。
请同时参考图7和图8，本发明第三实施例的组合式坩埚400包括坩埚310和坩埚底座320，该坩埚310为削去尖端的锥形，该坩埚310的外壁上的凸起为沿坩埚310轴向延伸的V型凸起312，该V型凸起312的横截面为三角形，该坩埚底座320具有收容部322。该收容部322具有与该V型凸起312相配合的V型凹槽324，该坩埚310可以直接放入该坩埚底座320的收容部322内，该V型凸起312和与其相配合的V型凹槽324咬合，二者较紧密的贴合。
请同时参考图9和图10，本发明第四实施例的组合式坩埚500和第三实施例的组合式坩埚400基本相同，不同之处在于：坩埚底座320所具有的收容部322的内壁上亦可具有V型凸起324’，则该坩埚310的外壁具有与该收容部322的内壁上的V型凸起324’相配合的V型凹槽312’。
利用不同的加热方式对该组合式坩埚300进行加热时，由于坩埚310的外壁具有V型凸起312，该收容部322的内壁具有与该坩埚310的外壁上的V型凸起312相配合的V型凹槽324，坩埚310和坩埚底座320之间具有较大的接触面积，所以二者之间具有很好的导热效果。同理，利用冷却装置(图未示)对组合式坩埚300进行冷却时，坩埚310和坩埚底座320之间具有较大的接触面积，故该组合式坩埚300具有很好的冷却效果。
请参考图11，本发明实施例的组合式坩埚还可以包括另一种坩埚410，图11所示为该坩埚410的截面示意图，该坩埚410具有规则排布的凸起的横截面为截顶半圆形凸起。
可以理解的是，本发明实施例中所述坩埚的外壁与该收容部的内壁相啮合，还包括以下情况：坩埚的外壁具有规则排布的凸起与凹槽，同时收容部的内壁也具有规则排布的凸起与凹槽，在此，坩埚的外壁上的凸起和收容部的内壁上的凹槽相配合，坩埚的外壁上的凹槽和收容部的内壁上的凸起相配合，从而坩埚和坩埚底座之间可以很好的贴合在一起。
在此，坩埚也可以采用多层结构，例如陶瓷-金属-陶瓷复合夹层坩埚，坩埚的内壁和外壁为陶瓷，外壁结构为规则排布的凸起。陶瓷可为硼砂、氧化锆、氮化硼、氧化钛、硼化钛等无机非金属材料，坩埚的内壁和外壁之间设有金属层。金属层可为钼、铜、钛、钽、铬等。
另外，本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化。故，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种组合式坩埚，其包括坩埚及坩埚底座，该坩埚底座具有收容部，该坩埚设置在该收容部内，其特征在于：该坩埚的外壁与该收容部的内壁通过凹凸结构相啮合，用以增大坩埚及坩埚底座的接触面积。
2.如权利要求1所述的组合式坩埚，其特征在于：该坩埚的外壁具有规则排布的凸起，该收容部的内壁具有与该坩埚的外壁的凸起相配合的凹槽。
3.如权利要求2所述的组合式坩埚，其特征在于：该凸起为螺牙。
4.如权利要求2所述的组合式坩埚，其特征在于：该凸起为沿坩埚轴向延伸的V型凸起、柱型凸起、横截面为截顶半圆形凸起。
5.如权利要求2所述的组合式坩埚，其特征在于：该坩埚的材料是钼、铜、石英玻璃。
6.如权利要求1所述的组合式坩埚，其特征在于：该收容部的内壁具有规则排布的凸起，该坩埚的外壁具有与该收容部的内壁的凸起相配合的凹槽。
7.如权利要求6所述的组合式坩埚，其特征在于：该凸起为螺牙。
8.如权利要求6所述的组合式坩埚，其特征在于：该凸起为沿收容部轴向延伸的V型凸起、柱型凸起、横截面为截顶半圆形凸起。
9.如权利要求6所述的组合式坩埚，其特征在于：该坩埚的材料是钼、铜、石英玻璃。
10.如权利要求1所述的组合式坩埚，其特征在于：该坩埚的外壁具有规则排布的凸起和凹槽，该收容部的内壁具有与该坩埚的外壁的凸起和凹槽相配合的凹槽和凸起。
CN200610061368A 2006-06-28 2006-06-28 组合式坩埚 Expired - Fee Related CN100582289C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200610061368A CN100582289C (zh) 2006-06-28 2006-06-28 组合式坩埚

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200610061368A CN100582289C (zh) 2006-06-28 2006-06-28 组合式坩埚

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101096748A CN101096748A (zh) 2008-01-02
CN100582289C true CN100582289C (zh) 2010-01-20

Family

ID=39010824

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200610061368A Expired - Fee Related CN100582289C (zh) 2006-06-28 2006-06-28 组合式坩埚

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN100582289C (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011000502A1 (de) * 2011-02-04 2012-08-09 Solibro Gmbh Abscheidevorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Tiegels hierfür
CN105944777A (zh) * 2016-07-19 2016-09-21 苏州普京真空技术有限公司 一种方便煅烧使用的坩埚
CN107267923B (zh) * 2017-08-15 2019-05-17 佛山市南海区晶鼎泰智能科技有限公司 一种蒸镀复合金属膜层用的子母坩埚装置
CN107904665A (zh) * 2017-12-18 2018-04-13 江苏润弛太阳能材料科技有限公司 一种太阳能石英坩埚用定位夹板装置
WO2021153104A1 (ja) * 2020-01-28 2021-08-05 株式会社アルバック 蒸着源、蒸着装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2081959U (zh) * 1989-11-13 1991-07-31 杨任德 坩埚热体电炉
CN2133836Y (zh) * 1992-09-28 1993-05-19 中国建筑材料科学研究院 小型分析用熔样炉
CN1351181A (zh) * 2000-08-31 2002-05-29 通用电气公司 一种真空电弧重熔装置及其工艺
CN1598042A (zh) * 2004-08-31 2005-03-23 成建波 真空线源蒸发镀膜方法及其装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2081959U (zh) * 1989-11-13 1991-07-31 杨任德 坩埚热体电炉
CN2133836Y (zh) * 1992-09-28 1993-05-19 中国建筑材料科学研究院 小型分析用熔样炉
CN1351181A (zh) * 2000-08-31 2002-05-29 通用电气公司 一种真空电弧重熔装置及其工艺
CN1598042A (zh) * 2004-08-31 2005-03-23 成建波 真空线源蒸发镀膜方法及其装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN101096748A (zh) 2008-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100582289C (zh) 组合式坩埚
DE102006056812B4 (de) Heizvorrichtung mit verbesserter thermischer Gleichförmigkeit, Halbleiter-Prozesskammer mit derselben, Verfahren zum Regeln der Oberflächentemperatur mit derselben und Verwendung der Heizvorrichtung
JP2008508173A5 (zh)
CN102244051A (zh) 一种高性能定向导热铜基金刚石复合材料及其制备方法
US8336489B2 (en) Thermal evaporation apparatus, use and method of depositing a material
JP2016003392A (ja) 傾斜機能金属セラミック複合材料、及びその製造方法
CN103556118B (zh) 蒸镀装置
JPS5877572A (ja) 金属蒸発用抵抗加熱ボ−ト
JP5685350B2 (ja) 基板の特定の場所に蒸着するための転写マスク及び当該転写マスクを製造するための方法
TW200904999A (en) Evaporation crucible and evaporation apparatus with adapted evaporation characteristic
CN107761056A (zh) 一种点蒸发源、蒸镀设备及点蒸发源的控制方法
US20070199682A1 (en) Dissipation Heat Pipe Structure and Manufacturing Method Thereof
US20040200599A1 (en) Amorphous carbon layer for heat exchangers and processes thereof
CA2360619A1 (en) Composition for vapor deposition, method for forming antireflection film using it, and optical element
CN208293071U (zh) 防爆冲的蒸镀坩埚
CN102121093A (zh) 金属蒸镀复合坩埚
CN101207012A (zh) 用于加热衬底的方法和装置
TWI419989B (zh) 組合式坩鍋
WO2009055958A1 (fr) Réflecteur en céramique et son procédé de fabrication
JPH10506677A (ja) 多層フラッシュエバポレーター
CN110267372A (zh) 一种石墨烯电加热复合件及其制造方法
TW201116641A (en) Target backing tube, cylindrical target assembly and sputtering system
CN101550532A (zh) 用于真空镀膜设备的加热装置
CN208183062U (zh) 一种坩埚和蒸镀用蒸发源
CN101154555A (zh) 增强均热性的加热装置及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20100120

Termination date: 20150628

EXPY Termination of patent right or utility model