JP2002145998A - ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン−オルト−２置換ビスフェノールを含むポリアリーレートを含有する光学フィルム - Google Patents

ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン−オルト−２置換ビスフェノールを含むポリアリーレートを含有する光学フィルム

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた機械特性と高いＴｇのような熱特性を
有し、露光により容易に黄変しない光学フィルムを提供
すること。 【解決手段】 式： 【化１】 [式中、Ａは、１以上の異なるビスフェノールフルオレ
ン基を表し、Ｂは、１以上の異なるジカルボキシル基を
表し、およびｎはポリマーを構成する繰り返し単位の数
であって、２０以上の正の整数である。]で表される繰
り返し単位を含むポリアリーレートを１以上含有する光
学フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】特定の置換基を有する１以上
の２官能フェノール単位と１以上のビカルボン酸との縮
合から得られる１以上のポリアリーレート（polyarylat
e）を含有する新規な光学フィルムに関する。特に、本
発明は、優れた紫外線および可視光に対する安定性、耐
熱性、光透過性、高いガラス転移温度（Ｔｇ）そして非
常に良好な機械特性を有する１以上のオルト-２置換-ビ
ス(ヒドロキシフェニル)フルオレンビスフェノールポリ
アリーレートを含有する、新規な光学フィルムに関す
る。
【０００２】
【背景技術】光学フィルムは当該分野では周知である。
ガラスは、その優れた特徴（例えば、透明性、可視光域
での高い透過率および耐熱性）により、幾つかの光学用
途に広く使用されている。このような長所にも関わら
ず、その高い重量と非常に高い脆性のために、光学用途
における下層または支持体としてのガラスの使用は、最
終製品の実現に問題を生じさせることがある。ガラスは
可撓性ではないため、連続的な加工には使用できない。
このことは、非常に低い最終生産性を導く。このような
理由から、ガラスを、ポリエステル（例えば、ポリエチ
レンテレフタレート）、ポリアクリレート（例えば、ポ
リメチルメタクリレート）またはポリカーボネートのよ
うな透明なポリマーフィルムで置き換えることが望まれ
ている。しかし、ポリマー材料は、良好な取り扱い特性
を有していても、低い透過率、限定された耐熱性および
低いガラス転移温度（Ｔｇ）という不利益を有してお
り、それによって光学用途でのポリマーの使用は非常に
限られている。
【０００３】9,9-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-フルオ
レンとイソフタル酸またはテレフタル酸とのポリエステ
ルが当該分野では知られている。米国特許第3,546,165
号公報には、熱安定性は良いが、一般に比較的低い固有
粘度と不十分な機械特性を有する前記ポリエステルが開
示されている。米国特許第4,387,209号公報には、9,9-
ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-フルオレンと、イソフタ
ル酸またはテレフタル酸から成る群のうち少なくとも１
の構成要素とを、界面重合法を用いて反応させることに
よって形成されるポリエステルが開示されている。ポリ
エステルの固有粘度は、モノマー純度に強く依存し、ジ
フェノールモノマーの純度の比較的小さな変動が、固有
粘度値に大きな偏差を引き起こすことがある。米国特許
第4,401,803号公報の実施例２には、界面重合法を用い
た、9,9-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-フルオレンと、
イソフタル酸クロライドとテレフタル酸クロライドの５
０：５０の混合物とのポリエステルの調製が記載されて
いる。ポリエステルはアセトン−メタノール混合液で沈
殿して、固有粘度１.６７ｄＬ／ｇの物質を生成する。
米国特許第4,533,511号公報には、9,9-ビス-(4-ヒドロ
キシフェニル)-フルオレンと、イソフタル酸クロライド
とテレフタル酸クロライドとの混合物との重縮合生成物
から得られる紡糸方法が開示されている。紡糸溶媒とし
てはジクロロメタンが推奨され、溶媒沈殿剤は、好まし
くは水性の低級アルカノールである。
【０００４】米国特許第4,066,623号公報には、逆転界
面重合法で調製された特定の芳香族系ハロゲン化ポリエ
ステルが、溶媒に対する低いポリマー耐性の原因となる
低含量の低分子量フラクションを有するポリマーを提供
することが開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】米国特許第4,967,306
号公報には、非常に低い程度のオリゴマー化物質を含有
し、そして先行技術に記載のオリゴマー種を含有するコ
ポリマーよりも高い引張強さ、伸び、耐薬品性、温度安
定性、紫外線耐性および真空安定性を有する9,9-ビス-
(4-ヒドロキシフェニル)-フルオレン／イソフタル酸お
よびテレフタル酸ポリエステルが開示されている。少量
のオリゴマーを含有するフィルムは、紫外線への制限さ
れた露光により、「黄変」または分解する。
【０００６】9,9-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-フルオ
レンとイソフタル酸およびテレフタル酸とから成る同じ
ポリアリーレートが、特開昭57-192432号公報にも記載
されている。しかし、樹脂の色は、ＵＶに露光すると、
ジフェノール成分構造のために黄色になる傾向があり、
そのため、光学用途での樹脂の使用が困難となる。
【０００７】ポリアリーレートから得られる樹脂は、ジ
ャーナル・オブ・アプライド・ポリマー・サイセンス、
第29巻、第35〜43頁（1984年）に報告されているよう
に、9,9-ビス-(4-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-フル
オレンとイソフタル酸とから構成される。イソフタル酸
のみから構成されるポリマーは、脆すぎて、耐磨耗性や
被膜品質が十分でない。
【０００８】特開平9-71,640号公報には、(a)芳香族ジ
カルボン酸、(b)特定量の置換された9,9-ビス-(4-ヒド
ロキシフェニル)-フルオレンおよび(c)脂肪族グリコー
ルから成る樹脂が開示されており、この樹脂は、その良
好な透明性と耐熱性のために光学材料に有用である。
【０００９】米国特許第4,810,771号公報には、モノ-オ
ルト置換されたビフェノールおよびイソフタル酸とテレ
フタル酸との混合物から生成されるポリエステルが開示
されている。
【００１０】欧州特許出願公開第943,640号公報には、
オルト位においてアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）基でモノ-お
よびビ-置換されたビスフェノールフルオレン類を用い
て合成されるポリアリーレートで調製されたフィルムが
記載されている。そのようなポリアリーレートは、より
良好な紫外線安定性を有する。
【００１１】9,9-ビス-(3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシフ
ェニル)-フルオレンビスフェノールモノマー誘導された
ポリアリーレートは、国際特許出願公開第WO00-33,949
号公報にガス隔膜として開示されている。米国特許第5,
007,945号公報には、ジカルボンサンクロライドと、フ
ェノール基の全てのオルト位にハロ置換基を有するカル
ド(cardo)ビスフェノールとから得られるポリアリーレ
ート類が記載されており、このポリマーは、１成分以上
の気体混合物を分離するのに使用される。前記特許公報
には、ガス隔膜が記載されているが、そのようなポリマ
ーから成る光学フィルムについては記載されていない。
【００１２】9,9-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-フルオ
レンまたはそのモノ置換同族体から構成されるポリアリ
ーレートから得られる、当該分野で既知の樹脂は、良好
な高い耐熱特性や機械特性を有していても、光源に曝露
されると黄変するので、光学用途にはめったに使用でき
ない。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、化学式：
【化１３】 [式中、Ａは、下式（Ｉ）：
【化１４】 （ここで、Ｒ１およびＲ２は、独立して、アルキル基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基、フェニル基ま
たはニトリル基を表し（ただし、Ｒ１およびＲ２の両方
がアルキル基でないものとする）、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５お
よびＲ６は、水素原子、アルキル基、ハロゲン、アルコ
キシ基、アシル基、フェニル基、ニトロ基またはニトリ
ル基を表す。）を有する１以上の異なるビスフェノール
フルオレン基を表し、Ｂは、下式：
【化１５】 （ここで、Ｘは、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基で
ある。）を有する１以上の異なるジカルボキシル基を表
し、およびｎはポリマーを構成する繰り返し単位の数で
あって、２０以上の正の整数である。]で表される繰り
返し単位を少なくとも幾つか有するポリアリーレートを
１以上含有する光学フィルムに関する。
【００１４】上記化学式および以降に記載する他の式に
おいて、原子または基表示を末端に有しない線は、化学
結合を表す。本発明の光学フィルムは、優れた機械的お
よび熱的特性、高いＴｇを有し、光に曝露されたときに
容易に黄変しない。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明は、下式：
【化１６】 [式中、Ａは、１以上の２価の基Ａを表し、Ｂは、１以
上の２価の基Ｂを表し、そしてｎは、ポリマーを構成す
る繰り返し単位の数であって、２０以上の正の整数であ
る。]で表される繰り返し単位を少なくとも幾つか有す
るポリアリーレートを１以上含有する光学フィルムに関
する。
【００１６】上記化学式中、基ＡおよびＢは、結果とし
ての−Ａ-Ｂ−繰り返し単位が水分子（Ｈ２Ｏ）を取り
除く縮合反応によって得られるかのように、フェノール
基から水素原子を、そしてカルボキシル基から水酸基を
除去することによって、関連するジフェノールとジカル
ボン酸から構造上誘導される。この反応機構は重要では
なく、他の反応または反応機構では、（例えば、フェノ
ールとカルボン酸クロライドからのＨＣｌ分子の除去に
よって）生成物に同じ構造を与えることは可能である
が、（単に便宜上の目的であって、形成機構の限定では
なく、）生成物と結果として生じる別個の基は、本発明
の実施では、縮合生成物、縮合様生成物、縮合誘導体ま
たは縮合様誘導体に言及される。
【００１７】「１以上の基Ａ」または「１以上の基Ｂ」
という文言は、本発明の光学フィルムが、１以上の基Ａ
と１以上の基Ｂとの縮合から誘導されるポリアリーレー
トを含有し得ることを意味するので、得られるポリマー
構造は、幾つかの異なる機Ａと幾つかの異なる基Ｂとの
ランダム構造を含み得る（例えば、−Ａ-Ｂ-Ａ'-Ｂ'-Ａ
-Ｂ'-Ａ'-Ｂ'−等）。
【００１８】前記繰り返し単位において、基Ａは、式
（Ｉ）：
【化１７】 （ここで、Ｒ１およびＲ２は、独立して、アルキル基、
ハロゲン、アルコキシ基、アシル基、フェニル基または
ニトリル基を表し（ただし、Ｒ１およびＲ２は、両方が
アルキル基でないものとする）、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およ
びＲ６は、水素原子、アルキル基、ハロゲン、アルコキ
シ基、アシル基、フェニル基、ニトロ基またはニトリル
基を表す。）を有する１以上の異なるビスフェノールフ
ルオレン基を表す。
【００１９】上記式中、Ｒ１およびＲ２は、好ましく
は、Ｒ１およびＲ２の両方がアルキル基でなければ、炭
素数１〜６の直鎖または分岐したアルキル基（例えば、
メチル、エチル、ブチル、イソプロピル）、塩素、臭
素、ヨウ素またはフッ素のようなハロゲン原子、炭素数
１〜６の直鎖または分岐したアルコキシ基（例えば、メ
トキシ、エトキシ、ブトキシ）、例えばアセチル、プロ
ピオニルのような炭素数１〜２０のアシル基、フェニル
基またはニトリル基を表し、およびＲ３、Ｒ４、Ｒ ５お
よびＲ６は、好ましくは、水素原子、直鎖または分岐し
た、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基（例えば、メ
チル、エチル、ブチル、イソプロピル）、ハロゲン原子
（例えば、塩素、臭素、ヨウ素またはフッ素）、直鎖ま
たは分岐した炭素数１〜６のアルコキシ基（例えば、メ
トキシ、エトキシ、ブトキシ）、炭素数１〜２０のアシ
ル基（例えば、アセチル、プロピオニルなど）、フェニ
ル基またはニトリル基を表す。
【００２０】好ましくは、基Ａは、式（II）：
【化１８】 （式中、Ｒ１およびＲ２は（上述の通り）、Ｒ１および
Ｒ２の両方がアルキル基でなければ、直鎖または分岐し
た炭素数１〜６のアルキル基（例えば、メチル基、エチ
ル基、ブチル基）、塩素、臭素、ヨウ素またはフッ素の
ようなハロゲン原子を表す。）を有する１以上の異なる
かまたは同じビスフェノールフルオレン基を表す。
【００２１】前記繰り返し単位において、基Ｂは、式：
【化１９】 （式中、Ｘは、飽和もしくは不飽和脂肪族基のような炭
素数１〜２０の２価の炭化水素基（例えば、メチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基）または芳
香族基（例えば、フェニレン基、ナフタレン基またはジ
フェニレン基）である。）を有する１以上の異なるジカ
ルボキシル基を表す。
【００２２】前記式中、Ｘは、好ましくは以下の式：
【化２０】 で表されるアリーレン基、ナフチレン基およびジフェニ
レン基のような炭素数６〜２０の２価の芳香族基であ
る。
【００２３】より好ましくは、本発明の光学フィルム
は、式（III）：
【化２１】 （式中、Ｒ１およびＲ２は、式（II）に示す通りであ
り、ｎは、２０以上の正の整数である。）で表される１
以上の繰り返し単位を含むポリアリーレートを１以上含
有する。更に好ましくは、本発明は、イソフタル酸とテ
レフタル酸、1,2-ジナフトエ酸と1,4-ジナフトエ酸、1,
1'-ジフェニル-4,4'-ジカルボン酸と1,1'-ジフェニル-
4,2'-ジカルボン酸、イソフタル酸と1,2-ジナフトエ酸
などのように２個の異なるジカルボン酸から誘導される
２個のジカルボキシル基と結合した式（II）の9,9-ビス
-(4-ヒドロキシフェニル)-フルオレン基で表される２個
の異なる繰り返し単位を含むポリアリーレートを１以上
含有する光学フィルムに関する。ジカルボン酸は、通
常、重量比１：１０〜１０：１、好ましくは１：４〜
４：１で混合される。最も好ましくは、イソフタル酸
（もしくはその誘導体）とテレフタル酸（もしくはその
誘導体）を、重量比１：４〜４：１で使用する。
【００２４】本発明において、「基」という用語は、化
合物または置換基を示すのに使用され、前記化学物質
は、基、環および基本残基、そして通常の置換基を有す
る基、環または残基を含んで成る。他方、「単位」とい
う用語を使用する場合には、非置換の化学物質を包含す
るものとする。例えば、「アルキル基」という用語は、
メチル、エチル、ブチル、オクチル等のようなアルキル
単位のみならず、ハロゲン、ニトリル、ヒドロキシ、ニ
トロ、アミノ、カルボキシルなどのような置換基を有す
る単位も含む。これに反して「アルキル単位」という用
語は、メチル、エチル、シクロヘキシル等を含む。
【００２５】本発明に有用なポリアリーレートは、本発
明はこれに限定されるものではないとしても、以下の繰
り返し単位（ただし、ｎは、繰り返し単位の数であり、
２０以上の整数である。）を含む。
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
【００２６】本発明に記載のビスフェノールフルオレン
モノマーは、当該分野において既知の方法（例えば、米
国特許第5,248,838号公報に記載の方法）により得られ
る。
【００２７】本発明で使用されるポリアリーレートは、
当該分野において既知の方法で調製でき、例えば、イン
ド・エンジ・ケム(Ind. Eng. Chem.)、51、147、1959年
に記載の溶液重合法（この方法では、２官能のカルボン
酸ジハライドを、有機溶液中、２官能のフェノールと反
応させる）、特開昭38-26299号公報に記載の「溶融」重
合法（この方法では、２官能のカルボン酸と２官能のフ
ェノールを無水酢酸またはジアリルカーボネートの存在
下で加熱する。）、またはジャーナル・オブ・ポリマー
・サイエンス、ＸＬ399、1959年や欧州特許出願公開第9
43,640号公報および同第396,418号公報に記載の界面重
合法（この方法では、疎水性有機溶媒に溶解した２官能
のカルボン酸ジハライドを、アルカリ水溶液中に溶解し
た２官能のフェノールと混合する。）が使用できる。
【００２８】本発明の光学フィルムは、当該分野で既知
の方法（例えば、有機溶媒中でポリマー溶液（ここで
は、コロジオンという）を調製し、そしてこの溶液を、
金属、ガラスまたはプラスチック材料のような基材上に
流し出すことから成る溶媒塗布法）により得られる。そ
れから、コロジオンを乾燥して、基材から剥離した後、
フィルムが得られる。一般に、ハロゲン化溶媒（例え
ば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロエタ
ン、ジクロロエタンなど）のような有機溶媒、またはＮ
-メチルピロリドン、Ｎ,Ｎ-ジメチルホルムアミド、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のような他の溶媒が使
用される。
【００２９】本発明のフィルムを得るのに使用できる当
該分野で知られる別の方法は、「スピン塗布」として知
られた方法（コロジオンを、速く回転する基材上に流し
出す方法）、または加熱押出もしくは加熱ラミネート法
（溶融ポリマーの加工に基づくもの）である。
【００３０】本発明の光学フィルムの厚さは、０.１〜
１０００μｍ、好ましくは１〜１０００μｍの範囲であ
る。
【００３１】本発明の光学フィルムは、非常に透明で、
可能な限り極少量の不純物または通過する光を干渉させ
ない程度の表面もしくは内部欠陥を有する。そのような
特性を得るために、コロジオンは、当該分野において既
知の方法で、寸法１０μｍ以下、好ましくは１μｍ以
下、より好ましくは０.１μｍ以下の孔を有するフィル
ターを使用して濾過することが望ましい。
【００３２】本発明の光学フィルム物体は、例えば、耐
溶媒性、気体および水蒸気透過性、機械特性、表面引っ
掻き耐性、耐光性のなどの特徴を高めるために、一方ま
たは両方の表面に更なる保護層を有していてよい。保護
層は、有機もしくは無機物質またはそれらの混合物から
構成されていてよく、例えば、米国特許第4.172,065
号、同第4,405,550号、同第4,664,859号および同第5,06
3,138号に記載の溶媒塗布法、米国特許第4,380,212号、
同第4,449,478号、同第4,485,759号および同第4,817,55
9号に記載の真空塗布法、米国特許第4,844,764号、同第
5,000,809号、同第5,208,068号および同第5,238,746号
に記載のラミネート法、または国際特許出願公開第WO96
-24,929号および特開平2-260145号公報に記載の電子線
もしくは紫外線による樹脂網状化(resin reticulation)
のような当該既知の方法で適用され得る。
【００３３】本発明の光学フィルムは、その内部にまた
は別の層中に、例えばベンゾフェノン化合物（例えば、
ヒドロキシ-ドデシロキシベンゾフェノン、2,4-ジヒド
ロキシベンゾフェノンなど）、トリアゾール化合物（例
えば、2-フェニル-4-(2',2'-ジヒドロキシベンゾイル)-
トリアゾール、置換されたヒドロキシ-フェニルトリア
ゾールなど）、トリアジン化合物（例えば、ヒドロキシ
フェニル-1,3,5-トリアジン、3,5-ジアルキル-4-ヒドロ
キシフェニル-トリアジンなど）、ベンゾエート化合物
（例えば、ジフェノールプロパンジベンゾエート、ジフ
ェノールプロパンtert-ブチル-ベンゾエートなど）、立
体障害のあるアミンや例えば米国特許4,061,616号およ
び同第5,00,809号に記載の他の化合物のような紫外線安
定剤を含んでいてよい。
【００３４】本発明の光学フィルムは、その内部にまた
は別の層中に、フィルムの耐久性を高めるために、例え
ば米国特許第5,000,809号に記載されているような金属
酸化物（二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄など）、金属
水酸化物、クロメート、炭酸塩などの透明な顔料を含ん
でいてもよい。本発明の光学フィルムは、スリップ剤
（例えば、特開平2-260,145号に記載の湿潤剤、等）、
および例えば立体障害のあるフェノール酸化防止剤、有
機および無機亜リン酸塩、オルト-ヒドロキシベンゾト
リアゾール、あるいは静電気の貯蔵およびその結果生じ
る光学フィルム上での粉末の引力を低減する静電気防止
剤のような酸化防止剤や安定化物質も含有し得る。
【００３５】本発明の光学フィルムは、例えば、液晶ス
クリーン用のパネルまたはフラット層内において、エレ
クトロルミネッセントスクリーン用の支持体および保護
層内で、偏光透明伝導性フィルム中でのような光学応用
分野、および引張強さ、次元安定性のような良好な機械
特性のために、更には完全に非晶質でかつ透明であっ
て、高い耐熱性と高いＴｇを有するために同様の用途で
広く使用できる。レンズ（眼用レンズ、平面レンズと焦
点レンズの両方）としてのその使用も本発明の実施に意
図されている。
【００３６】以下の実施例を参照して本発明を説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３７】
【実施例】実施例１ 比較フィルム１は、化合物Ａ（化学式は以降に示す）を
取り出して、それを欧州特許第396,418号に記載の界面
重縮合法により、テレフタル酸とイソフタル酸の１：１
混合物を用いて重合することによって入手した。こうし
て得られるポリマーを、ポリマーの１０重量％塩化メチ
レン溶液を用いて溶媒塗布法で塗布した。その後、フィ
ルムを室温２５℃で３時間、最高１６０℃まで温度を徐
々に昇温させて乾燥した。比較フィルム２は、化合物Ａ
の代わりに化合物Ｂ（化学式は以降に示す）を用いるこ
と以外は同じ手順で得た。フィルム３（本発明）は、化
合物Ａの代わりに本発明のポリマー４（前記化学式
(4)）を用いること以外は同じ手順で得た。フィルム４
（本発明）は、化合物Ａの代わりに本発明のポリマー２
（前記化学式(2)）を用いること以外は同じ手順で得
た。フィルム５（本発明）は、化合物Ａの代わりに本発
明のポリマー３（前記化学式(3)）を用いること以外は
同じ手順で得た。
【００３８】次いで、フィルム１〜５を、約180,000ル
クスの連続照度をもたらす1500Ｗキセノンランプを装備
したオリジナルハナウ・キセノテスト150光安定性試験
装置を用いて光源に曝露した。それから、前記光源に５
０時間露光する前後の３２０〜５００ｎｍの領域の吸光
度を測定した。表１ａおよび１ｂには、５０時間照射前
後の５つのフィルムの吸光度をそれぞれ示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】
【表２】
【００４１】表１に示したデータは、ビスフェノールオ
ルト位で置換されていないビスフェノールフルオレンポ
リアリーレートを用いて得られた比較フィルム１が、望
ましくない強い黄色の着色の結果により、４００ｎｍ
（青色光吸収域）で測定された吸光度を劇的に高めてい
ることを示している。他方、それらのオルト位に置換基
を有するビスフェノールフルオレンを重合することによ
って得られたフィルム２（比較）および３〜５（本発
明）は、元のフィルムの値に対し、５０時間露光後の４
００ｎｍの領域で測定された吸光度がほんの少しの増加
を示している。
【００４２】実施例２ フィルム２〜５を長さ７０ｍｍおよび幅１５ｍｍのスト
リップに切断し、５０ｍｍのジョー間隔で作動するイン
ストロン5564動力計に入れた。表２には、引張強さ（Ｍ
Ｐａで表示）とヤング率（ＧＰａで表示）の結果を示
す。
【００４３】
【表３】
【００４４】表２は、そのオルト位においてメチル基の
みで置換されたビスフェノールフルオレンから成るポリ
アリーレートから得られた比較フィルム２が、少なくと
も１個のオルト-置換基を有するビスフェノールフルオ
レンを重合して得られた本発明のフィルム３〜５に対
し、特に低い引張強さを有することが示している。比較
フィルム２の引張強さは、比較フィルム１よりも低い。
そのような低い引張強さはフィルム２に悪い機械特性を
与え、それによってフィルム２をより脆くさせるため、
フィルムの加工および搬送中の機械応力によって生じる
破壊をより感じ易くする。ヤング率も、本発明のフィル
ム３〜５を用いると高まる。
【００４５】実施例３ a) 連続窒素気流下、５０℃の温度から出発して４００
℃まで昇温速度１０℃／分でガラス転移温度（Ｔｇ）を
決定するパーキン−エルマー社製ＤＳＣ-４熱示差走査
型熱量計を用い、およびb)５０℃の温度から出発して８
００℃まで昇温速度１０℃／分で空気および窒素流の
元、分解温度を測定するパーキン・エルマー社製ＴＧＳ
-２熱重量分析装置／マイクロバランスモデルＡＲ-２を
用いた熱重量分析により、フィルム２〜５の熱特性を調
べた。
【００４６】
【表４】
【００４７】表３は、その全てのオルト位置においてメ
チル基のみで置換されたビスフェノールフルオレンから
成るポリアリーレートから得られた比較フィルム２が、
これとは反対にビスフェノールフルオレンのオルト位に
おいて置換基としてメチル基を有しないだけの化合物を
用いて得られた本発明のフィルム３〜５よりも低いガラ
ス転移温度（Ｔｇ）を有することを示している。
【００４８】さらに、比較フィルム２は、本発明のフィ
ルム３〜５よりも空気および窒素分解温度が共に確かに
低い値を示す。フィルム２の分解温度の低さは、ガラス
温度に非常に近いため、（引張、押出、ラミネートのよ
うな）多数の加工が行なわれるためのほぼＴｇの温度で
フィルムを使用するのを困難にする。本発明のフィルム
３〜５の分解温度とＴｇの間の広い間隔は、分解現象を
生じさせずに、ほぼＴｇまたはＴｇ以上の温度でも使用
できる。
【化２７】 フィルム１に使用した化合物Ａ（比較）
【化２８】 フィルム２に使用した化合物Ｂ（比較）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シモーネ・アンジョリーニ イタリア、イ−17014カイロ・モンテノッ テ／フェラーニア（サヴォーナ）、フェラ ーニア・ソシエタ・ペル・アチオニ、イン テレクチュアル・プロパティ・デパートメ ント (72)発明者 マウロ・アヴィダーノ イタリア、イ−17014カイロ・モンテノッ テ／フェラーニア（サヴォーナ）、フェラ ーニア・ソシエタ・ペル・アチオニ、イン テレクチュアル・プロパティ・デパートメ ント (72)発明者 パオロ・サルヴァラーニ イタリア、イ−17014カイロ・モンテノッ テ／フェラーニア（サヴォーナ）、フェラ ーニア・ソシエタ・ペル・アチオニ、イン テレクチュアル・プロパティ・デパートメ ント (72)発明者 ロベルト・ブラッコ イタリア、イ−17014カイロ・モンテノッ テ／フェラーニア（サヴォーナ）、フェラ ーニア・ソシエタ・ペル・アチオニ、イン テレクチュアル・プロパティ・デパートメ ント Ｆターム(参考） 4F071 AA44 AF13 AF30 AF45 AH19 BA02 BB02 BC01 4J029 AA03 AB01 AC01 AC02 AD07 AE04 BC07 BG03 CB03 CB09 CC04

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式： 【化１】 [式中、Ａは、下式（Ｉ）： 【化２】 （ここで、Ｒ１およびＲ２は、独立して、アルキル基、
    ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基、フェニル基ま
    たはニトリル基を表し（ただし、Ｒ１およびＲ２の両方
    がアルキル基でないものとする）、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５お
    よびＲ６は、水素原子、アルキル基、ハロゲン、アルコ
    キシ基、アシル基、フェニル基、ニトロ基またはニトリ
    ル基を表す。）を有する１以上の異なるビスフェノール
    フルオレン基を表し、Ｂは、下式： 【化３】 （ここで、Ｘは、炭素数１〜２０の２価の炭化水素基で
    ある。）を有する１以上の異なるジカルボキシル基を表
    し、およびｎはポリマーを構成する繰り返し単位の数で
    あって、２０以上の正の整数である。]で表される繰り
    返し単位を含むポリアリーレートを１以上含有する光学
    フィルム。
  2. 【請求項２】 ビスフェノールフルオレン基Ａが、式
    （II）： 【化４】 （式中、Ｒ１およびＲ２は、Ｒ１およびＲ２の両方がア
    ルキル基でなければ、アルキル基またはハロゲンを表
    す。）で表され、およびジカルボキシル基Ｂが、式： 【化５】 （式中、Ｘは、炭素数６〜２０の２価の炭化水素基であ
    る。）で表される請求項１記載の光学フィルム。
  3. 【請求項３】 ２価の炭化水素基Ｘが、以下の構造式か
    ら成る群より選択される請求項１記載の光学フィルム。 【化６】
  4. 【請求項４】 １以上のポリアリーレートが、式： 【化７】 （式中、Ｒ１およびＲ２は、アルキル基、ハロゲン原
    子、アルコキシ基、アシル基、フェニル基またはニトリ
    ル基を表し（ただし、Ｒ１およびＲ２の両方がアルキル
    基でないものとする）、およびｎが２０以上の正の整数
    である。）で表される請求項１記載の光学フィルム。
  5. 【請求項５】 １以上のポリアリーレートが、少なくと
    も第１ジカルボキシル基と第２ジカルボキシル基を含
    み、第１ジカルボキシル基と第２ジカルボキシル基との
    重量比が１：１０〜１０：１である請求項４記載の光学
    フィルム。
  6. 【請求項６】 第１ジカルボキシル基がイソフタル酸か
    ら誘導され、そして第２ジカルボキシル基がテレフタル
    酸から誘導される請求項５記載の光学フィルム。
  7. 【請求項７】 第１ジカルボキシル基と第２ジカルボキ
    シル基との重量比が１：４〜４：１である請求項６記載
    の光学フィルム。
  8. 【請求項８】 １以上のポリアリーレートが、以下の化
    学式から成る群より選択される請求項１記載の光学フィ
    ルム。 【化８】 【化９】 【化１０】 【化１１】 【化１２】 （ここで、ｎは、繰り返し単位の数であって、２０以上
    の整数である。）
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006117910A (ja) * 2004-09-27 2006-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 耐熱樹脂、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2006264118A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd プラスチックフィルム、ガスバリアフィルム、およびそれを用いた画像表示素子
JP2006523247A (ja) * 2003-04-11 2006-10-12 フェラーニア・テクノロジーズ・ソシエタ・ペル・アチオニ 特定のフェノール性分子から得られた１以上のポリアリーレートを含有する光学フィルム
JP2007069420A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Fujifilm Corp フィルムの製造方法およびフィルム
JP2009128794A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Nitto Denko Corp 光学フィルム、及びその製造方法
JP2010540745A (ja) * 2007-10-02 2010-12-24 フェラーニア・テクノロジーズ・ソシエタ・ペル・アチオニ ポリマーフィルムおよびそのフィルムを含む光学素子
KR101251684B1 (ko) 2007-08-07 2013-04-05 주식회사 엘지화학 알칼리 가용성 수지 제조용 조성물, 이로부터 제조되는알칼리 가용성 수지, 이의 제조방법 및 이를 포함하는감광성 수지 조성물
JP2018172658A (ja) * 2017-03-31 2018-11-08 大阪ガスケミカル株式会社 高耐熱性ポリエステル樹脂及び成形体

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7022772B2 (en) * 2000-11-14 2006-04-04 Ferraria Technologies S.P.A. Optical film comprising polyarylates containing bis-(hydroxyphenyl)-fluorene-ortho-disubstituted bisphenols
ITSV20030018A1 (it) * 2003-04-11 2004-10-12 Allaix Roberto C O Ferrania S P A Uff Brevetti Mezzo ottico comprendente un film di materiale polimerico.
US7652126B2 (en) * 2003-10-07 2010-01-26 General Electric Company Monomers and polymers comprising conjugated groups and methods for making thereof
ITMI20032110A1 (it) * 2003-10-31 2005-05-01 Milano Politecnico Miscela polimerica comprendente un derivato di polifluorene
US20050209404A1 (en) * 2004-02-13 2005-09-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Film and image display device utilizing same
JP4425167B2 (ja) * 2005-03-22 2010-03-03 富士フイルム株式会社 ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
JP4663381B2 (ja) * 2005-04-12 2011-04-06 富士フイルム株式会社 ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
JP4698310B2 (ja) * 2005-07-11 2011-06-08 富士フイルム株式会社 ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
JP4717674B2 (ja) 2006-03-27 2011-07-06 富士フイルム株式会社 ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
CN101470212B (zh) * 2007-12-28 2014-10-22 住友化学株式会社 光学膜
CN101838264B (zh) * 2009-03-16 2014-12-03 住友化学株式会社 化合物、光学膜和光学膜的制造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4810771A (en) 1987-06-24 1989-03-07 Nippon Steel Corporation Heat-resistant co-polyester from 9,9-bis(4-hydroxy-phenyl)fluorene
US5007945A (en) 1990-04-12 1991-04-16 Air Products And Chemicals, Inc. Membranes formed from aromatic polyarylates
US5232471A (en) 1992-05-13 1993-08-03 Air Products And Chemicals, Inc. Membranes formed from nitrated polyarylates
EP0943640A4 (en) 1997-10-03 2002-02-27 Unitika Ltd HIGH-HEAT-RESISTANT, HIGH-PURITY POLYARYLATES AND FILMS MADE THEREOF
US6168649B1 (en) 1998-12-09 2001-01-02 Mg Generon, Inc. Membrane for separation of xenon from oxygen and nitrogen and method of using same

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006523247A (ja) * 2003-04-11 2006-10-12 フェラーニア・テクノロジーズ・ソシエタ・ペル・アチオニ 特定のフェノール性分子から得られた１以上のポリアリーレートを含有する光学フィルム
JP2006117910A (ja) * 2004-09-27 2006-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 耐熱樹脂、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2006264118A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd プラスチックフィルム、ガスバリアフィルム、およびそれを用いた画像表示素子
JP4624152B2 (ja) * 2005-03-24 2011-02-02 富士フイルム株式会社 プラスチックフィルム、ガスバリアフィルム、およびそれを用いた画像表示素子
US8057869B2 (en) 2005-03-24 2011-11-15 Fujifilm Corporation Plastic film, gas barrier film, and image display device using the same
JP2007069420A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Fujifilm Corp フィルムの製造方法およびフィルム
KR101251684B1 (ko) 2007-08-07 2013-04-05 주식회사 엘지화학 알칼리 가용성 수지 제조용 조성물, 이로부터 제조되는알칼리 가용성 수지, 이의 제조방법 및 이를 포함하는감광성 수지 조성물
JP2010540745A (ja) * 2007-10-02 2010-12-24 フェラーニア・テクノロジーズ・ソシエタ・ペル・アチオニ ポリマーフィルムおよびそのフィルムを含む光学素子
JP2009128794A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Nitto Denko Corp 光学フィルム、及びその製造方法
US7999059B2 (en) * 2007-11-27 2011-08-16 Nitto Denko Corporation Optical film and method for production thereof
JP2018172658A (ja) * 2017-03-31 2018-11-08 大阪ガスケミカル株式会社 高耐熱性ポリエステル樹脂及び成形体
JP7118681B2 (ja) 2017-03-31 2022-08-16 大阪ガスケミカル株式会社 高耐熱性ポリエステル樹脂及び成形体

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DE60109251D1 (de) 2005-04-14
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