JP2002139735A - 液晶表示パネル及びその開発方法 - Google Patents

液晶表示パネル及びその開発方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】焼付率を低減可能な構造の液晶表示装置及びそ
の開発期間短縮化を可能にする液晶表示装置開発方法を
提供する。 【解決手段】画素電極25Aとコモン電極23Aとの間
に矩形交流電圧を印加し、その交流電圧成分の振幅Vac
及び直流電圧成分Vdcを変化させて最適直流成分変動幅
ΔVdcを測定し、ΔVdcが所定値以下になるように液晶
表示装置の構成又は構成材料を決定する。ここに、ΔV
dc=|Vdcb−Vdcw|、Vdcbは、Vacを黒表示用交流
電圧振幅(2V)に固定してVdcを変化させた場合に透
過率振幅が最小となるVdcの値であり、Vdcwは、Vac
を白表示用交流電圧振幅(7V)に固定してVdcを変化
させた場合に透過率振幅が最小となるVdcの値である。
画素電極25Aとコモン電極23Aの上方の絶縁体26
Aの厚みを同じにする。電極交差部を線対称にする。画
素電極のスプライト電極部の表面を土手形にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、焼付率を低減可能
な構造の液晶表示パネル及びその開発方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図31及び図32はいずれも液晶表示パ
ネルの1画素の構造を示す概略断面図である。図31は
電圧無印加時の状態を示し、図32は電圧印加時の状態
を示す。
【0003】液晶表示パネルは、互いに対向する基板1
0及び20と、これらの間に封入された、正の誘電率異
方性を有するネマティック液晶30とを備えている。基
板10では、透明絶縁基板11、例えばガラス基板の一
面に、面電極12、誘電体13及び垂直配向層14が積
層され、透明絶縁基板11の他面に偏光子15が被着さ
れている。基板20では、透明絶縁基板21、例えばガ
ラス基板の一面に、コモン電極23が形成され、その上
に絶縁層24を介して画素電極25が形成されている。
絶縁層24及び画素電極25の上には、絶縁層26及び
垂直配向層27が積層されている。透明絶縁基板21の
他面には、偏光子28が被着されている。偏光子15と
28の透過軸は互いに離間して直交している。
【0004】図示矢印方向のバックライト光がへこの液
晶表示パネルに入射すると、偏光子28を通って直線偏
光になる。面電極12、コモン電極23及び画素電極2
5が同電位のとき、この直線偏光の偏光面は液晶30内
で変化しないので、偏光子15を透過できず、暗状態に
なる。
【0005】図32に示す如く、面電極12とコモン電
極23とを同電位にし、画素電極25を該電位と異なる
電位にすると、電界が生ずる。図32中の点線は、電気
力線を示している。この電界により、入射光の方向に対
し液晶分子が傾くので、複屈折が生じ、この光の一部が
偏光子15を透過して、明状態になる。
【0006】コモン電極23及び画素電極25は遮光性
のメタルであり、これらの上方の液晶分子の挙動は表示
上問題にならない。
【0007】面電極12が存在しないと、画素電極25
とコモン電極23との中間の液晶分子の傾斜が小さくな
って透過率が落ち込む領域が存在する。面電極12はこ
の部分の横電界を斜め非対称にして透過率落込を防止す
るのに寄与する。誘電体13は、液晶30中の横電界を
強化して、より低い印加電圧で液晶を駆動可能にするた
めのものである。コモン電極23と画素電極25とは、
紙面垂直方向に延び且つ交互に形成されたストライプ電
極である。絶縁層24は、コモン電極23と画素電極2
5とが後述のように上下に重なる部分で短絡するのを防
止するためのものである。絶縁層26は焼付率を低減す
るためのものである。
【0008】図33は、基板20に形成された電極パタ
ーンの1画素分を示す。図34及び図35はそれぞれ、
図33中の画素電極25及びコモン電極23のパターン
図である。
【0009】データラインDL1と走査ラインSL1と
は、絶縁膜を介して互いに直交している。画素電極25
及びコモン電極23はいずれも、ストライプ部と、スト
ライプ部の端部を繋ぐ周囲部とを有する。ストライプ部
は、走査ラインSL1及びデータラインDL1の各々に
対し45°傾斜している。
【0010】走査ラインSL1が高レベルになると、T
FT29がオンになって、データラインDL1上の電圧
が画素電極25に印加され、画素電極25とコモン電極
23のストライプ電極間に電界が生ずる。ストライプ電
極の長手方向は、図33の上半分と下半分とで互いに9
0°異なる。これにより、上半分と下半分とで互いに平
行である場合よりも液晶表示パネルの視野角が広くな
る。
【0011】コモン電極23の周囲突起部は、不図示の
隣の画素のコモン電極23に繋がっている。
【0012】図36(A)は、図33中の線電極交差付
近の部分拡大図である。図36(B)は、画素電極25
とコモン電極23との間に電圧が印加された時の電気力
線を点線で示す。
【0013】画素が矩形であることと、画素電極25及
びコモン電極23が互いに平行なストライプ部を有する
ことと、画素電極25及びコモン電極23がいずれも一
繋がりのものであることから、画素電極25の周囲部と
コモン電極23の周囲部とは絶縁部を介し互いに重なる
部分を有する。このため、画素電極25とコモン電極2
3の隣り合う線電極の端部が、絶縁部を介し交差する。
例えば、画素電極25の辺251は、周囲部の辺252
に繋がり、コモン電極23の辺231は、辺251と平
行であるが辺252とは鋭角で交差している。
【0014】図37は、液晶表示パネルの1画素の画素
電極とコモン電極との間に電圧を印加した場合の電極間
付近の液晶分子の傾斜を示す概略断面図である。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】図32において、画素
電極25と液晶30との間の構成が、コモン電極23と
液晶30との間の構成と異なるので、焼付きが生ずる原
因となる。
【0016】また、図36(B)に示す如く、辺252
と辺231とが鋭角で交差するので、この付近の電極間
の電界が平行部分のそれよりも強くなる。さらに、交差
付近の電界の方向が、平行部分のそれと異なる。このよ
うなことから、交差付近の電極間印加電圧に対する透過
特性が平行部分のそれと異なって、画質が劣化するとと
もに、焼付きが生ずる原因となる。
【0017】さらに、図37において、画素電極25の
上方に絶縁層26が存在するので、これらの部分に電界
が印加されても無駄になり、液晶30に対し効率的に電
界を印加することができない。垂直配向層27の絶縁性
が低いので、この問題を解決するために絶縁層26を省
略すると、焼付きが生ずる原因となる。液晶30に対し
画素電極25を剥き出しにすると、さらに焼付きが大き
くなるとともに、液晶分子が分解する。また、画素電極
25の表面が平坦であるので、透過率との関係で液晶3
0に対し効果的に電界を印加することができず、表示の
高コントラスト化が妨げられていた。
【0018】液晶表示パネルの開発において、焼付率を
所定値以下にするために、液晶表示パネルの構造や材料
を変える毎に焼付率を測定すると、1回の測定に例えば
48時間要するので、開発期間が長くなる。
【0019】本発明の目的は、このような点に鑑み、焼
付率を低減可能な構造の液晶表示パネル及びその開発期
間短縮化を可能にする液晶表示パネル開発方法を提供す
ることにある。
【0020】本発明の他の目的は、表示のコントラスト
を向上させることが可能な液晶表示パネルを提供するこ
とにある。
【0021】
【課題を解決するための手段及びその作用効果】本発明
の液晶表示パネルでは、第1基板と第2基板との間に液
晶が封入され、該第1基板は、透明絶縁基板と、該透明
絶縁基板の上方に形成された第1電極及び第2電極と、
該第1電極と該第2電極とを被う第1絶縁膜とを有し、
該透明絶縁基板の液晶側の面を基準として、該第1電極
の位置が該第2電極の位置よりも高く、該第1電極と該
第2電極とが第2絶縁膜を介して重なり合う部分を有
し、該第1絶縁膜は、該第1電極上と該第2電極上とで
厚みが実質的に同一である。
【0022】この液晶表示パネルによれば、第1電極と
第2電極との間に矩形交流電圧を印加した場合に、第1
電極の上方と第2電極の上方とで電気的状態がほぼ同一
になって、例えば図31のように該第1電極上と該第2
電極上とで厚みが異なる場合よりも、焼付きが低減され
る。
【0023】本発明の他の液晶表示パネルでは、第1基
板と第2基板との間に液晶が封入され、該第1基板は、
透明絶縁基板と、該透明絶縁基板の上方に形成され絶縁
膜を介し互いに交差する部分を有する第1電極及び第2
電極とを備え、該第1電極及び該第2電極はいずれも、
該交差部分と連続する互いに平行な線電極部分を有し、
該交差部分の該第1電極と該第2電極の隣り合う辺が互
いに鈍角で交差している。
【0024】この液晶表示パネルによれば、鋭角で交差
する場合よりも、電気力線の集中が緩和されて電界強度
が大きくなるのが抑制され、表示画質が向上するととも
に、焼付きが低減される。
【0025】高さ方向を無視した平面上について、上記
交差部分の上記隣り合う辺が、上記平行線分の間を通る
直線に関し実質的に対称である場合には、電界ベクトル
の方向が交差部分の電界ベクトルの方向が平行部分のそ
れと平行になるので、表示画質がさらに向上するととも
に、焼付きがさらに低減される。
【0026】本発明のさらに他の液晶表示パネルでは、
透明絶縁基板に対し第2電極より上方に位置する第1電
極の表面が凸形である。
【0027】これにより、第1及び第2電極間に同一電
圧を印加した場合に、第1電極の表面が平坦である場合
よりも液晶分子をより傾斜させることが可能になり、表
示のコントラストが向上する。
【0028】本発明の液晶表示パネルの開発方法では、
第1基板と第2基板との間に液晶が封入され、該第1基
板に第1電極が形成され、該第1基板又は該第2基板に
第2電極が形成された画素を有する液晶表示パネルに対
するものであって、該第1電極と該第2電極との間に交
流電圧成分と直流電圧成分Vdcとの和である信号電圧を
印加し、該交流電圧成分の振幅Vac及び該直流電圧成分
Vdcを変化させて実質的に最適直流成分変動幅ΔVdcを
測定し、該最適直流成分変動幅ΔVdcが所定値以下にな
るように該液晶表示パネルの構成又は構成材料を決定
し、ここに、該最適直流成分変動幅ΔVdcは、ΔVdc=
|Vdcb−Vdcw|と表され、Vdcbは、該振幅Vacを黒
表示用交流電圧振幅に固定し該直流電圧成分Vdcを変化
させた場合に、該画素の透過率振幅が最小となる該直流
電圧成分Vdcの値であり、Vdcwは、該振幅Vacを白表
示用交流電圧振幅に固定し該直流電圧成分Vdcを変化さ
せた場合に、該画素の透過率振幅が最小となる該直流電
圧成分Vdcの値である。
【0029】この液晶表示パネル開発方法によれば、焼
付率との相関度が高い最適直流成分変動幅ΔVdcを短時
間で容易に測定することができるので、最適直流成分変
動幅ΔVdcを用いることにより、焼付率が所望の値以下
の液晶表示パネルを開発するための期間を短縮すること
が可能となる。
【0030】焼付きを人が認識できないようにするため
には、焼付率を、室内の通常照明下の場合には6%以
下、暗室内の場合には3%以下にしなければならない。
【0031】上記所定値は、例えば0.5V以下の値で
あり、該所定値が0.5Vのとき焼付率が6%、該所定
値が0.2Vのとき焼付率が3%であることを確認し
た。
【0032】本発明の他の目的、構成及び効果は以下の
説明から明らかになる。
【0033】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。
【0034】[第1実施形態]最初に、焼付率を低減可
能な構造又は材料を用いた液晶表示パネルの開発期間短
縮化を可能にする液晶表示パネル開発方法を説明する。
【0035】図1は、本発明の方法に用いられる液晶表
示装置の概略回路図である。図1では簡単化のために、
画素アレイが3行6列の場合を示している。
【0036】この回路自体は、従来と同一である。デー
タラインDL1、走査ラインSL1、TFT29、画素
電極25及びコモン電極23は、例えば図31に示す如
く形成されている。画素電極25と対向する電極は、こ
のコモン電極23と、図31に示す面電極12との両方
である。走査ライン及びデータラインはそれぞれ、走査
ドライバ31及びデータドライバ32の出力端に接続さ
れている。制御回路33は、ピクセルクロックCLK及
び水平同期信号HSYNCに基づいてデータドライバ3
2を制御するとともに、ビデオ信号VSをデータドライ
バ32に供給し、水平同期信号HSYNC及び垂直同期
信号VSYNCに基づいて走査ドライバ31を制御す
る。走査ドライバ31により、画素アレイの行が順次選
択され、選択された行にデータドライバ32から表示デ
ータ(階調電圧)が供給される。
【0037】図2は、焼付率説明図である。
【0038】例えば、表示データが64階調、「白」が
第64階調、「黒」が第1階調である場合を考える。焼
付率は次のようにして測定される。
【0039】(A)白(第64階調)を表示させて輝度
Bmを測定する。
【0040】(B)次に、白と黒の固定パターンを例え
ば48時間表示させる。
【0041】(C)この直後に中間調(第32階調)を
表示させて、上記(B)で白を表示していた領域と黒を
表示していた領域との輝度Bmw及びBmbを測定する。焼
付率は、次式で計算される。
【0042】焼付率=100(Bmw−Bmb)/Bm 上記(C)において、焼付きを人が認識できないように
するためには、焼付率を、室内の通常照明下の場合には
6%以下、暗室内の場合には3%以下にしなければなら
ない。
【0043】焼付率は、液晶表示パネルの構造や構成材
料により異なる。液晶表示パネルの開発において、焼付
率を所定値以下にするために、液晶表示パネルの構造や
材料を変える毎に焼付率を測定すると、1回の測定に例
えば48時間要するので、開発期間が長くなる。そこ
で、焼付率と相関度が高い物理量であって、短時間で測
定できるものを探すことを考える。
【0044】液晶画素には、その劣化を防止するために
矩形交流電圧が印加される。図3は、図32の画素電極
25とコモン電極23との間及び画素電極25と面電極
12との間に印加される電圧波形を示す。周波数は30
Hzである。
【0045】交流電圧印加によりフリッカが生ずるのを
防止するため、すなわち透過率が周期的に変化するのを
防止するために、液晶画素印加電圧には直流電圧成分が
加えられる。矩形交流電圧の振幅及び直流電圧成分をそ
れぞれVac及びVdcで表す。
【0046】交流振幅Vacを固定し、直流成分Vdcを段
階的に変化させた場合の液晶表示パネル透過率を測定し
た。図4〜図12は、交流振幅Vacを黒表示用電圧であ
る2Vに固定し、直流成分Vdcを−3V、−2V、−1
V、−0.5V、0V、0.5V、1V、2V及び3V
にした場合のそれぞれの透過率変動を示す。図4に示す
如く、透過率変動幅をΔTで表す。
【0047】図13は、Vac=2Vの場合の直流成分V
dcと透過率変動幅ΔTとの関係を示すグラフである。こ
のグラフから、透過率変動幅ΔTが最小となる直流成分
Vdcの値は−0.38Vと推定される。
【0048】さらに、交流振幅Vacが白表示用電圧であ
る7Vと中間調表示用電圧(2+7)/2=4.5Vの
場合に、透過率変動幅ΔTが最小値ΔTminとなる直流
成分Vdcを上記同様にして求めた。これらの結果を、図
14に示す。交流振幅Vacが白表示用電圧と黒表示用電
圧であるときの直流成分Vdcの差をΔVdcで表す。実際
の液晶表示装置では直流成分Vdcが固定値であるので、
最適直流成分変動幅ΔVdcが狭いほどフリッカが弱くな
る。
【0049】図15は、液晶表示パネルの構造や材料を
変えて焼付率及び最適直流成分変動幅ΔVdcを測定し、
両者の関係を表したグラフである。このグラフから、焼
付率と最適直流成分変動幅ΔVdcとの相関度が高いこと
が判る。また、焼付率が上記6%以下であるためには、
最適直流成分変動幅ΔVdcが0.5V以下でなければな
らず、焼付率が上記3%以下であるためには、最適直流
成分変動幅ΔVdcが0.2V以下でなければならないこ
とが判る。
【0050】最適直流成分変動幅ΔVdcは短時間で容易
に測定することができるので、ΔVdcを用いることによ
り、焼付率が所望の値以下の液晶表示パネルを開発する
ための期間を大幅に短縮することが可能となる。
【0051】なお、図31において、面電極12を用い
ずに、画素電極25とコモン電極23を用いた構成、及
び、コモン電極23を用いずに、画素電極25と面電極
12とを用いた構成であっても、最適直流成分変動幅Δ
Vdcと焼付率との相関度は高く、その他の構成の液晶表
示パネルについても同様の相関関係があると考えられ
る。
【0052】[第2実施形態]図16及び図17はいず
れも、焼付率を低減可能な本発明の第2実施形態の液晶
画素の構成を示す概略断面図である。図16は電圧無印
加時の状態を示し、図17は電圧印加時の状態を示す。
【0053】この画素を有する液晶パネルは、基板20
Aの構成が図22の基板20のそれと異なっている。他
の構成は、図22のそれと同一である。
【0054】図18は、基板20Aの製造工程図であ
る。図18中、右端部はコモン電極23Aと画素電極2
5Aとが絶縁層24Aを介し重なっている部分に関す
る。
【0055】(A)フォトリソグラフィー技術により、
透明絶縁基板21上にメタルのコモン電極23Aが形成
される。
【0056】(B)透明絶縁基板21上に絶縁層24が
被着される。
【0057】(C)フォトリソグラフィー技術により、
絶縁層24上に画素電極25Aが形成される。
【0058】(D)画素電極25Aをマスクとして絶縁
層24がエッチングされ、画素電極25Aの真下の部分
のみ絶縁層24Aが残される。
【0059】(E)透明絶縁基板21上に絶縁層26A
が被着される。
【0060】(F)絶縁層26A上に垂直配向層27が
積層される。
【0061】このようにして基板20Aを形成すること
により、画素電極25A上の絶縁層26Aの厚みとコモ
ン電極23A上の絶縁層26Aの厚みとが実質的に同一
になるので、図17に示す如く画素電極25Aとコモン
電極23Aとの間に矩形交流電圧を印加した場合に、コ
モン電極23Aの上方と画素電極25Aの上方とで電気
的状態がほぼ同一になって、図31の構成の液晶表示パ
ネルよりも焼付きが低減される。換言すれば、図15の
最適直流成分変動幅ΔVdcがより小さくなって、焼付率
が低くなる。
【0062】絶縁層24A及び26Aは例えば、SiN
x、SiO2、レジスト又はアクリル樹脂のいずれかで
ある。試作においては、絶縁層24A及び26Aとして
SiNxを用い、垂直配向層27としてJALS204
(JSR社)を用い、液晶30としてZLI4535
(メルク・ジャパン社)を用い、試作品の焼付率低減効
果が確認された。
【0063】[第3実施形態]図19は、焼付率を低減
可能な、本発明の第3実施形態の液晶画素の電極パター
ン図であり、図33と類似している。
【0064】この電極パターンは、例えば図16の基板
20A又は図31の基板20に形成されている。
【0065】図20及び図21はそれぞれ、図19中の
画素電極25A及びコモン電極23Aのパターン図であ
り、それぞれ図34及び図35と類似している。
【0066】画素が矩形であることと、画素電極25A
及びコモン電極23Aが互いに平行なストライプ部を有
することと、画素電極25A及びコモン電極23Aがい
ずれも一繋がりのものであることから、画素電極25A
の周囲部とコモン電極23Aの周囲部とは、絶縁膜を介
し互いに重なる部分を有する。このため、画素電極25
Aとコモン電極23Aの隣り合う線電極の端部が、絶縁
部を介し交差する。例えば、画素電極25Aの辺251
とコモン電極23Aの辺231とは互いに平行であり、
辺251及び辺231にそれぞれ連続する辺252と辺
232とが交差する。
【0067】図22(A)は、この電極交差付近の拡大
図である。図22(B)は、画素電極25Aとコモン電
極23Aとの間に電圧が印加された時の電気力線を点線
で示す。
【0068】辺252と辺232とが鈍角で互いに交差
しているので、図36(A)に示すように辺252と辺
231とが鋭角で交差する場合よりも、電気力線の集中
が緩和されて電界強度が大きくなるのが抑制される。
【0069】また、辺251と辺231との間を通る線
SAに関し辺251及び252と辺231及び232と
が対称になっている。これにより、辺252と辺232
の間の電界ベクトルの方向は、辺251と辺231との
間のそれと平行になる。
【0070】このようなことから、電極交差付近の透過
特性の急変分布が緩和されて、表示画質が向上するとと
もに、焼付きが低減される。他の電極交差付近について
も上記同様である。
【0071】電極パターン以外は上記試作例と同一にし
て、図19の電極パターンを用いた液晶パネルと図33
の電極パターンを用いた液晶パネルとを試作し、図19
の電極パターンを用いた液晶パネルの方が焼付率が低く
なることを確認した。
【0072】[第4実施形態]図23は、焼付率を低減
可能な、本発明の第4実施形態の液晶画素の電極パター
ン図であり、図19と類似している。図24は、図23
中のコモン電極23Bのパターン図である。画素電極2
5Aは、図20のそれと同一である。
【0073】コモン電極23Bの周囲部には、コモン電
極23Bの一体性を確保しつつ切除部23B1〜23B
8が形成されている。これら切除部23B1〜23B8
の位置は、コモン電極23Bと画素電極25Dの、絶縁
体を介した交差部付近である。
【0074】この切除部が無い場合には、電圧印加時に
この部分と画素電極25Aとの間の非表示領域で電界が
生じてその付近の表示領域の液晶分子の配列に影響を与
える。切除部によりこの影響がなくなるので、上記第3
実施形態の場合よりも表示画質が向上すると共に、焼付
きが低減される。
【0075】[第5実施形態]図25は、焼付率を低減
可能な、本発明の第5実施形態の液晶画素の電極パター
ン図であり、図33と類似している。図26は、図25
中のコモン電極23Cのパターン図である。画素電極2
5は、図34のそれと同一である。
【0076】コモン電極23Cは、図24の場合と同様
に、コモン電極23Cの一体性を確保しつつ切除部23
B1〜23B8が形成されている。これにより、図23
の構成と比べて、上記第5実施形態と同じ理由で表示画
質が向上すると共に、焼付きが低減される。
【0077】[第6実施形態]図27は、本発明の第6
実施形態の、隣り合う2つの液晶画素の電極パターン図
である。両画素は、同一パターンを有する。
【0078】コモン電極23Dと画素電極25Dの枠部
は、絶縁膜を介し互いに重なっている。画素電極25D
のストライプ電極の下方及び線電極間の下方に、コモン
電極23Dのストライプ電極部が形成されており、その
線密度は画素電極25Dのそれの2倍である。
【0079】図28は、図27中のA−A線に沿った断
面拡大図である。
【0080】図32の液晶画素と異なる点は、画素電極
25Dの線電極部が凸形であることと、絶縁層26Dが
画素電極25D上のみに形成され、コモン電極23Dと
画素電極25Dの線電極間表示領域に絶縁層が形成され
ていないことである。垂直配向層27は絶縁層26Dよ
りも薄いので、図28ではこれを太線で示している。
【0081】画素電極25Dの線電極部が凸形であるこ
とから、その面が中央線から両側へ傾斜している。該凸
形に形成するために、図32と異なり、画素電極25D
の線電極部下方にも、画素電極25Dの線電極部より細
幅の、コモン電極23Dの線部が形成されている。この
凸形を強調するために、図27のTFT29を作る時に
形成されるチャンネル保護膜31が、コモン電極23D
の線部上方に残されている。チャンネル保護膜31の幅
は、コモン電極23Dの線部のそれよりも細い。
【0082】これにより、画素電極25Dの線電極部が
土手形となるので、画素電極25Dとコモン電極23D
との間に電圧を印加した場合に、電気力線が図28中の
点線で示すようになる。すなわち、画素電極25Dの傾
斜面付近の電気力線がこの面に垂直になるので、液晶分
子の傾斜が、透明絶縁基板21の面の法線に対しより大
きくなり、図32の場合よりも白表示の透過率が増す。
したがって、表示のコントラストが向上する。
【0083】また、画素電極25Dと絶縁層26Dのパ
ターンが同一で画素電極25Dとコモン電極23Dの間
の表示領域に絶縁層26Dが存在しないので、図32の
場合よりも液晶分子に対し電界が有効利用され、同じ印
加電圧の場合に図32の場合よりもコントラストが向上
する。
【0084】さらに、液晶が画素電極25Dに直接接触
しないので、液晶の分解が防止されると共に、焼付きが
低減される。
【0085】図29及び図30は、基板20Dの製造工
程を示す。各図は、図27中のB−B線に沿った断面に
対応している。次に、これについて説明する。
【0086】(A)フォトリソグラフィ技術により、透
明絶縁基板21上にメタルのコモン電極23D及び走査
(ゲート)ラインSL1が形成される。
【0087】(B)透明絶縁基板21上に絶縁層24、
真性半導体膜32及びチャンネル保護膜31が積層され
る。フォトリソグラフィ技術により、走査ラインSL1
とコモン電極23Dの上方のみにチャンネル保護膜31
が残される。
【0088】(D)半導体膜32上にn+半導体膜3
3、導電膜25D及び絶縁層26Dが積層され、これら
が同一パターンで食刻されて、走査ラインSL1の上方
にTFT29のソースSとドレインDとが形成されると
同時に、コモン電極23Dの線部上方に、画素電極25
Dの線電極部及び絶縁層26Dが形成される。画素電極
25D並びにTFT29の電極は、3層の導電膜25
a、25b及び25cで形成されている。導電膜25a
〜25cは例えば、Ti/Al/Tiである。電極25
DとしてAl膜のみ用いるとこれがn+半導体膜33内
に拡散するので、これを避けるためにTi膜が用いら
れ、Ti膜のみ用いると抵抗率が高くなるので、Al膜
も用いられている。絶縁層26Dは、DVDで形成され
る窒化シリコン膜又は酸化シリコン膜である。
【0089】なお、画素電極25Dとして2層のTi/
Alを用い、絶縁層26Dとして窒化アルミニウムを用
いれば、スパッタ装置でこれらを連続的に成膜すること
ができるので、工程数が削減される。また、絶縁層26
Dとしては、パターニングで用いられるフォトレジスト
を残存させたものであってもよい。
【0090】(E)絶縁層24上及び26上に、太線で
示す垂直配向層27が被着される。
【0091】本第6実施形態によれば、画素電極25D
の土手形線電極部及びその上の絶縁層26DがTFT2
9と同時に形成されるので、画素電極25D及び絶縁層
26Dを形成するために工程数を増加する必要がない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法に用いられる液晶表示装置の概略
回路図である。
【図2】焼付率説明図である。
【図3】画素印加電圧波形を示す図である。
【図4】交流振幅Vacが2V、直流成分Vdcが−3Vで
ある場合の液晶画素透過率測定波形図である。
【図5】交流振幅Vacが2V、直流成分Vdcが−2Vで
ある場合の液晶画素透過率測定波形図である。
【図6】交流振幅Vacが2V、直流成分Vdcが−1Vで
ある場合の液晶画素透過率測定波形図である。
【図7】交流振幅Vacが2V、直流成分Vdcが−0.5
Vである場合の液晶画素透過率測定波形図である。
【図8】交流振幅Vacが2V、直流成分Vdcが0Vであ
る場合の液晶画素透過率測定波形図である。
【図9】交流振幅Vacが2V、直流成分Vdcが0.5V
である場合の液晶画素透過率測定波形図である。
【図10】交流振幅Vacが2V、直流成分Vdcが1Vで
ある場合の液晶画素透過率測定波形図である。
【図11】交流振幅Vacが2V、直流成分Vdcが2Vで
ある場合の液晶画素透過率測定波形図である。
【図12】交流振幅Vacが2V、直流成分Vdcが3Vで
ある場合の液晶画素透過率測定波形図である。
【図13】交流振幅Vacが2Vである場合の、直流成分
Vdcと液晶画素透過率変動幅ΔTとの関係の測定結果を
示すグラフである。
【図14】交流振幅Vacと液晶画素透過率変動幅ΔTが
最小となる直流成分Vdcとの関係の測定結果を示すグラ
フである。
【図15】焼付率と最適直流成分変動幅ΔVdcとの関係
の測定結果を示すグラフである。
【図16】本発明の第2実施形態の、焼付率を低減可能
な液晶画素の構成の電圧無印加状態を示す概略断面図で
ある。
【図17】図16の液晶画素の電圧印加状態を示す概略
断面図である。
【図18】図16中の基板20Aの製造工程図である。
【図19】本発明の第3実施形態の、焼付率を低減可能
な液晶画素の電極パターン図である。
【図20】図19中の画素電極のパターン図である。
【図21】図19中のコモン電極のパターン図である。
【図22】(A)は図19中の電極交差付近の拡大図で
あり、(B)は(A)の電極間に電圧が印加された時の
電気力線を点線で示す図である。
【図23】本発明の第4実施形態の、焼付率を低減可能
な液晶画素の電極パターン図である。
【図24】図23中のコモン電極のパターン図である。
【図25】本発明の第5実施形態の、焼付率を低減可能
な液晶画素の電極パターン図である。
【図26】図25中のコモン電極のパターン図である。
【図27】本発明の第6実施形態の、隣り合う2つの液
晶画素の電極パターン図である。
【図28】図27中のA−A線に沿った断面拡大図であ
る。
【図29】バックライト入射側基板の製造工程を示す図
である。
【図30】図29の続きを示す製造工程図である。
【図31】本発明と対比される、液晶表示パネルの1画
素の構造の電圧無印加状態を示す概略断面図である。
【図32】図31の画素の電圧印加状態を示す概略断面
図である。
【図33】図32中の基板20に形成された電極パター
ンの1画素分を示す図である。
【図34】図33中の画素電極のパターン図である。
【図35】図33中のコモン電極のパターン図である。
【図36】(A)は図33中の電極交差付近の拡大図で
あり、(B)は(A)の電極間に電圧が印加された時の
電気力線を点線で示す図である。
【図37】従来の液晶表示パネルの1画素の画素電極と
コモン電極との間に電圧を印加した場合の電極間付近の
液晶分子の傾斜を示す概略断面図である。
【符号の説明】
10、20、20A 基板 11、21 透明絶縁基板 12 面電極 13 誘電体 14、27 垂直配向層 15、28 偏光子 23、23A〜23D コモン電極 231、232、251、252 辺 23B1〜23B8 切除部 24、24A、26、26A、26D 絶縁層 25、25A、25D 画素電極 25a〜25c 導電膜 29 TFT 30 液晶 31 チャンネル保護膜 32 半導体膜 33 n+半導体膜 DL1 データライン SL1 走査ライン
フロントページの続き (72)発明者 笹林 貴 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 田坂 泰俊 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 藤川 徹也 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 助則 英智 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 2H092 GA13 GA16 GA17 HA06 HA14 JA24 KA12 KA18 KB25 MA13 NA01 NA27 NA29 PA06 PA11

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1基板と第2基板との間に液晶が封入
    され、該第1基板は、絶縁基板と、該絶縁基板の上方に
    形成された第1電極及び第2電極と、該第1電極と該第
    2電極とを被う第1絶縁膜とを有する液晶表示パネルに
    おいて、 該絶縁基板の液晶側の面を基準として、該第1電極の位
    置が該第2電極の位置よりも高く、該第1電極と該第2
    電極とが第2絶縁膜を介して重なり合う部分を有し、 該第1絶縁膜は、該第1電極上と該第2電極上とで厚み
    が実質的に同一である、 ことを特徴とする液晶表示パネル。
  2. 【請求項2】 上記第2電極は、上記絶縁基板上に形成
    され、 上記第1電極は、該第2電極が形成された後に第2絶縁
    膜を介して形成され、 上記第1絶縁膜は、該第1電極の下方の部分以外の該第
    2絶縁膜が除去された後に形成されている、 ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示パネル。
  3. 【請求項3】 第1基板と第2基板との間に液晶が封入
    され、該第1基板は、絶縁基板と、該絶縁基板の上方に
    形成され絶縁膜を介し互いに交差する部分を有する第1
    電極及び第2電極とを備えた液晶表示パネルにおいて、 該第1電極及び該第2電極はいずれも、該交差部分と連
    続する互いに平行な線電極部分を有し、該交差部分の該
    第1電極と該第2電極の隣り合う辺が互いに鈍角で交差
    している、 ことを特徴とする液晶表示パネル。
  4. 【請求項4】 高さ方向を無視した平面上について、上
    記交差部分の上記隣り合う辺が、上記平行線分の間を通
    る直線に関し実質的に対称であることを特徴とする請求
    項3記載の液晶表示パネル。
  5. 【請求項5】 上記交差部分の上記隣り合う辺のいずれ
    についても、上記絶縁基板の上下方向に関し上記第1電
    極の辺と上記該第2電極の辺とが重なっていないことを
    特徴とする請求項3又は4記載の液晶表示パネル。
  6. 【請求項6】 第1基板と第2基板との間に液晶が封入
    され、該第1基板は、絶縁基板と、該絶縁基板の上方に
    形成された第1電極及び第2電極を有する液晶表示パネ
    ルにおいて、 該絶縁基板の液晶側の面を基準として、該第1電極の位
    置が該第2電極の位置よりも高く、該第1電極と該第2
    電極とが第1絶縁膜を介して重なり合う部分を有し、該
    第1電極の表面が凸形である、 ことを特徴とする液晶表示パネル。
  7. 【請求項7】 上記第1電極が第2絶縁膜で覆われ、上
    記第2電極と該第1電極との間の表示領域に該第2絶縁
    膜が実質的に形成されていない、 ことを特徴とする請求項6記載の液晶表示パネル。
  8. 【請求項8】 第1基板と第2基板との間に液晶が封入
    され、該第1基板に第1電極が形成され、該第1基板又
    は該第2基板に第2電極が形成された画素を有する液晶
    表示パネルの開発方法において、 該第1電極と該第2電極との間に交流電圧成分と直流電
    圧成分Vdcとの和である信号電圧を印加し、該交流電圧
    成分の振幅Vac及び該直流電圧成分Vdcを変化させて実
    質的に最適直流成分変動幅ΔVdcを測定し、 該最適直流成分変動幅ΔVdcが所定値以下になるように
    該液晶表示パネルの構成又は構成材料を決定し、ここ
    に、 該最適直流成分変動幅ΔVdcは、ΔVdc=|Vdcb−Vd
    cw|と表され、 Vdcbは、該振幅Vacを黒表示用交流電圧振幅に固定し
    該直流電圧成分Vdcを変化させた場合に、該画素の透過
    率振幅が最小となる該直流電圧成分Vdcの値であり、 Vdcwは、該振幅Vacを白表示用交流電圧振幅に固定し
    該直流電圧成分Vdcを変化させた場合に、該画素の透過
    率振幅が最小となる該直流電圧成分Vdcの値である、 ことを特徴とする液晶表示パネル開発方法。
  9. 【請求項9】 上記所定値は0.5V以下の値であるこ
    とを特徴とする請求項8記載の液晶表示パネル開発方
    法。
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