WO2017104623A1

WO2017104623A1 - 異形表示装置

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Publication number: WO2017104623A1
Application number: PCT/JP2016/086941
Authority: WO
Inventors: 啓史別宮
Original assignee: コニカミノルタ株式会社
Priority date: 2015-12-16
Filing date: 2016-12-12
Publication date: 2017-06-22
Also published as: JPWO2017104623A1; KR20180069015A; CN108369356A; KR102036468B1

Abstract

表示画面が長方形および正方形とは異なる形状である液晶表示装置は、ＩＰＳセルと、上記ＩＰＳセルを両側から挟み込む各偏光板とを備えている。ＩＰＳセルは、１画素の表示領域Ｐ内でストライプ状に位置する画素電極（１１０）と、画素電極（１１０）と交互に並ぶストライプ状の共通電極（１０８）とを有している。各偏光板の厚みは、それぞれ２０μｍ以上６５μｍ以下である。各偏光板は、偏光子と、上記偏光子を両側から挟み込む各光学フィルムとを有している。各偏光板の各光学フィルムにおいて、－４０℃から１００℃の間でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の値が、－１．８以上である。

Description

異形表示装置

　本発明は、表示画面が長方形および正方形とは異なる形状である異形表示装置に関するものである。

　近年、モバイル端末やデジタルサイネージなどの各種電子機器が高機能化および多様化されるに伴い、電子機器への新たな価値の導入において、表示画面の狭額縁化が注目を浴びている。狭額縁化技術を推進していくと、電子機器のデザイン性を向上させることができるだけでなく、表示画面の形状を、長方形および正方形以外の形状（以下では、異形形状とも称する）に容易に変更することができる。これは、例えば表示に必要な回路や配線を表示画面内に配置する（表示画面の外側の額縁領域には配置しない）ことで狭額縁化が達成されるため、表示画面を異形形状にしても、表示画面の端部まで、画素の駆動に必要な信号を表示画面内の回路等から供給できることによる。このように表示画面を異形形状にした表示装置のことを、ここでは異形表示装置と呼ぶ。異形表示装置は、特に、車両の計器盤（インスツルメントパネル）や、デザイン性に特徴を出したい分野において、その適用が検討されている。

　一方で、視野角が広く、高画質な表示を行う表示装置として、ＩＰＳ型（In　Plane Switching）の液晶表示装置が知られている（例えば特許文献１参照）。ＩＰＳ型の液晶表示装置の表示画面を異形形状にすることで、視認性に優れた異形表示装置の実現が期待できる。

特開２０１５－１１４３７７号公報（請求項１、段落〔００１１〕、図１等参照）

　ところで、ＩＰＳセルを両側から２枚の偏光板で挟んで異形表示装置を構成する場合、各偏光板は、表示画面の形状、すなわち、異形形状に打ち抜かれる。このとき、偏光板の厚みが厚いと、打ち抜き時に偏光板にクラックが生じやすくなるため、偏光板は薄いことが望ましい。つまり、カッティング性を向上させる観点からは、偏光板を薄くすることが望ましい。

　しかし、偏光板を薄くすると、偏光子の耐久性が低下する。つまり、上述した車両の計器盤などの車載用途では、車内が高温高湿の条件になることがあり得るが、このような使用環境を想定して湿熱耐久試験を行ったときに、偏光板が薄いと、染色された偏光子の色が落ちやすくなり、偏光子が劣化する。

　このような偏光子の耐久性低下を回避するためには、偏光子の染色を濃くすることが必要となる。しかし、偏光子の染色を濃くすると、偏光子の透過率が下がり、表示画像の明るさが低下する。このため、表示画像の明るさの低下を、ＩＰＳセルの構成を工夫することによってカバーすることが望まれる。

　また、偏光板の偏光子（例えばポリビニルアルコールフィルム）は、温度変化による粘性の変化が大きい。このため、偏光子を挟み込む２枚の光学フィルムについても、温度による粘性の変化が大きいと、温度変化によって偏光板にクラックが生じる場合がある。

　本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであって、その目的は、偏光板を異形形状に打ち抜くときのクラックおよび温度変化による偏光板のクラックの発生を抑えることができるとともに、偏光子の透過率が低下する場合でも、ＩＰＳセルの透過率を上げることによって表示画像の明るさの低下を回避することができる異形表示装置を提供することにある。

　本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。

　本発明の一側面に係る異形表示装置は、表示画面が、長方形および正方形とは異なる形状である異形表示装置であって、
　ＩＰＳセルと、前記ＩＰＳセルを両側から挟み込む各偏光板とを備え、
　前記ＩＰＳセルは、
　１画素の表示領域内でストライプ状に位置する画素電極と、
　前記画素電極と交互に並ぶストライプ状の共通電極とを有しており、
　前記各偏光板の厚みは、それぞれ２０μｍ以上６５μｍ以下であり、
　前記各偏光板は、
　偏光子と、前記偏光子を両側から挟み込む各光学フィルムとを有しており、
　損失弾性率と貯蔵弾性率との比を示す損失正接をｔａｎδとしたとき、
　前記各偏光板の各光学フィルムにおいて、－４０℃から１００℃の間でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の値が、－１．８以上である。

　上記の構成によれば、偏光板が、厚み２０μｍ以上６５μｍ以下の薄型であるので、偏光板を異形形状に打ち抜く場合でも、クラックの発生を抑えることができる。また、ＩＰＳセルは、１画素の表示領域内に、ストライプ状の画素電極とストライプ状の共通電極とを有しており、これらの電極が交互に並んで位置している。これにより、例えば共通電極を平面状に形成してストライプ状の画素電極とオーバーラップさせる構成に比べて、高透過率のＩＰＳセルを実現することができる。したがって、偏光板が薄型であり、偏光子の耐久性の低下を回避すべく、偏光子の染色を濃くした場合でも、つまり、偏光子の透過率が低下する場合でも、高透過率のＩＰＳセルを用いて、表示画像の明るさの低下を回避することができる。また、各偏光板の各光学フィルムにおいて、－４０℃から１００℃の間でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の値が－１．８以上であり、温度変化による粘性の変化が小さいので、温度変化による偏光板のクラックの発生を抑えることができる。

本発明の実施の形態に係る異形表示装置の一例である液晶表示装置の平面図である。図１のＡ－Ａ’線矢視断面図である。上記液晶表示装置が有するＩＰＳセルの詳細な構成を示す断面図である。上記ＩＰＳセルの１画素の表示領域における画素電極を拡大して示す平面図である。上記表示領域における上記画素電極および共通電極の断面図である。本実施の形態の参考例となる、１画素の表示領域における画素電極および共通電極の構成を示す断面図である。上記ＩＰＳセルの製造工程を示す断面図である。

　本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をＡ～Ｂと表記した場合、その数値範囲に下限Ａおよび上限Ｂの値は含まれるものとする。なお、本発明は、以下の内容に限定されるものではない。

　〔液晶表示装置〕
　図１は、本実施形態に係る異形表示装置の一例である液晶表示装置１の平面図である。液晶表示装置１の表示画面１ａは、長方形および正方形以外の形状（異形形状）となっている。図１では、表示画面１ａの形状は、複数の図形を組み合わせた形状、より具体的には、長方形に２つの凸形状を組み合わせた形状となっているが、このような形状の他にも、円形、楕円形、三角形、菱形、台形、星形などの形状が考えられる。

　図２は、図１のＡ－Ａ’線矢視断面図である。液晶表示装置１は、ＩＰＳ方式で駆動されるＩＰＳセル２を、２枚の偏光板３・４で挟んで構成されているとともに、ＩＰＳセル２を照明するバックライト５を備えている。なお、ＩＰＳセル２の詳細な構成については後述する。また、以下で示す本実施形態の構成は、ＦＦＳ（Fringe　Field Switching）方式を含む全てのＩＰＳ方式の液晶表示装置に適用可能である。

　偏光板３は、ＩＰＳセル２に対して視認側（バックライト５とは反対側）に位置しており、偏光子１１と、保護フィルム１２と、対向フィルム１３とを含んでいる。偏光子１１は、所定の直線偏光を透過する。保護フィルム１２は、偏光子１１に対してＩＰＳセル２とは反対側（視認側）に位置している。対向フィルム１３は、偏光子１１に対してＩＰＳセル２側に位置している。すなわち、保護フィルム１２および対向フィルム１３は、偏光子１１を両側から挟み込む光学フィルムである。偏光板３は、対向フィルム１３側において、粘着層６を介してＩＰＳセル２と接着されている。なお、偏光板３は、保護フィルム１２に対して偏光子１１とは反対側に、ハードコート層、防眩層、反射防止層、帯電防止層などの機能層をさらに有していてもよい。

　偏光板４は、ＩＰＳセル２に対してバックライト５側に位置しており、偏光子２１と、保護フィルム２２と、対向フィルム２３とを含んでいる。偏光子２１は、所定の直線偏光を透過するものであり、透過軸が偏光子１１と直交するように配置されている。保護フィルム２２は、偏光子２１に対してＩＰＳセル２とは反対側（バックライト５側）に位置している。対向フィルム２３は、偏光子２１に対してＩＰＳセル２側に位置している。すなわち、保護フィルム２２および対向フィルム２３は、偏光子２１を両側から挟み込む光学フィルムである。偏光板４は、対向フィルム２３側において、粘着層７を介してＩＰＳセル２と接着されている。

　〔ＩＰＳセルについて〕
　図３は、ＩＰＳセル２の詳細な構成を示す断面図である。ＩＰＳセル２は、前述の特許文献１の構成において、共通電極（対向電極）をストライプ状に形成したものに相当する。以下、ＩＰＳセル２の詳細について説明する。

　ＩＰＳセル２は、ＴＦＴ（Thin　Film　Transistor）基板１００と対向基板２００とで液晶層３００を挟持して構成されている。ＴＦＴ基板１００および対向基板２００は、例えばガラスや樹脂などの透明基板で構成されている。

　まず、ＴＦＴ基板１００側の構成について説明する。ＴＦＴ基板１００の上には、ゲート電極１０１が形成されている。ゲート電極１０１は走査線と同層の金属層で形成されている。ゲート電極１０１は、窒化シリコン（ＳｉＮ）からなる絶縁膜１０２で覆われている。絶縁膜１０２の上において、ゲート電極１０１と対向する位置には、半導体層１０３が形成されている。半導体層１０３は、ＴＦＴのチャネル部を含む。半導体層１０３上には、チャネル部を挟んでソース電極１０４とドレイン電極１０５とが形成されている。ソース電極１０４は映像信号線と接続され、ドレイン電極１０５は画素電極１１０と接続される。ソース電極１０４およびドレイン電極１０５は、同層の金属層で形成されている。

　ＴＦＴは、上記のゲート電極１０１、半導体層１０３、ソース電極１０４、ドレイン電極１０５を含んで構成されている。このＴＦＴは、ＳＩＮで形成される無機パッシベーション膜１０６で覆われている。無機パッシベーション膜１０６は、ＴＦＴの特にチャネル部を不純物から保護する。無機パッシベーション膜１０６の上には、ポリイミド樹脂等の有機パッシベーション膜１０７が形成されている。有機パッシベーション膜１０７は、ＴＦＴの保護と同時に表面を平坦化する役割も有するため、厚く形成されている。有機パッシベーション膜１０７の上には、共通電極１０８と、例えばＳｉＮやポリイミド樹脂等で形成されるパッシベーション膜１０９とが形成されている。ＴＦＴの上方の共通電極１０８は、パッシベーション膜１０９で覆われている。

　画素電極１１０は、パッシベーション膜１０９上に形成されているとともに、パッシベーション膜１０９に設けられたスルーホール１１１を介して、ＴＦＴのドレイン電極１０５と導通している。これにより、映像信号が画素電極１１０に供給される。共通電極１０８および画素電極１１０は、透明導電膜の材料であるＩＴＯ（Indium　Tin Oxide）で形成されるが、この他にも、例えば特開２０１１－１００７４９号公報に記載のＩｎ・Ｓｎ複合酸化物で形成されてもよい。液晶層３００の液晶分子３０１を配向させるための配向膜１１３は、画素電極１１０を覆うように形成されている。

　図４は、１画素の表示領域Ｐ（対向基板２００の後述するブラックマトリクス２０２で遮光されていない領域）における画素電極１１０を拡大して示す平面図である。なお、同図では、便宜上、共通電極１０８およびパッシベーション膜１０９の図示を省略している。表示画面１ａ（図１参照）に平行な面内で互いに垂直な２方向のうちの一方向をＸ方向とし、他方向をＹ方向とする。ドレイン電極１０５と導通する画素電極１１０は、１画素の表示領域Ｐの外側で複数に枝分かれし、それぞれが表示領域Ｐ内でＸ方向に沿って延びている。この結果、表示領域Ｐ内では、画素電極１１０は、ストライプ状（縞状）に形成されている。すなわち、画素電極１１０は、Ｘ方向に沿って延び、かつ、Ｙ方向に間隔をあけて並んで位置している。

　図５は、１画素の表示領域Ｐにおける画素電極１１０および共通電極１０８の断面図である。なお、図５では、便宜上、配向膜１１３の図示を省略している。同図に示すように、表示領域Ｐにおいて、パッシベーション膜１０９は、表示領域Ｐ内でストライプ状に形成されている。すなわち、パッシベーション膜１０９は、有機パッシベーション膜１０７上で、Ｘ方向に沿って延び、かつ、Ｙ方向に間隔をあけて並んで位置している。したがって、有機パッシベーション膜１０７は、各パッシベーション膜１０９を下方から支持する下地層を構成している。

　上記した画素電極１１０は、ストライプ状のパッシベーション膜１０９の上に位置している。また、上記した共通電極１０８は、有機パッシベーション膜１０７上で、隣り合うパッシベーション膜１０９の間に位置して、Ｘ方向に延びて形成されている。したがって、共通電極１０８は、Ｘ方向に沿って延び、かつ、Ｙ方向において画素電極１１０と交互に並ぶように位置していることになる。つまり、表示領域Ｐ内では、画素電極１１０と共通電極１０８とはオーバーラップせず、Ｙ方向にずれて位置している。

　図６は、本実施形態の参考例となる、１画素の表示領域Ｐにおける画素電極１１０および共通電極１０８の構成を示す断面図であり、特許文献１の構成に対応している。特許文献１では、有機パッシベーション膜１０７上に、共通電極１０８を平面状（ベタ状）に形成し、共通電極１０８をパッシベーション膜１０９で覆った後、パッシベーション膜１０９の上に画素電極１１０をストライプ状に形成している。したがって、画素電極１１０は、共通電極１０８の一部とオーバーラップしている。このように、表示領域Ｐ内で画素電極１１０と共通電極１０８とがオーバーラップしているか否かで、本実施形態の構成と特許文献１の構成とは互いに相違している。

　次に、対向基板２００側の構成について説明する。図３で示す対向基板２００の内側（液晶層３００側）には、画素毎に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ２０１が形成されている。そして、隣り合うカラーフィルタ２０１・２０１の間には、ブラックマトリクス２０２が形成されている。ブラックマトリクス２０２は、ＴＦＴを遮光する遮光膜であり、ＴＦＴに光電流が流れることを防止している。

　カラーフィルタ２０１およびブラックマトリクス２０２を覆うように、オーバーコート膜２０３が形成されている。カラーフィルタ２０１およびブラックマトリクス２０２の表面は凹凸となっているが、オーバーコート膜２０３を設けることにより、表面が平坦化される。

　オーバーコート膜２０３上には、液晶の初期配向を決めるための配向膜１１４が形成されている。なお、液晶表示装置１はＩＰＳ方式であるから、共通電極１０８は上述のようにＴＦＴ基板１００側に形成されており、対向基板２００側には形成されていない。

　ＩＰＳセル２では、対向基板２００の内側には導電膜が形成されていないため、対向基板２００の電位が不安定になる。また、外部からの電磁ノイズが液晶層３００に侵入し、画像に対して影響を与える。このような影響を回避するため、対向基板２００の外側に表面導電膜２１０が形成されている。

　上記したＩＰＳセル２の構成において、共通電極１０８には一定の電圧が印加され、画素電極１１０には映像信号に応じた電圧が印加される。画素電極１１０に電圧が印加されると、電気力線が発生し、液晶層３００の液晶分子３０１が電気力線の方向に回転する。このように液晶分子３０１の向きを制御することで、液晶層３００における光の透過（バックライト５からの光の透過）が制御され、これによって表示画面１ａ（図１参照）に画像が表示される。

　上述したように、本実施形態では、ＩＰＳセル２は、１画素の表示領域Ｐ内でストライプ状に位置する画素電極１１０と、画素電極１１０と交互に並ぶストライプ状の共通電極１０８とを有している。この構成では、表示領域Ｐ内において、バックライト５からの光は、画素電極１１０および共通電極１０８のいずれか一方を透過し、両方を透過することがない。つまり、表示領域Ｐ内において、画素電極１１０と共通電極１０８との重複部分がなく、その重複部分を光が透過するということがない。これにより、画素電極１１０と共通電極１０８との重複部分を光が透過する図６の構成に比べて、光の透過率を上げることができる。

　また、表示領域Ｐ内で、画素電極１１０と共通電極１０８とがオーバーラップしないため、画素電極１１０および共通電極１０８への電圧印加時に、液晶分子３０１の配向乱れが生じるのを抑えることができ、これによっても、液晶層３００を透過する光の透過率を上げることができる。

　つまり、本実施形態のＩＰＳセル２の構成によれば、（１）表示領域Ｐ内において、画素電極１１０と共通電極１０８との重複部分がなく、その重複部分を光が透過することがないこと、（２）液晶分子３０１の配向乱れを抑えることができること、から、高透過率のＩＰＳセル２を実現することができる。

　また、ストライプ状のパッシベーション膜１０９の上に画素電極１１０が位置し、共通電極１０８は、隣り合うパッシベーション膜１０９・１０９の間に位置しているため、１画素の表示領域Ｐ内で、画素電極１１０と共通電極１０８とを（Ｙ方向に）ずらす構成（両者がオーバーラップしない構成）を確実に実現することができる。

　なお、図３では、無機パッシベーション膜１０６と有機パッシベーション膜１０７とを両方設けているが、どちらか一方を省略した構成であってもよい。この場合、上述した下地層は、無機パッシベーション膜１０６と有機パッシベーション膜１０７とのどちらか一方となる。また、図３では、ＴＦＴ基板１００において、ゲート電極１０１上に半導体層１０３を設けたボトムゲートの構成を示しているが、半導体層１０３上にゲート電極１０１を設けるトップゲートの構成であってもよい。

　〔ＩＰＳセルの製造方法〕
　本実施形態では、上記のように共通電極１０８をストライプ状で形成する以外は、前述した特許文献１と同様の製造方法を採用してＩＰＳセル２を製造することができる。そこで、以下では、ＩＰＳセル２の製造方法について、特許文献１と異なる部分、つまり、１画素の表示領域Ｐの部分に特化して説明する。

　図７は、ＩＰＳセル２の製造工程を示す断面図である。まず、ガラスなどの透明基板からなるＴＦＴ基板１００（図３参照）上に、ゲート電極１０１から有機パッシベーション膜１０７まで所望の形状で形成した後、有機パッシベーション膜１０７上にパッシベーション膜１０９を形成する。続いて、パッシベーション膜１０９上に、画素電極１１０を形成するためのＩＴＯ層１１０ａをベタ塗りし、その後、ＩＴＯ層１１０ａ上にフォトレジスト４０１をストライプ状に形成する。

　次に、ストライプ状のフォトレジスト４０１をマスクとして、ＩＴＯ層１１０ａをウェットエッチングすることにより、ストライプ状のＩＴＯからなる画素電極１１０を形成する。その後、パッシベーション層１０９をドライエッチングしてストライプ状にする。

　続いて、共通電極１０８を形成するためのＩＴＯをスパッタし、有機パッシベーション膜１０７上にＩＴＯ層１０８ａを形成し、その後、ＩＴＯ層１０８ａ上にフォトレジスト４０２を塗布する。

　次に、アッシング処理により、フォトレジスト４０２の一部を分解、除去し、その後、ウェットエッチングにより、フォトレジスト４０１上のＩＴＯ層１０８ａおよび画素電極１１０を構成するＩＴＯの一部を除去する。最後に、アッシング処理により、フォトレジスト４０１・４０２を分解、除去する。これにより、ストライプ状の画素電極１１０と、ストライプ状の共通電極１０８とを有するＩＰＳセル２が得られる。

　〔偏光板の詳細について〕
　次に、ＩＰＳセル２を両側から挟み込む偏光板３・４の詳細について説明する。なお、偏光板４の偏光子２１、保護フィルム２２、対向フィルム２３は、偏光板３の偏光子１１、保護フィルム１２、対向フィルム１３と同様の構成であるため、以下では、偏光板３を例に挙げてその詳細について説明し、偏光板４の詳細な説明を省略する。

　偏光子１１は、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）フィルムを二色性色素で染色し、高倍率延伸することで得られるものであり、その厚さは１５μｍ以下であり、望ましくは５～７μｍである。

　保護フィルム１２および対向フィルム１３は、例えばセルロースエステル系樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ＣＯＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、アクリル樹脂の少なくともいずれかを含んで構成される。偏光板３の厚みは、２０μｍ以上６５μｍ以下である（偏光板４の厚みも同じ）。これにより、薄型の偏光板３が構成されるため、表示画面１ａ（図１参照）の形状に合わせて、偏光板３を異形形状に打ち抜く場合でも、偏光板３にクラックが発生するのを抑えることができる。

　特に、セルロースエステル系樹脂は、機械的強度がＣＯＰ等よりも高い。このため、保護フィルム１２および対向フィルム１３がセルロースエステル系樹脂を含んで構成される場合は、偏光板３の打ち抜き時にクラックが発生するのを確実に抑えることができる。

　また、上述したＩＰＳセル２の構成により、高透過率のＩＰＳセル２を実現できるため、偏光板３が薄型の場合に生じる偏光子１１の耐久性の低下を回避すべく、偏光子１１の染色を濃くした場合でも、表示画像の明るさの低下を回避することができる。つまり、偏光子１１の染色を濃くすると、偏光子１１の透過率が低下するが、ＩＰＳセル２の高透過率を実現できるため、偏光子１１の透過率が低下しても、ＩＰＳセル２の高透過率によって表示画像の明るさの低下を回避することができる。

　また、本実施形態では、損失弾性率Ａと貯蔵弾性率Ｂとの比Ａ／Ｂを示す損失正接をｔａｎδとしたとき、偏光板３の光学フィルム（保護フィルム１２、対向フィルム１３）において、－４０℃から１００℃の間でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の値が、－１．８以上である（偏光板４の光学フィルム（保護フィルム２２、対向フィルム２３）についても同じ）。なお、δは、物体に応力が付与されて、物体に歪みが生じたときに、応力に対する歪みの位相遅れに相当する。

　上記温度範囲において、Ｌｏｇ（ｔａｎδ）の値が－１．８以上であれば、光学フィルムの温度変化による粘性（粘弾性）の変化が小さいと言える。このため、偏光子１１として、温度変化による粘性の変化の大きいＰＶＡフィルムを用いた場合でも、温度変化による粘性の変化の小さい保護フィルム１２および対向フィルム１３で偏光子１１を挟んでいることにより、温度変化による偏光板のクラックの発生を抑えることができる。

　また、偏光板３の光学フィルム（保護フィルム１２、対向フィルム１３）は、末端封止したポリエステルを可塑剤として含むことが望ましい（偏光板４の光学フィルム（保護フィルム２２、対向フィルム２３）についても同じ）。この場合、上記光学フィルムの温度変化による位相差変動および粘性の変化を小さくでき、光学特性（位相差、粘性）を安定させることができる。

　以下、偏光板３・４を構成する各光学フィルムの詳細について説明する。

　〔フィルム基材〕
　（セルロースエステル系樹脂）
　本実施形態の光学フィルムのフィルム基材として用いることができるセルロースエステル系樹脂は、セルロース（ジ、トリ）アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。これらの少なくとも１種の樹脂を用いて光学フィルムを製膜することにより、－４０℃から１００℃の間でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の値が－１．８以上となる光学フィルムを容易に実現することができる。

　これらの中で特に好ましいセルロースエステルとしては、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートが挙げられる。

　混合脂肪酸エステルとして、更に好ましいセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートの低級脂肪酸エステルは、炭素原子数２～４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂であることが好ましい。
　式（Ｉ）　　２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
　式（II）　　１．０≦Ｘ≦２．５

　このうち、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。上記アシル基で置換されていない部分は、通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することができる。

　更に、本実施形態で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比Ｍｗ／Ｍｎが１．５～５．５のものが好ましく用いられる。より好ましくは２．０～５．０、更に好ましくは２．５～５．０、特に好ましくは３．０～５．０のセルロースエステルが用いられる。

　本実施形態で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよい。また、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは、綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは、適宜混合して、或いは単独で使用することができる。

　例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が、１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０となるように、各セルロースエステルを混合して用いることができる。

　本実施形態において、セルロースエステル系樹脂は、２０ｍｌの純水（電気伝導度０．１μＳ／ｃｍ以下、ｐＨ６．８）に１ｇ投入し、２５℃、１ｈｒ、窒素雰囲気下にて攪拌したときのｐＨが６～７、電気伝導度が１～１００μＳ／ｃｍであることが好ましい。

　（脂環式オレフィンポリマー系樹脂）
　本実施形態の光学フィルムのフィルム基材としては、脂環式オレフィンポリマー系樹脂（ＣＯＰ）を用いてもよい。脂環式オレフィンポリマー系樹脂は、飽和脂環炭化水素（シクロアルカン）構造や不飽和脂環炭化水素（シクロアルケン）構造のごとき脂環式構造を有するポリマーである。脂環式構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常４～３０個、好ましくは５～２０個、より好ましくは５～１５個の範囲であるときに、機械強度、耐熱性および成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。

　ただし、本実施形態では、上述したように、温度変化による偏光板のクラックの発生を抑える観点から、－４０℃から１００℃の間でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の値が－１．８以上であることが必要である。例えばＪＳＲ社製のアートン（Ｇ７８１０）は、ＣＯＰの側鎖に極性基が付いたポリマーであるが、上記温度範囲でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の最小値が－１．７であるため、本実施形態の光学フィルムに好適となる。なお、上記のアートンにゴム粒子を添加することにより、上記温度範囲でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の値を増大させて、温度変化による粘性の変化をさらに小さくすることができる。このようなゴム粒子としては、例えば旭化成ケミカルズ社製のＳＲＢ２１５を用いることができる。

　（ゼロ位相差フィルム）
　各偏光板において、偏光子に対してＩＰＳセル側の光学フィルム、すなわち、対向フィルムは、表示性能の向上の観点から、下記式（ｉ）で表されるＲｏが、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、下記式（ii）で表されるＲｔが、－１０ｎｍ以上＋１０ｎｍ以下であるゼロ位相差フィルムであることが望ましい。
　　　式（ｉ）　Ｒｏ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ
　　　式（ii）　Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ｝×ｄ
　（式中、Ｒｏはフィルムの面内方向のリタデーション値、Ｒｔはフィルムの厚み方向のリタデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）

　ＩＰＳ方式では、液晶セル自体が良好な表示性能を発揮するように構成されているため、対向フィルムとしては、透過光に位相差を付与する位相差フィルムよりも、位相差をほとんど付与しないゼロ位相差フィルムを用いるほうが、液晶セルの利点（表示性能の向上）を発揮しやすいからである。

　上記のゼロ位相差フィルムは、対向フィルムにリタデーション低下剤を含有させることによって実現することができる。リタデーション低下剤としては、例えば、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、またはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中の、ＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した糖エステルを用いることができる。

　ここで、リタデーション低下剤としての上記糖エステルは、フラノース構造またはピラノース構造を有していることから、セルロースエステルと化学構造が類似している。このため、上記の糖エステルは、セルロースエステルとの相互作用が強い。したがって、上記の糖エステルとセルロースエステルとを含むゼロ位相差フィルムを実現することにより、ゼロ位相差フィルムを薄型化しても、ゼロ位相差フィルムの機械的強度が低下するのを抑えることができる。

　面内方向のリタデーションＲｏおよび厚さ方向のリタデーションＲｔを確実に小さく観点から、前記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した化合物であることが望ましい。また、上記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部をアセチル基によりエステル化した化合物であることがより望ましい。このような糖エステルとしては、例えばアセチルスクロースを挙げることができる。

　〔光学フィルムの製造方法〕
　次に、本実施形態の光学フィルムの製造方法について説明する。本実施形態では、通常のインフレーション法、Ｔ－ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造方法が使用できるが、流延法（溶液流延製膜法または溶融流延製膜法）が好ましく用いられる。

　（溶液流延製膜法）
　溶液流延製膜法では、以下の工程を順に経ることによって光学フィルムを製膜することができる。

　（１）溶解工程
　この工程は、熱可塑性樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で熱可塑性樹脂、熱収縮材料、その他の添加剤を攪拌しながら溶解し、ドープを形成する工程である。熱可塑性樹脂の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９－９５５４４号公報、特開平９－９５５５７号公報、または特開平９－９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１－２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。

　上記ドープには、返材を混ぜてもよい。返材とは、フィルムを細かく粉砕した物で、フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでスペックアウトしたフィルム原反のことを言う。返材をドープに混ぜることで、フィルムの製造に返材を再利用することができる。

　（２）流延工程
　この工程は、上記のドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して流延ダイに送液し、流延ダイのスリットから金属支持体上の流延位置に上記ドープを流延する工程である。金属支持体としては、無端の金属ベルト（例えばステンレスベルト）や、回転する金属ドラム等を用いることができる。

　流延ダイとしては、ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にし易い点で、加圧ダイを用いることが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。

　金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。

　（３）溶媒蒸発工程
　この工程は、ウェブ（金属支持体上にドープを流延して形成された流延膜（ドープ膜））を金属支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。

　溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法および／または支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法の乾燥効率が良く好ましい。又、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後のウェブについては、金属支持体上で４０～１００℃の雰囲気下で乾燥させることが好ましい。上記温度範囲を維持するには、上記温度範囲の温風をウェブ上面に当てるか、赤外線等の手段によりウェブを加熱することが好ましい。

　（４）剥離工程
　この工程は、金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。ウェブの面品質、透湿性、剥離性の観点から、流延から３０～１２０秒以内でウェブを金属支持体から剥離することが好ましい。

　金属支持体上の剥離位置における温度（剥離温度）は、好ましくは１０～４０℃であり、さらに好ましくは１１～３０℃である。

　剥離する時点での金属支持体上でのウェブの残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により、５０～１２０質量％の範囲であることが好ましい。残留溶媒量がより多い時点でウェブを剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると、剥離時に平面性を損ね、剥離張力によるツレ（線状の傷）や縦スジが発生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。

　なお、ウェブの残留溶媒量は、下記式で定義される。
　残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前の質量（ｇ）－ウェブの加熱処理後の質量（ｇ））／（ウェブの加熱処理後の質量（ｇ））×１００
　ここで、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理のことを指す。

　金属支持体からウェブを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６～２４５Ｎ／ｍであるが、剥離の際に皺が入り易い場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましく、さらには、剥離できる最低張力～１６６．６Ｎ／ｍ、次いで、最低張力～１３７．２Ｎ／ｍで剥離することが好ましい。特に好ましくは、最低張力～１００Ｎ／ｍで剥離することである。

　本実施形態では、金属支持体上の剥離位置における温度を－５０～４０℃とするのが好ましく、１０～４０℃がより好ましく、１５～３０℃とするのが最も好ましい。

　（５）乾燥および延伸工程
　この工程は、ウェブを金属支持体から剥離した後、剥離したウェブを乾燥装置内で乾燥させる、および／またはテンター延伸装置を用いて延伸する工程である。乾燥装置内には、複数のロールが配置されており、各ロールを交互に通してウェブを搬送することで、ウェブを乾燥させる。また、テンター延伸装置では、クリップでウェブの両端をクリップして搬送し、ウェブを延伸する。

　乾燥装置内でウェブを乾燥させる手段としては、ウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥は、でき上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥は、残留溶媒量が８質量％以下くらいから行うのがよい。全体を通し、乾燥は概ね４０～２５０℃で行われる。特に４０～１６０℃で乾燥させることが好ましい。

　テンター延伸装置を用いる場合、テンターの左右把持手段によってフィルムの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を左右で独立に制御できる装置を用いることが好ましい。また、延伸工程において、平面性を改善するため、意図的に異なる温度を持つ区画（ゾーン）を作ることも好ましい。

　また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。

　なお、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、二軸延伸（流延方向および幅手方向の延伸）を実施することも好ましい。また、二軸延伸を行う場合には、同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。段階的な延伸とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことであってもよいし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることであってもよい。即ち、例えば、次のような延伸ステップが可能である。
　・流延方向に延伸－幅手方向に延伸－流延方向に延伸－流延方向に延伸
　・幅手方向に延伸－幅手方向に延伸－流延方向に延伸－流延方向に延伸

　また、同時２軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時２軸延伸の好ましい延伸倍率は、幅手方向、長手方向ともに、１．０１倍～１．５倍の範囲で設定することができる。

　延伸を行う場合のウェブの残留溶媒量は、延伸開始時に２０～１００質量％であるのが好ましく、かつウェブの残留溶媒量が１０質量％以下（さらに好ましくは５質量％以下）になるまで延伸を掛けながら乾燥を行うことが好ましい。

　延伸を行う場合の乾燥温度は、３０～１６０℃が好ましく、５０～１５０℃がさらに好ましく、７０～１４０℃が最も好ましい。

　延伸工程において、雰囲気の幅手方向の温度分布にムラが少ないことが、フィルムの均一性を高める観点から好ましい。具体的には、延伸工程での幅手方向の温度ムラは、±５℃以内が好ましく、±２℃以内がより好ましく、±１℃以内が最も好ましい。

　（６）巻き取り工程
　この工程は、ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってからフィルムとして巻き取り機によって巻き取る工程である。残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより、寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。特に０．００～０．１０質量％でフィルムを巻き取ることが好ましい。

　巻き取り方法としては、一般に使用されている方法を用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使い分ければよい。

　本実施形態における光学フィルムは、長尺フィルムであることが好ましく、具体的には、１００ｍ～５０００ｍ程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。また、フィルムの幅は１．３～４ｍであることが好ましく、１．４～２ｍであることがより好ましい。

　（溶融流延製膜法）
　溶融流延製膜法では、以下の工程を順に経ることによって光学フィルムを製膜することができる。

　〈溶融ペレット製造工程〉
　溶融押出に用いる、樹脂を含む組成物は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。

　ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥した熱可塑性樹脂と熱収縮材料等からなる添加剤を、フィーダーで押出機に供給し、１軸や２軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでできる。

　原材料は、押出する前に乾燥しておくことが原材料の分解を防止する上で重要である。特にセルロースエステルは吸湿しやすいので、除湿熱風乾燥機や真空乾燥機で７０～１４０℃で３時間以上乾燥し、水分率を２００ｐｐｍ以下、さらに１００ｐｐｍ以下にしておくことが好ましい。

　添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。

　酸化防止剤の混合は、固体同士で混合してもよいし、必要により、酸化防止剤を溶剤に溶解しておき、熱可塑性樹脂に含浸させて混合してもよく、あるいは噴霧して混合してもよい。

　真空ナウターミキサーなどを用いることが、乾燥と混合を同時にできるので好ましい。また、フィーダー部やダイからの出口などの空気と触れる部分は、除湿空気や除湿したＮ₂ガスなどの雰囲気下にすることが好ましい。

　押出機は、せん断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないように、ペレット化できる程度になるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。

　以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。ペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。

　〈溶融混合物をダイから冷却ロールへ押し出す工程〉
　まず、作製したペレットを１軸や２軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度Ｔｍを２００～３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどでろ過して異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に押出し、冷却ロール上で固化し、弾性タッチロールと押圧しながら流延する。

　供給ホッパーから押出機へ導入する際は、真空下または減圧下や、不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。なお、Ｔｍは、押出機のダイ出口部分の温度である。

　ダイに傷や可塑剤の凝結物等の異物が付着すると、スジ状の欠陥が発生する場合がある。このような欠陥のことをダイラインとも呼ぶ。ダイライン等の表面の欠陥を小さくするためには、押出機からダイまでの配管には、樹脂の滞留部が極力少なくなるような構造にすることが好ましい。ダイの内部やリップにキズ等が極力無いものを用いることが好ましい。

　押出機やダイなどの溶融樹脂と接触する内面は、表面粗さを小さくしたり、表面エネルギーの低い材質を用いるなどして、溶融樹脂が付着し難い表面加工が施されていることが好ましい。具体的には、ハードクロムメッキやセラミック溶射したものを表面粗さ０．２Ｓ以下となるように研磨したものが挙げられる。

　冷却ロールには特に制限はないが、高剛性の金属ロールで内部に温度制御可能な熱媒体または冷媒体が流れるような構造を備えるロールであればよい。また、冷却ロールの大きさは限定されないが、溶融押し出されたフィルムを冷却するのに十分な大きさであればよい。通常、冷却ロールの直径は、１００ｍｍから１ｍ程度である。

　冷却ロールの表面材質は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどが挙げられる。さらに表面の硬度を上げたり、樹脂との剥離性を改良するため、ハードクロムメッキや、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキなどや、セラミック溶射等の表面処理を施すことが好ましい。

　冷却ロール表面の表面粗さは、Ｒａで０．１μｍ以下とすることが好ましく、さらに０．０５μｍ以下とすることが好ましい。ロール表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表面も平滑にできる。もちろん、表面加工した表面をさらに研磨して、表面粗さをさらに小さくしてもよい。

　弾性タッチロールとしては、特開平０３－１２４４２５号、特開平０８－２２４７７２号、特開平０７－１００９６０号、特開平１０－２７２６７６号、ＷＯ９７／０２８９５０号、特開平１１－２３５７４７号、特開２００２－３６３３２号、特開２００５－１７２９４０号や特開２００５－２８０２１７号公報に記載されているような表面が薄膜金属スリーブ被覆シリコンゴムロールを使用することができる。

　冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。

　〔複合樹脂フィルムの製造方法〕
　本実施形態の光学フィルムは、複合樹脂フィルムで構成されてもよい。複合樹脂フィルムを製造する方法としては、共流涎法または共押し出し法を採用することができる。

　（共流涎法：ダブルキャスト法）
　流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１～４ｍとすることができる。

　流延工程の金属支持体の表面温度は、－５０℃～溶剤が沸騰して発泡しない温度、に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては、０～１００℃で適宜決定され、５～３０℃がさらに好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。

　金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

　本実施形態では、アセチル化セルロースの溶液を２回以上に分割してキャストすることも好ましい。

　調製されたドープＡをダイによりステンレススティールベルトに流延し、流延されたウェブ上に、更に調製されたドープＢを、ダイを通して積層流延する。積層されたウェブは、剥離点において剥離され、その後乾燥ゾーンにて乾燥され巻き取られる。

　ドープＡ、ドープＢの組成物としての構成に特に制限はなく、アセチル化セルロース、セルロースナノファイバー、及びその他添加剤や溶媒の組成比率はどのようにも採り得る。また、ドープＡ、ドープＢの流延膜厚も特に制限はない。３回以上の分割キャストも可能である。

　（共押し出し法）
　本実施形態においては、共押し出し法により、積層構造のフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び／または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。スキン層とコア層のガラス転移温度が異なっていてもよく、スキン層のガラス転移温度よりコア層のガラス転移温度が低いことが好ましい。このとき、スキンとコアの両者のガラス転移温度を測定し、これらの体積分率より算出した平均値を上記ガラス転移温度Ｔｇと定義して同様に扱うこともできる。また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度＞コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。

　なお、上記の共押し出し法とは、複数の押出機を用いて、それぞれから積層する樹脂を加熱溶融し、それぞれの樹脂を合流させた後にＴダイのスリット状の吐出口から共押出し、チルドロールで冷却固化させてキャストシート（未延伸状態）を形成する方法である。溶融樹脂を合流させて、Ｔダイよりシートを押出する方法としては、溶融樹脂を合流させてからマニュホールドを広げるフィードブロック法と、溶融樹脂をそれぞれマニュホールドで広げてから合流させるマルチマニュホールド法があるが、そのどちらを用いても良い。

　〔添加剤〕
　本実施形態の光学フィルム（フィルム基材）は、酸化防止剤を含むことが好ましい。好ましい酸化防止剤は、リン系またはフェノール系であり、リン系とフェノール系を同時に組み合わせるとより好ましい。以下、本実施形態において好適に用いることができる酸化防止剤について説明する。

　〈フェノール系酸化防止剤〉
　本実施形態においては、フェノール系の酸化防止剤が好ましく用いられ、特にヒンダードフェノール化合物が好ましく用いられる。

　ヒンダードフェノール化合物の具体例には、ｎ－オクタデシル３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－プロピオネート、ｎ－オクタデシル３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）－アセテート、ｎ－オクタデシル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、ｎ－ヘキシル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ－ドデシル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ－ドデシル３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２－（ｎ－オクチルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ベンゾエート、２－（ｎ－オクチルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－フェニルアセテート、２－（ｎ－オクタデシルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルアセテート、２－（ｎ－オクタデシルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ベンゾエート、２－（２－ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－フェニル）プロピオネート、２－（ｎ－オクタデシルチオ）エチル３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミド－Ｎ，Ｎ－ビス－［エチレン３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ－ブチルイミノ－Ｎ，Ｎ－ビス－［エチレン３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２－（２－ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、２－（２－ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７－（３－メチル－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２－プロピレングリコールビス－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン－ｌ－ｎ－オクタデカノエート－２，３－ビス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリトリトール－テトラキス－［３－（３′，５′－ジ－ｔ－ブチル－４′－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１－トリメチロールエタン－トリス－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ－［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２－ヒドロキシエチル７－（３－メチル－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２－ステアロイルオキシエチル７－（３－メチル－５－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６－ｎ－ヘキサンジオール－ビス［（３′，５′－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール－テトラキス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのヒンダードフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン（株）から、”Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”及び”Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”という商品名で市販されている。

　〈リン系酸化防止剤〉
　リン系酸化防止剤としては、ホスファイト（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスホナイト（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｔｅ）、ホスフィナイト（ｐｈｏｓｐｈｉｎｉｔｅ）、または第３級ホスファン（ｐｈｏｓｐｈａｎｅ）等のリン系化合物を使用することができる。リン系化合物としては、従来既知の化合物を用いることができる。例えば、特開２００２－１３８１８８号、特開２００５－３４４０４４号段落番号００２２～００２７、特開２００４－１８２９７９号段落番号００２３～００３９、特開平１０－３０６１７５号、特開平１－２５４７４４号、特開平２－２７０８９２号、特開平５－２０２０７８号、特開平５－１７８８７０号、特表２００４－５０４４３５号、特表２００４－５３０７５９号、および特願２００５－３５３２２９号公報の明細書中に記載されているものが好ましい。

　リン系化合物の添加量は、樹脂１００質量部に対して、通常０．０１～１０質量部、好ましくは０．０５～５質量部、さらに好ましくは０．１～３質量部である。

　リン系化合物としては、上記一般式で表される化合物のほかに、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、１０－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド、６－［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４′－ブチリデン－ビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェニル－ジ－トリデシルホスファイト）、４，４′－イソプロピリデン－ビス（フェニル－ジ－アルキル（Ｃ１２～Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）［１，１－ビフェニル］－４，４′－ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェニル）［１，１－ビフェニル］－４，４′－ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物；トリフェニルホスフィナイト、２，６－ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６－ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン系化合物；等が挙げられる。

　上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ　ＳＴＡＢ　ＰＥＰ－２４Ｇ”、“ＡＤＫ　ＳＴＡＢ　ＰＥＰ－３６”及び“ＡＤＫ　ＳＴＡＢ　３０１０”、チバ・ジャパン株式会社から“ＩＲＧＡＦＯＳ　Ｐ－ＥＰＱ”、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ－Ｐ１０１”という商品名で市販されている。

　〈その他の酸化防止剤〉
　また、ジラウリル－３，３′－チオジプロピオネート、ジミリスチル－３，３′－チオジプロピオネート、ジステアリル－３，３′－チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３－ラウリルチオプロピオネート）等のイオウ系酸化防止剤、２－ｔｅｒｔ－ブチル－６－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルベンジル）－４－メチルフェニルアクリレート、２－［１－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチルフェニル）エチル］－４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチルフェニルアクリレート等の耐熱加工安定剤、特公平０８－２７５０８号記載の３，４－ジヒドロ－２Ｈ－１－ベンゾピラン系化合物、３，３′－スピロジクロマン系化合物、１，１－スピロインダン系化合物、モルホリン、チオモルホリン、チオモルホリンオキシド、チオモルホリンジオキシド、ピペラジン骨格を部分構造に有する化合物、特開平０３－１７４１５０記載のジアルコキシベンゼン系化合物等の酸素スカベンジャー等が挙げられる。これら酸化防止剤の部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸捕捉剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。

　（その他添加剤）
　本実施形態に係るフィルム基材には、上記の化合物等の他に、目的に応じて種々の化合物等を添加剤として含有させることができる。

　〈酸捕捉剤〉
　酸捕捉剤としては、米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されている酸捕捉剤としてのエポキシ化合物を含んでなるのが好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は、当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８～４０モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４′－ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２～２２この炭素原子の脂肪酸の４～２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）など）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど（例えば、エポキシ化大豆油などの組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらは時としてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２～２２個の炭素原子を含有している））が含まれる。

　〈光安定剤〉
　光安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５～１１欄及び米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３～５欄に記載されているように、２，２，６，６－テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。さらに、特開２００７－６３３１１号公報に記載されている光安定剤を用いることができる。

　〈紫外線吸収剤〉
　紫外線吸収剤としては、紫外線による劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０－１８２６２１号公報、特開平８－３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６－１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。

　ベンゾトリアゾール系化合物の具体例として、２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔｅｒｔ－ブチル－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－（３″，４″，５″，６″－テトラヒドロフタルイミドメチル）－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２－メチレンビス（４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール）、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔｅｒｔ－ブチル－５′－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ｔｅｒｔ－ブチル－５′－（２－オクチルオキシカルボニルエチル）－フェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－（１－メチル－１－フェニルエチル）－５′－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（直鎖及び側鎖ドデシル）－４－メチルフェノール、オクチル－３－〔３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル〕プロピオネートと２－エチルヘキシル－３－〔３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－（５－クロロ－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。

　また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバ・ジャパン社製）、ＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０（住友化学社製）、ＲＵＶＡ－１００（大塚化学製）が挙げられる。

　ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノン、ビス（２－メトキシ－４－ヒドロキシ－５－ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

　本実施形態においては、紫外線吸収剤は０．１～２０質量％添加することが好ましく、さらに０．５～１０質量％添加することが好ましく、さらに１～５質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。

　〈マット剤〉
　本実施形態のフィルム基材には、マット剤等の微粒子を添加することができ、微粒子としては、無機化合物の微粒子又は有機化合物の微粒子が挙げられる。微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。中でも、二酸化ケイ素が樹脂基板のヘイズを低くできるので好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものは樹脂基板のヘイズを低下できるため好ましい。

　表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。

　また、微粒子の二次粒子の平均粒径は、０．０５～１．０μｍの範囲である。好ましい微粒子の二次粒子の平均粒径は５～５０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、７～１４ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、セルロースエステルフィルム表面に０．０１～１．０μｍの凹凸を生成させるために好ましく用いられる。微粒子のセルロースエステル中の含有量は、セルロースエステルに対して０．００５～０．３質量％が好ましい。

　二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル（株）製のアエロジル（ＡＥＲＯＳＩＬ）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることができ、好ましくはアエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９～９９．９：０．１の範囲で使用できる。

　上記マット剤として用いられる基材中の微粒子の存在は、別の目的として基材の強度向上のために用いることもできる。

　（可塑剤）
　光学フィルムは、可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤としては、ポリエステル化合物が好ましい。

　ポリエステル化合物としては特に限定されないが、例えば、ジカルボン酸またはこれらのエステル形成性誘導体とグリコールとの縮合反応により得られる、末端がヒドロキシ基（水酸基）となる重合体（以下、「ポリエステルポリオール」という）、または、当該ポリエステルポリオールの末端のヒドロキシ基がモノカルボン酸で封止された重合体（以下、「末端封止したポリエステル」または単に「末端封止ポリエステル」ともいう）を用いることができる。なお、本明細書において、エステル形成性誘導体とは、ジカルボン酸のエステル化物、ジカルボン酸クロライド、ジカルボン酸の無水物のことである。

　本実施形態の光学フィルムが、末端封止したポリエステルを可塑剤として含むことにより、フィルムの温度変化による位相差変動および粘性（ｔａｎδ）の変動が抑えられ、光学特性（位相差、粘性）が安定する。

　ポリエステル化合物の具体例としては、下記一般式（Ａ）で表されるエステル系化合物が挙げられる。

　　　Ｂ－（Ｇ－Ａ）ｎ－Ｇ－Ｂ　・・・　（Ａ）
（式中、Ｂはヒドロキシ基、ベンゼンモノカルボン酸残基または脂肪族モノカルボン酸残基であり、Ｇは炭素数２～１８のアルキレングリコール残基または炭素数６～１２のアリールグリコール残基または炭素数が４～１２のオキシアルキレングリコール残基であり、Ａは炭素数４～１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６～１６のアリールジカルボン酸残基であり、ｎは１以上の整数である。）

　上記一般式（Ａ）において、Ｂがヒドロキシ基である化合物がポリエステルポリオールに相当し、Ｂがベンゼンモノカルボン酸残基または脂肪族モノカルボン酸残基である化合物が末端封止ポリエステルに相当する。一般式（Ａ）で表されるポリエステル化合物は、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られるものである。

　一般式（Ａ）で表されるポリエステル化合物の脂肪族モノカルボン酸成分としては、例えば、炭素数３以下の脂肪族モノカルボン酸が好ましく、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸（酪酸）が挙げられ、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。

　一般式（Ａ）で表されるポリエステル化合物のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、脂肪族酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。特に、安息香酸、またはパラトルイル酸を含むことが好ましい。

　一般式（Ａ）で表されるポリエステル化合物の炭素数２～１８のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２－プロパンジオール（１，２－プロピレングリコール）、１，３－プロパンジオール（１，３－プロピレングリコール）、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，２－プロパンジオール、２－メチル１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、１，２－シクロペンタンジオール、１，３－シクロペンタンジオール、１，４－シクロヘキサンジオール、２，２－ジエチル－１，３－プロパンジオール（３，３－ジメチロールペンタン）、２－ｎ－ブチル－２－エチル－１，３プロパンジオール（３，３－ジメチロールヘプタン）、３－メチル－１，５－ペンタンジオール１，６－ヘキサンジオール、２，２，４－トリメチル１，３－ペンタンジオール、２－エチル１，３－ヘキサンジオール、２－メチル１，８－オクタンジオール、１，９－ノナンジオール、１，１０－デカンジオール、１，１２－オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。中でも、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２－プロピレングリコール、２－メチル１，３－プロパンジオールが好ましく、さらに好ましくは、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２－プロピレングリコールである。特に、炭素数２～１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため好ましい。より好ましくは炭素数２～６のアルキレングリコールであり、さらに好ましくは炭素数２～４のアルキレングリコールである。

　一般式（Ａ）で表されるポリエステル化合物の炭素数４～１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。

　一般式（Ａ）で表されるポリエステル化合物の炭素数６～１２のアリールグリコールとしては、例えば、１，４－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジエタノール、１，４－ベンゼンジメタノール等の環状グリコール類があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。

　一般式（Ａ）で表されるポリエステル化合物の炭素数４～１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。

　一般式（Ａ）で表されるポリエステル化合物の炭素数６～１６のアリールジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５－ナフタレンジカルボン酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、２，３－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、２，７－ナフタレンジカルボン酸、１，８－ナフタレンジカルボン酸、２，６－アントラセンジカルボン酸等がある。上記アリールジカルボン酸は芳香族環に置換基を有していてもよい。置換基としては、炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基が挙げられる。

　一般式（Ａ）において、Ｂがヒドロキシ基である場合、すなわち、ポリエステル化合物がポリエステルポリオールである場合には、Ａは炭素数１０～１６のアリールジカルボン酸残基であることが好ましい。例えばベンゼン環構造、ナフタレン環構造、アントラセン環構造等の芳香族環式構造を有するジカルボン酸を使用することができ、具体的なアリールジカルボン酸成分としては、例えばオルソフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、２，３－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、２，７－ナフタレンジカルボン酸、１，８－ナフタレンジカルボン酸、２，６－アントラセンジカルボン酸を挙げることができる。好ましくは、１，４－ナフタレンジカルボン酸、２，３－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、２，７－ナフタレンジカルボン酸、１，８－ナフタレンジカルボン酸であり、さらに好ましくは、２，３－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸であり、特に好ましくは、２，６－ナフタレンジカルボン酸である。これらは１種または２種以上を併用することができる。

　上記ポリエステルポリオールは、原料として使用するジカルボン酸の炭素数の平均が１０～１６の範囲であることが好ましい。ジカルボン酸の炭素数の平均が１０以上であれば、セルロースエステルフィルムの寸法安定性に優れ、炭素数の平均が１６以下であれば、セルロースエステルとの相溶性に優れ、セルロースエステルフィルムの透明性が著しく優れる。ジカルボン酸として、好ましくは炭素数の平均が１０～１４であり、さらに好ましくは炭素数の平均が１０～１２である。

　前記ポリエステルポリオールのジカルボン酸の炭素数の平均とは、単一のジカルボン酸を用いてポリエステルポリオールを重合する場合は該ジカルボン酸の炭素数を意味するが、２種以上のジカルボン酸を用いてポリエステルポリオールを重合する場合、それぞれのジカルボン酸の炭素数とそのジカルボン酸のモル分率の積の合計を意味する。

　前記炭素数の平均が１０～１６であれば、上記した１０～１６個の炭素原子を有するアリールジカルボン酸とそれ以外のジカルボン酸を併用することができる。併用できるジカルボン酸としては、４～９個の炭素原子を有するジカルボン酸が好ましく、例えば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、オルソフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸やこれらのエステル化物、酸塩化物、酸無水物を挙げることができる。

　以下に、ポリエステルポリオールの炭素数が１０～１６であるジカルボン酸の具体例を示すが、本実施形態ではこれらに何ら限定されない。
（１）２，６－ナフタレンジカルボン酸
（２）２，３－ナフタレンジカルボン酸
（３）２，６－アントラセンジカルボン酸
（４）２，６－ナフタレンジカルボン酸：コハク酸（７５：２５～９９：１　モル比）
（５）２，６－ナフタレンジカルボン酸：テレフタル酸（５０：５０～９９：１　モル比）
（６）２，３－ナフタレンジカルボン酸：コハク酸（７５：２５～９９：１　モル比）
（７）２，３－ナフタレンジカルボン酸：テレフタル酸（５０：５０～９９：１　モル比）
（８）２，６－アントラセンジカルボン酸：コハク酸（５０：５０～９９：１　モル比）
（９）２，６－アントラセンジカルボン酸：テレフタル酸（２５：７５～９９：１　モル比）
（１０）２，６－ナフタレンジカルボン酸：アジピン酸（６７：３３～９９：１　モル比）
（１１）２，３－ナフタレンジカルボン酸：アジピン酸（６７：３３～９９：１　モル比）
（１２）２，６－アントラセンジカルボン酸：アジピン酸（４０：６０～９９：１　モル比）

　本実施形態において用いることができるポリエステル化合物としては、上記のポリエステルポリオール以外に、化合物の水溶性や配向性の観点から、オクタノール－水分配係数（ｌｏｇＰ（Ｂ））が０以上７未満の化合物を用いることも好ましい。

　ポリエステルポリオールは、ジカルボン酸またはそれらのエステル形成性誘導体（一般式（Ａ）のＡに相当する成分）とグリコール（一般式（Ａ）のＧに相当する成分）を必要に応じてエステル化触媒の存在下で、たとえば１８０～２５０℃の温度範囲内で、１０～２５時間、周知慣用の方法でエステル化反応させることによって製造することができる。　

　エステル化反応を行う際に、トルエン、キシレン等の溶媒を用いてもよいが、無溶媒もしくは原料として使用するグリコールを溶媒として用いる方法が好ましい。

　前記エステル化触媒としては、例えばテトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、ｐ－トルエンスルホン酸、ジブチル錫オキサイド等を使用することができる。前記エステル化触媒は、ジカルボン酸またはそれらのエステル形成性誘導体の全量１００質量部に対して０．０１～０．５質量部使用することが好ましい。

　ジカルボン酸またはそれらのエステル形成性誘導体とグリコールを反応させる際のモル比は、ポリエステルの末端基がヒドロキシ基（水酸基）となるモル比でなければならず、そのためジカルボン酸またはそれらのエステル形成性誘導体１モルに対してグリコールは１．１～１０モルである。好ましくは、ジカルボン酸またはそれらのエステル形成性誘導体１モルに対して、グリコールが１．５～７モルであり、より好ましくは、ジカルボン酸またはそれらのエステル形成性誘導体１モルに対して、グリコールが２～５モルである。

　上記ポリエステルポリオールの末端基はヒドロキシ基（水酸基）であるが、ポリエステルポリオール中には、副生成物としてカルボキシ基末端の化合物も含まれうる。ただし、ポリエステルポリオール中におけるカルボキシ基末端は、湿度安定性を低下させるため、その含有量は低い方が好ましい。具体的には、酸価５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、より好ましくは１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、さらに好ましくは０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。なお、ここでいう「酸価」とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシ基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２に準拠して測定することができる。

　前記ポリエステルポリオールは、ヒドロキシ（水酸基）価（ＯＨＶ）が３５ｍｇ／ｇ以上２２０ｍｇ／ｇ以下の範囲であることが好ましい。ここで言うヒドロキシ（水酸基）価とは、試料１ｇ中に含まれるＯＨ基をアセチル化したときに、ヒドロキシ基（水酸基）と結合した酢酸を中和するために要する水酸化カリウムのミリグラム数をいう。ヒドロキシ（水酸基）価は、無水酢酸を用いて試料中のＯＨ基をアセチル化し、使われなかった酢酸を水酸化カリウム溶液で滴定し、初期の無水酢酸の滴定値との差より求められる。

　前記ポリエステルポリオールのヒドロキシ基（水酸基）含有量は、７０％以上であることが好ましい。ヒドロキシ基（水酸基）含有量が少ない場合、ポリエステルポリオールとセルロースエステルとの相溶性が低下する傾向がある。このため、ヒドロキシ基（水酸基）含有量は、７０％以上が好ましく、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９９％以上である。本実施形態において、ヒドロキシ基（水酸基）含有量が５０％以下の化合物は、末端基の一方がヒドロキシ基（水酸基）以外の基で置換されているためポリエステルポリオールには含まれない。

　前記ヒドロキシ基（水酸基）含有量は、下記の式（Ｂ）により求めることができる。
　　　Ｙ／Ｘ×１００＝ヒドロキシ基（水酸基）含有量（％）　・・・　（Ｂ）
　　　　Ｘ：前記ポリエステルポリオールのヒドロキシ基（水酸基）価（ＯＨＶ）
　　　　Ｙ：１／（数平均分子量（Ｍｎ））×５６×２×１０００

　前記ポリエステルポリオールは、３００～３０００の範囲内の数平均分子量を有することが好ましく、３５０～２０００の数平均分子量を有することがより好ましい。

　また、本実施形態のポリエステルポリオールの分子量の分散度は１．０～３．０であることが好ましく、１．０～２．０であることがより好ましい。分散度が上記範囲内であれば、セルロースエステルとの相溶性に優れたポリエステルポリオールが得られやすい。

　また、前記ポリエステルポリオールは、分子量が３００～１８００の成分を５０％以上含有することが好ましい。数平均分子量を前記範囲とすることにより、相溶性を大幅に向上させることができる。

　末端封止ポリエステルは、２つの末端基Ｂのうちの少なくとも一方がモノカルボン酸残基であればよい。すなわち、２つの末端基Ｂのうちの一方がヒドロキシ基であり、他方がモノカルボン酸残基であってもよい。ただし、２つの末端基Ｂの両方がモノカルボン酸残基であることが好ましい。

　末端基Ｂとしては、上述したベンゼンモノカルボン酸残基、脂肪族モノカルボン酸残基を使用することができ、好ましくはベンゼンモノカルボン酸残基を使用することができる。すなわち、末端封止ポリエステルは、芳香族末端ポリエステルであることが好ましい。

　上記末端封止ポリエステルは、グリコール（一般式（Ａ）のＧに相当する成分）と、ジカルボン酸またはそれらのエステル形成性誘導体（一般式（Ａ）のＡに相当する成分）およびモノカルボン酸またはそれらのエステル形成性誘導体（一般式（Ａ）のＢに相当する成分）とエステル化反応させることにより得ることができ、例えば、特開２０１１－５２２０５号公報、特開２００８－６９２２５号公報、特開２００８－８８２９２号公報、特開２００８－１１５２２１号公報等を参考にして合成することができる。

　本実施形態のエステル化合物は、その合成時点では分子量および分子構造に分布を有する混合物であるが、そのなかに本実施形態に好ましい成分、例えば、一般式（Ａ）のＡとしてフタル酸残基およびアジピン酸残基を有するポリエステル化合物を少なくとも１種含有していることが好ましい。

　末端封止ポリエステルは、数平均分子量が、好ましくは３００～１５００、より好ましくは４００～１０００である。また、酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ（水酸基）価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ（水酸基）価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。

　以下に、本実施形態で用いることができるポリエステル（エステル系化合物）の具体的化合物を示すが、本実施形態はこれに限定されない。

　糖エステル（糖エステル化合物）としては、セルロースエステル以外のエステルであって、下記単糖、二糖、三糖又はオリゴ糖などの糖のＯＨ基の全て若しくは一部をエステル化した化合物であり、より具体的な例示としては、一般式（１）で表される化合物などを挙げることができる。

　式中、Ｒ₁～Ｒ₈は、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数２～２２のアルキルカルボニル基、又は置換若しくは無置換の炭素数２～２２のアリールカルボニル基を表す。Ｒ₁～Ｒ８は、同じであってもよく、異なっていてもよい。

　以下に、一般式（１）で示される化合物をより具体的に示すが（化合物１－１～化合物１－２３）、これらに限定はされない。なお、下表において平均置換度が８．０未満の場合、Ｒ₁～Ｒ₈のうちのいずれかは水素原子を表す。

　これらの可塑剤は、セルロースエステルフィルム１００質量部に対して、０．５～３０質量部を添加するのが好ましい。

　〔ハードコート層〕
　本実施形態では、光学フィルムの表面に機能層としてのハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層は、例えば、活性エネルギー線硬化型樹脂で構成されることが好ましい。

　（活性エネルギー線硬化型樹脂）
　活性エネルギー線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいい、具体的にはエチレン性不飽和基を有する樹脂である。さらに具体的には、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。

　紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、およびジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。

　多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。これら多官能アクリレートとしては市販品を用いてもよく、ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌなど）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄社化学製、ＰＥ－３Ａ）等を入手できる。なお、これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。

　活性エネルギー線硬化型樹脂のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。

　このようなイソシアヌル酸トリアクリレート化合物としては市販品を用いることもでき、例えば新中村化学工業株式会社製Ａ－９３００などが挙がられる。イソシアヌル酸ジアクリレート化合物の市販品としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ－２１５などが挙がられる。イソシアヌル酸トリアクリレート化合物及びイソシアヌル酸ジアクリレート化合物の混合物としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスＭ－３１５、アロニックスＭ－３１３などが挙がられる。ε－カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、ε－カプロラクトン変性トリス－（アクリロキシエチル）イソシアヌレートである新中村化学工業株式会社製Ａ－９３００－１ＣＬ、東亞合成株式会社製アロニックスＭ－３２７などを挙げることができるが、これらに限定されない。

　また、活性エネルギー線硬化型樹脂としては、単官能アクリレートを用いても良い。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。単官能アクリレートとしては、新中村化学工業株式会社や大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。

　さらに、活性エネルギー線硬化型樹脂としては、ウレタンアクリレートを用いてもよい。ウレタンアクリレートとしては、例えば、荒川化学工業（株）製のビームセット５７５ＣＢ、共栄社化学製のＵＡ－３０６Ｈなどの市販品を用いることができる。

　上述したような多官能アクリレートの粘度は、２５℃における粘度が３０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、１５００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましい。特に好ましくは、１０００ｍＰａ・ｓ以下である。このような低粘度樹脂としては、グリセリントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどを挙げることができる。なお、前記粘度はＥ型粘度計を用いて２５℃の条件にて測定した値である。

　ハードコート層組成物中における、前記活性エネルギー線硬化型樹脂の配合量は、組成物全体を１００質量部とすると、通常、１０～９９質量部、好ましくは３５～９９質量部である。活性エネルギー線硬化型樹脂の配合量が少ないと、ハードコート層の膜強度が十分に得られにくい。また、配合量が多いと、後述する公知の塗布方法で塗布した際の膜厚均一性や塗布筋などの故障が発生するため好ましくない。

　（カチオン重合性化合物）
　ハードコート層は、さらにカチオン重合性化合物を含有してもよい。カチオン重合性化合物とは、エネルギー活性線照射や熱によってカチオン重合を起こして樹脂化するものである。具体的には、エポキシ基、環状エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル化合物、ビニルオキソ基等が挙げられる。中でもエポキシ基やビニルエーテル基などの官能基を有する化合物が、本実施形態においては、好適に用いられる。

　エポキシ基またはビニルエーテル基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、リモネンジオキサイド、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３′，４′－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス－（６－メチル－３，４－エポキシシクロヘキシル）アジペート、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４－シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ化合物としては、ポリマー化合物も使用することができる。

　ハードコート層組成物に前記カチオン重合性化合物が含まれる場合、ハードコート層組成物中における、カチオン重合性化合物の配合量は、組成物全体を１００質量部とすると、通常、１～９０質量部、好ましくは１～５０質量部である。

　（微粒子）
　ハードコート層は、微粒子を含有しても良い。微粒子としては無機微粒子と有機微粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙げることができる。これら微粒子の平均粒径は、ハードコート層塗布組成物の安定性やクリア性から、３０ｎｍ～２００ｎｍが好ましい。また、ハードコート層には粒径が異なる２種以上の微粒子を含有させてもよい。所望の鉛筆硬度を達成しやすい点から、ハードコート層にはシリカ微粒子を含有させることが好ましい。

　また、本実施形態の作用効果をより良く発揮する点から、ハードコート層には重合性不飽和基を有する有機化合物によって表面処理された反応性シリカ微粒子（Ｘａ）を含有させることが好ましい。以下、重合性不飽和基を有する有機化合物によって表面処理された反応性シリカ微粒子（Ｘａ）について説明する。

　《反応性シリカ微粒子（Ｘａ）》
　シリカ微粒子としては、公知のものを使用することができる。また、その形状は、球状でも不定形のものでもよく、通常のコロイダルシリカに限らず中空粒子、多孔質粒子、コア／シェル型粒子等であっても構わないが、ｐＨが２．０～６．５のコロイダルシリカが好ましい。

　シリカ微粒子の分散媒は、水あるいは有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ブタノール、エチレングリコールモノプロピルエーテル等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、γ－ブチロラクトン等のエステル類；テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等のエ－テル類等の有機溶剤を挙げることができ、これらの中で、アルコール類及びケトン類が好ましい。これら有機溶剤は、単独又は２種以上混合して分散媒として使用することもできる。市販品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業（株）製ＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ、ＭＥＫ－ＳＴ－ＭＳ，ＩＰＡ－ＳＴ－Ｌ、ＩＰＡ－ＳＴ－ＺＬ等を挙げることができる。

　反応性シリカ微粒子（Ｘａ）は、上述したようなコロイダルシリカを、重合性不飽和基を有する有機化合物（以下、「有機化合物（Ｘ）」という）で表面処理することによって得られる。有機化合物（Ｘ）は、重合性不飽和基、好ましくはエチレン性不飽和基を有し、更に下記一般式（ａ）に示す基及び分子内にシラノール基を有する化合物又は加水分解によってシラノール基を生成する化合物であることが好ましい。

　［－Ｕ－Ｃ（＝Ｖ）－ＮＨ－］は、具体的には、［－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－］、［－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＨ－］、［－Ｓ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－］、［－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－］、［－ＮＨ－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＨ－］、及び［－Ｓ－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＨ－］の６種である。これらの基は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、熱安定性の観点から、［－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－］基と、［－Ｏ－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＨ－］基または［－Ｓ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－］基の少なくともいずれか１つとを併用することが好ましい。

　有機化合物（Ｘ）に含まれるエチレン性不飽和基としては特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基を好適例として挙げることができる。このエチレン性不飽和基は、活性ラジカル種により付加重合をする構成単位である。

　シラノール基を生成する化合物としては、ケイ素原子にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が結合した化合物を挙げることができるが、ケイ素原子にアルコキシ基又はアリールオキシ基が結合した化合物、即ち、アルコキシシリル基含有化合物又はアリールオキシシリル基含有化合物が好ましい。具体例としては、例えば、下記一般式（ｂ）に示す化合物を挙げることができる。

　一般式（ｂ）中、Ｒ²¹、Ｒ²²は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数１～８のアルキル基若しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を挙げることができる。ここで、ｊは、１～３の整数である。

　［（Ｒ²¹Ｏ）_jＲ²² _3-jＳｉ－］で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。

　Ｒ²³は、炭素数１～１２の脂肪族又は芳香族構造を有する２価の有機基であり、鎖状、分岐状又は環状の構造を含んでいてもよい。具体例として、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。

　Ｒ²⁴は、２価の有機基であり、通常、分子量１４から１万、好ましくは、分子量７６から５００の２価の有機基の中から選ばれる。具体例として、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリアルキレン基；シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の脂環式又は多環式の２価の有機基；フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の２価の芳香族基；及びこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体を挙げることができる。また、これら２価の有機基は炭素及び水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいてもよく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミド結合、ポリカーボネート結合を含むこともできる。

　Ｒ²⁵は、（ｋ＋１）価の有機基であり、好ましくは、鎖状、分岐状又は環状の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。

　Ｚは、活性ラジカル種の存在下、分子間架橋反応をする重合性不飽和基を分子中に有する１価の有機基を示す。また、ｋは、好ましくは、１～２０の整数であり、さらに好ましくは、１～１０の整数、特に好ましくは、１～５の整数である。

　有機化合物（Ｘ）は、例えば、加水分解性シランと、ポリイソシアネ－ト化合物、ポリチオイソシアネ－ト化合物およびイソシアネ－ト基とチオイソシアネ－ト基を共に有する化合物から選ばれた１つ以上の化合物と、イソシアネ－ト基もしくはチオイソシアネ－ト基と付加反応を起こす活性水素原子を有する活性水素含有重合性不飽和化合物とを直接付加反応せしめることにより行うことができる。

　好ましくは、メルカプトプロピルトリメトキシシランとイソホロンジイソシアネートをジブチルスズジラウレート存在下で混合し、６０～７０℃で数時間程度反応させた後に、ペンタエリスリトールトリアクリレートを添加して、さらに６０～７０℃で数時間程度反応させる。

　次いで、得られた有機化合物（Ｘ）をシリカ微粒子と混合し、加水分解させ、両者を結合させることで反応性シリカ微粒子（Ｘａ）を製造できる。

　シリカ微粒子への有機化合物（Ｘ）の結合量は、シリカ微粒子を１００質量％として、好ましくは０．０１質量％以上であり、さらに好ましくは０．１質量％以上、特に好ましくは１質量％以上である。

　前記範囲であれば、組成物中における反応性シリカ微粒子（Ｘａ）の分散性が良好である。また、反応性シリカ微粒子（Ｘａ）製造時の原料中のシリカ微粒子の配合割合は、好ましくは５～９９質量％であり、さらに好ましくは１０～９８質量％である。ハードコート層用塗布組成物中の、反応性シリカ微粒子（Ｘａ）の含有量は、組成物中の固形分全量を１００質量％としたときに、５～８０質量％が好ましく、１０～８０質量％がより好ましい。このような範囲で用いることで、ハードコート塗布組成物中で反応性シリカ微粒子（Ｘａ）が安定に存在する。

　また、ハードコート層は、前述した活性エネルギー線硬化型樹脂と微粒子とを含有し、含有質量比で、活性エネルギー線硬化型樹脂：微粒子＝９０：１０～２０：８０であることが好ましい。

　（その他の添加剤、ハードコート層の製造方法）
　ハードコート層には、前記活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化促進のため、さらに光重合開始剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤の配合量としては、質量比で、光重合開始剤：活性エネルギー線硬化型樹脂＝２０：１００～０．０１：１００であることが好ましい。

　光重合開始剤としては、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α－アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。これらは市販のものを使用してもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１などが好ましい例示として挙げられる。

　また、ハードコート層は、上述の紫外線吸収剤と同様の紫外線吸収剤を含有していてもよい。

　さらには、ハードコート層が２層以上で構成され、かつ基材フィルムと接するハードコート層に紫外線吸収剤を含有することが、本実施形態の目的効果が良好に発揮され、かつハードコート層の膜強度（耐擦傷性）や鉛筆硬度が良好に得られる点から好ましい。紫外線吸収剤の含有量としては、質量比で、紫外線吸収剤：ハードコート層組成物＝０．０１：１００～１０：１００で含有することが好ましい。

　ハードコート層を２層以上設ける場合、基材フィルムと接するハードコート層の膜厚は、０．０５～２μｍの範囲であることが好ましい。２層以上の積層は同時重層で形成してもよい。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に２層以上のハードコート層をｗｅｔ　ｏｎ　ｗｅｔで塗布して、ハードコート層を形成することである。第１ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第２ハードコート層をｗｅｔ　ｏｎ　ｗｅｔで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。

　また、ハードコート層の作成方法としては、セルロースアセテートフィルムを膨潤または一部溶解をする溶剤で希釈したハードコート層塗布組成物を、以下の方法でセルロースアセテートフィルム上に塗布、乾燥、硬化して設ける方法が、ハードコート層とセルロースアセテートフィルムとの層間密着が得られやすい点から好ましい。

　セルロースアセテートフィルムを膨潤または一部溶解する溶剤としては、ケトンおよび／または酢酸エステルを含む溶剤が好ましい。具体的には、ケトンとしてはメチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノンなどを挙げることができる。また、酢酸エステルとしては酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチルなどを挙げることができる。ハードコート層塗布組成物は、その他の溶剤として、アルコール系溶剤を含んでもよい。

　ハードコート層塗布組成物の塗布量は、ウェット膜厚として０．１～４０μｍが好適で、さらに好ましくは、０．５～３０μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚５～２０μｍ程度、好ましくは７～１２μｍが好ましい。

　ハードコート層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイ（押し出し）コーター、インクジェット法等公知の塗布方法を用いて、ハードコート層を形成するハードコート塗布組成物を塗布し、塗布後、乾燥し、活性線を照射（ＵＶ硬化処理とも言う）し、更に必要に応じて、ＵＶ硬化後に加熱処理することで形成できる。ＵＶ硬化後の加熱処理温度としては８０℃以上が好ましく、更に好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１２０℃以上である。このような高温でＵＶ硬化後の加熱処理を行うことで、ハードコート層の機械的強度（耐擦性、鉛筆硬度）がより良好となる。

　乾燥は、減率乾燥区間の温度を８０℃以上の高温として行うことが好ましい。更に好ましくは減率乾燥区間の温度は９５℃以上、１３０℃以下である。減率乾燥区間の温度を高温として乾燥処理とすることで、ハードコート層の形成時に塗膜樹脂中で対流が生じるため、ハードコート層表面に微細な表面粗れが発現しやすく、後述する算術平均粗さＲａも得られやすくなる。

　一般に、乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られており、乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。恒率乾燥区間においては流入する熱量はすべて塗膜表面の溶媒蒸発に費やされており、塗膜表面の溶媒が少なくなると蒸発面が表面から内部に移動して減率乾燥区間に入る。これ以降は塗膜表面の温度が上昇し熱風温度に近づいていくため、紫外線硬化型樹脂組成物の温度が上昇し、樹脂粘度が低下して流動性が増すと考えられる。

　ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。

　照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０～１０００ｍＪ／ｃｍ²、好ましくは５０～３００ｍＪ／ｃｍ²である。

　また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は、通常３０～５００Ｎ／ｍ、好ましくは３０～３００Ｎ／ｍである。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。

　ハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤を含有させても良く、好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子またはπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。

　また、ハードコート層には、フッ素－シロキサングラフトポリマーやシリコーン系界面活性剤を含有させてもよい。

　フッ素－シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／またはオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ－０２２Ｈ、ＺＸ－００７Ｃ、ＺＸ－０４９、ＺＸ－０４７－Ｄ等を挙げることができる。

　シリコーン系界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した界面活性剤である。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、４級塩等がある。シリコーン界面活性剤の具体的商品として、例えば、ＳＨ２００、ＢＹ１６－８７３、ＰＲＸ４１３（ジメチルシリコーンオイル；東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製）、ＳＨ２０３、ＳＨ２３０、ＳＦ８４１６（アルキル変性シリコーンオイル；東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）社製）、ＳＦ８４１７、ＢＹ１６－２０８、ＢＹ１６－２０９、ＢＹ１６－８４９、ＢＹ１６－８７２、ＦＺ－２２２２、ＦＺ－２２０７（ジメチルポリシロキサン・ポリエチレンオキサイド直鎖状ブロックコポリマー；日本ユニカー（株）製のＦＺシリーズ）、ＫＦ－１０１、ＫＦ－１０２，ＫＦ―１０５（エポキシ変性シリコーンオイル；信越化学工業社製）、ＢＹＫ－ＵＶ３５００，ＢＹＫ－ＵＶ３５１０、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３３１、ＢＹＫ－３３７（ポリエーテル変性シリコーンオイル、ビックケミ－ジャパン社製）等が挙げられるがこれらに限定されない。

　また、これら成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１～５質量％の範囲で添加することが好ましい。

　（ハードコート層の表面形状）
　本実施形態におけるハードコート層の表面の算術平均粗さＲａは、長尺フィルムで巻き取った際のブロッキング防止効果やセルロースアセテートフィルムとの密着性に優れる点から、４～２０ｎｍであることが好ましい。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４の規定に基づいて、光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）で測定した値である。

　また、ハードコート層表面の凹凸平均間隔Ｓｍは３～４０μｍが好ましい。また、ハードコート層の表面の算術平均粗さＲａと、セルロースエステルフィルム（フィルム基材）のハードコート層塗設面の凹凸平均間隔Ｓｍとの比率（Ｒａ／Ｓｍ）が、２×１０^-4～６×１０^-3であることが好ましい。Ｓｍについては、算術平均粗さＲａと同様に、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：１９９４の規定に基づいて、光学干渉式表面粗さ計（ＲＳＴ／ＰＬＵＳ、ＷＹＫＯ社製）で測定できる。

　ハードコート層の表面の算術平均粗さＲａを上記範囲とするために、鋳型を押し当てて表面に突起を形成させる方法や、ＳＰ値（溶解度パラメーター）が異なる樹脂を混ぜて、表面凹凸を形成させる方法、スピノーダル分解や核生成などで突起形成させる方法を用いることができる。

　なお、突起形成に用いられる鋳型ロールとしては、凹凸が細かいものから粗いものまで、適宜選択して適用でき、マット状、レンチキュラーレンズ状、球状の凹凸が規則正しく、もしくはランダムに配列されたものが使用できる。

　また、本実施形態のハードコートフィルムのヘイズ値は、１％以下であることが、十分な輝度や高いコントラストが得られる点で好ましい。

　〔機能性層〕
　（バックコート層）
　本実施形態のフィルム基材におけるハードコート層を設けた側とは反対側の面に、カールやブロッキング防止のためにバックコート層を設けてもよい。

　カールやブロッキング防止の点から、バックコート層には、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウム等の粒子を添加することができる。

　バックコート層に含まれる粒子は、バインダーに対して０．１～５０質量％が好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は０．５％以下であることが好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。バインダーとしては、セルロースエステル樹脂が好ましい。また、バックコート層を形成するための塗布組成物には、アルコール類、ケトン類および／または酢酸エステル類糖の溶媒を含有することが好ましい。

　（反射防止層）
　本実施形態では、フィルム基材上にハードコート層を形成し、そのハードコート層の上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることもできる。

　反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体であるフィルム基材よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層とを組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、２層以上の高屈折率層と２層以上の低屈折率層とを交互に積層した４層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。

　反射防止層を有するフィルムの層構成としては、下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。

　セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／低屈折率層
　セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／中屈折率層／低屈折率層
　セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／高屈折率層（導電性層）／低屈折率層
　セルロースアセテートフィルム／ハードコート層／防眩性層／低屈折率層

　（低屈折率層）
　低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．３０～１．４５の範囲であることが好ましい。

　低屈折率層の膜厚は、５ｎｍ～０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ～０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ～０．２μｍであることが最も好ましい。

　低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質または空洞の粒子を少なくとも１種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質または空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。

　なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式（ＯＳｉ－１）で表される有機ケイ素化合物もしくはその加水分解物、或いは、その重縮合物を併せて含有させても良い。

　一般式（ＯＳｉ－１）：Ｓｉ（ＯＲ）₄
　前記一般式で表される有機ケイ素化合物は、式中、Ｒは炭素数１～４のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。

　他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。また、フッ素原子を３５～８０質量％の範囲で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性および／または光硬化性を有する化合物を含有してもよい。具体的には含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば（ヘプタデカフルオロ－１，１，２，２－テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。

　（高屈折率層）
　高屈折率層の屈折率は、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、屈折率を１．４～２．２の範囲に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは５ｎｍ～１μｍが好ましく、１０ｎｍ～０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ～０．１μｍであることが最も好ましい。屈折率を調整は、金属酸化物微粒子等を添加することで行うことができる。用いる金属酸化物微粒子の屈折率は１．８０～２．６０であるものが好ましく、１．８５～２．５０であるものが更に好ましい。

　金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができる。これらの金属酸化物微粒子には、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素、Ｔａなどの微量の原子をドープしてもよい。また、これらの混合物でもよい。本実施形態においては、中でも、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム－スズ（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。

　これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は１０ｎｍ～２００ｎｍの範囲であり、１０～１５０ｎｍであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。

　金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して０．１質量％～５質量％、より好ましくは０．５質量％～３質量％である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。

　また、高屈折率層は、π共役系導電性ポリマーを含有しても良い。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性の点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。

　π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。

　また、高屈折率層は、イオン性化合物を含有してもよい。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとＢＦ₄－、ＰＦ₆－等の無機イオン系、ＣＦ₃ＳＯ₂－、（ＣＦ₃ＳＯ₂）₂Ｎ－、ＣＦ₃ＣＯ₂－等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。該ポリマーとバインダーの比率は、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１０～４００質量部が好ましく、特に好ましくは、ポリマー１００質量部に対して、バインダーが１００～２００質量部である。

　（防眩性層）
　ハードコート層上には、機能性層として防眩層を設けることもできる。防眩性層は、フィルム表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置等の使用時に、反射像の映り込みが気にならないようにする層のことである。防眩層は、具体的には、前記したハードコート層に微粒子等の添加や前記鋳型を押し当てて表面に突起を形成する方法などによって、層表面の算術平均粗さＲａを０．１～１μｍに調整した層であることが好ましい。

　また、前記防眩層の積分反射率に占める散乱反射率の割合（散乱反射比率）は２～６０％であることが好ましい。前記範囲に散乱反射比率を微粒子等を用いて制御することで、上述したような透湿性の高い酢化度を有するセルロースアセテートフィルムと防眩層との層間密着性を向上させることができる。さらに好ましくは、前記散乱反射比率の割合が２０～５０％の範囲であればより密着性を良好にすることができる。

　なお、散乱反射比率は、コニカミノルタ（株）製、分光測色計ＣＭ－２５００ｄを用いて、測定径φ８ｍｍ、観察視野２°の条件で、ＳＣＩ（積分反射率）及びＳＣＥ（散乱反射率）を測定することによって求めることができる。

　〔導電層〕
　本実施形態では、光学フィルムの最表面に（例えばハードコート層上に）、導電層を形成してもよい。導電層は、少なくとも導電性繊維を含有し、バインダー、感光性化合物、更に必要に応じてその他の成分を含有してなることが望ましい。

　（導電性繊維）
　導電性繊維の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、中実構造及び中空構造のいずれかであることが好ましい。

　ここで、中実構造の繊維をワイヤーと呼ぶことがあり、中空構造の繊維をチューブと呼ぶことがある。

　また、平均短軸長さが５ｎｍ～１，０００ｎｍであって、平均長軸長さが１μｍ～１００μｍの導電性繊維を「ナノワイヤー」と呼ぶことがある。

　また、平均短軸長さが１ｎｍ～１，０００ｎｍ、平均長軸長さが０．１μｍ～１，０００μｍであって、中空構造を持つ導電性繊維を「ナノチューブ」と呼ぶことがある。

　導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属及びカーボンの少なくともいずれかであることが好ましい。これらの中でも、導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかであることが好ましい。

　〈金属ナノワイヤー〉
　金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、長周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、及び第６周期からなる群から選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、第２族～第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属がより好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、及び第１４族から選ばれる少なくとも１種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。

　上記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、及び銀との合金が好ましい。

　上記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウムなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

　金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができる。高い透明性が必要とされる用途では、円柱状や断面の多角形の角が丸まっている断面形状であることが好ましい。金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより調べることができる。

　金属ナノワイヤーの平均短軸長さ（「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある）は、１ｎｍ～５０ｎｍであることが好ましい。上記平均短軸長さが、１ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、５０ｎｍを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。なお、上記平均短軸長さは、１０ｎｍ～４０ｎｍであることがより好ましく、１５ｎｍ～３５ｎｍであることが更に好ましい。

　金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ－２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。

　金属ナノワイヤーの平均長軸長さ（「平均長さ」と称することがある）は、１μｍ～４０μｍであることが好ましい。上記平均長軸長さが、１μｍ未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、４０μｍを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。なお、上記平均長軸長さは、３μｍ～３５μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。

　金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ－２０００ＦＸ）を用い、３００個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、及び曲率から算出される値を長軸長さとした。

　金属ナノワイヤーの製造方法としては、例えば特開２００９－２１５５９４号公報、特開２００９－２４２８８０号公報、特開２００９－２９９１６２号公報、特開２０１０－８４１７３号公報、特開２０１０－８６７１４号公報に記載の方法を用いることができる。金属ナノワイヤーの製造方法は、特に制限はなく、いかなる方法で製造してもよいが、以下のようにハロゲン化合物と分散添加剤とを溶解した溶媒中で加熱しながら金属イオンを還元することによって製造することが好ましい。

　上記溶媒としては、親水性溶媒が好ましく、例えば、水、アルコール類、エーテル類、ケトン類などが挙げられ、これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコールなどが挙げられる。上記エーテル類としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。上記ケトン類としては、例えば、アセトンなどが挙げられる。

　上記加熱時の加熱温度は、２５０℃以下であることが好ましく、２０℃～２００℃であることがより好ましい。加熱温度が低くなるほど、核形成確率が下がり、加熱温度が２０℃未満であると、金属ナノワイヤーが長くなりすぎて絡みやすくなり、分散安定性が悪くなることがある。一方、加熱温度が２５０℃を超えると、金属ナノワイヤーの断面の角が急峻になり、塗布膜評価での透過率が低くなることがある。なお、加熱温度は、３０℃～１８０℃であることがより好ましく、４０℃～１７０℃であることが更に好ましい。

　なお、必要に応じて、金属ナノワイヤーの形成過程で温度を変更してもよい。途中での温度変更により、金属ナノワイヤーの核形成の制御や再核発生の抑制、選択成長の促進による単分散性向上の効果を向上させることができる。

　上記加熱の際には、還元剤を添加して行うことが好ましい。還元剤としては、特に制限はなく、通常使用されるものの中から適宜選択することができる。例えば、水素化ホウ素金属塩、水素化アルミニウム塩、アルカノールアミン、脂肪族アミン、ヘテロ環式アミン、芳香族アミン、アラルキルアミン、アルコール、有機酸類、還元糖類、糖アルコール類、亜硫酸ナトリウム、ヒドラジン化合物、デキストリン、ハイドロキノン、ヒドロキシルアミン、エチレングリコール、グルタチオンなどが挙げられる。これらの中でも、還元糖類、その誘導体としての糖アルコール類、エチレングリコールが特に好ましい。

　上記水素化ホウ素金属塩としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムなどが挙げられる。

　上記水素化アルミニウム塩としては、例えば、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムカリウム、水素化アルミニウムセシウム、水素化アルミニウムベリリウム、水素化アルミニウムマグネシウム、水素化アルミニウムカルシウムなどが挙げられる。

　上記アルカノールアミンとしては、例えば、ジエチルアミノエタノール、エタノールアミン、プロパノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノプロパノールなどが挙げられる。

　上記脂肪族アミンとしては、例えば、プロピルアミン、ブチルアミン、ジプロピレンアミン、エチレンジアミン、トリエチレンペンタミンなどが挙げられる。

　上記ヘテロ環式アミンとしては、例えば、ピペリジン、ピロリジン、Ｎメチルピロリジン、モルホリンなどが挙げられる。

　上記芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、Ｎ－メチルアニリン、トルイジン、アニシジン、フェネチジンなどが挙げられる。

　上記アラルキルアミンとしては、例えば、ベンジルアミン、キシレンジアミン、Ｎ－メチルベンジルアミンなどが挙げられる。

　上記アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノールなどが挙げられる。

　上記有機酸類としては、例えば、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、コハク酸、アスコルビン酸又はそれらの塩などが挙げられる。

　上記還元糖類としては、例えば、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、スクロース、マルトース、ラフィノース、スタキオースなどが挙げられる。

　上記糖アルコール類としては、例えば、ソルビトールなどが挙げられる。

　上記還元剤によっては、機能として分散添加剤、溶媒としても働く場合があり、同様に好ましく用いることができる。

　上記金属ナノワイヤー製造の際には、分散添加剤と、ハロゲン化合物又はハロゲン化金属微粒子とを添加して行うことが好ましい。分散添加剤とハロゲン化合物との添加のタイミングは、還元剤の添加前でも添加後でもよく、金属イオンあるいはハロゲン化金属微粒子の添加前でも添加後でもよいが、単分散性のよりよい金属ナノワイヤーを得るためには、ハロゲン化合物の添加を２段階以上に分けることが好ましい。

　上記分散添加剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、アミノ基含有化合物、チオール基含有化合物、スルフィド基含有化合物、アミノ酸又はその誘導体、ペプチド化合物、多糖類、合成高分子、これらに由来するゲルなどが挙げられる。これらの中でも、ゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリアルキレンアミン、ポリアクリル酸の部分アルキルエステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体が特に好ましい。

　上記分散添加剤として使用可能な構造については、例えば、「顔料の事典」（伊藤征司郎編、株式会社朝倉書院発行、２０００年）の記載を参照できる。

　また、使用する分散添加剤の種類によって、得られる金属ナノワイヤーの形状を変化させることもできる。

　上記ハロゲン化合物としては、臭素、塩素、ヨウ素を含有する化合物であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、臭化ナトリウム、塩化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化カリウム、塩化カリウム、ヨウ化カリウム等のアルカリハライドや下記の分散添加剤と併用できる化合物が好ましい。上記ハロゲン化合物によっては、分散添加剤として機能するものがありうるが、同様に好ましく用いることができる。

　上記ハロゲン化合物の代替としてハロゲン化銀微粒子を使用してもよいし、ハロゲン化合物とハロゲン化銀微粒子を共に使用してもよい。

　上記分散剤とハロゲン化合物は同一物質で併用してもよい。上記分散剤とハロゲン化合物を併用した化合物としては、例えば、アミノ基と臭化物イオンを含むＨＴＡＢ（ヘキサデシル－トリメチルアンモニウムブロミド）、アミノ基と塩化物イオンを含むＨＴＡＣ（ヘキサデシル－トリメチルアンモニウムクロライド）、アミノ基と臭化物イオン又は塩化物イオンを含むドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ジメチルジステアリルアンモニウムブロミド、ジメチルジステアリルアンモニウムクロリド、ジラウリルジメチルアンモニウムブロミド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロリド、ジメチルジパルミチルアンモニウムブロミド、ジメチルジパルミチルアンモニウムクロリド、などが挙げられる。

　金属ナノワイヤーを形成した後、限外ろ過、透析、ゲルろ過、デカンテーション、遠心分離などの手法により、脱塩処理を行ってもよい。

　〈金属ナノチューブ〉
　金属ナノチューブの材料としては、特に制限はなく、いかなる金属であってもよく、例えば、上記した金属ナノワイヤーの材料などを使用することができる。

　金属ナノチューブの形状としては、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層であることが好ましい。

　金属ナノチューブの厚み（外径と内径との差）は、３ｎｍ～８０ｎｍであることが好ましい。上記厚みが、３ｎｍ未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、８０ｎｍを超えると、金属ナノチューブ起因の散乱が生じることがある。なお、上記厚みは、３ｎｍ～３０ｎｍであることがより好ましい。

　金属ナノチューブの平均長軸長さは、１μｍ～４０μｍであることが好ましく、３μｍ～３５μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。

　上記金属ナノチューブの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、米国出願公開２００５／００５６１１８号明細書等に記載の方法などを用いることができる。

　〈カーボンナノチューブ〉
　カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）は、グラファイト状炭素原子面（グラフェンシート）が、単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。単層のカーボンナノチューブはシングルウォールナノチューブ（ＳＷＮＴ）、多層のカーボンナノチューブはマルチウォールナノチューブ（ＭＷＮＴ）と呼ばれ、特に、２層のカーボンナノチューブはダブルウォールナノチューブ（ＤＷＮＴ）とも呼ばれる。本実施形態で用いられる導電性繊維において、カーボンナノチューブは、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層であることが好ましい。

　カーボンナノチューブの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、二酸化炭素の接触水素還元、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、気相成長法、一酸化炭素を高温高圧化で鉄触媒と共に反応させて気相で成長させるＨｉＰｃｏ法（high-pressure carbon monoxide process　）等の公知の手段を用いることができる。

　また、これらの方法で得られたカーボンナノチューブは、洗浄、遠心分離、ろ過、酸化、クロマトグラフ等の方法により、副生成物や触媒金属等の残留物を除去することが、高純度化されたカーボンナノチューブを得ることができる点で好ましい。

　上記導電性繊維のアスペクト比は、１０以上であることが好ましい。上記アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長辺と短辺との比（平均長軸長さ／平均短軸長さの比）を意味する。

　アスペクト比の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子顕微鏡等により測定する方法などが挙げられる。

　導電性繊維のアスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、導電性繊維のアスペクト比が１０以上であるか否かは、電子顕微鏡の１視野で確認できればよい。また、導電性繊維の長軸長さと短軸長さとを各々別に測定することによって、導電性繊維全体のアスペクト比を見積もることができる。

　なお、導電性繊維がチューブ状の場合、アスペクト比を算出するための直径としては、該チューブの外径を用いる。

　導電性繊維のアスペクト比は、１０以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０～１，０００，０００であることが好ましい。上記アスペクト比が１０未満であると、導電性繊維によるネットワーク形成がなされず、導電性が十分取れないことがあり、１，０００，０００を超えると、導電性繊維の形成時やその後の取り扱いにおいて、成膜前に導電性繊維が絡まり凝集するため、安定な液が得られないことがある。なお、上記アスペクト比は、１００～１，０００，０００であることがより好ましい。

　全導電性組成物中における、上記アスペクト比が１０以上の導電性繊維の割合（比率）は、体積比で５０％以上であることが好ましい。上記比率が５０％未満であると、導電性に寄与する導電性物質が減少して導電性が低下してしまうことがあり、同時に密なネットワークを形成できないために電圧集中が生じ、耐久性が低下してしまうことがある。また、導電性繊維以外の形状の粒子は、導電性に大きく寄与しない上に吸収を持つため、好ましくなく、特に金属の場合で、球形などのプラズモン吸収が強い場合には、透明度が悪化してしまうことがある。なお、上記比率は、６０％以上がより好ましく、７５％以上が特に好ましい。

　ここで、上記比率は、例えば、導電性繊維が銀ナノワイヤーである場合には、銀ナノワイヤー水分散液をろ過して、銀ナノワイヤーと、それ以外の粒子とを分離し、ＩＣＰ発光分析装置を用いてろ紙に残っている銀の量と、ろ紙を透過した銀の量とを各々測定することで、導電性繊維の比率を求めることができる。ろ紙に残っている導電性繊維をＴＥＭで観察し、３００個の導電性繊維の短軸長さを観察し、その分布を調べることにより、短軸長さが２００ｎｍ以下であり、かつ長軸長さが１μｍ以上である導電性繊維であることを確認する。なお、ろ紙は、上記サイズの導電性繊維以外の粒子の最長軸を計測し、その最長軸の２倍以上であり、かつ導電性繊維の長軸の最短長以下の長さの粒子を通過させるものを用いることが好ましい。

　ここで、上記導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）や光学顕微鏡を用い、ＴＥＭ像や光学顕微鏡像を観察することにより求めることができる。本実施形態においては、導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により３００個の導電性繊維を観察し、その平均値から求めたものである。

　〈バインダー〉
　上記バインダーとしては、有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基（例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など）を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。

　これらの中でも、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、また、酸解離性基を有し、酸の作用により酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶となるものが特に好ましい。なお、酸解離性基とは、酸の存在下で解離することが可能な官能基を表す。

　上記バインダーの製造には、例えば公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。上記ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めることができる。

　線状の上記有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー（酸性基を有する感光性樹脂）が好ましい。

　側鎖にカルボン酸を有するポリマーとしては、例えば特開昭５９－４４６１５号、特公昭５４－３４３２７号、特公昭５８－１２５７７号、特公昭５４－２５９５７号、特開昭５９－５３８３６号、特開昭５９－７１０４８号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等であり、更に側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。

　これらの中でも、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が特に好ましい。

　更に、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する高分子重合体や（メタ）アクリル酸／グリシジル（メタ）アクリレート／他のモノマーからなる多元共重合体も有用なものとして挙げられる。該ポリマーは任意の量で混合して用いることができる。

　上記以外にも、特開平７－１４０６５４号公報に記載の、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクレート／メタクリル酸共重合体、などが挙げられる。

　上記アルカリ可溶性樹脂における具体的な構成単位としては、（メタ）アクリル酸と、該（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体とが好適である。上記（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、例えばアルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。これらは、アルキル基及びアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。

　上記アルキル（メタ）アクリレート又はアリール（メタ）アクリレートとしては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

　上記ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、ＣＨ₂＝ＣＲ₁Ｒ₂、ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ₁）（ＣＯＯＲ₃）、などが挙げられる。ただし、Ｒ₁は水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を表し、Ｒ₂は炭素数６～１０の芳香族炭化水素環を表し、Ｒ₃は炭素数１～８のアルキル基又は炭素数６～１２のアラルキル基を表す。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

　上記バインダーの重量平均分子量は、アルカリ溶解速度、膜物性等の点から、１，０００～５００，０００が好ましく、３，０００～３００，０００がより好ましく、５，０００～２００，０００が更に好ましい。なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて求めることができる。

　上記バインダーの含有量は、上記導電層全体に対し２５質量％～８０質量％であることが好ましく、３０質量％～７５質量％がより好ましく、４０質量％～７０質量％が更に好ましい。上記含有量の範囲にあると、現像性と金属ナノワイヤーの導電性の両立が図れる。

　〈感光性化合物〉
　上記感光性化合物とは、露光により画像を形成する機能を導電層に付与するか、又はそのきっかけを与える化合物を意味する。具体的には、（１）露光による酸を発生する化合物（光酸発生剤）、（２）感光性のキノンジアジド化合物、（３）光ラジカル発生剤等を挙げることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、感度調整のために、増感剤などを併用して用いることもできる。

　（光酸発生剤）
　光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。

　光酸発生剤には特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ－ニトロベンジルスルホネートなどが挙げられる。これらの中でも、スルホン酸を発生する化合物であるイミドスルホネート、オキシムスルホネート、ｏ－ニトロベンジルスルホネートが特に好ましい。

　また、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、あるいは化合物を樹脂の主鎖又は側鎖に導入した化合物、例えば、米国特許第３，８４９，１３７号明細書、独国特許第３９１４４０７号明細書、特開昭６３－２６６５３号、特開昭５５－１６４８２４号、特開昭６２－６９２６３号、特開昭６３－１４６０３８号、特開昭６３－１６３４５２号、特開昭６２－１５３８５３号、特開昭６３－１４６０２９号の各公報等に記載の化合物を用いることができる。更に、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号等の各明細書に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。

　（キノンジアジド化合物）
　上記キノンジアジド化合物は、例えば、１，２－キノンジアジドスルホニルクロリド類、ヒドロキシ化合物、アミノ化合物などを脱塩酸剤の存在下で縮合反応させることで得られる。

　上記光酸発生剤、及び上記キノンジアジド化合物の配合量は、露光部と未露光部の溶解速度差と、感度の許容幅の点から、上記バインダーの総量１００質量部に対して、１質量部～１００質量部であることが好ましく、３質量部～８０質量部がより好ましい。なお、上記光酸発生剤と、上記キノンジアジド化合物とを併用してもよい。

　本実施形態においては、上記光酸発生剤の中でもスルホン酸を発生する化合物が好ましく、下記のようなオキシムスルホネート化合物が高感度である観点から特に好ましい。

　〔粘着剤層〕
　本実施形態の視認側の偏光板の最表面に（例えばハードコート層上に）粘着剤層を介してタッチパネルを接着することにより、タッチパネル表示装置を構成することもできる。上記粘着剤層としては、特に制限なく、公知の粘着剤を使用できる。例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ポリエステル系粘着剤などを使用できるが、粘着力や貯蔵弾性率の制御が比較的容易なアクリル系粘着剤を使用することが特に好ましい。

　アクリル系粘着剤としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ヘキシル、（メタ）アクリル酸２－エチルブチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸デシル等の炭素数１～２０アクリル酸アルキルエステルの一種または二種以上と、前記アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸４－ヒドロキシブチル等の官能基モノマーとの共重合体に、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等の架橋剤を反応させたものが挙げられる。

　粘着剤層の厚さは、１μｍ～１３μｍであることが好ましい。粘着剤層の厚さが１μｍ以上の場合、十分な粘着力が得られ、１３μｍ以下の場合、抜き加工時や裁断加工時に糊のはみ出しを抑制することができ、かつ高い鉛筆硬度が維持される。さらに好ましい粘着剤層の厚さは、３～１２μｍである。

　粘着剤層の貯蔵弾性率としては、０℃における貯蔵弾性率が１．０×１０⁶～１．０×１０⁸Ｐａであることが好ましい。粘着剤層の貯蔵弾性率が１．０×１０⁶Ｐａ以上の場合、十分な抜き加工適性、裁断加工適性及び高い鉛筆硬度が得られ、１．０×１０⁸Ｐａ以下の場合、十分な粘着力が得られる。好ましい粘着剤層の貯蔵弾性率は、１．５×１０⁶～１．０×１０⁷Ｐａである。

　ハードコート層上に粘着剤層を設ける方法としては、別途、剥離シートに粘着剤含有組成物を塗布し、乾燥させて作製した粘着剤層に、ハードコートフィルム（フィルム基材＋ハードコート層）を積層する方法が挙げられる。上記粘着剤含有組成物の塗布方法は、例えば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法、カーテンコート法などの従来公知の方法が挙げられる。また、上記粘着剤含有組成物をハードコートフィルムの表面に直接塗布し、乾燥させることで、粘着剤層を積層するようにしてもよい。

　上記の剥離シートは、種々の剥離シートを使用できるが、代表的には剥離性を表面に有する基材シートから構成される。基材シートとしては、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂などのフィルムや、これらのフィルムに填料などの充填剤を配合したフィルムや合成紙などが挙げられる。また、グラシン紙、クレーコート紙、上質紙などの紙基材が挙げられる。

　基材シートの表面に剥離性を持たせるには、その表面に熱硬化性シリコーン樹脂や、紫外線硬化型シリコーン樹脂等の剥離剤を塗布等により付着させればよい。剥離剤の塗布量は、０．０３～３．０ｇ／ｍ²が好ましい。剥離シートは、剥離剤を有する表面を粘着剤層に接して積層される。

　〔実施例〕
　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

　＜保護フィルムの作製＞
　＜セルロースエステルフィルムＣＥ１の作製＞
　〈微粒子分散液１の調製〉
　シリカ微粒子（アエロジル　Ｒ９７２Ｖ　日本アエロジル（株）製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
　エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８９質量部
　以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、微粒子分散液１を調製した。

　〈微粒子添加液１の調製〉
　メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液１をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。
　メチレンクロライド　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９９質量部
　微粒子分散液１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５質量部

　〈ドープの調製〉
　まず、加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。次に、溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープを調製した。
　メチレンクロライド　　　　　　　　　　　　　　　　　　３４０質量部
　エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
　セルロースジアセテート（平均アセチル基置換度２．４１、Ｍｗ３０万）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
　ポリエステル系化合物ＡＰ－１６　　　　　　　　　　　　　　６質量部
　糖エステル化合物１－３　　　　　　　　　　　　　　　　　　６質量部
　微粒子添加液１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
　その後、上記の比率となるように、主ドープと各材料とを密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープを調製した。

　〈製膜〉
　次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープを温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は３０℃に制御した。そして、ステンレスベルト上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、その後、剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト上からウェブを剥離した。

　剥離したウェブ（セルロースエステルフィルム）を、１６０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に１０％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５％であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。乾燥後、フィルムを１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、ロール状に巻き取り、乾燥膜厚３０μｍのセルロースエステルフィルムＣＥ１を得た。セルロースエステルフィルムＣＥ１の巻長は、５２００ｍであった。

　セルロースエステルフィルムＣＥ１の面内位相差値Ｒｏおよび厚み方向の位相差値Ｒｔｈを、自動複屈折率計アクソスキャン（Axo Scan Mueller　Matrix　Polarimeter：アクソメトリックス社製）を用いて測定したところ、Ｒｏ＝１ｎｍ、Ｒｔｈ＝４ｎｍであった。

　＜セルロースエステルフィルムＣＥ２～ＣＥ３の作製＞
　表１に示す膜厚に変更して製膜した以外は、セルロースエステルフィルムＣＥ１と同様の方法でセルロースエステルフィルムＣＥ２～ＣＥ３を製膜した。

　＜セルロースエステルフィルムＣＥ４の用意＞
　市販のコニカミノルタ株式会社製のセルロースエステルフィルム（ＫＣ２ＣＴ１、膜厚２０μｍ）を追加延伸することで、膜厚１３μｍのセルロースエステルフィルムＣＥ４を用意した。

　＜ＣＯＰフィルム１の製膜＞
　〈脂環式構造を有する重合体樹脂の合成〉
　エチレン雰囲気下、容量１．６ｌのオートクレーブにフェニルノルボルネン濃度が２０ｍｏｌ／ｌで、総液量が６４０ｍｌとなるようにトルエンとフェニルノルボルネン－トルエン溶液を入れた。メチルアルミノキサン（アルベマール社製、ＭＡＯ２０％トルエン溶液）をＡｌ基準で５．８８ｍｍｏｌ、メチレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド１．５μｍｏｌを添加し、エチレンを導入して圧力を０．２ＭＰａに保持しながら、８０℃で６０分間反応させた。

　反応終了後、放冷しながらエチレンを脱圧し、系内を窒素で置換した。その後、吸着水分量を１０質量％に調整したシリカ（富士シリシア社製、グレード：Ｇ－３粒径：５０μｍ）を３．０ｇ加えて１時間反応させた。その反応液を濾紙（５Ｃ、９０ｍｍ）とセライト（和光純薬工業社）をセットした加圧ろ過器（アドバンテック東洋株式会社、型式ＫＳＴ－９０－ＵＨ）に入れ、窒素で加圧ろ過して重合液を回収した。その重合液を５倍量のアセトン中に少量ずつ滴下して析出させ、脂環式構造を有する重合体樹脂ＣＯＰ１を得た。ＣＯＰ１の重量平均分子量は１４２０００であり、またガラス転移温度は１４０℃であった。

　上記で合成した脂環式構造を有する重合体樹脂ＣＯＰ１を、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて７０℃で２時間乾燥して水分を除去した後に、６５ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押し出し成形機（Ｔダイ幅５００ｍｍ）を使用し、溶融樹脂温度２４０℃、Ｔダイ温度２４０℃の成形条件にて、膜厚１００μｍのＣＯＰフィルムを押し出し成形した。

　次いで、剥離したＣＯＰフィルムを、２００℃の熱をかけながらテンターを用いて幅手方向に９０％延伸した。次いで、乾燥ゾーンを多数のローラで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。乾燥後、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、ロール状に巻き取り、乾燥膜厚８μｍのＣＯＰフィルム１を得た。ＣＯＰフィルム１の巻長は、５０００ｍであった。

　ＣＯＰフィルム１の面内位相差値Ｒｏおよび厚み方向の位相差値Ｒｔｈを、自動複屈折率計アクソスキャン（Axo Scan Mueller　Matrix　Polarimeter：アクソメトリックス社製）を用いて測定したところ、Ｒｏ＝０ｎｍ、Ｒｔｈ＝２ｎｍであった。

　＜ＣＯＰフィルム２の製膜＞
　ＪＳＲ（株）製のアートン（Ｇ７８１０）を用い、添加剤としてポリエステル系化合物ＡＰ－１５を加えた以外は、セルロースエステルフィルムＣＥ１と同様にして、ＣＯＰフィルム２を作製した。

　ＣＯＰフィルム２の面内位相差値Ｒｏおよび厚み方向の位相差値Ｒｔｈを、自動複屈折率計アクソスキャン（Axo Scan Mueller　Matrix　Polarimeter：アクソメトリックス社製）を用いて測定したところ、Ｒｏ＝２ｎｍ、Ｒｔｈ＝３ｎｍであった。

　＜粘性の測定＞
　上記のようにして用意した各光学フィルム（セルロースエステルフィルムＣＥ１～ＣＥ４、ＣＯＰフィルム１～２）の粘性を、日立ハイテクサイエンス製の粘弾性測定装置（ＤＭＡ７１００）を用いて測定した。すなわち、上記装置を使用し、各光学フィルムにおいて、－４０℃～９０℃の温度範囲でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の最小値を測定した。

　＜偏光子の作製＞
　クラレ製ＰＶＡフィルム（厚み２０μｍ）を用いて、ヨウ素濃度０．３ｗｔ％およびＫＩ含有の染色浴（３５℃）にて、延伸倍率２倍で延伸し、染色した後、ほう酸の入った架橋浴（５０℃）にて、２．５倍延伸し、トータル延伸倍率を５倍として延伸した（厚み７μｍ）。その後、６０℃の乾燥機で上記ＰＶＡフィルムを乾燥し、偏光子１を作製した。また、トータル延伸倍率を５．７倍として延伸した以外は、上記と同様の方法で、厚み５μｍの偏光子２も作製した。

　＜偏光板の作製＞
　表１に示す保護フィルムおよび対向フィルムの組み合わせで、これらを偏光子に接着剤を用いて貼り合わせ、偏光板１～６を作製した。

　＜評価＞
　（クラック）
　上記で作製した偏光板１～６を、円形状（長方形以外の異形形状）に打ち抜いた後、偏光板にクラックが入っているかを顕微鏡で観察した。また、上記で作製した偏光板１～６を、－３０℃と８０℃との間で温度変化させ、この温度変化を２００回繰り返して行った後、偏光板にクラックが入っているかを顕微鏡で観察した。そして、以下の評価基準に基づいて、クラックについて評価した。
　　《評価基準》
　　○：打ち抜き時および温度変化時の双方において、クラックがほとんど見られなかった。
　　×：打ち抜き時および温度変化時の少なくとも一方において、クラックの発生が見られた。

　（輝度）
　〈ＩＰＳ型液晶表示装置の作製〉
　図７で示した製造方法により、ストライプ状の画素電極と、ストライプ状の共通電極とを有するＩＰＳセルを作製した。その後、表１で示した偏光板１～６を、ＩＰＳセルの視認側およびバックライト側に接着剤で接着して、ＩＰＳ型の液晶表示装置１～６を作製した。

　次に、コニカミノルタ（株）製の分光放射輝度計ＣＳ２０００を用いて、上記で作製したＩＰＳ型の液晶表示装置の輝度を測定し、以下の基準に基づいて評価した。
　　《評価基準》
　　○：輝度値が、基準値以上である。
　　△：輝度値が、基準値の９０％以上で、かつ、基準値未満である。
　　×：輝度値が、基準値の９０％未満である。

　表１は、偏光板１～６についての評価の結果を示しており、表２は、液晶表示装置１～６についての評価の結果を示している。

　表１の結果より、偏光板１～４では、クラックの発生がないのに対して、偏光板５および６ではクラックが発生している。これは、偏光板１～４では、偏光板５および６とは異なり、厚みが２０μｍ以上６５μｍ以下の薄型であるため、打ち抜きに対してクラックが発生しにくく、また、Ｌｏｇ（ｔａｎδ）の値が－１．８以上であり、温度変化による粘性の変化が小さいので、温度変化によってクラックが発生しにくくなっているためと考えられる。

　また、表２より、液晶表示装置１～６は全て、輝度評価が良好な結果となっている。これは、ＩＰＳセルが、ストライプ状の画素電極とストライプ状の共通電極とを有していることにより、高透過率のＩＰＳセルを実現できているためと考えられる。

　以上で説明した本実施形態の異形表示装置は、以下のように表現することができる。

　１．表示画面が、長方形および正方形とは異なる形状である異形表示装置であって、
　ＩＰＳセルと、前記ＩＰＳセルを両側から挟み込む各偏光板とを備え、
　前記ＩＰＳセルは、
　１画素の表示領域内でストライプ状に位置する画素電極と、
　前記画素電極と交互に並ぶストライプ状の共通電極とを有しており、
　前記各偏光板の厚みは、それぞれ２０μｍ以上６５μｍ以下であり、
　前記各偏光板は、
　偏光子と、前記偏光子を両側から挟み込む各光学フィルムとを有しており、
　損失弾性率と貯蔵弾性率との比を示す損失正接をｔａｎδとしたとき、
　前記各偏光板の各光学フィルムにおいて、－４０℃から１００℃の間でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の値が、－１．８以上であることを特徴とする異形表示装置。

　２．前記各偏光板の各光学フィルムは、それぞれ、セルロースエステル系樹脂を含むことを特徴とする前記１に記載の異形表示装置。

　３．前記各偏光板の各光学フィルムは、末端封止したポリエステルを可塑剤として含むことを特徴とする前記１または２に記載の異形表示装置。

　４．前記ＩＰＳセルは、
　１画素の表示領域内でストライプ状に位置するパッシベーション膜と、
　前記パッシベーション膜を支持する下地層とをさらに有しており、
　前記画素電極は、前記パッシベーション膜の上に位置しており、
　前記共通電極は、前記下地層上で、かつ、隣り合う前記パッシベーション膜の間に位置していることを特徴とする前記１から３のいずれかに記載の異形表示装置。

　本発明は、表示画面が異形形状の表示装置に利用可能である。

　　　１　　　液晶表示装置（異形表示装置）
　　　１ａ　　表示画面
　　　２　　　ＩＰＳセル
　　　３　　　偏光板
　　　４　　　偏光板
　　１１　　　偏光子
　　１２　　　保護フィルム（光学フィルム）
　　１３　　　対向フィルム（光学フィルム）
　　２１　　　偏光子
　　２２　　　保護フィルム（光学フィルム）
　　２３　　　対向フィルム（光学フィルム）
　１０７　　　有機パッシベーション膜（下地層）
　１０８　　　共通電極
　１０９　　　パッシベーション膜
　１１０　　　画素電極
　　　Ｐ　　　表示領域

Claims

　表示画面が、長方形および正方形とは異なる形状である異形表示装置であって、
　ＩＰＳセルと、前記ＩＰＳセルを両側から挟み込む各偏光板とを備え、
　前記ＩＰＳセルは、
　１画素の表示領域内でストライプ状に位置する画素電極と、
　前記画素電極と交互に並ぶストライプ状の共通電極とを有しており、
　前記各偏光板の厚みは、それぞれ２０μｍ以上６５μｍ以下であり、
　前記各偏光板は、
　偏光子と、前記偏光子を両側から挟み込む各光学フィルムとを有しており、
　損失弾性率と貯蔵弾性率との比を示す損失正接をｔａｎδとしたとき、
　前記各偏光板の各光学フィルムにおいて、－４０℃から１００℃の間でのＬｏｇ（ｔａｎδ）の値が、－１．８以上である、異形表示装置。
　前記各偏光板の各光学フィルムは、それぞれ、セルロースエステル系樹脂を含む、請求項１に記載の異形表示装置。
　前記各偏光板の各光学フィルムは、末端封止したポリエステルを可塑剤として含む、請求項１または２に記載の異形表示装置。
　前記ＩＰＳセルは、
　１画素の表示領域内でストライプ状に位置するパッシベーション膜と、
　前記パッシベーション膜を支持する下地層とをさらに有しており、
　前記画素電極は、前記パッシベーション膜の上に位置しており、
　前記共通電極は、前記下地層上で、かつ、隣り合う前記パッシベーション膜の間に位置している、請求項１から３のいずれかに記載の異形表示装置。