JP2002132226A - 平面表示装置 - Google Patents
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- JP2002132226A JP2002132226A JP2000325727A JP2000325727A JP2002132226A JP 2002132226 A JP2002132226 A JP 2002132226A JP 2000325727 A JP2000325727 A JP 2000325727A JP 2000325727 A JP2000325727 A JP 2000325727A JP 2002132226 A JP2002132226 A JP 2002132226A
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Abstract
いて、待ち受け時のメモリの誤動作をなくして常に正常
な表示画像を可能とし、かつ高精細化と狭額縁化を実現
する。 【解決手段】 第2のスイッチ素子17とメモリ制御信
号線19a,19bとの間に、それぞれ抵抗素子119
a,119bを接続する。メモり制御信号の電位の立ち
上がりは抵抗素子119a,119bにより遅延するた
め、デジタルメモリ18の電源電圧降下により電位が低
下していた映像信号の電位が元に戻った時点で画素電極
13へ取り込まれることになり、デジタルメモリ18の
電源電圧降下の影響によるメモリの誤動作を防ぐことが
できる。
Description
し、詳しくは携帯電話や電子ブック等に使用される高画
質、低消費電力な液晶表示装置に関する。
示装置は、軽量、薄型、低消費電力という利点を活かし
て携帯電話や電子ブック等の小型情報端末のディスプレ
イとして使われている。このような小型情報端末は、一
般にバッテリー駆動方式が採用されていることから、低
消費電力化が重要な課題となっている。
中に低消費電力で表示できることが求められており、こ
れを実現するための技術としては、例えば特開昭58−
23091号などが挙げられる。ここに開示された画像
表示装置は、画素内にディジタルメモリを備えており、
待ち受け時(静止画表示時)には、液晶を交流駆動する
ための交流駆動回路のみを動作させ、その他の周辺駆動
回路を止めることにより、大幅な消費電力の低減を図っ
ている。
開昭58−23091号に代表されるようなディジタル
メモリを備えた液晶表示装置では、表示画面全体をデジ
タルメモリからの出力(又は反転出力)で交互に表示さ
せるために、通常表示時の1画素分の負荷容量を駆動す
る場合に比べて、非常に大きな容量を駆動することにな
る。このため、デジタルメモリの電源に電圧降下を生
じ、デジタルメモリの電位が元に戻らないうちに映像信
号が画素へ取り込まれる、いわゆるメモリの誤動作を引
き起こし、正常な表示画像が得られなくなるおそれがあ
る。なお、デジタルメモリの電源での電圧降下が生じな
いようにするには、電源配線を低抵抗にすればよいが、
こうすると基板上での配線幅を広くしなければならず、
画素ピッチや額縁サイズが大きくなるという難点があっ
た。
誤動作をなくして常に正常な表示画像を得ることがで
き、かつ高精細化と狭額縁化を実現した平面表示装置を
提供することにある。
め、請求項1の発明は、互いに交差して配置された複数
の走査線及び複数の信号線、これら両線の各交差部に配
置された画素電極、前記画素電極と電気的に並列に接続
された補助容量、前記補助容量に所定の電圧を供給する
補助容量線、前記走査線から供給される走査信号により
オン/オフ制御され、オン時に前記信号線に供給された
映像信号を前記画素電極に書き込む第1のスイッチ素
子、前記画素電極と電気的に接続され、前記信号線に供
給された映像信号を保持可能なディジタルメモリ、前記
画素電極と前記ディジタルメモリとの間に挿入され、前
記画素電極と前記ディジタルメモリ間の導通を制御する
第2のスイッチ素子、前記第2のスイッチ素子にオン/
オフ制御のためのメモリ制御信号を供給するメモリ制御
信号線を含む第1の電極基板と、前記画素電極に対し所
定間隔をもって対向配置された対向電極を含む第2の電
極基板と、前記第1の電極基板と第2の電極基板との間
に狭持された光変調層とを備え、前記第2のスイッチ素
子とメモリ制御信号線との間に、前記メモリ制御信号線
に供給されるメモリ制御信号の電位の立ち上がりを制御
する電位制御手段を接続したことを特徴とする平面表示
装置である。
記電位制御手段は抵抗素子により構成され、かつ前記抵
抗素子の抵抗値は前記メモリ制御信号線の電位の立ち上
がりが前記デジタルメモリの電源配線の電位の立ち上が
りも遅くなるように設定されていることを特徴とする。
第1の電極基板上に前記走査線と並行して形成された各
メモリ制御信号線ごとに接続する。また、前記抵抗素子
を前記第1の電極基板上で走査線と並行して形成される
前のメモリ制御信号線に接続する。
段を前記メモリ制御信号線にメモリ制御信号を供給する
外部駆動回路側に配置する。
て、前記画素電極と前記信号線とは前記第1のスイッチ
素子を介して接続され、前記画素電極と前記ディジタル
メモリとは前記第2のスイッチ素子を介して接続される
ことを特徴とする。
記第2のスイッチ素子は2つ存在し、それぞれが独立し
たメモリ制御信号線に接続されることを特徴とする。
て、前記ディジタルメモリは、2つのインバータ回路と
第3のスイッチ素子で構成されることを特徴とする。
記第3のスイッチ素子は前記走査線に接続されることを
特徴とする。
記第1のスイッチ素子と前記第3のスイッチ素子は、相
補型のMOSトランジスタで構成されることを特徴とす
る。請求項8の発明は、請求項1において、前記画素電
極は金属薄膜で構成された光反射型の画素電極であるこ
とを特徴とする。
記光変調層は液晶層であることを特徴とする。
通常表示期間では、前記第2のスイッチ素子により前記
画素電極と前記ディジタルメモリ間の導通をオフし、か
つ前記第1のスイッチ素子を所定周期でオンして、前記
信号線に供給された映像信号を前記画素電極に書き込
み、静止画表示期間では、前記第2のスイッチ素子をオ
ンし、前記信号線に供給された映像信号を前記ディジタ
ルメモリに保持させた後、前記第1のスイッチ素子によ
り前記信号線と前記画素電極間の導通をオフして、前記
ディジタルメモリに保持された映像信号を前記画素電極
に書き込むことを特徴とする。
モり制御信号の電位の立ち上がりが遅くなるように制御
することで、デジタルメモリの電位が元に戻った時点で
映像信号を画素へ取り込むことができるので、デジタル
メモリの電源電圧降下の影響によりメモリの誤動作を起
こすことがなくなり、常に安定した表示画像を得ること
ができる。この場合、デジタルメモリの電源配線を低抵
抗にするために基板上での配線幅を広くする必要がない
ので、画素ピッチや額縁サイズが大きくなることがな
く、高精細化と狭額縁化を実現することができる。
装置を、アクティブマトリクス型液晶表示装置に適用し
た場合の実施形態について説明する。
トリクス型液晶表示装置の回路構成図であり、図3は図
2の概略断面図である。
複数の表示画素10が形成された表示画素部110、走
査線駆動回路120及び信号線駆動回路130とから構
成されている。
0及び信号線駆動回路130は、図3に示すアレイ基板
101(第1の電極基板)上において、後述する信号線
11、走査線12及び画素電極13などと一体に形成さ
れている。ただし、走査線駆動回路120及び信号線駆
動回路130は、図示しない外部制御回路上に実装され
ていてもよい。
に複数本の信号線11及びこれと交差する複数本の走査
線12が図示しない絶縁膜を介してマトリクス状に配置
されており、両線の各交差部には表示画素10が配置さ
れている。
イッチ素子14、対向電極15、液晶層16、第2のス
イッチ素子17及びディジタルメモリ18により構成さ
れている。
ているが、図2では説明を簡単にするために図示を省略
している。補助容量(及び補助容量線)については、図
1において説明する。
11に、ゲートは走査線12に、ドレインは画素電極1
3にそれぞれ接続されている。また画素電極13は第2
のスイッチ素子17を介してディジタルメモリ18に接
続されており、その第2のスイッチ素子17のゲートは
メモリ制御信号線19に、ソースは画素電極13に、ド
レインはディジタルメモリ18にそれぞれ接続されてい
る。
ようにメモリ制御信号線19a,19bとして2本配置
されているが、図2では説明を簡単にするためにメモリ
制御信号線19として示している。また後述する抵抗素
子119a,119bについても、図2では抵抗素子1
19として示している。
板101上に形成され、この画素電極13と相対する対
向電極15は対向基板102(第2の電極基板)上に形
成されている。対向電極15には、図示しない外部駆動
回路から所定の対向電位が与えられている。さらに、図
3に示すように、画素電極13と対向電極15の間には
光変調層としての液晶層16が充填され、容量Clcを
形成している。また、アレイ基板101及び対向基板1
02の周囲はシール材103により封止されている。な
お、図3では配向膜や偏光板などの図示は省略してい
る。
121及び図示しないバッファ回路などで構成されてお
り、図示しない外部駆動回路から供給されるコントロー
ル信号(垂直のクロック/スタート信号)に基づいて、
上から順に走査線12に走査信号を出力する。
動画表示時(以下、中間調/動画表示時)には、通常の
アクティブマトリクス型液晶表示装置と同様に上から順
に走査線12に走査信号を出力する。また静止画表示時
には、走査線12をオフレベルとする。
131、ASW(アナログスイッチ)132などで構成
されており、図示しない外部駆動回路からコントロール
信号(水平のクロック/スタート信号)及びビデオバス
133を通じて映像信号が供給されている。信号線駆動
回路130では、水平のクロック/スタート信号に基づ
いて、シフトレジスタ131からASW132の開閉信
号を供給することにより、ビデオバス133から供給さ
れる映像信号を所定のタイミングで信号線11にサンプ
リングする。
ない外部駆動回路からメモリ制御信号が供給されてい
る。ここでは、中間調/動画表示時には、メモリ制御信
号線19にオフレベルのメモリ制御信号を供給し、静止
画表示時にはオンレベルのメモリ制御信号を供給してい
る。
参照しながら、さらに詳細に説明する。
成図である。
モリ18の出力端子26及び反転出力端子27と画素電
極13との間に挿入された2つのスイッチ素子21、2
2で構成されている。このうち、スイッチ素子21のゲ
ートはメモリ制御信号線19aに接続され、スイッチ素
子22のゲートはメモリ制御信号線19bに接続されて
いる。このメモリ制御信号線19a,19bにオン又は
オフレベルのメモリ制御信号が供給されることで、2つ
のスイッチ素子21、22は独立して制御される。この
第2のスイッチ素子17と第1のスイッチ素子14は、
ともにMOSトランジスタで構成されている。
制御信号線19a,19bとの間には、メモリ制御信号
線19a,19bにそれぞれ供給されるメモリ制御信号
の電位の立ち上がりを制御する電位制御手段としての抵
抗素子119a,119bが接続されている。この抵抗
素子119a,119bの抵抗値は、メモリ制御信号線
19a,19bに供給されるメモリ制御信号の電位の立
ち上がりが、デジタルメモリ18の電源配線31に供給
される電源電位の立ち上がりよりも遅くなるように設定
されている。
タ回路23、24と、第3のスイッチ素子25で構成さ
れている。インバータ回路23は、直列に接続されたP
−chTFT231及びN−chTFT232により構
成され、インバータ回路24は、同じく直列に接続され
たP−chTFT241及びN−chTFT242によ
り構成されている。また、第3のスイッチ素子25は、
第1のスイッチ素子14とは逆チャネルのスイッチ素子
であり、第1のスイッチ素子14と相補型のMOSトラ
ンジスタで構成されている。さらに、第3のスイッチ素
子25のゲートは、第1のスイッチ素子14のゲートと
同じ走査線12に接続されている。ディジタルメモリ1
8の正極性側には、正電源配線として電源配線31が接
続され、デジタルメモリ18の負極正側には、負電源配
線として電源配線32が接続される。
電位関係を保持するために、並列に補助容量28が接続
されている。この補助容量28は画素電極13と補助容
量線29との間に容量Csを形成している。補助容量線
29は、すべての表示画素10の補助容量28と電気的
に接続されており、図示しない外部制御回路から必要な
電位が供給されている。
置100において、中間調/動画表示と静止画表示を行
う場合の動作について説明する。
は、2本のメモリ制御信号線19a,19bをともにオ
フレベルとし、第2のスイッチ素子17の機能を停止す
る。そして、走査線駆動回路120から走査信号を出力
して、各走査線12を上から順にオンし、これと同期し
て信号線11に映像信号をサンプリングする。すると、
オンとなった走査線12に接続するすべての第1のスイ
ッチ素子14は、一水平走査期間だけオンとなり、信号
線11にサンプリングされていた映像信号は第1のスイ
ッチ素子14を通じて画素電極13に書き込まれる。こ
の映像信号は画素電極13と対向電極15との間及び補
助容量28に信号電圧として充電(保持)され、この信
号電圧の大きさに応じて液晶層16が応答することで表
示画素からの透過光量が制御される。このような動作を
一フレーム期間内にすべての走査線12について実施す
ることにより、一画面の映像が出来上がる。
線駆動回路120及び信号線駆動回路130に対し、そ
れぞれクロック信号、スタート信号及び映像信号を供給
して、通常のアクティブマトリクス型液晶表示装置と同
様に駆動を行うことにより、フルカラーによる高画質な
中間調/動画表示を行う。
は、通常のアクティブマトリクス型液晶表示装置として
駆動する場合と同様に、表示画素部110で動作してい
るのは、第1のスイッチ素子14、画素電極13、対向
電極15及び補助容量28だけとなる。すなわち、中間
調/動画表示の間は、第2のスイッチ素子17やディジ
タルメモリ18の機能は停止しているため、補助容量線
29には、補助容量28を機能させるに必要な通常の電
位を供給する。
る際は、通常表示から静止画表示に移行する最後のフレ
ーム(静止画書き込みフレーム)において、メモリ制御
信号線19aをオンレベルとする。そして、第1のスイ
ッチ素子14がオンしている間に、信号線11に2値化
された映像信号をサンプリングし、これを第1のスイッ
チ素子14及び第2のスイッチ素子17を通じてディジ
タルメモリ18に書き込む。この2値化された映像信号
は、静止画表示時に表示するマルチカラー画像用の映像
信号である。
モリ18に書き込まれた映像信号は、短時間であればこ
の状態で保持することもできるが、長時間保持すると直
流成分により液晶層16が劣化するため、交流駆動する
必要がある。本実施形態では、一定の周期でメモリ制御
信号線19a,19bを交互にオンレベルとすることに
よって、スイッチ素子21、22を交互にオンし、同時
に対応電極15の電位を反転させることで交流駆動を実
現している。このとき、第2のスイッチ素子17がオン
すると、デジタルメモリ18の電源配線31は電圧降下
を生じるため、デジタルメモリ18に書き込まれた映像
信号の電位も一時的に低下することになる。このため、
本来の電位に戻らないうちに映像信号が画素電極13に
出力されることになり、メモリの誤動作となる。しか
し、本実施形態においては、第2のスイッチ素子17と
メモリ制御信号線19a,19bとの間に抵抗素子11
9a,119bが接続されているため、メモリ制御信号
線19a,19bに供給されるメモリ制御信号の電位
は、デジタルメモリ18の電源配線31に供給される電
源電位の立ち上がりよりも遅く立ち上がることになる。
したがって、デジタルメモリ18の電源配線31に電圧
降下が生じ、デジタルメモリ18に書き込まれた映像信
号の電位が一時的に低下しても、第2のスイッチ素子2
1、22は映像信号が本来の電位に戻った時点でオン状
態となるため、本来の電位に戻った映像信号が画素電極
13へ取り込まれることになる。したがって、デジタル
メモリ18の電源配線31の電圧降下の影響によりメモ
リの誤動作を起こすことがなくなり、常に安定した表示
画像を得ることができる。
2を交互にオンすることで、画素電極13の電位は正電
源/負電源電位が交互に出力され、これと同期させて対
向電極15の電位を正電源/負電源電位間でシフトする
ことにより、対向電極15と極性が同じ表示画素10で
は液晶層16に電圧がかからず、逆極性の表示画素10
では液晶層16に電圧がかかるため、2値表示(マルチ
カラー表示)を行うことができる。このとき、表示画素
部110で動作しているのは、低周波数のメモリ制御信
号線19と対向電極15だけであるため、待ち受け時
(静止画表示時)には、低消費電力でマルチカラー表示
を行うことができる。また、この間、画素電極13への
電位の供給はディジタルメモリ18からとなり、補助容
量28の電位は表示と無関係となる。このため、補助容
量線29には、通常表示において補助容量28に与えて
いる電位よりも低い電位を供給することができることに
なり、低消費電力で表示を行うことができる。
る際は、最後のフレーム(静止画最終フレーム)を経
て、再び2本のメモリ制御信号線19a,19bをとも
にオフレベルとし、走査線駆動回路120及び信号線駆
動回路130に対し、それぞれクロック信号、スタート
信号及び映像信号を供給する。
7とメモリ制御信号線19a,19bとの間に、メモリ
制御信号線19a,19bにそれぞれ供給されるメモリ
制御信号の電位の立ち上がりを遅延させるための抵抗素
子119a,119bを接続した場合には、デジタルメ
モリ18に保持されている映像信号の電位が元に戻った
時点で画素電極13へ取り込むことができるので、デジ
タルメモリの電源電圧降下の影響によりメモリの誤動作
を起こすことがなくなり、常に安定した表示画像を得る
ことができる。この場合、デジタルメモリ18の電源配
線31を低抵抗にするために基板上での配線幅を広くす
る必要がないので、画素ピッチや額縁サイズが大きくな
ることがなく、高精細化と狭額縁化を実現することがで
きる。
線19a,19bに抵抗素子119a,119bを接続
した例について示したが、例えば図4に示すように、各
メモリ制御信号線19に分岐する前段に抵抗素子119
を接続しても同様の効果を得ることができる。
あるメモリ制御信号線に抵抗素子を形成した例について
示したが、図示しない外部駆動回路でメモリ制御信号の
電位の立ち上がりを遅くして、アレイ基板に入力するよ
うにしてもよい。
00の製造方法の一例を図5を用いて説明する。図5は
液晶表示装置の概略断面図を示している。ここでは、製
造プロセスに従って説明する。なお、カッコ内の符号は
図1〜図3で使用した符号を示している。
縁基板60上に、CVD法などにより厚さ50nm程度
のアモルファスシリコン(a−Si)薄膜を被着する。
次いで、450℃で1時間炉アニールを行った後、Xe
Clエキシマレーザ光を照射し、a−Siを多結晶化す
る。その後に、多結晶Siをフォトエッチング法を用い
てパターニングし、表示画素部(110)に配置される
TFT(画素TFT)のチャネル層61及び図示しない
駆動回路(120、130)領域のTFT(回路TF
T)のチャネル層、さらには補助容量(28)の下部電
極62となるポリシリコン膜を形成する。
るSiOx膜63を100nm程度被着する。続いて、
このSiOx膜63上の全面にTa,Cr,Al,M
o,W,Cuなどの単体又はその積層膜、あるいは合金
膜を400nm程度被着し、フォトエッチング法により
所定の形状にパターニングする。これにより、走査線
(12)又は走査線を延在してなる画素TFTのゲート
電極52、補助容量線53及び補助容量線53を延在し
てなる補助容量(28)の図示しない上部電極及び図示
しない回路TFTのゲート電極及び駆動回路領域の各種
配線を形成する。
てイオン注入やイオンドーピング法により不純物の注入
を行い、画素TFTのドレイン電極64、ソース電極6
5、補助容量(28)の下部電極のコンタクト領域6
6、及び図示しないN型の回路TFTのソース電極とド
レイン電極を形成する。不純物の注入は、例えば加速電
圧80KeVで5×1015atoms/cm2 のドーズ量で
PH3 /H2によりリンを高濃度注入する。
回路領域のN型の回路TFTには不純物が注入されない
ようにレジストで被覆した後、図示しないP型の回路T
FTのゲート電極をそれぞれマスクとして、加速電圧8
0KeVで5×1015atoms/cm2 のドーズ量でB2
H6 /H2 によりボロンを高濃度注入して、P型の
回路TFTのソース電極とドレイン電極を形成する。そ
の後、N型LDD(Lightly Doped Dr
ain)を形成するための不純物注入を行い、基板を6
0をアニールすることにより不純物を活性化する。
60の全面に層間絶縁膜SiO268を500nm程度
被着する。
TFTのドレイン電極64に至るコンタクトホール69
と、ソース電極65に至るコンタクトホール70と、補
助容量(28)の下部電極のコンタクト領域66に至る
コンタクトホール71と、図示しない回路TFTのソー
ス電極とドレイン電極に至るコンタクトホールを形成す
る。
などの単体又はその積層膜、あるいは合金膜を500n
m程度被着し、フォトエッチング法により所定の形状に
パターニングする。これにより、信号線(11)、画素
TFTのドレイン電極64と信号線(11)との接続、
及びソース電極65と画素電極(13)とを接続する画
素電極配線80及び、これと一体となった画素電極コン
タクト81a、さらに画素電極コンタクト81aと一体
の補助容量電極コンタクト81b、及び図示しない駆動
回路領域内の回路TFTの各種配線を行う。
面にSiNxからなる保護絶縁膜82を成膜し、フォト
エッチング法により画素電極コンタクト81aに至るコ
ンタクトホール83を形成する。
84を全面に2μmほど塗布し、後述する画素電極55
から画素電極コンタクト81aに至るコンタクトホール
85を形成する。
フォトエッチング法により所定の形状にパターニングし
て、画素電極55を形成し、この画素電極55と画素T
FTのソース電極67とを接続して、アレイ基板86を
得る。
基板90上に、スパッタ法により例えばITOからなる
透明性電極である対向電極91を形成することにより、
対向基板92を得る。
と、対向基板92の対向電極91側の全面に低温キュア
型のポリイミドからなる配向膜87、93を印刷塗布
し、両基板の対向時に液晶の配向軸が90°となるよう
にラビング処理を施す。その後、両基板間が所定のギャ
ップとなるようにスペーサ94を介して対向配置し、周
囲を図示しないシール材で封止してセル化する。そし
て、セルの隙間にネマティック液晶100を注入し、注
入口を封止する。そして、両基板の外側に図示しない配
向板を貼り付けて液晶表示装置を得る。
用いた反射電極としたが、透明電極を用いた透過電極と
した場合でも、同様の効果を得ることができる。
の上側に配置しているが、画素下部に配置した場合でも
同様の効果を得ることができる。
をアレイ基板上に配置した場合について説明したが、有
機絶縁膜を用いた場合においても同様の効果を得ること
ができる。
ポリシリコン層を用いたアクティブマトリクス型液晶表
示装置について説明したが、半導体層として例えばアモ
ルファスシリコン層などの他の半導体層を用いたアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置についても同様の効果を
得ることができる。
平面表示装置によれば、デジタルメモリの電源電圧降下
の影響によりメモリの誤動作を起こすことがないので、
常に安定した表示画像を得ることができる。また、デジ
タルメモリの電源配線を低抵抗にするために基板上での
配線幅を広くする必要がないので、画素ピッチや額縁サ
イズが大きくなることがなく、高精細化と狭額縁化も実
現することができる。
表示装置の回路構成図。
液晶表示装置の回路構成図。
画素電極、14…第1のスイッチ素子、15…対向電
極、17…第2のスイッチ素子、18…ディジタルメモ
リ、19(a,b)…メモリ制御信号線、23,24…
インバータ回路、25…第3のスイッチ素子、29…補
助容量線、31,32…電源配線、100…液晶表示装
置、110…表示画素部、119(a,b)…抵抗素
子、120…走査線駆動回路、130…信号線駆動回路
Claims (10)
- 【請求項1】 互いに交差して配置された複数の走査線
及び複数の信号線、これら両線の各交差部に配置された
画素電極、前記画素電極と電気的に並列に接続された補
助容量、前記補助容量に所定の電圧を供給する補助容量
線、前記走査線から供給される走査信号によりオン/オ
フ制御され、オン時に前記信号線に供給された映像信号
を前記画素電極に書き込む第1のスイッチ素子、前記画
素電極と電気的に接続され、前記信号線に供給された映
像信号を保持可能なディジタルメモリ、前記画素電極と
前記ディジタルメモリとの間に挿入され、前記画素電極
と前記ディジタルメモリ間の導通を制御する第2のスイ
ッチ素子、前記第2のスイッチ素子にオン/オフ制御の
ためのメモリ制御信号を供給するメモリ制御信号線を含
む第1の電極基板と、前記画素電極に対し所定間隔をも
って対向配置された対向電極を含む第2の電極基板と、
前記第1の電極基板と第2の電極基板との間に狭持され
た光変調層とを備え、 前記第2のスイッチ素子とメモリ制御信号線との間に、
前記メモリ制御信号線に供給されるメモリ制御信号の電
位の立ち上がりを制御する電位制御手段を接続したこと
を特徴とする平面表示装置。 - 【請求項2】 前記電位制御手段は抵抗素子により構成
され、かつ前記抵抗素子の抵抗値は前記メモリ制御信号
線の電位の立ち上がりが前記デジタルメモリの電源配線
の電位の立ち上がりも遅くなるように設定されているこ
とを特徴とする請求項1に記載の平面表示装置。 - 【請求項3】 前記画素電極と前記信号線とは前記第1
のスイッチ素子を介して接続され、前記画素電極と前記
ディジタルメモリとは前記第2のスイッチ素子を介して
接続されることを特徴とする請求項1又は2に記載の平
面表示装置。 - 【請求項4】 前記第2のスイッチ素子は2つ存在し、
それぞれが独立したメモリ制御信号線に接続されること
を特徴とする請求項3に記載の平面表示装置。 - 【請求項5】 前記ディジタルメモリは、2つのインバ
ータ回路と第3のスイッチ素子で構成されることを特徴
とする請求項1乃至3に記載の平面表示装置。 - 【請求項6】 前記第3のスイッチ素子は前記走査線に
接続されることを特徴とする請求項5に記載の平面表示
装置。 - 【請求項7】 前記第1のスイッチ素子と前記第3のス
イッチ素子は、相補型のMOSトランジスタで構成され
ることを特徴とする請求項6に記載の平面表示装置。 - 【請求項8】 前記画素電極は金属薄膜で構成された光
反射型の画素電極であることを特徴とする請求項1に記
載の平面表示装置。 - 【請求項9】 前記光変調層は液晶層であることを特徴
とする請求項1に記載の平面表示装置。 - 【請求項10】 通常表示期間では、前記第2のスイッ
チ素子により前記画素電極と前記ディジタルメモリ間の
導通をオフし、かつ前記第1のスイッチ素子を所定周期
でオンして、前記信号線に供給された映像信号を前記画
素電極に書き込み、 静止画表示期間では、前記第2のスイッチ素子をオン
し、前記信号線に供給された映像信号を前記ディジタル
メモリに保持させた後、前記第1のスイッチ素子により
前記信号線と前記画素電極間の導通をオフして、前記デ
ィジタルメモリに保持された映像信号を前記画素電極に
書き込むことを特徴とする請求項1に記載の平面表示装
置。
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