JP2002107939A - 回路基板の露光方法 - Google Patents
回路基板の露光方法Info
- Publication number
- JP2002107939A JP2002107939A JP2000293964A JP2000293964A JP2002107939A JP 2002107939 A JP2002107939 A JP 2002107939A JP 2000293964 A JP2000293964 A JP 2000293964A JP 2000293964 A JP2000293964 A JP 2000293964A JP 2002107939 A JP2002107939 A JP 2002107939A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- circuit board
- film
- proximity
- photomask
- Prior art date
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- Pending
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】密着式露光機を用いて実質的にプロキシミティ
ー露光を行うことの可能な回路基板の露光方法を提供す
る。 【解決手段】フォトマスク1の下面に予めフィルム2を
形成して密着式露光機を用いて実質的にプロキシミティ
ー露光を行う。
ー露光を行うことの可能な回路基板の露光方法を提供す
る。 【解決手段】フォトマスク1の下面に予めフィルム2を
形成して密着式露光機を用いて実質的にプロキシミティ
ー露光を行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、密着式露光機を用
いて実質的にプロキシミティー露光を行うことの可能な
回路基板の露光方法に関する。
いて実質的にプロキシミティー露光を行うことの可能な
回路基板の露光方法に関する。
【0002】
【従来の技術及びその問題点】従来、回路基板の露光時
に通常の密着式露光機を用いてプロキシミティー露光は
行うことができず、プロキシミティー露光を行うには、
フォトマスクと基板に形成した感光性材料との間に形成
する数μm〜数十μmのギャップを制御する為の機械制
御系を有する露光機が必要であるのでコストがかかるこ
とが問題であった。
に通常の密着式露光機を用いてプロキシミティー露光は
行うことができず、プロキシミティー露光を行うには、
フォトマスクと基板に形成した感光性材料との間に形成
する数μm〜数十μmのギャップを制御する為の機械制
御系を有する露光機が必要であるのでコストがかかるこ
とが問題であった。
【0003】特に、基板がフレキシブル基板の場合に
は、露光機のチャック上で基板の反りやうねりによって
プロキシミティー露光が可能な露光機を用いてもプロキ
シミティーギャップを面内で均一に保持することは困難
な場合があった。
は、露光機のチャック上で基板の反りやうねりによって
プロキシミティー露光が可能な露光機を用いてもプロキ
シミティーギャップを面内で均一に保持することは困難
な場合があった。
【0004】そこで、本発明は、密着式露光機を用いて
実質的にプロキシミティー露光を行うことの可能な回路
基板の露光方法を提供するものである。
実質的にプロキシミティー露光を行うことの可能な回路
基板の露光方法を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】その為に本発明の回路基
板の露光方法は、回路基板を製作する場合の露光工程に
於いて、フォトマスクの下面に塗布又はラミネート等で
予めフィルムを形成して密着式露光機を用いて実質的に
プロキシミティー露光を行うものである。
板の露光方法は、回路基板を製作する場合の露光工程に
於いて、フォトマスクの下面に塗布又はラミネート等で
予めフィルムを形成して密着式露光機を用いて実質的に
プロキシミティー露光を行うものである。
【0006】ここで、プロキシミティーギャップの変更
は前記フィルムの厚さを変更して行うことが可能であ
る。
は前記フィルムの厚さを変更して行うことが可能であ
る。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、図示の実施例を参照しなが
ら本発明を更に詳述する。図1は本発明による回路基板
の露光方法を説明する図である。図に於いて、1は回路
基板の露光に必要なフォトマスクであり、このフォトマ
スク1の下面には例えば透明なフィルム2を塗布又はラ
ミネート等の手段で形成してある。
ら本発明を更に詳述する。図1は本発明による回路基板
の露光方法を説明する図である。図に於いて、1は回路
基板の露光に必要なフォトマスクであり、このフォトマ
スク1の下面には例えば透明なフィルム2を塗布又はラ
ミネート等の手段で形成してある。
【0008】フィルム2の厚さは数μm〜数十μmのも
のに形成し、このフィルム2の厚さがプロキシミティー
ギャップに相当するので、プロキシミティーギャップを
変更するにはフィルム2の厚さを変更することにより簡
便に行える。
のに形成し、このフィルム2の厚さがプロキシミティー
ギャップに相当するので、プロキシミティーギャップを
変更するにはフィルム2の厚さを変更することにより簡
便に行える。
【0009】上記のようなフィルム2を有するフォトマ
スク1を用いると、露光機5の上面に配置した基板4の
感光性材料3に図の如くフォトマスク1のフィルム2を
密着させて密着式露光処理しても、フィルム2がプロキ
シミティーギャップを形成するので、実質的に簡単且つ
確実にプロキシミティー露光を行うことができる。
スク1を用いると、露光機5の上面に配置した基板4の
感光性材料3に図の如くフォトマスク1のフィルム2を
密着させて密着式露光処理しても、フィルム2がプロキ
シミティーギャップを形成するので、実質的に簡単且つ
確実にプロキシミティー露光を行うことができる。
【0010】
【発明の効果】本発明による回路基板の露光方法では、
フォトマスクの下面に予めフィルムを形成してあるので
密着式露光機を用いて実質的に簡単且つ確実にプロキシ
ミティー露光を行うことができ、その場合、プロキシミ
ティーギャップの変更はフィルムの厚さを変更すること
により容易に行える。
フォトマスクの下面に予めフィルムを形成してあるので
密着式露光機を用いて実質的に簡単且つ確実にプロキシ
ミティー露光を行うことができ、その場合、プロキシミ
ティーギャップの変更はフィルムの厚さを変更すること
により容易に行える。
【0011】そして、そのプロキシミティーギャップの
再現性及び面内分布も良好であり、反りやうねりの生じ
易いフレキシブル基板にも好適に採用することができ
る。
再現性及び面内分布も良好であり、反りやうねりの生じ
易いフレキシブル基板にも好適に採用することができ
る。
【0012】また、感光性材料が露光時に酸素雰囲気を
嫌うか或いは密着露光時にフォトマスクに対してスティ
ッキングを起こす場合にも好適に対応できる。
嫌うか或いは密着露光時にフォトマスクに対してスティ
ッキングを起こす場合にも好適に対応できる。
【図1】本発明による回路基板の露光方法を説明する
図。
図。
1 フォトマスク 2 フィルム 3 感光性材料 4 基板 5 露光機のチャック
Claims (2)
- 【請求項1】回路基板を製作する場合の露光工程に於い
て、フォトマスクの下面に予めフィルムを形成して密着
式露光機を用いて実質的にプロキシミティー露光を行う
ことを特徴とする回路基板の露光方法。 - 【請求項2】プロキシミティーギャップの変更は前記フ
ィルムの厚さを変更して行う請求項1の回路基板の露光
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000293964A JP2002107939A (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 回路基板の露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000293964A JP2002107939A (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 回路基板の露光方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002107939A true JP2002107939A (ja) | 2002-04-10 |
Family
ID=18776665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000293964A Pending JP2002107939A (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 回路基板の露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002107939A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011028122A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
JP2011119594A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Nsk Ltd | 近接露光装置及び近接露光方法 |
JP2011123461A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-23 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
KR101772225B1 (ko) | 2009-07-28 | 2017-08-28 | 가부시키가이샤 브이 테크놀로지 | 노광 장치 및 노광 방법 |
-
2000
- 2000-09-27 JP JP2000293964A patent/JP2002107939A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011028122A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
KR101772225B1 (ko) | 2009-07-28 | 2017-08-28 | 가부시키가이샤 브이 테크놀로지 | 노광 장치 및 노광 방법 |
JP2011123461A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-23 | Nsk Ltd | 露光装置及び露光方法 |
JP2011119594A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Nsk Ltd | 近接露光装置及び近接露光方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060308 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080812 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081209 |