JP2002098832A

JP2002098832A - 光学補償シート、偏光板およびそれを用いた液晶表示装置

Info

Publication number: JP2002098832A
Application number: JP2000287403A
Authority: JP
Inventors: Masataka Ogawa; 雅隆小川
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-09-21
Filing date: 2000-09-21
Publication date: 2002-04-05

Abstract

(57)【要約】【課題】一枚のセルロースアセテートフイルムからな
る光学補償シートを用いて優れた表示品位の液晶表示装
置を実現する。【解決手段】酢化度が５９．０乃至６１．５％の範囲
にあるセルロースアセテートを含む一枚のセルロースア
セテートフイルムからなり、セルロースアセテートフイ
ルムの、Ｒｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍ
の範囲にあり、Ｒthレターデーション値が７０乃至４０
０ｎｍの範囲にあり、そして鹸化処理前後のＲｅレター
デーション値の変化が３ｎｍ以下である光学補償シート
を液晶表示装置に利用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、セルロースアセテ
ートからなる光学補償シートおよびそれを用いた偏光板
と液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】セルロースアセテートフイルムは、その
強靭性と難燃性から各種の写真材料や光学材料に用いら
れている。セルロースアセテートフイルムは、代表的な
写真感光材料の支持体である。また、セルロースアセテ
ートフイルムは、液晶表示装置にも用いられている。セ
ルロースアセテートフイルムには、他のポリマーフイル
ムと比較して、光学的等方性が高い（レターデーション
値が低い）との特徴がある。従って、光学的等方性が要
求される用途、例えば偏光板には、セルロースアセテー
トフイルムを用いることが普通である。液晶表示装置の
光学補償シート（位相差フイルム）には、逆に光学的異
方性（高いレターデーション値）が要求される。従っ
て、光学補償シートとしては、ポリカーボネートフイル
ムやポリスルホンフイルムのようなレターデーション値
が高い合成ポリマーフイルムを用いることが普通であ
る。

【０００３】以上のように光学材料の技術分野では、ポ
リマーフイルムに光学的異方性（高いレターデーション
値）が要求される場合には合成ポリマーフイルムを使用
し、光学的等方性（低いレターデーション値）が要求さ
れる場合にはセルロースアセテートフイルムを使用する
ことが一般的な原則であった。欧州特許０９１１６５６
Ａ２号明細書には、従来の一般的な原則を覆して、光学
的異方性が要求される用途にも使用できる高いレターデ
ーション値を有するセルロースアセテートフイルムが開
示されている。このセルロースアセテートフイルムを偏
光板と液晶セルの間に挿入することにより表示品位の高
い液晶表示装置の得られることが記載されている。

【０００４】また、光学補償シートを応用したλ／４板
は、反射防止膜や液晶表示装置に関連する多くの用途を
有している。しかし、λ／４板と称していても、ある特
定波長でλ／４を達成しているものが大部分であった。
特開平５−２７１１８号および同５−２７１１９号の各
公報には、レターデーションが大きい複屈折フイルム
と、レターデーションが小さい複屈折率フイルムとを、
それらの光軸が直交するように積層させたλ／４板が開
示されている。二枚のフイルムのレターデーションの差
が可視光域の全体にわたりλ／４であれば、理論的に
は、可視光域の全体にわたりλ／４板として機能する。

【０００５】特開平１０−６８８１６号公報に、特定波
長においてλ／４となっているポリマーフイルムと、そ
れと同一素材からなり同じ波長においてλ／２となって
いるポリマーフイルムとを積層させて、広い波長領域で
λ／４が得られるλ／４板が開示されている。特開平１
０−９０５２１号公報にも、二枚のポリマーフイルムを
積層することにより広い波長領域でλ／４を達成できる
λ／４板が開示されている。以上のポリマーフイルムと
しては、ポリカーボネートのような合成ポリマーの延伸
フイルムが使用されていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前記の光学補償シート
を用いれば、ある程度液晶セルを光学的に補償可能であ
るが、さらに表示品位を改善する余地がある。また、光
学補償シートを応用した従来のλ／４においては、二枚
のポリマーフイルムを積層することにより、広い領域で
λ／４を達成することができる。しかし、そのために
は、二枚のポリマーフイルムの角度を厳密に調整しなが
ら積層する必要がある。一枚のポリマーフイルムからな
るλ／４板も提案されている。しかし、広い波長領域で
λ／４が達成されている一枚のフイルムは、ほとんど存
在しない。さらに、一枚のポリマーフイルムからなるλ
／４板を液晶表示装置に組み込んで使用しても、液晶表
示装置の視野角が期待されるほどには改善されないこと
も判明した。

【０００７】液晶表示装置に用いられる偏光板は、偏光
膜の両側に透明保護膜が設けられている。そして、前記
の光学補償シートと偏光膜を積層して偏光板とすれば、
光学補償シートを偏光膜の一方の透明保護膜として機能
させることができる。そのような偏光板は、透明保護
膜、偏光膜、光学補償シートの順序の層構成を有する。
液晶表示装置は薄型で軽量との特徴があり、構成要素の
一つ（偏光板の一方の保護膜）を兼用によって削減すれ
ば、装置をさらに薄く軽量にすることができる。また、
液晶表示装置の構成要素を一つ削減すれば、構成要素の
貼り合わせ工程も一つ削減され、装置を製造する際に故
障が生じる可能性が低くなる。

【０００８】透明保護膜としてセルロースアセテートフ
イルムを用いた場合、偏光膜（通常はポリビニルアルコ
ールフイルム）との親和性が問題になる。ポリビニルア
ルコールフイルムとセルロースアセテートフイルムとの
双方を強力に接着できる適当な接着剤がない。特開平８
−９４８３８号公報記載の発明は、透明保護膜を鹸化処
理することにより、偏光膜と透明支持体との親和性の問
題を解決している。透明保護膜を鹸化処理すると、表面
部分のセルロースアセテートのエステル結合が部分的に
加水分解され、セルロースが本来有していた水酸基に戻
る。セルロースとポリビニルアルコールとは、共に水酸
基を有するポリマーであって親和性が高い。そのため、
鹸化処理した透明保護膜と偏光膜とは、容易に接着する
ことができる。

【０００９】ところが、鹸化処理を実施して製造した、
透明保護膜、偏光膜、そしてセルロースアセテートフイ
ルムからなる光学補償シートを積層した偏光板を調べた
ところ、光学補償シートの光学的機能が鹸化処理前より
も低下していることが判明した。また、鹸化処理に使用
するアルカリ液が、処理後に黄色に変色する問題も生じ
た。本発明の目的は、一枚のセルロースアセテートから
なり、鹸化処理前後で光学的機能が実質的に変動のない
光学補償シート、およびこれを用いた偏光板を提供する
ことである。また、本発明の目的は、一枚のセルロース
アセテートからなり、鹸化前後で光学的機能が実質的に
変動のない光学補償シートを用いて、優れた表示品位を
有する液晶表示装置を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者の鋭意研究によ
り、上記の問題は、セルロースアセテートフイルムの光
学特性を調節するために添加するレターデーション上昇
剤が、鹸化処理に用いるアルカリ液に溶出することが原
因で生じることが判明した。本発明の目的は、下記
（１）〜（６）の光学補償シート、下記（７）の偏光板
および下記（８）〜（１０）の液晶表示装置により達成
された。（１）酢化度が５９．０乃至６１．５％の範囲にあるセ
ルロースアセテートを含む一枚のセルロースアセテート
フイルムからなり、セルロースアセテートフイルムの、
下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーション値
が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下記式（II）によ
り定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００
ｎｍの範囲にあり、そして鹸化処理前後のＲｅレターデ
ーション値の変化が３ｎｍ以下であることを特徴とする
光学補償シート。（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである。

【００１１】（２）前記のセルロースアセテートフイル
ムが、液温が２５乃至７０℃の範囲にあるｐＨ１０以上
のアルカリ水溶液に１乃至３００秒浸漬することによ
り、鹸化処理がされていることを特徴とする（１）に記
載の光学補償シート。（３）前記のセルロースアセテートフイルムが、少なく
とも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を含むことを
特徴とする（１）に記載の光学補償シート。（４）前記のセルロースアセテート１００質量部に対し
て、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を
０．０１乃至２０質量部含むことを特徴とする（３）に
記載の光学補償シート。（５）前記の芳香族化合物が、少なくとも１つの１，
３，５−トリアジン環を有することを特徴とする（３）
に記載の光学補償シート。（６）セルロースアセテートフイルムの鹸化処理におけ
る芳香族化合物の溶出量が、０．３％未満であることを
特徴とする（３）に記載の光学補償シート。

【００１２】（７）偏光膜およびその両側に配置された
二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜
の一方が、酢化度が５９．０乃至６１．５％の範囲にあ
るセルロースアセテートを含む一枚のセルロースアセテ
ートフイルムからなり、セルロースアセテートフイルム
の、下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーショ
ン値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下記式（II）
により定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４
００ｎｍの範囲にあり、そして鹸化処理前後のＲｅレタ
ーデーション値の変化が３ｎｍ以下であることを特徴と
する偏光板。（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである。

【００１３】（８）液晶セルおよびその両側に配置され
た二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両
側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置
であって、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚の
透明保護膜の一方が、酢化度が５９．０乃至６１．５％
の範囲にあるセルロースアセテートを含む一枚のセルロ
ースアセテートフイルムからなり、セルロースアセテー
トフイルムの、下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレタ
ーデーション値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下
記式（II）により定義されるＲthレターデーション値が
７０乃至４００ｎｍの範囲にあり、そして鹸化処理前後
のＲｅレターデーション値の変化が３ｎｍ以下であるこ
とを特徴とする液晶表示装置。（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである。（９）液晶セルがＶＡモード、ＴＮモード、またはｎ-
ＡＳＭモードの液晶セルである（８）に記載の液晶表示
装置。

【００１４】（１０）反射板、液晶セルおよび偏光膜が
この順に積層されている反射型液晶表示装置であって、
反射板と偏光膜との間に、酢化度が５９．０乃至６１．
５％の範囲にあるセルロースアセテートを含む一枚のセ
ルロースアセテートフイルムからなり、セルロースアセ
テートフイルムの、下記式（Ｉ）により定義されるＲｅ
レターデーション値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあ
り、下記式（II）により定義されるＲthレターデーショ
ン値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあり、そして鹸化処
理前後のＲｅレターデーション値の変化が３ｎｍ以下で
あることを特徴とする反射型液晶表示装置。（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であ
り；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである。

【００１５】なお本明細書中、特に指定がない場合は、
Ｒｅレターデーション値およびＲthレターデーション値
は、波長５５０ｎｍにおける測定値を意味する。

【００１６】

【発明の効果】本発明者は、セルロースアセテートフイ
ルムへの添加剤（具体的には、二つの芳香族環を有する
芳香族化合物）の種類と量あるいは製造条件（例えば、
フイルムの延伸条件）を調節することによって、Ｒｅレ
ターデーション値が２０乃至２００の範囲にあり、Ｒth
レターデーション値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあ
り、鹸化処理前後で光学特性が実質的に変動せず、そし
て鹸化処理に用いるアルカリ処理液の着色が小さい光学
補償シートを製造することに成功した。このセルロース
アセテートフイルムは、液晶セルを光学的に補償するた
めに充分な光学的異方性を有している。従って、一枚の
セルロースアセテートフイルムのみからなる光学補償シ
ートが得られる。偏光板の保護膜は、一般にセルロース
アセテートフイルムからなる。上記のセルロースアセテ
ートフイルムを偏光板の一方の保護膜として用いると、
偏光板の構成要素の数を増加することなく、偏光板に光
学補償機能を追加することができる。なお、酢化度が５
９．０％未満のセルロースアセテートフイルムを使用す
ると、上記の光学的異方性を容易に達成できるが、セル
ロースアセテートフイルムとしての物性が低下する。本
発明では、酢化度が５９．０乃至６１．５％の範囲にあ
るセルロースアセテートを使用し、他の手段（上記の添
加剤や製造条件の調節）で上記のレターデーション値を
達成することにより、光学的異方性と物性との双方が優
れたセルロースアセテートフイルムを得ている。さら
に、この光学補償シートを液晶表示装置に取り付けて使
用したところ、視野角とコントラストが著しく改善され
た。

【００１７】

【発明の実施の形態】［フイルムのレターデーション］
フイルムのＲｅレターデーション値およびＲthレターデ
ーション値は、それぞれ、下記式（Ｉ）および（II）で
定義される。（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ式（Ｉ）および（II）において、ｎｘは、フイルム面内
の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率であ
る。式（Ｉ）および（II）において、ｎｙは、フイルム
面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率
である。式（II）において、ｎｚは、フイルムの厚み方
向の屈折率である。式（Ｉ）および（II）において、ｄ
は、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。

【００１８】本発明では、セルロースアセテートフイル
ムのＲｅレターデーション値を２０乃至２００ｎｍの範
囲に、そして、Ｒｔｈレターデーション値を７０乃至４
００ｎｍの範囲に調節する。液晶表示装置に二枚の光学
的異方性セルロースアセテートフイルムを使用する場
合、フイルムのＲｔｈレターデーション値は７０乃至２
００ｎｍの範囲にあることが好ましい。液晶表示装置に
一枚の光学的異方性セルロースアセテートフイルムを使
用する場合、フイルムのＲｔｈレターデーション値は１
５０乃至４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。光学
補償シートをλ／４板として使用する場合は、波長４５
０ｎｍで測定したＲｅレターデーション値（Ｒｅ４５
０）が１００乃至１２５ｎｍであり、かつ波長５９０ｎ
ｍで測定したＲｅレターデーション値（Ｒｅ５９０）が
１２０乃至１６０ｎｍであり、そして、Ｒｅ５９０−Ｒ
ｅ４５０≧２ｎｍの関係を満足よう調整する。Ｒｅ５９
０−Ｒｅ４５０≧５ｎｍであることがさらに好ましく、
Ｒｅ５９０−Ｒｅ４５０≧１０ｎｍであることが最も好
ましい。

【００１９】［セルロースアセテート］本発明では、酢
化度が５９．０乃至６１．５％の範囲にあるセルロース
アセテートを使用する。酢化度とは、セルロース単位質
量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴ
Ｍ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験
法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。セ
ルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０
以上であることが好ましく、２９０以上であることがさ
らに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエス
テルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによ
るＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分
子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭ
ｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７であることが
好ましく、１．３乃至１．６５であることがさらに好ま
しく、１．４乃至１．６であることが最も好ましい。

【００２０】［レターデーション上昇剤］セルロースア
セテートフイルムのレターデーションを調整するため、
少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレタ
ーデーション上昇剤として使用する。芳香族化合物は、
セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１
乃至２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セ
ルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５乃
至１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１
乃至１０質量部の範囲で使用することがさらに好まし
い。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香
族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、
芳香族性ヘテロ環を含む。

【００２１】芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、
ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ
環は、５員環、６員環または７員環であることが好まし
く、５員環または６員環であることがさらに好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。
ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原
子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、
オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、
イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フ
ラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピ
リダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，
５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベン
ゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサ
ゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾー
ル環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および
１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環およ
び１，３，５−トリアジン環がさらに好ましい。芳香族
化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環
を有することが特に好ましい。

【００２２】芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２
乃至２０であることが好ましく、２乃至１２であること
がより好ましく、２乃至８であることがさらに好まし
く、２乃至６であることが最も好ましい。二つの芳香族
環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）
単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合
する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は
形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれ
でもよい。

【００２３】（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮
合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ナフタセン環、ピレン環、イン
ドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾ
チオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール
環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベン
ゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメ
ン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キ
ナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジ
ン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、
フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フ
ェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン
環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、ア
ズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベン
ゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリア
ゾール環およびキノリン環が好ましい。（ｂ）の単結合
は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好
ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、
二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環
を形成してもよい。

【００２４】（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ
−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。ｃ１：−ＣＯ−Ｏ− ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ− ｃ３：−アルキレン−Ｏ− ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ− ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ− ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ− ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ− ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン− ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ− ｃ１０：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ− ｃ１１：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−Ｃ
Ｏ−アルキレン− ｃ１２：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ
−ＣＯ−アルキレン−Ｏ− ｃ１３：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ− ｃ１４：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン− ｃ１５：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−

【００２５】芳香族環および連結基は、置換基を有して
いてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シア
ノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファ
モイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アル
コキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル
基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族
置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換
スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香
族性複素環基が含まれる。

【００２６】アルキル基の炭素原子数は、１乃至８であ
ることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル
基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。
アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボ
キシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有して
いてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例
には、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２
−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メト
キシエチルおよび２−ジエチルアミノエチルが含まれ
る。アルケニル基の炭素原子数は、２乃至８であること
が好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基
の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。
アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。ア
ルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび１−ヘキセ
ニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、２乃至
８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖
状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が
特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、１−ブ
チニルおよび１−ヘキシニルが含まれる。

【００２７】脂肪族アシル基の炭素原子数は、１乃至１
０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、ア
セチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂
肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１乃至１０である
ことが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセ
トキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、１乃
至８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコ
キシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキ
シ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含ま
れる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２乃至
１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の
例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル
が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子
数は、２乃至１０であることが好ましい。アルコキシカ
ルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ
およびエトキシカルボニルアミノが含まれる。

【００２８】アルキルチオ基の炭素原子数は、１乃至１
２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メ
チルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１乃至８である
ことが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタ
ンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。、脂
肪族アミド基の炭素原子数は、１乃至１０であることが
好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含
まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１乃
至８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の
例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド
およびｎ−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族
置換アミノ基の炭素原子数は、１乃至１０であることが
好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノおよび２−カルボキシエチルアミノ
が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、２乃至１０であることが好ましい。脂肪族置換カル
バモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチ
ルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル
基の炭素原子数は、１乃至８であることが好ましい。脂
肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモ
イルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族
置換ウレイド基の炭素原子数は、２乃至１０であること
が好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウ
レイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペ
リジノおよびモルホリノが含まれる。レターデーション
上昇剤の分子量は、３００乃至８００であることが好ま
しい。

【００２９】［赤外線吸収剤］各波長におけるレターデ
ーション値を調整するため、赤外線吸収剤をポリマーフ
イルムに添加することができる。赤外線吸収剤は、ポリ
マー１００重量部に対して、０．０１乃至５重量部の範
囲で使用することが好ましく、０．０２乃至２重量部の
範囲で使用することがより好ましく、０．０５乃至１重
量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．１乃
至０．５重量部の範囲で使用することが最も好ましい。
二種類以上の赤外線吸収剤を併用してもよい。赤外線吸
収剤は、７５０乃至１１００ｎｍの波長領域に最大吸収
を有することが好ましく、８００乃至１０００ｎｍの波
長領域に最大吸収を有することがさらに好ましい。赤外
線吸収剤は、可視領域に実質的に吸収を有していないこ
とが好ましい。

【００３０】赤外線吸収剤としては、赤外線吸収染料ま
たは赤外線吸収顔料を用いることが好ましく、赤外線吸
収染料を用いることが特に好ましい。赤外線吸収染料に
は、有機化合物と無機化合物が含まれる。有機化合物で
ある赤外線吸収染料を用いることが好ましい。有機赤外
線吸収染料には、シアニン化合物、金属キレート化合
物、アミニウム化合物、ジイモニウム化合物、キノン化
合物、スクアリリウム化合物およびメチン化合物が含ま
れる。赤外線吸収染料については、色材、６１〔４〕２
１５−２２６（１９８８）、および化学工業、４３−５
３（１９８６、５月）に記載がある。

【００３１】赤外線吸収機能あるいは吸収スペクトルの
観点で染料の種類を検討すると、ハロゲン化銀写真感光
材料の技術分野で開発された赤外線吸収染料が優れてい
る。ハロゲン化銀写真感光材料の技術分野で開発された
赤外線吸収染料には、ジヒドロペリミジンスクアリリウ
ム染料（米国特許５３８０６３５号明細書および特願平
８−１８９８１７号明細書記載）、シアニン染料（特開
昭６２−１２３４５４号、同３−１３８６４０号、同３
−２１１５４２号、同３−２２６７３６号、同５−３１
３３０５号、同６−４３５８３号の各公報、特願平７−
２６９０９７号明細書および欧州特許０４３０２４４号
明細書記載）、ピリリウム染料（特開平３−１３８６４
０号、同３−２１１５４２号の各公報記載）、ジイモニ
ウム染料（特開平３−１３８６４０号、同３−２１１５
４２号の各公報記載）、ピラゾロピリドン染料（特開平
２−２８２２４４号記載）、インドアニリン染料（特開
平５−３２３５００号、同５−３２３５０１号の各公報
記載）、ポリメチン染料（特開平３−２６７６５号、同
４−１９０３４３号の各公報および欧州特許３７７９６
１号明細書記載）、オキソノール染料（特開平３−９３
４６号明細書記載）、アントラキノン染料（特開平４−
１３６５４号明細書記載）、ナフタロシアニン色素（米
国特許５００９９８９号明細書記載）およびナフトラク
タム染料（欧州特許５６８２６７号明細書記載）が含ま
れる。

【００３２】［セルロースアセテートフイルムの製造］
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイ
ルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法
では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液
（ドープ）を用いてフイルムを製造する。有機溶媒は、
炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃
至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルお
よび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選
ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンお
よびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテ
ル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ
−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上
有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を
有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶
媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有す
る化合物の規定範囲内であればよい。

【００３３】炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が３乃至１２のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３乃至
１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノー
ルおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン
化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好
ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化
水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲ
ン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている
割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３
０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至
６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０
モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリド
が、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以上の
有機溶媒を混合して用いてもよい。

【００３４】一般的な方法でセルロースアセテート溶液
を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常
温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調
製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調
製方法および装置を用いて実施することができる。な
お、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化
炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ま
しい。セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に
１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する
任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温
（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒と
を撹拌することにより調製することができる。高濃度の
溶液は、加圧および加熱条件下で撹拌してもよい。具体
的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器
に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以
上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪
拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好まし
くは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃
至１１０℃である。

【００３５】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は撹拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に撹拌翼を設けて、こ
れを用いて撹拌することが好ましい。撹拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。撹拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

【００３６】冷却溶解法により、溶液を調製することも
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを
溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセル
ロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶
解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果があ
る。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロ
ースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロ
ースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質
量％含まれるように調整することが好ましい。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の
添加剤を添加しておいてもよい。

【００３７】次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好
ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０
乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液
（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は
固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ま
しく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２
℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速
いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限で
あり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１
００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、
冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷
却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間
で割った値である。

【００３８】さらに、これを０乃至２００℃（好ましく
は０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、
最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒
中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中
に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加
温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／
分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上で
あることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好まし
いが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１００
０℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が
実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始す
る時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始して
から最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値で
ある。以上のようにして、均一な溶液が得られる。な
お、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り
返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視によ
り溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

【００３９】冷却溶解法においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量
％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３
３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス１０℃程度の温度で保存する必要がある。た
だし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの
酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒
により異なる。

【００４０】調製したセルロースアセテート溶液（ドー
プ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセ
テートフイルムを製造する。ドープは、ドラムまたはバ
ンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成す
る。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％とな
るように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたは
バンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好まし
い。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法
については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６
０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同
２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０
６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１
号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５
４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４
号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号
の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が１０℃以
下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好まし
い。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取
り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高
温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以
上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載があ
る。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を
短縮することが可能である。この方法を実施するために
は、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてド
ープがゲル化することが必要である。

【００４１】セルロースアセテートフイルムには、機械
的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣ
Ｐ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭ
Ｐ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレ
ート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジ
フェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシル
フタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステル
の例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴ
Ｅ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴ
Ｂ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥ
Ｐ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用
いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５
質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％である
ことがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが
最も好ましい。

【００４２】セルロースアセテートフイルムには、劣化
防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁
止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加して
もよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０
１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９
号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各
公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶
液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ま
しく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好
ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防
止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％
を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードア
ウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好まし
い劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げる
ことができる。

【００４３】セルロースアセテートフイルムは、さらに
延伸処理によりレターデーションをを調整することがで
きる。延伸倍率は、３乃至１００％であることが好まし
い。セルロースアセテートフイルムの厚さは、４０乃至
１４０μｍであることが好ましく、７０乃至１２０μｍ
であることがさらに好ましい。

【００４４】［鹸化処理工程］セルロースエステルフイ
ルムをアルカリ水溶液に浸漬することにより鹸化処理を
実施する。アルカリは、水酸化ナトリウムまたは水酸化
カリウムのようなアルカリ金属の水酸化物であることが
好ましい。水溶液のｐＨは、１０以上であることが好ま
しい。アルカリ処理は、アルカリ水溶液に、少なくとも
セルロースアセテートフイルムの偏光膜側の面を浸漬し
て実施することが好ましいが、両面をアルカリ処理して
も良い。浸漬時間は、１ないし３００秒であることが好
ましく、５ないし２４０秒であることがさらに好まし
い。処理温度は、２５ないし７０℃であることが好まし
く、３５ないし６０℃であることがさらに好ましい。浸
漬終了後、セルロースアセテートフイルムを水で洗浄す
ることが好ましい。

【００４５】［偏光板］偏光板は、偏光膜およびその両
側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護
膜として、上記のセルロースアセテートフイルムを用い
る。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフイ
ルムを用いてもよい。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二
色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜があ
る。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリ
ビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。セルロ
ースアセテートフイルムの遅相軸と偏光膜の透過軸と
は、実質的に平行になるように配置する。特にセルロー
スアセテートフイルムをλ／４板として使用する場合
は、λ／４板の面内の遅相軸と偏光膜の透過軸との角度
が実質的に４５゜になるように配置する。実質的に４５
゜とは、４０乃至５０゜であることを意味する。λ／４
板の面内の遅相軸と偏光膜の透過軸との角度は、４１乃
至４９゜であることが好ましく、４２乃至４８゜である
ことがより好ましく、４３乃至４７゜であることがさら
に好ましく、４４乃至４６゜であることが最も好まし
い。λ／４板の面内の遅相軸と偏光膜の透過軸との角度
が実質的に４５゜になるように配置することで円偏光板
を形成することができる。

【００４６】［液晶表示装置］上記のセルロースアセテ
ートフイルムからなる光学補償シート、または上記のセ
ルロースアセテートフイルムを用いた偏光板は、液晶表
示装置に用いられる。その液晶表示装置の特徴により、
光学異方性セルロースアセテートフイルムのレターデー
ションは適当な値が決定される。

【００４７】［透過型液晶表示装置］透過型液晶表示装
置に対して光学異方性セルロースアセテートフイルムを
使用することができる。透過型液晶表示装置は、液晶セ
ルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。
液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持してい
る。本発明の光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光
板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方
の偏光板との間に二枚配置する。二枚のセルロースアセ
テートフイルムを使用する場合、フイルムのＲｔｈレタ
ーデーション値は７０乃至２００ｎｍであることが好ま
しい。一枚のセルロースアセテートフイルムを使用する
場合、フイルムのＲｔｈレターデーション値は１５０乃
至４００ｎｍであることが好ましい。本発明の偏光板を
用いる場合は、液晶セルと偏光膜との間に配置される透
明保護膜として、上記のセルロースアセテートフイルム
を用いる。一方の偏光板の（液晶セルと偏光膜との間
の）透明保護膜のみ上記のセルロースアセテートフイル
ムを用いるか、あるいは双方の偏光板の（液晶セルと偏
光膜との間の）二枚の透明保護膜に、上記のセルロース
アセテートフイルムを用いる。液晶セルは、ＶＡモード
またはＴＮモードであることが好ましい。

【００４８】ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時
に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡ
モードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無
印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的
に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開
平２−１７６６２５および特公平７−６９５３６号公報
記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモード
をマルチドメイン化した液晶セルが含まれる。具体的に
は、ＭＶＡ（SID 97、Digest of tech. Papers（予稿
集)28(1997)845、SID 99、Digest of tech. Papers（予
稿集)30(1999)206および特開平１１−２５８６０５号公
報記載）、ＳＵＲＶＡＩＶＡＬ（月刊ディスプレイ、第
６巻、第３号(1999)14記載）、ＰＶＡ（Asia Display9
8、Proc.of the 18^thInter.Display res.Conf.(予稿集)
(1998)383記載）、Ｐａｒａ−Ａ（LCD/PDP Internation
al'99で発表）、ＤＤＶＡ（SID 98、Digest of tech. P
apers（予稿集)29(1998)838記載）、ＥＯＣ（SID 98、D
igest of tech. Papers（予稿集)29(1998)319記載）、
ＰＳＨＡ（SID 98、Digest of tech. Papers（予稿集）
29(1998)1081記載）、ＲＦＦＭＨ（Asia Display98、Pr
oc.of the 18^thInter.Display res.Conf.(予稿集）（１
９９８）３７５記載）、ＨＭＤ（ＳＩＤ９８、Digest o
f tech. Papers（予稿集)29(1998)702記載）が含まれ
る。その他に（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実
質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイ
ン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル
（IWD'98、Proc.of the 5^thInter.Display Workshop.
（予稿集)(1998)143記載）も含まれる。ＴＮモードの液
晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に
水平配向し、さらに６０乃至１２０゜にねじれ配向して
いる。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示
装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載
がある。

【００４９】［反射型液晶表示素子］セルロースアセテ
ートフイルムからなる光学補償シートをλ／４板として
使用する場合、その光学補償シートまたは光学補償シー
トを保護膜として用いた偏光板は、特に反射型液晶表示
素子に有利に用いることができる。図１は、反射型液晶
表示装置の基本的な構成を示す模式図である。図１に示
す反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板（１）、
反射電極（２）、下配向膜（３）、液晶層（４）、上配
向膜（５）、透明電極（６）、上基板（７）、λ／４板
（８）、そして偏光膜（９）からなる。下基板（１）と
反射電極（２）が反射板を構成する。下配向膜（３）〜
上配向膜（５）が液晶セルを構成する。λ／４板（８）
は、反射板と偏光膜（９）との間の任意の位置に配置す
ることができる。カラー表示の場合には、さらにカラー
フィルター層を設ける。カラーフィルター層は、反射電
極（２）と下配向膜（３）との間、または上配向膜
（５）と透明電極（６）との間に設けることが好まし
い。図１に示す反射電極（２）の代わりに透明電極を用
いて、別に反射板を取り付けてもよい。透明電極と組み
合わせて用いる反射板としては、金属板が好ましい。反
射板の表面が平滑であると、正反射成分のみが反射され
て視野角が狭くなる場合がある。そのため、反射板の表
面に凹凸構造（特許２７５６２０号公報記載）を導入す
ることが好ましい。反射板の表面が平坦である場合は
（表面に凹凸構造を導入する代わりに）、偏光膜の片側
（セル側あるいは外側）に光拡散フイルムを取り付けて
もよい。本発明の光学補償シートをλ／４として用いる
場合、図１に示した反射型液晶表示装置のλ／４板
（８）の代わりとすればよい。

【００５０】液晶セルは、ＴＮ（Twisted Nematic ）
型、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）型またはＨＡＮ
（Hybrid Aligned Nematic）型であることが好ましい。
ＴＮ型液晶セルのツイスト角は、４０乃至１００゜であ
ることが好ましく、５０乃至９０゜であることがさらに
好ましく、６０乃至８０゜であることが最も好ましい。
液晶層の屈折率異方性（Δｎ）と液晶層の厚み（ｄ）と
の積（Δｎｄ）の値は、０．１乃至０．５μｍであるこ
とが好ましく、０．２乃至０．４μｍであることがさら
に好ましい。ＳＴＮ型液晶セルのツイスト角は、１８０
乃至３６０゜であることが好ましく、２２０乃至２７０
゜であることがさらに好ましい。液晶層の屈折率異方性
（Δｎ）と液晶層の厚み（ｄ）との積（Δｎｄ）の値
は、０．３乃至１．２μｍであることが好ましく、０．
５乃至１．０μｍであることがさらに好ましい。ＨＡＮ
型液晶セルは、片方の基板上では液晶が実質的に垂直に
配向しており、他方の基板上のプレチルト角が０乃至４
５゜であることが好ましい。液晶層の屈折率異方性（Δ
ｎ）と液晶層の厚み（ｄ）との積（Δｎｄ）の値は、
０．１乃至１．０μｍであることが好ましく、０．３乃
至０．８μｍであることがさらに好ましい。液晶を垂直
配向させる側の基板は、反射板側の基板であってもよい
し、透明電極側の基板であってもよい。

【００５１】偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料
を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ
素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルア
ルコール系フイルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸
は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。反射
型液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表示、高い時
に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電
圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリー
ブラックモードでも用いることができる。ノーマリーホ
ワイトモードの方が好ましい。

【００５２】

【実施例】［実施例１］（光学補償シートの作製）下記の組成物をミキシングタ
ンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解
し、セルロースアセテート溶液を調製した。

【００５３】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度６０．９％のセルロースアセテート１００質量部トリフェニルホスフェート（可塑剤）７．８質量部ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）３．９質量部メチレンクロライド（第１溶媒）３００質量部メタノール（第２溶媒）５４質量部１−ブタノール（第３溶媒）１１質量部 ────────────────────────────────────

【００５４】別のミキシングタンクに、下記のレターデ
ーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質
量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しなが
ら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーシ
ョン上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してド
ープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、
セルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質
量部であった。

【００５５】

【化１】

【００５６】得られたドープを、バンド流延機を用いて
流延した。残留溶剤量が１５質量％のフイルムを、１３
０℃の条件で、テンターを用いて２５％の延伸倍率で横
延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後
クリップを外してセルロースアセテートフイルム（光学
補償シート）を製造した。得られたフイルムの膜厚は８
０μｍあった。作製した光学補償シート（ＴＡＣ−１）
について、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光
（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおけるレターデー
ション値を測定した結果、Ｒｅレターデーション値は４
０ｎｍ、Ｒｔｈレターデーション値は１３０ｎｍであっ
た。

【００５７】（鹸化処理）光学補償シート（ＴＡＣ−
１）を、液温５５℃で規定濃度１．５Ｎの水酸化ナトリ
ウム水溶液（ｐＨ１３）に２分間浸漬して鹸化処理し、
流水で洗浄した後、乾燥した。作製した光学補償シート
について、鹸化処理前後のＲｅレターデーション変化Δ
Ｒｅ（鹸化後のＲｅ−鹸化前のＲｅ）と、溶出したレタ
ーデーション上昇剤濃度（元の含有量に対する溶出量の
比）を測定した。結果は第１表に示す。

【００５８】［実施例２］（光学補償シートの作製）下記の組成のセルロースアセ
テート溶液（ドープ）を調製した。

【００５９】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度５９．７％のセルロースアセテート１１７．８７質量部実施例１のレターデーション上昇剤１．１８質量部トリフェニルホスフェート（可塑剤）９．１９質量部ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）４．６０質量部トリベンジルアミン２．３６質量部メチレンクロライド（第１溶媒）６０９．３７質量部メタノール（第２溶媒）５３．００質量部１−ブタノール（第３溶媒）１１質量部 ────────────────────────────────────

【００６０】得られたドープを、ガラス板上に流延し、
室温で１分間乾燥後、４５℃で５分間乾燥させた。乾燥
後の溶剤残留量は２５質量％であった。セルロースアセ
テートフイルムをガラス板から剥離し、１００℃で１０
分間乾燥した後、１２０℃で２０分間乾燥させた。乾燥
後の残留溶剤量は２．１％であった。乾燥させたフイル
ムを適当な大きさに切断した後、１３０℃で流延方向と
は平行な方向に１．４倍に延伸した。延伸方向と垂直な
方向は、自由に収縮できるようにした。延伸後、そのま
まの状態で室温雰囲気下に取り出し冷却した。得られた
フイルムの膜厚は１０２μｍあった。また、溶剤残留量
は０．１質量％であった。作製した光学補償シート（Ｔ
ＡＣ−２）について、エリプソメーター（Ｍ−１５０、
日本分光（株）製）を用いて波長４５０ｎｍにおけるＲ
ｅレターデーション値は１１６ｎｍであった。また、波
長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定した結
果、Ｒｅレターデーション値は１３７ｎｍ、Ｒｔｈレタ
ーデーション値は１３７ｎｍであった。

【００６１】（鹸化処理）光学補償シート（ＴＡＣ−
２）について、実施例１と同様の鹸化処理を行った。作
製した光学補償シートについて、鹸化処理前後のＲｅレ
ターデーション変化ΔＲｅ（鹸化後のＲｅ−鹸化前のＲ
ｅ）と、溶出したレターデーション上昇剤濃度（元の含
有量に対する溶出量の比）を測定した。結果は第１表に
示す。

【００６２】［比較例１］（透明支持体の作製）下記の成分をミキシングタンクに
投入し、加熱撹拌して、セルロースアセテート溶液を調
製した。 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度６０．９％のセルロースアセテート１００質量部トリフェニルホスフェート７．８質量部ビフェニルジフェニルホスフェート３．９質量部メチレンクロライド３００質量部メタノール５４質量部１−ブタノール１１質量部 ────────────────────────────────────

【００６３】別のミキシングタンクに、下記の成分を投
入し、加熱撹拌して、レターデーション上昇剤溶液を調
製した。 ──────────────────────────────────── レターデーション上昇剤溶液組成 ──────────────────────────────────── ２−ヒドロキシー４−ベンジルオキシベンゾフェノン１２質量部２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン４質量部メチレンクロライド８０質量部メタノール２０質量部 ────────────────────────────────────

【００６４】セルロースアセテート溶液４７４質量部
に、レターデーション上昇剤溶液２２質量部を添加し、
十分に撹拌して、ドープを調製した。セルロースアセテ
ート１００質量部に対するレターデーション上昇剤の量
は３質量部であった。ドープを流延口から０℃に冷却し
たドラム上に流延した。フィルムの溶媒含有率が７０質
量％の状態でドラムから剥ぎ取り、フイルムの幅方向の
両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３乃至５質
量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸
率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処
理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥
し、ガラス転移温度が１２０℃を超える領域で機械方向
の延伸率が実質０％、（剥ぎ取り時に機械方向に４％延
伸することを考慮して）幅方向の延伸率と機械方向の延
伸率との比が０．７５となるように調製して、厚さ１０
７μｍのセルロースアセテートフイルムを作製した。作
製した光学補償シート（ＴＡＣ−３）について、エリプ
ソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて
波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定した
結果、Ｒｅレターデーション値は１１ｎｍ、Ｒｔｈレタ
ーデーション値は８０ｎｍであった。

【００６５】（鹸化処理）光学補償シート（ＴＡＣ−
３）について、実施例１と同様の鹸化処理を行った。作
製した光学補償シートについて、鹸化処理前後のＲｅレ
ターデーション変化ΔＲｅ（鹸化後のＲｅ−鹸化前のＲ
ｅ）と、溶出したレターデーション上昇剤濃度（元の含
有量に対する溶出量の比）を測定した。結果は第１表に
示す。

【００６６】

【表１】第１表 ──────────────────────────────────── ΔＲｅレターデーション上昇剤のフイルム（鹸化後Re−鹸化前Re）溶出量 ──────────────────────────────────── 実施例１ＴＡＣ−１ −２ｎｍ０．１％実施例２ＴＡＣ−２ −１ｎｍ０．１％比較例１ＴＡＣ−３ −４ｎｍ０．７％ ────────────────────────────────────

【００６７】［実施例３］（偏光板の作製）延伸したポリビニルアルコールフイル
ムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実施例１で
作製して鹸化処理した光学補償シートＴＡＣ−１を、ポ
リビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に
貼り付けた。光学補償シートＴＡＣ−１と偏光膜の長手
方向が平行になる様に貼り付け、ＴＡＣ−１の遅相軸の
平均方向と偏光膜の透過軸のなす角度は０°にした。市
販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴ
Ｄ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）をケン化処理
し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の
反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製し
た。

【００６８】［比較例２］（偏光板の作製）実施例１で作製した鹸化処理をしてい
ない光学補償シートＴＡＣ−１を用いた以外は、実施例
３と同様にして偏光板を作製した。

【００６９】（偏光板の耐久性評価）実施例３、比較例
２で作製した偏光板を、アクリル系接着剤を用いてガラ
ス板に貼り付け、高温、加圧下でエイジングした後、９
０℃の恒温槽に入れ、１０００時間放置した。そして、
セルロースアセテートフイルム（光学補償シート）と偏
光膜の剥離の有無、および気泡の発生を目視で調べた。
結果を表２に示す。

【００７０】

【表２】第２表 ──────────────────────────────────── 偏光板剥離の有無気泡の有無 ──────────────────────────────────── 実施例３なしなし比較例２ありあり ────────────────────────────────────

【００７１】（垂直配向型液晶セルへの実装による視野
角評価）垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置
（ＶＬ−１５３０Ｓ、富士通（株）製）に設けられてい
る一対の偏光板および一対の光学補償シートを剥がし、
代わりに実施例３で作製した偏光板を、実施例１で作製
したセルロースアセテートフイルムが液晶セル側となる
ように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側
に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上
下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が
左右方向になるように、クロスニコル配置とした。作製
した液晶表示装置について、測定機（EZ-Contrast160
D、ELDIM社製）を用いて視野角特性を測定した。コント
ラスト１０の視野角領域は、上下方向で１６０°以上、
左右方向で１６０°以上であった。

【００７２】（ＴＮ型液晶セルへの実装による視野角評
価）ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（６Ｅ−Ａ
３、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板
を剥がし、代わりに実施例３で作製した偏光板を、実施
例１で作製したセルロースアセテートフイルムが液晶セ
ル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバッ
クライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の
透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板
の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置と
した。作製した液晶表示装置について、測定機（EZ-Con
trast160D、ELDIM社製）を用いて視野角特性を測定し
た。コントラスト１０、階調反転の無い視野角領域は、
上下方向で４５°、左右方向で１６０°であった。

【００７３】［実施例４］（偏光板の作製）延伸したポリビニルアルコールフイル
ムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実施例２で
作製して鹸化処理をした光学補償シートＴＡＣ−２を、
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側
に貼り付けた。ＴＡＣ−２の遅相軸と偏光膜の透過軸と
の角度は、４５°に調整した。市販のセルローストリア
セテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真
フイルム（株）製）を鹸化処理し、ポリビニルアルコー
ル系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。こ
のようにして偏光板を作製した。得られた偏光板の光学
的性質を調べたところ、いずれも広い波長領域（４５０
〜５９０ｎｍ）において、ほぼ完全な円偏光が達成され
ていた。

【００７４】［比較例３］（偏光板の作製）実施例２で作製して鹸化処理をしてい
ない光学補償シートＴＡＣ−２を用いた以外は、実施例
４と同様にして偏光板を作製した。

【００７５】（偏光板の耐久性評価）実施例４、比較例
３で作製した偏光板を、アクリル系接着剤を用いてガラ
ス板に貼り付け、高温、加圧下でエイジングした後、９
０℃の恒温槽に入れ、１０００時間放置した。そして、
セルロースアセテートフイルム（光学補償シート）と偏
光膜の剥離の有無、および気泡の発生を目視で調べた。
結果を表３に示す。

【００７６】

【表３】第３表 ──────────────────────────────────── 偏光板剥離の有無気泡の有無 ──────────────────────────────────── 実施例４なしなし比較例３ありあり ────────────────────────────────────

【００７７】（反射型液晶液晶パネルへの実装による視
野角評価）実施例４で作製した偏光板を反射型液晶パネ
ルに実装し、測定機（EZ-Contrast160D、ELDIM社製）を
用いて視野角特性を測定した。コントラスト３の視野角
領域は、上下方向１３１°、左右方向１２１°であっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射型液晶表示装置の基本的な構成を示す模式
図である。

【符号の説明】

１下基板２反射電極３下配向膜４液晶層５上配向膜６透明電極７上基板８ λ／４板９偏光膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】酢化度が５９．０乃至６１．５％の範囲
にあるセルロースアセテートを含む一枚のセルロースア
セテートフイルムからなり、セルロースアセテートフイ
ルムの、下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデー
ション値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下記式
（II）により定義されるＲthレターデーション値が７０
乃至４００ｎｍの範囲にあり、そして鹸化処理前後のＲ
ｅレターデーション値の変化が３ｎｍ以下であることを
特徴とする光学補償シート：（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。
【請求項２】前記のセルロースアセテートフイルム
が、液温が２５乃至７０℃の範囲にあるｐＨ１０以上の
アルカリ水溶液に１乃至３００秒浸漬することにより、
鹸化処理がされていることを特徴とする請求項１に記載
の光学補償シート。
【請求項３】前記のセルロースアセテートフイルム
が、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を
含むことを特徴とする請求項１に記載の光学補償シー
ト。
【請求項４】前記のセルロースアセテート１００質量
部に対して、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族
化合物を０．０１乃至２０質量部含むことを特徴とする
請求項３に記載の光学補償シート。
【請求項５】前記の芳香族化合物が、少なくとも１つ
の１，３，５−トリアジン環を有することを特徴とする
請求項３に記載の光学補償シート。
【請求項６】セルロースアセテートフイルムの鹸化処
理における芳香族化合物の溶出量が、０．３％未満であ
ることを特徴とする請求項３に記載の光学補償シート。
【請求項７】偏光膜およびその両側に配置された二枚
の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一
方が、酢化度が５９．０乃至６１．５％の範囲にあるセ
ルロースアセテートを含む一枚のセルロースアセテート
フイルムからなり、セルロースアセテートフイルムの、
下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーション値
が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下記式（II）によ
り定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００
ｎｍの範囲にあり、そして鹸化処理前後のＲｅレターデ
ーション値の変化が３ｎｍ以下であることを特徴とする
偏光板：（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。
【請求項８】液晶セルおよびその両側に配置された二
枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両側に
配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であ
って、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚の透明
保護膜の一方が、酢化度が５９．０乃至６１．５％の範
囲にあるセルロースアセテートを含む一枚のセルロース
アセテートフイルムからなり、セルロースアセテートフ
イルムの、下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデ
ーション値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下記式
（II）により定義されるＲthレターデーション値が７０
乃至４００ｎｍの範囲にあり、そして鹸化処理前後のＲ
ｅレターデーション値の変化が３ｎｍ以下であることを
特徴とする液晶表示装置：（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。
【請求項９】液晶セルがＶＡモード、ＴＮモード、ま
たはｎ-ＡＳＭモードの液晶セルである請求項８に記載
の液晶表示装置。
【請求項１０】反射板、液晶セルおよび偏光膜がこの
順に積層されている反射型液晶表示装置であって、反射
板と偏光膜との間に、酢化度が５９．０乃至６１．５％
の範囲にあるセルロースアセテートを含む一枚のセルロ
ースアセテートフイルムからなり、セルロースアセテー
トフイルムの、下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレタ
ーデーション値が２０乃至２００ｎｍの範囲にあり、下
記式（II）により定義されるＲthレターデーション値が
７０乃至４００ｎｍの範囲にあり、そして鹸化処理前後
のＲｅレターデーション値の変化が３ｎｍ以下であるこ
とを特徴とする反射型液晶表示装置：（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そし
て、ｄは、フイルムの厚さである］。