JP2002093168A5 - - Google Patents

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さらに、本発明の半導体記憶装置は、第1のアドレス信号に応じて第1のバーストレングスを生成する第1の生成回路と、第1のマスク法と第2のマスク法の一方を設定する設定回路と、前記第1の生成回路により生成された第1のバーストレングスと、レジスタに保持された第2のバーストレングスが供給され、前記設定回路により前記第1のマスク法が設定された場合、前記第1のバーストレングスを選択し、第2のマスク法が設定された場合、前記第2のバーストレングスを選択する第1の選択回路と、前記第1の選択回路により選択された第1又は第2のバーストレングスに応じてライトイネーブル信号を生成する第2の生成回路と、外部から供給される信号に従ってデータのマスク位置を示す第1のマスク信号を生成する第3の生成回路と、第2のアドレス信号に応じてデータのマスク位置を示す第2のマスク信号を生成する第4の生成回路と、前記第3、第4の生成回路の出力信号が供給され、前記設定回路により、前記第1のマスク方法が設定されている場合、前記第4の生成回路から供給される前記第2のマスク信号を選択し、前記設定回路により、前記第2のマスク方法が設定されている場合、前記第3の生成回路から供給される前記第1のマスク信号を選択する第2の選択回路と、前記設定回路により、前記第2のマスク方法が設定されている場合、前記第2の選択回路から供給される前記第1のマスク信号に従ってライトパルス信号を生成し、前記設定回路により、前記第1のマスク方法が選択されている場合、前記第2の選択回路から供給される前記第2のマスク信号及び前記第2の生成回路から供給されるライトイネーブル信号に従ってライトパルス信号を生成する第の生成回路とを具備している。
また、本発明の半導体記憶装置は、第1のマスク法と第2のマスク法の一方を設定する設定回路と、前記第1のマスク法に対応した信号を生成する第1の生成回路と、前記第2のマスク法に対応した信号を生成する第2の生成回路と、前記第1、第2の生成回路の出力端に接続され、前記設定回路により前記第1のマスク法が設定された場合、前記第1の生成回路の出力信号に基づいてライトパルス信号を生成し、前記設定回路により第2のマスク方法が選択されている場合、前記第2の生成回路の出力信号に基づいてライトパルス信号を生成する第3の生成回路とを具備している。
(第2の実施形態)
図10、図11は、本発明の第2の実施形態を示している。第2の実施形態は、DM法と、DM法及びVW法とは異なるプログラマブル・データ・マスク(Programmable Data Mask)法(以下PDM法と称す)、及びこのPDM法をVW法に適用したマスク法(Variable Write Burst Length Programmable Data Mask)(以下、VWPDM法と称す)を切替え可能としている。

Claims (6)

  1. アドレス信号に応じて第1のバーストレングスを生成する第1の生成回路と、
    第1のマスク法と第2のマスク法の一方を設定する設定回路と、
    前記第1の生成回路により生成された第1のバーストレングスと、レジスタに保持された第2のバーストレングスが供給され、前記設定回路により前記第1のマスク法が設定された場合、前記第1のバーストレングスを選択し、第2のマスク法が設定された場合、前記第2のバーストレングスを選択する選択回路と、
    前記選択回路により選択された第1又は第2のバーストレングスに応じてライトイネーブル信号を生成する第2の生成回路と、
    外部から供給される信号に従ってデータのマスク位置を示すマスク信号を生成する第3の生成回路と、
    前記設定回路により、前記第2のマスク方法が選択されている場合、前記第3の生成回路から供給されるマスク信号に従ってライトパルス信号を生成し、前記設定回路により、第1のマスク方法が選択されている場合、前記第2の生成回路から供給されるライトイネーブル信号に従ってライトパルス信号を生成する第4の生成回路と
    を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 前記第1の生成回路は、前記アドレス信号をデコードするデコーダであることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 第1のアドレス信号に応じて第1のバーストレングスを生成する第1の生成回路と、
    第1のマスク法と第2のマスク法の一方を設定する設定回路と、
    前記第1の生成回路により生成された第1のバーストレングスと、レジスタに保持された第2のバーストレングスが供給され、前記設定回路により前記第1のマスク法が設定された場合、前記第1のバーストレングスを選択し、第2のマスク法が設定された場合、前記第2のバーストレングスを選択する第1の選択回路と、
    前記第1の選択回路により選択された第1又は第2のバーストレングスに応じてライトイネーブル信号を生成する第2の生成回路と、
    外部から供給される信号に従ってデータのマスク位置を示す第1のマスク信号を生成する第3の生成回路と、
    第2のアドレス信号に応じてデータのマスク位置を示す第2のマスク信号を生成する第4の生成回路と、
    前記第3、第4の生成回路の出力信号が供給され、前記設定回路により、前記第1のマスク方法が設定されている場合、前記第4の生成回路から供給される前記第2のマスク信号を選択し、前記設定回路により、前記第2のマスク方法が設定されている場合、前記第3の生成回路から供給される前記第1のマスク信号を選択する第2の選択回路と、
    前記設定回路により、前記第2のマスク方法が設定されている場合、前記第2の選択回路から供給される前記第1のマスク信号に従ってライトパルス信号を生成し、前記設定回路により、前記第1のマスク方法が選択されている場合、前記第2の選択回路から供給される前記第2のマスク信号及び前記第2の生成回路から供給されるライトイネーブル信号に従ってライトパルス信号を生成する第の生成回路と
    を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  4. 第1のマスク法と第2のマスク法の一方を設定する設定回路と、
    前記第1のマスク法に対応した信号を生成する第1の生成回路と、
    前記第2のマスク法に対応した信号を生成する第2の生成回路と、
    前記第1、第2の生成回路の出力端に接続され、前記設定回路により前記第1のマスク法が設定された場合、前記第1の生成回路の出力信号に基づいてライトパルス信号を生成し、前記設定回路により第2のマスク方法が選択されている場合、前記第2の生成回路の出力信号に基づいてライトパルス信号を生成する第3の生成回路と
    を具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  5. 前記設定回路は、
    オプションパッドと、
    前記オプションパッドに接続され、前記オプションパッドが所定の電位に接続された場合、前記第1のマスク方法を示す信号を発生し、前記オプションパッドがオープンの場合、前記第2のマスク方法を示す信号を発生する信号発生回路と
    を具備することを特徴とする請求項1、3、4のいずれかに記載の半導体記憶装置。
  6. 前記第2の生成回路は、前記第1又は第2のバーストレングスをカウントし、前記ライトイネーブル信号を出力するカウンタを具備することを特徴とする請求項1又は3記載の半導体記憶装置。
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