JP2002087973A

JP2002087973A - 化粧料

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Publication number: JP2002087973A
Application number: JP2000272978A
Authority: JP
Inventors: Masakatsu Hama; 正勝浜; Katsutoshi Ara; 勝俊荒; Hiroshi Mori; 啓森; Kenzo Koike; 謙造小池; Toyoki Tsuchikura; 豊樹土倉; Yoshinori Nishizawa; 義則西澤; Makoto Sakaino; 信境野; Retsuo Kokubo; 烈王小久保
Original assignee: Kao Corp; Oji Paper Co Ltd
Current assignee: Kao Corp; New Oji Paper Co Ltd
Priority date: 2000-09-08
Filing date: 2000-09-08
Publication date: 2002-03-27
Anticipated expiration: 2020-09-08
Also published as: JP4532706B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】ヒトの不快な体臭の発生を持続的に抑制できる
化粧料の提供。【解決手段】皮膚常在菌に対して殺菌性を示さないミズ
キ、ハコネウツギ、シシアクチ、アデク、カンレンボ
ク、エゾミソハギ、ハウチワノキ、マルハチ、テリハハ
マボウ、シロテツ、ヤマヒハツ、ゴンズイ、デコラゴム
ノキ、カナダツガ、カツモイノテ、クサソテツ、オウゴ
ンメタセコイヤ、ムレスズメ、ナツツバキ、ブラシノ
キ、ズボイシア、ブラッシュボックス、（Ｂｒｕｓｈ
Ｂｏｘ）、フジウツギ及びオミナエシから選ばれる植物
の抽出物並びにオイゲノールから選ばれた一種以上のロ
イシン脱水素酵素阻害剤を含有する化粧料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ヒトの不快な体臭
の発生を抑制する化粧料に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ヒトの
不快な体臭の防除技術には、収斂作用を有する物質や各
種のアルミニウムやジルコニウム塩を用いて発汗を抑制
する方法、トリクロサン、塩化ベンザルコニウム等の抗
菌物質を用いて不快臭発生原因菌の増殖を抑制する方
法、発生した低級脂肪酸等の不快な体臭を亜鉛華等によ
り金属塩に変換したり、フラボノイド等の消臭物質によ
り消臭する方法及び香水やオーデコロン等によりマスキ
ングする方法等がある。

【０００３】しかし、制汗技術、消臭技術及びマスキン
グ技術は、効果の持続性という点で充分でなく、また抗
菌技術においては、不快臭の発生原因菌以外に皮膚常在
菌をも殺菌することで皮膚の一次バリアー機能を破壊す
るおそれが示唆されている。

【０００４】本発明は、皮膚の常在菌を殺すことなく、
不快な体臭を持続的に抑制できる化粧料を提供すること
を目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ヒトの不
快な体臭の原因物質の一つとされるイソ吉草酸に着目
し、その生成経路について検討したところ、細菌由来の
ロイシン脱水素酵素を阻害することによりイソ吉草酸の
生成が抑えられることを見出すと共に、特定の植物抽出
物等が該酵素の阻害活性を有し、皮膚常在菌を殺すこと
なく不快な体臭の発生を抑制できる化粧料として使用で
きることを見出した。

【０００６】すなわち本発明は、ロイシン脱水素酵素阻
害剤を含有する化粧料を提供するものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】イソ吉草酸は、ヒトの体臭、主に
足臭及び腋臭の原因臭とされる低級脂肪酸である。本発
明者らは、斯かるイソ吉草酸が汗に含まれるロイシンか
ら皮膚に棲息する細菌（枯草菌（Bacillus subtili
s）、黄色ブドウ球菌（Staphylococcus aureus）又はプ
ロピオン酸菌（Propionibacterium spp.)）由来のロイ
シン脱水素酵素及び分岐鎖αケト酸脱水素酵素等の酵素
系による代謝を介して生成されること、更にロイシン脱
水素酵素が上記皮膚上細菌の全てに存在することを明ら
かにした（参考例１〜２）。従って、ロイシン脱水素酵
素酵素を阻害することによりイソ吉草酸の生成を確実に
抑制できると考えられる。

【０００８】一方、ロイシン脱水素酵素を阻害する物質
は、これまでに報告された例はなく、本発明において初
めて、ミズキ、ハコネウツギ、シシアクチ、アデク、カ
ンレンボク、エゾミソハギ、ハウチワノキ、マルハチ、
テリハハマボウ、シロテツ、ヤマヒハツ、ゴンズイ、デ
コラゴムノキ、カナダツガ、カツモイノデ、クサソテ
ツ、オウゴンメタセコイヤ、ムレスズメ、ナツツバキ、
ブラシノキ、ズボイシア、ブラッシュボックス（Brush
Box）、フジウツギ及びオミナエシから選ばれる植物の
抽出物又はオイゲノールに当該阻害活性があることが見
出された（実施例１）。従って、当該植物成分等をロイ
シン脱水素酵素阻害剤の代表例として挙げることができ
る。また、本発明におけるロイシン脱水素酵素阻害剤
は、皮膚のバリアー機能の維持に関与する皮膚常在菌に
対して抗菌性、望ましくは殺菌性を示さないものが好ま
しく、斯かる点においても上記植物抽出物及びオイゲノ
ールが好ましい。ここで、殺菌性を示さないとは、Ｔｗ
ｅｅｎ８０を０．５％及びＬ−ロイシンを０．２％含む
ＳＣＤ培地に、被験物質を添加したものに皮膚常在菌を
接種し、３７℃、２４時間反応後に、胞子形成菌(Bacil
lus subtilis)はコントロールに対し菌数が１／１０以
下に減少せず、通常細菌(Staphylococcus epidermidis
及びCorynebacterium minutissimumon)はコントロール
に対し１／１００以下に減少しないことをいう。

【０００９】ここで、ミズキとは、ミズキ科（Cornacea
e）のミズキ（Cornus controversaHemsl.）を、ハコネ
ウツギとは、スイカズラ科（Caprifoliaceae）のハコネ
ウツギ（Weigela coraeensis Thunb.）を、シシアクチ
とは、ヤブコウジ科（Myrsinaceae）のシシアクチ（Ard
isia quinquegona Blume）を、アデクとは、フトモモ科
（Myrtoceae）のアデク（Syzygium buxifolium Hook.et
Arh.)を、カンレンボクとは、オオギリ科(Nyssaceae)
のカンレンボク(Nyssa sylvatica Marsh.)を、エゾミソ
ハギとは、ミソハギ科(Lythraceae)のエゾミソハギ(Lyt
brum salicariaL.)を、ハウチワノキとは、ムクロジ科
(Sapindaceae)のハウチワノキ(Dodonaeaviscosa L.)
を、マルハチとは、ヘゴ科(Cyatheaceae)のマルハチ(Cy
peres alternifolius)を、テリハハマボウとは、アオイ
科(Malvaceae)のテリハハマボウ(Hibiscus glaber)を、
シロテツとは、ミカン科(Rutaceae)のシロテツ(Boninia
glabra Planch.)を、ヤマヒハツとは、トウダイグサ科
(Euphorbiaceae)のヤマヒハツ(Antidesma japonicum S.
et Z.)を、ゴンズイとは、ミツバウツギ科(Staphyleace
ae)のゴンズイ(Euscaphis japonica Kanitz)を、デコラ
ゴムノキとは、クワ科(Moraceae)のデコラゴムノキ(Fic
us elastica)を、カナダツガとは、マツ科(Pinaceae)の
カナダツガ(Tsuga)を、カツモイノデとは、ウラボシ科
(Polypodiaceae)のカツモイノデ(Ctenitis subglandulo
sa)を、クサソテツとは、オシダ科(Aspidiaceae)のクサ
ソテツ(Matteuccia struthiopteris L.Todaro)を、オウ
ゴンメタセコイヤとは、スギ科(Taxodiaceae)のオウゴ
ンメタセコイヤ(Metaseouoia glvptostroboides Hu et
Cheng)を、ムレスズメとは、マメ科(Leguminosae)のム
レスズメ(Caragana sinica)を、ナツツバキとは、ツバ
キ科(Theaceae)のナツツバキ(Stewartia pseudo-camell
ia Maxim)を、ブラシノキとは、フトモモ科(Myrtaceae)
のブラシノキ(Callistemon speciosus)を、ズボイシア
とは、ナス科(Solanaceae)のズボイシア(Duboisia myop
orides R.Br.)を、ブラッシュボックス（Brush Box）と
は、フトモモ科(Myrtaceae)のブラッシュボックス(Loph
ostemon confertus)を、フジウツギとは、フジウツギ科
(Loganiaceae)のフジウツギ(Buddlejajaponica Hemsl.)
を、オミナエシとは、オミナエシ科(Valerifoliaceae)
のオミナエシ(Patrinia scabiosifolia Fisch)をそれぞ
れ意味する。

【００１０】本発明の上記植物は、その植物の全草又は
葉、根、果実、種子、花のうち１又は２以上をそのまま
又は粉砕して用いられ、これを常温又は加温下において
抽出するか又はソックスレー抽出器等の抽出器を用いて
抽出することにより得られる各種溶媒抽出液、その希釈
液、その濃縮液、その乾燥末又はペースト状に調製した
ものが本発明の植物抽出物として使用される。

【００１１】抽出に用いる溶剤としては、水；メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコ
ール類；プロピレングリコール、ブチレングリコール等
の多価アルコール；アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル等の鎖状及び環状
エーテル類；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素類；ヘキサン、シクロヘキサ
ン、石油エーテル等の炭化水素類；ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素類；ポリエチレングリコール等のポ
リエーテル類；ピリジン類等が挙げられ、これらは混合
物として用いることもでき、特にジクロロメタン−メタ
ノールの混合溶剤が好ましい。

【００１２】また、オイゲノールは、天然に多量にオイ
ゲノールを含むけい葉油、めぼうき油、ベイ油等から常
法により抽出して得ることができるが、本発明において
は、クローブバッドオイル、クローブリーフオイル等の
オイゲノール含有香料を用いてもよい。

【００１３】かくして得られる植物抽出物及びオイゲノ
ールは、ロイシン脱水素酵素阻害作用を有し、皮膚上で
のイソ吉草酸の生成を抑制する（後記実施例１〜３）。
また、皮膚の常在菌を殺すことがないため、これを有効
成分として含有する組成物（ロイシン脱水素酵素阻害
剤）は、皮膚の一次バリアー機能を破壊することなく、
不快な体臭の発生を抑制することができるデオドランド
剤として使用できる。

【００１４】当該デオドランド剤は、化粧料、外用医薬
品又は医薬部外品等の製剤、例えばクリーム、乳液、ロ
ーション、パウダー、スプレー、スティック等として用
いることができ、またいくつかの使用方法を併用するこ
とも可能である。

【００１５】化粧料、外用医薬品又は医薬部外品として
用いる場合のロイシン脱水素酵素阻害剤の含有量は、一
般的に０．１〜２０重量％とするのが好ましく、特に
０．５〜１０重量％とするのが好ましい。また、植物抽
出物としての含有量は、一般的に固形分換算で０．００
０１〜１０重量％とするのが好ましく、特に０．００１
〜５重量％とするのが好ましい。また、オイゲノールに
ついては０．００１〜０．１重量％とするのが好まし
い。

【００１６】これらの化粧料、外用医薬品又は医薬部外
品には、通常用いられる各種成分、例えば化粧料成分と
して一般的に使用される油分、界面活性剤、アルコール
類、キレート剤、pH調整剤、防腐剤、増粘剤、色素類、
香料等の他、紫外線吸収剤、美白剤、しわ改善剤、保湿
剤、皮脂分泌抑制剤、柔軟剤、角質保護剤、薬効剤、酸
化防止剤、溶剤等の成分を任意に組み合わせ配合して製
剤化することができる。

【００１７】本発明の化粧料は、足、腋、頭部、陰部等
不快臭の発生しやすい箇所に局所的に適用することによ
り、不快臭の発生を制御することができる。斯かる場合
の化粧料の使用量は、有効成分の含有量により異なるが
例えば液状製剤の場合皮膚面１cm²当たり１〜２０mg、
固形状の製剤の場合、同じく１〜５０mgとするのが好ま
しい。

【００１８】

【実施例】製造例１ミズキ有機溶媒抽出物の製造：ミ
ズキの葉を乾燥し（乾燥重量２１ｇ）、ジクロロメタン
−メタノール（１：１）混合溶媒（３００ｍＬ）を用い
室温で３日間抽出した。抽出液は濾過後、減圧下溶媒を
留去し、有機溶媒抽出物（約２．１４ｇ）を得た。

【００１９】製造例２ハコネウツギ有機溶媒抽出物の
製造：ハコネウツギの葉を乾燥し（乾燥重量２０ｇ）、
ジクロロメタン−メタノール（１：１）混合溶媒（３０
０ｍＬ）を用い室温で３日間抽出した。抽出液は濾過
後、減圧下溶媒を留去し、有機溶媒抽出物（約２．３９
ｇ）を得た。

【００２０】製造例３シシアクチ有機溶媒抽出物の製
造：シシアクチの葉を乾燥し（乾燥重量３．９ｇ）、ジ
クロロメタン−メタノール（１：１）混合溶媒（１００
ｍＬ）を用い室温で３日間抽出した。抽出液は濾過後、
減圧下溶媒を留去し、有機溶媒抽出物（約０．５４ｇ）
を得た。

【００２１】製造例４アデク有機溶媒抽出物の製造：
アデクの葉を乾燥し（乾燥重量１３ｇ）、ジクロロメタ
ン−メタノール（１：１）混合溶媒（２００ｍＬ）を用
い室温で３日間抽出した。抽出液は濾過後、減圧下溶媒
を留去し、有機溶媒抽出物（約０．８２ｇ）を得た。

【００２２】製造例５ミズキ水抽出物の製造：製造例
１において有機溶剤で抽出済みの葉を乾燥し、蒸留水２
００ｍＬを加え、５℃で２日間抽出した。次に抽出液は
濾過後、凍結乾燥し、水抽出物（１．７４ｇ）を得た。

【００２３】製造例６ハコネウツギ水抽出物の製造：
製造例２において有機溶剤で抽出済みの葉を乾燥し、蒸
留水２００ｍＬを加え、５℃で２日間抽出した。次に抽
出液は濾過後、凍結乾燥し、水抽出物（２．８２ｇ）を
得た。

【００２４】製造例７シシアクチ水抽出物の製造：製
造例３において有機溶剤で抽出済みの葉を乾燥し、蒸留
水２００ｍＬを加え、５℃で２日間抽出した。次に抽出
液は濾過後、凍結乾燥し、水抽出物（０．２２ｇ）を得
た。

【００２５】製造例８アデク水抽出物の製造：製造例
４において有機溶剤で抽出済みの葉を乾燥し、蒸留水２
００ｍＬを加え、５℃で２日間抽出した。次に抽出液は
濾過後、凍結乾燥し、水抽出物（０．５５ｇ）を得た。

【００２６】製造例９製造例１〜８と同様にして、下記表１に示す植物の水抽
出物を得た。

【００２７】

【表１】

【００２８】参考例１各種アミノ酸塗布時の臭い発生
率腋の下に図１に示す各種アミノ酸１％溶液を無臭男性６
名の片腋に０．５mL塗布し、酸臭の発生を官能評価し
た。結果を図１に示す。

【００２９】腋の下に塗布後１５分〜３０分で、ロイシ
ンのみ１００％（６名）酸臭が確認され、バリンで３３
％（２名）、フェニルアラニンで１７％（１名）確認さ
れた。また、足底でも同様の結果が得られ、特に足底で
はイソ吉草酸特有の臭いが強いことが判った。

【００３０】参考例２体臭発生菌の確認（１）官能評価足底から採取した汗５mL（ろ過滅菌）にバッファー（ｐ
Ｈ７．２，２０mMトリス−ＨＣｌバッファー）で洗浄
（３回）した図２に示す５種類の菌体（Staphylococcus
aureus、Staphylococcus lugdunensis、Propionibacte
rium avidum、Propionibacterium granulosum、Bacillu
s subtilis）を最終菌体量が約１０⁸ cfu/mLになるよう
に接種し、３７℃、２時間（嫌気性菌は嫌気で）インキ
ュベートした後、反応液の臭い成分を抽出（エーテルで
抽出後、Ｎ₂で固化）し、臭いの官能評価をした。結果
を図２に示す。

【００３１】（２）菌体内ロイシン脱水素酵素（LeuD
H）活性の測定０．５％Tween ８０、０．２％Ｌ−ロイシンを添加した
ＳＣＤ寒天培地で生育させた（３０℃、２日）表２に示
す５種類のイソ吉草酸臭発生菌の菌体をｐＨ７．０、５
０mMリン酸バッファーで集菌、洗浄し、球菌は、５０un
itsリゾスタフィン、桿菌は、０．２％リゾチームで酵
素処理（３７℃、１時間）した後、超音波破砕し、遠心
上清のロイシン脱水素酵素活性を以下の方法により測定
した。ｐＨ１０．５、２５０mMグリシンバッファー１．
５mL、６０mM Ｌ−ロイシン１０mL、１００mM ＮＡＤ⁺
９３μl、蒸留水３１７μlを入れ３０℃で予備加温した
（ブランク（対照）も同じ）。遠心上清を１００μl入
れ、ブランクには使用した酵素液（リゾチーム又はリゾ
スタフィン）を１００μl入れ、反応を開始した。３０
℃で３４０nmにおける吸光度を測定し、１分間当たりの
吸光度変化（ΔＯＤ／min）を求め、サンプルのΔＯＤ
／min−ブランクのΔＯＤ／minからロイシン脱水素酵素
活性を求めた。また、遠心上清及び、使用した酵素液
（リゾチーム又はリゾスタフィン）のタンパク量をＢＩ
Ｏ−ＲＡＴ法で測定し、タンパクあたりの活性を求め
た。結果を表２に併せて示す。

【００３２】

【表２】

【００３３】ヒトの皮膚から分離した５菌種のイソ吉草
酸発生菌は、ロイシン脱水素酵素活性が高いことが示さ
れた。

【００３４】実施例１植物抽出物のロイシン脱水素酵
素阻害活性ｐＨ１０．５、２５０mMグリシンバッファー１．５mL、
６０mM Ｌ−ロイシン１．０mL、１００mM ＮＡＤ⁺９３
μl、蒸留水１０７μlに図３に示す検体（抽出物）を３
００μl、コントロールは、抽出物と同濃度のＥｔＯＨ
水溶液を３００μl入れ、３０℃で予備加温した（ブラ
ンクも同じ）。ｐＨ９．５，１００mMグリシンバッファ
ーで約２．５units／mLに希釈したLeuDH（和光：ロイシ
ン脱水素酵素、組み換え体、Bacillus由来）を１０μl
入れ、ブランクにはｐＨ９．５、１００mMグリシンバッ
ファーを１０μl入れ、反応を開始した。３０℃で３４
０nmにおける吸光度を測定し、１分間当たりの吸光度変
化（ΔＯＤ／min）を求めた。検体のΔＯＤ／min−ブラ
ンクのΔＯＤ／minをコントロールと比較し、検体の阻
害率を求めた。検体（抽出物）の色が濃いものは、１mm
セルを使用するか、検体濃度を１／２から１／１０に希
釈して試験をした。結果を図３に示す。

【００３５】ミズキ、ハコネウツギ、シシアクチ、アデ
ク、カンレンボク、エゾミソハギ、ハウチワノキ、マル
ハチ、テリハハマボウ、シロテツ、ヤマヒハツ、ゴンズ
イ、デコラゴムノキ、カナダツガ、カツモイノデ、クサ
ソテツ、オウゴンメタセコイヤ、ムレスズメ、ナツツバ
キ、ブラシノキ、ズボイシア、ブラッシュボックス（Br
ush Box）、フジウツギ、オミナエシ及びオイゲノール
には優れたロイシン脱水素酵素活性阻害効果が認められ
た。

【００３６】実施例２イソ吉草酸生成抑制作用足底から採取した汗５mL（ろ過滅菌）にミズキ抽出物
（固形分として１００ppm）を添加し、バッファー（ｐ
Ｈ７．２、２０mMトリス−ＨＣｌバッファー）で洗浄
（３回）した皮膚分離菌（Bacillus subtilis）を最終
菌体量が約１０⁸cfu／mLとなるように接種し、３７℃、
２時間インキュベートし、ミズキ抽出物無添加と、イソ
吉草酸生成量と菌数を比較した。

【００３７】イソ吉草酸の生成量は、スクリュウキャッ
プ付試験管に反応（培養）液５mL、安息香酸４０ppm
（内部標準）、三フッ化ホウ素メタノール錯体メタノー
ル溶液２mLを入れ、８０℃、１時間反応し、空冷後、ヘ
キサン１．５mL加え攪拌後、遠心分離しヘキサン層を回
収し、回収したヘキサン層を濃縮し、ガスクロマトグラ
フィーより測定した（カラム条件；Ｊ＆ＷＤＢ−１、
流速１．８mL／min、スプリット比１：５０、昇温条
件；８０℃：５min、８０℃→３００℃：２０℃／min、
３００℃：１５min）。また、菌数測定は、生理食塩水
で希釈後、ＳＣＤＬＰ寒天培地に塗抹し、３０℃、２４
時間培養し、コロニーをカウントすることにより行っ
た。結果を図４及び図５に示す。

【００３８】ミズキ抽出物を１００ppm添加することに
より、イソ吉草酸生成量が、約４割抑制された。また、
菌数は、ミズキ無添加と同レベルで、菌を殺さず、ロイ
シン脱水素酵素を阻害することでイソ吉草酸の生成を抑
制したと考えられる。

【００３９】実施例３オイゲノールのイソ吉草酸生成
抑制効果皮膚分離菌株の枯草菌（Bacillus subtilis）を使用
し、オイゲノール０．０２％及び０．０４％でイソ吉草
酸の生成抑制効果を確認した。ＳＣＤ培地に０．５％Ｔ
ｗｅｅｎ８０、０．２％ロイシンを加えた培地にサンプ
ル１０％／５０％ＥｔＯＨを各濃度になるように添加
し、培養は、培地５mLに培地で洗浄（３回）した皮膚分
離菌株（Bacillus subtilis）を最終菌体量がだいたい
１０⁸cfu／mLになるように接種し、３７℃、２４時間イ
ンキュベートし、イソ吉草酸生成量及び菌数を測定し
た。イソ吉草酸の生成量は及び菌数の測定は実施例２と
同様に行った。結果を図６及び図７に示す。

【００４０】菌数は、コントロールと同等であった。ま
た、イソ吉草酸生成量は、オイゲノールでは減少してい
た。これらのことから、オイゲノールは、濃度によって
は、菌を殺さず、ロイシン脱水素酵素を阻害することで
イソ吉草酸の生成を抑制すると考えられる。

【発明の効果】本発明の化粧料は、皮膚の常在菌を殺す
ことなく、不快な体臭の発生を持続的に抑制できること
から、優れた消臭効果と高い安全性を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は各種アミノ酸塗布時の臭い発生率を示し
た図である。

【図２】図２は各種体臭発生菌についての足底汗の臭い
を評価した図である。においスコアにおける「０」は無
臭、「１」は微香、「２」は弱い臭い、「３」は認知で
きる強さの臭い、「４」はやや強い臭い、「５」は強い
臭いを示す。

【図３】図３は植物抽出物等のロイシン脱水素酵素阻害
の阻害率を示した図である。

【図４】図４はミズキ抽出物を用いた場合のイソ吉草酸
の生成量を示した図である。

【図５】図５はミズキ抽出物を用いた場合の菌数の変化
を示した図である。

【図６】図６はオイゲノールを用いた場合の菌数の変化
を示した図である。

【図７】図７はオイゲノールを用いた場合のイソ吉草酸
の生成量を示した図である。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ａ６１Ｋ 35/78 Ａ６１Ｋ 35/78 ＫＬＲ 7/32 7/32 Ａ６１Ｐ 17/00 Ａ６１Ｐ 17/00 (72)発明者荒勝俊栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会社研究所内 (72)発明者森啓栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会社研究所内 (72)発明者小池謙造東京都墨田区文花２−１−３花王株式会社研究所内 (72)発明者土倉豊樹東京都墨田区文花２−１−３花王株式会社研究所内 (72)発明者西澤義則栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会社研究所内 (72)発明者境野信東京都江東区東雲一丁目10番６号王子製紙株式会社東雲研究センター内 (72)発明者小久保烈王東京都江東区東雲一丁目10番６号王子製紙株式会社東雲研究センター内Ｆターム(参考） 4C083 AA111 AA122 DD11 EE18 4C088 AA18 AB03 AB12 AB13 AB18 AB23 AB34 AB45 AB46 AB48 AB57 AB59 AB62 AC01 AC03 AC04 AC05 AC11 BA07 BA08 CA05 CA06 CA07 CA09 CA11 MA63 NA14 ZA89 ZC20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ロイシン脱水素酵素阻害剤を含有する化
粧料。
【請求項２】ロイシン脱水素酵素阻害剤が、皮膚常在
菌に対して殺菌性を示さない請求項１記載の化粧料。
【請求項３】ロイシン脱水素酵素阻害剤が、ミズキ、
ハコネウツギ、シシアクチ、アデク、カンレンボク、エ
ゾミソハギ、ハウチワノキ、マルハチ、テリハハマボ
ウ、シロテツ、ヤマヒハツ、ゴンズイ、デコラゴムノ
キ、カナダツガ、カツモイノデ、クサソテツ、オウゴン
メタセコイヤ、ムレスズメ、ナツツバキ、ブラシノキ、
ズボイシア、ブラッシュボックス（Brush Box）、フジ
ウツギ及びオミナエシから選ばれる植物の抽出物並びに
オイゲノールから選ばれた一種以上である請求項１又は
２記載の化粧料。