JP2002082218A - プラズマディスプレイパネル用フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐熱性、耐光性ともに優れたプラズマディス
プレイパネル用フィルターを提供する。 【解決手段】 ポリカーボネート樹脂と色素を含有する
層を有するプラズマディスプレイパネル量フィルターに
おいて、ポリカーボネート樹脂として粘度平均分子用
（Ｍｖ）が１００００〜９００００であり、かつガラス
転移点（Ｔｇ）が１６０℃以上である樹脂を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル用フィルターに関する。詳しくは、プラズマ
ディスプレイパネルから放射されるネオン発光を有効に
遮断することができるプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々
の電子機器の表示パネルとしてプラズマディスプレイパ
ネルが使用され、その需要が増大し、今後もその数は益
々増加するものと考えられる。プラズマディスプレイで
は、放電によりキセノンとネオンの混合ガスが励起され
真空紫外線を放射し、その真空紫外線励起による赤、
青、緑のそれぞれの蛍光体の発光を利用して３原色発光
を得ている。そしてプラズマディスプレイ（以下、ＰＤ
Ｐともいう）では主にその画面の色調調節したり、あわ
せて画面から放出される紫外線や赤外線をカットするた
めにプラズマディスプレイパネル用フィルターを画面上
に設ける。特に、ネオン原子が励起された後基底状態に
戻る際に６００ｎｍ（５８０〜５９０ｎｍ）付近を中心
とするいわゆるネオンオレンジ光を発光するため（映像
情報メディア学会誌 Vol.51 NO.4 P.459-463 (199
7） )、プラズマディスプレイでは、赤色にオレンジ色
が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点があり、このネ
オンオレンジ光を有効にカットすることが必要とされ、
既に特願平１１−２９６８３２号、１１−３０６５６３
号等で特許出願済みである。

【０００３】また、ＰＤＰの画面表面は、プラズマ放電
に伴う放熱により常に６０℃前後の高温に曝されてお
り、長期にわたって耐熱性に優れたプラズマディスプレ
イパネル用フィルターの開発が望まれていたが、この点
で十分な性能のフィルターは実現されていなかった。し
かも、色素を含有したプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターでは、色素が外光からの可視光や紫外線を受け
て劣化しやすいという欠点があり、これら長期にわたっ
て耐光性の安定なフィルターも望まれている。これまで
は、プラズマディスプレイパネル用フィルターの色素層
において、ポリエステル樹脂やポリカーボネート樹脂を
用いることが知られていたが（特開平１０−２０４３０
４号公報等）、これら性能に十分に応えるフィルターは
得られていなかった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明はネオン発光を
有効にカットすることができ、かつ、耐熱性、耐光性等
の耐久性の良好なプラズマディスプレイパネル用フィル
ターを提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明等は、種々検討を
重ね、スクアリリウム系化合物のバインダー樹脂として
特定のポリカーボネート樹脂を使用することにより上記
目的が達成されることを見出した。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明は、以下の内容を要旨とする発明である。 １．ポリカーボネート樹脂と色素を含有する層を有する
プラズマディスプレイパネル用フィルターであって、該
ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）が１０
０００〜９００００であり、かつガラス転移点（Ｔｇ）
が１６０℃以上である樹脂であることを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル用フィルター。

【０００７】２．ポリカーボネート樹脂と色素とを含有
する層を有するプラズマディスプレイパネル用フィルタ
ーであって、該ポリカーボネート樹脂が、下記式（I−
１）

【０００８】

【化５】

【０００９】で表される構成単位を含有する樹脂である
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィル
ター。 ３．色素 として下記一般式（II）

【００１０】

【化６】

【００１１】〔式（II) 中、Ａ及びＢは、各々独立に、
置換基を有していても良いアリール基、置換基を有して
いても良い複素環基、又は、−ＣＨ＝Ｄ （ Ｄは、置
換基を有していても良い複素環基を表す。）を表す。〕
で表されるスクアリリウム系化合物であることを特徴と
する前記のプラズマディスプレイパネル用フィルター。 ４．スクアリリウム系化合物が下記一般式（III）

【００１２】

【化７】

【００１３】〔式（III) 中、Ｒは、ハロゲン原子、置
換基を有していても良いアルキル基、置換基を有してい
ても良いアルコキシ基又は置換基を有していても良いア
ルケニル基を表し、ｍは、１〜４の整数をｎは０〜４の
整数を表す。〕で表されるスクアリリウム系化合物であ
ることを特徴とする前記に記載のプラズマディスプレイ
パネル用フィルター。

【００１４】５．スクアリリウム系化合物が、前記一般
式（II）において、Ａ及びＢが、置換基を有してもよい
ピラゾール基であることを特徴とする前記に記載のプラ
ズマディスプレイパネル用フィルター。 ６．色素が下記一般式（V）

【００１５】

【化８】

【００１６】（式中、ＭはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆ
ｅ、Ｔｉ、ＳｎまたはＣｕを表す。Ｒ ₁ 〜Ｒ₈ は、それ
ぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよいアルキ
ル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を
有していてもよいアラルキル基、置換基を有していても
よいアルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、ハロ
ゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表
わし、Ｘ₁ 〜Ｘ₁₀は、それぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、アルコキシ基，アリールオキシ基、ニトロ
基、シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換
基を有していてもよいアリール基または置換基を有して
いてもよいアラルキル基を表す。）で表される金属錯体
であることを特徴とする前記に記載のプラズマディスプ
レイパネル用フィルター。

【００１７】７．前記のプラズマディスプレイパネル用
フィルターに、さらに紫外線吸収剤を含有する層とを積
層したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用
フィルター。 以下、本発明を詳細に説明する。本発明では、ポリカー
ボネート樹脂として、粘度平均分子量（Ｍｖ）が１００
００〜９００００であり、かつガラス転移点（Ｔｇ）が
１６０℃以上である樹脂を用いる。本発明で用いるポリ
カーボネート樹脂の粘度平均分子量は、好ましくは２０
０００〜８００００であり、ガラス転移点は１７０℃以
上であることが好ましい。本発明では、粘度平均分子量
が特定の範囲にあり、かつガラス転移点が高いポリカー
ボネート樹脂を用いることによって、長期に亘って紫外
線による劣化にも、熱による劣化にも安定である優れた
プラズマディスプレイパネル用フィルターを得ることが
できる。

【００１８】このようなポリカーボネート樹脂として、
例えば下記のような構成単位を有する樹脂が用いられ
る。

【００１９】

【化９】

【００２０】（式中、Xは、

【００２１】

【化１０】

【００２２】（Ｅ，Ｆは、水素原子、アルキル基、又は
アリール基を表し、互いに連結してシクロアルキル環を
形成しても良い。）、又は直接結合を表し、Ｃ、Ｄは、
アルキル基又はアリール基を表し、ｕは、０〜４の整数
を表す。） 上記ポリカーボネート樹脂の置換基Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆのア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基等が挙げられ、Ｅ，Ｆが結合して形成
するシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基等が挙げられ、置換基Ｅ，Ｆのアリール
基としては、フェニル基、ｐ−トリル基等が挙げられ
る。

【００２３】上記ポリカーボネート樹脂の代表例として
は、例えば下記構成単位（Ｉ−１）〜（Ｉ−６）を有す
るポリカーボネート樹脂が挙げられる。

【００２４】

【化１１】

【００２５】本発明で用いるポリカーボネート樹脂は上
記の構成単位が２種以上が共重合していても良いし、上
記の構成単位が、さらに下記の構成単位（Ｉ−７）〜
（Ｉ−８）

【００２６】

【化１２】

【００２７】やポリエステル樹脂と共重合したポリカー
ボネート樹脂であってもよいが、その場合構成単位の５
０％以上が上記構成単位（Ｉ）であるのが好ましく、好
ましくは５０〜９０％、さらに好ましくは７０〜９０％
であるのが望ましい。上記構成単位のうちでも、特に前
記式（Ｉ−１）のポリカーボネートが特に溶媒に対する
溶解性が良好であるためフイルム化、あるいは塗布の際
に好ましく、中でも前記式（Ｉ−１）の構成単位のみか
らなるポリカーボネート樹脂であるのが望ましい。ま
た、前記式（Ｉ−２）を含有する樹脂の場合も、前記式
（Ｉ−２）の構成単位のみからなるポリカーボネネート
樹脂であるのが好ましい。

【００２８】ポリカーボネート樹脂は、同じ構成単位で
あっでもその重合条件などによって粘度平均分子量やガ
ラス転移点も変わってくるが、例えば、上記構造単位
（Ｉ−１）のみからなるポリカーボネート樹脂の場合、
Ｍｖ＝２００００〜５００００程度、Ｔｇ＝１６０〜１
８５℃程度である。また、上記構造単位（Ｉ−２）のみ
かなるポリカーボネート樹脂では、Ｍｖ＝１１０００の
場合、Ｔｇ＝１９２℃のものが得られる。また、構造単
位(Ｉ−５)と構造単位（１−７）との共重合体からなる
ポリカーボネート樹脂は、バイエル社製 ＡＰＥＣとし
て知られており、Ｔｇ＝１８０〜２２０℃である。

【００２９】又、一般式（I）ののポリカーボネート樹
脂の使用量はスクアリリウム系化合物、又は金属錯体に
対して、10〜500 重量倍、好ましくは50〜350 重量倍で
ある。式（I）のポリカーボネート樹脂は、有機溶媒、
特にエーテル系溶媒に対する溶解性が良好で、バインダ
ーとして使用した場合、耐熱性、耐光性等の耐久性の良
好なプラズマディスプレイパネル用フィルターが得られ
る。

【００３０】これは、一般式（Ｉ）を構成単位とするポ
リカーボネート樹脂が、(i) ポリカーボネート樹脂中
でスクアリリウム系化合物、又は金属錯体が安定な共鳴
構造で 存在すること、(ii) 一般式（I）のポリカー
ボネート樹脂の分子構造は、分子末端にカルボン酸等の
活性基の残 基がないため、スクアリリウム系化合物、
又は金属錯体の劣化を促進する構造ではないこと、(ii
i) ポリカーボネート樹脂のＴｇが高いため、スクアリ
リウム系化合物、又は金属錯体の劣化 を促進する原因
となる水分等が、スクアリリウム系化合物、又は金属錯
体を含有しているポリ カーボネート樹脂層へ浸入し難
いことにより 耐熱性、耐光性等の耐久性の向上するも
のと考えられる。

【００３１】また、プラズマディスプレイパネル用フィ
ルターにおいて、耐光性や耐熱性を高めるには、ポリカ
ーボネート樹脂の純度が高いものが好ましく、トルエン
溶媒中で抽出して分子量１００００以下のもの、または
ポリカーボネートの重合触媒であるトリエチルアミンの
残存量が残存窒素量として１００ｐｐｍ以下、好ましく
は１０ｐｐｍ以下のものが望ましい。

【００３２】これまで、有機溶媒に溶解し易い樹脂とし
てポリエステル樹脂等を用いたプラズマディスプレイパ
ネル用フィルターが知られているが、ポリエステル樹脂
はガラス転移点が低いため、樹脂中に溶解した色素の耐
熱性等の耐久性が劣り、プラズマディイスプレイパネル
用フィルターとしての性能は十分でなかった。本発明の
特定のポリカーボネート樹脂を用いることによって、は
じめて十分な耐熱性、耐光性のプラズマディスプレイパ
ネル用フィルターが達成できたのである。

【００３３】本発明のプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターには、色素として前記一般式（II）でスクアリ
リム系化合物を用いるた場合、特に色調バランスに優れ
たフィルターを得ることが出来る。一般式（II）におい
て、置換基Ａ，Ｂが置換基を有していても良いアリール
基の好ましいアリール基としては、フェニル基、ナフチ
ル基等が挙げられ、置換基を有していても良い複素環基
の好ましい複素環としては、ピロール基、ピラゾール基
等が挙げられ、これらのうち、フェニル基が特に好まし
い。

【００３４】一般式（II）において、置換基Ａ，Ｂが置
換基を有していても良いフェニル基の場合の好ましいス
クアリリウム系化合物は、前記一般式（III) で表され
る。一般式(III) において、置換基Ｒの好ましいものと
しては、次の(i) 〜(vii)のようなものが例示できる。 (i) フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子； (ii)メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシ
ル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ペン
タデシル基等の炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖ア
ルキル基； (iii) 置換基としてヒドロキシ基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の
アルキコキシカルボニル基、アセチルオキシ基カルボニ
ル基、プロピオニルオキシカルボニル基等のアシルオキ
シカルボニル基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキ
シカルボニルオキシ基、ブトキシカルボニルオキシ基等
のアルコキシカルボニルオキシ基等を有する前記炭素数
１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基； (iv)メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基、ペンンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチル
オキシ基、オクチルオキシ基、デシオキシ基、ウンデシ
ルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、
ペンタデシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖もしく
は分岐鎖アルコキシ基； (v) 置換基としてメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基、ペンンチルオキシ基、ヘキシルオキシ
基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等の炭素数１
〜８のアルコキシ基を有する前記炭素数１〜２０の直鎖
もしくは分岐鎖アルコキシ基； (vi)エテニル基などのアルケニル基； (vii) 置換基としてメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、４−
ヒドロキシフェニル基、４−アルコキシ（例えば、炭素
数１〜１０のアルコキシ基）フェニル基、３，４−ビス
アルコキシ（例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ基）
フェニル基、３，５−ビスアルコキシ（例えば、炭素数
１〜１０のアルコキシ基）フェニル基、３，４，５−ト
リスアルコキシ（例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ
基）フェニル基で置換されたエテニル基等のアルケニル
基。

【００３５】これらのうち、炭素数１〜６の直鎖もしく
は分岐鎖のアルキル基；水酸基もしくはアルコキシカル
ボニル基で置換された炭素数１〜６の直鎖もしくは分岐
鎖のアルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；または
置換基を有するエテニル基が特に好ましい。また、前記
一般式（II）において、Ａ及びＢが、置換基を有しても
よいピラゾール基である場合も好ましい。置換基Ａ，Ｂ
が置換基を有していても良いピラゾール基の場合の好ま
しいスクアリリウム系化合物は、下記一般式（IV) で表
される。

【００３６】

【化１３】

【００３７】〔式（IV）中、Ｒ₃ は、置換基を有してい
ても良いアルキル基、又は置換基を有していても良いア
リール基を表し、Ｒ₄ は、置換基を有していても良いア
ルキル基を表し、Ｘは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。〕 置換基Ａ，Ｂが置換基を有していても良いピロール基の
場合の好ましいスクアリリウム系化合物は、下記一般式
（ＶI) で表される。

【００３８】

【化１４】

【００３９】〔式（ＶI） 中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ は、置換基を
有していても良いアルキル基、又は置換基を有していて
も良いフェニル基を表し、ｓは０〜３の整数を表す。〕
置換基Ａ，Ｂが−ＣＨ＝Ｄの場合の好ましいスクアリリ
ウム系化合物は、下記一般式（ＶII) で表される。

【００４０】

【化１５】

【００４１】〔式（ＶII） 中、Ｒ₅ は、置換基を有し
ていても良いアルキル基、Ｒ₆ は、置換基を有していて
も良いアルキル基、置換基を有していても良いアルコキ
シ基又はハロゲン原子を表し、Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−又
は−ＣＬ２−（Ｌは置換基を有していても良いアルキル
基を表す。）を表し、ｔは０〜４の整数を表す。〕 前記一般式(II)、(III)、(IV)、(VI)、及び(VII）で表
されるスクアリリウム系化合物は、その化合物としての
安定性や製造上の容易さから、左右対称である化合物が
望ましい。

【００４２】一般式(III)、一般式(IＶ)、 一般式(ＶI)
及び一般式(ＶII)のスクアリリウム系化合物は、例え
ば、Angew.Chem．77 680-681 (1965) 記載の方法ある
いはそれらに準じて製造することが出来る。即ち、下記
一般式（ＶIII）

【００４３】

【化１６】

【００４４】〔式中、Ｒ、ｍ、ｎは、前記と同じ意義を
示す。〕で表されるフェノール系化合物２モル、又は下
記一般式（IＸ）

【００４５】

【化１７】

【００４６】〔式中、Ｒ₃ 、Ｒ₄ およびＸは、前記と同
じ意義を示す。〕で表されるピラゾロン系化合物２モ
ル、又は下記一般式（Ｘ）

【００４７】

【化１８】

【００４８】〔式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ およびｓは、前記と同
じ意義を示す。〕で表されるピロール系化合物２モル、
又は下記一般式（Ｘ）

【００４９】

【化１９】

【００５０】〔式中、Ｒ₅ 、Ｒ₆ およびｔは、前記と同
じ意義を示す。〕で表される化合物２モルに対し、それ
ぞれ、スクアリック酸１モルをエタノール、酢酸、ｎ−
ブチルアルコール−トルエン混合溶媒、ｎ−ブチルアル
コール−ベンゼン混合溶媒等の中で、７０〜１５０℃程
度に加熱しながら脱水縮合させることにより合成するこ
とが出来る。

【００５１】一般式（III）の代表例を次に示す。

【００５２】

【化２０】

【００５３】一般式（III）のうち好ましい化学構造例
を次に示す。

【００５４】

【化２１】

【００５５】一般式（IV）の代表例を次に示す。

【００５６】

【化２２】

【００５７】一般式（IV）のうち好ましい化学構造例を
次に示す。

【００５８】

【化２３】

【００５９】一般式（VI）の代表例を次に示す。

【００６０】

【化２４】

【００６１】一般式（VI）のうち好ましい化学構造例を
次に示す。

【００６２】

【化２５】

【００６３】一般式（ＶII）の代表例を次に示す。

【００６４】

【化２６】

【００６５】一般式（ＶII）のうち好ましい化学構造例
を次に示す。

【００６６】

【化２７】

【００６７】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ル用フィルターにおいて、色素として下記一般式（Ｖ）
で表される金属錯体を用いた場合に、近赤外線を有効に
カットできる優れたフィルターを得ることが出来る。

【００６８】

【化２８】

【００６９】上記一般式（Ｖ）において、Ｍは、金属元
素を表し、好ましくはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、
Ｔｉ、ＳｎまたはＣｕを表す。さらに好ましくはＮｉ，
Ｐｄ，Ｐｔが用いられる。Ｒ₁ 〜Ｒ₈ は、それぞれ独立
に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有して
いてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいア
ルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換
アミノ基またはシアノ基を表わし、好ましくは、水素原
子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキ
シ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ
基またはシアン基を表し、さらに好ましくは、水素原
子；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などの炭素数１〜５
のアルキル基；アリール基、ベンジル基、フェネチル基
などのアラルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブ
トキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコ
キシ基；ニトロ基；塩素原子、臭素原子、フッ素原子な
どのハロゲン原子；アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの置換アミノ
基；またはシアノ基が挙げられ、特に好ましくは、水素
原子が用いられる。

【００７０】Ｘ₁〜Ｘ₁₀は、それぞれ独立に、水素原
子、ハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ
基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有して
いてもよいアリール基または置換基を有していてもよい
アラルキル基を表す。具体的には、水素原子及びフッ素
原子、塩素原子、臭素原子、メトキシ基、エトキシ基、
ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５の
アルコキシ基基、ニトロ基，シアノ基，メチル基、エチ
ル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ
−ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキル基，アリー
ル基、ベンジル基、フェネチル基などのアラキル基が挙
げられ、好ましくは、水素原子及びフッ素原子、塩素原
子、臭素原子、メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ
基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ
基、ニトロ基、シアノ基等の電子吸引性基が挙げられ
る。中でも、一般式(V)で表される化合物が左右対称で
ある場合が、その性能面や製造上の容易さにおいて望ま
しい。

【００７１】好ましい物として具体的には、

【００７２】

【化２９】

【００７３】が挙げられる。本発明のフィルターの一般
式（II）で表されるスクアリリウム系化合物、又は一般
式（Ｖ）で表される金属錯体を含有する層は、フィルム
あるいはシート等に成形された透明基板に、一般式（I
I）スクアリリウム系化合物、又は一般式（Ｖ）で表さ
れる金属錯体を含む塗工液を塗布することにより、容易
に製造される。

【００７４】塗工液は、一般式（II）スクアリリウム系
化合物、又は一般式（Ｖ）で表される金属錯体を式
（I）のポリカボネート樹脂と共に有機溶剤に溶解させ
る方法、又は粒径0.1 〜３μm に微粒化したスクアリリ
ウム系化合物を、必要に応じ分散剤を用い、ポリカーボ
ネート樹脂と共に溶剤に分散させる方法により調製され
る。このとき溶剤に溶解、又は分散されるスクアリリウ
ム系化合物、金属錯体、ポリカーボネート樹脂、分散剤
等の塗工液に対する含有量は0.5 〜5 0 重量% で、スク
アリリウム系化合物、金属錯体、ポリカーボネート樹
脂、分散剤の中でスクアリリウム系化合物、又は金属錯
体が占める割合は0.05〜50重量% 、好ましくは0.1 〜20
重量% である。

【００７５】必要に応じて使用される分散剤としては、
ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変
性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエス
テル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げら
れる。その使用量は、スクアリリウム系化合、又は金属
錯体に対して0.5 〜150 重量倍、好ましくは 0.5〜20重
量倍である。

【００７６】一般式（III）のスクアリリウム系化合物
は、５９０ｎｍ付近のネオン発光を効率的にカットし、
蛍光体の発光色である５００〜５３０ｎｍ付近の緑色発
光及び６００ｎｍより長波長の赤色発光はカットしない
ことが好ましい。この為には、スクアリリウム系色素の
透過率曲線はシャープなバレー型（谷型）を有している
ほうが良く、スクアリリウム系色素の透過率曲線の最小
値における波長は、５７０ｎｍ〜６０５ｎｍが好まし
く、５８０〜６００ｎｍがより好ましく、透過率曲線の
半値幅は、６０ｎｍ以下が好ましい。又、視野の明るさ
を確保する為、５９０ｎｍ付近の透過率曲線の最小値以
外には、スクアリリウム系化合物は、透過率曲線の極小
値を有さないことが好ましいが、有したとしても７０％
以上、より好ましくは８０％以上であり、可視光透過率
は好ましくは４０％以上であり、より好ましくは、５０
％以上である。一般式（IV）で表されるスクアリリウム
系色素を含有する本発明のフィルターは、青又は緑の蛍
光体発光を阻害しないように、４８０〜５２０ｎｍ付近
に透過率曲線の最小値を有し、透過率曲線はシャープな
バレー型（谷型）を有しているほうが良く、その透過率
曲線の半値幅は、６０ｎｍ以下であることが好ましく、
透過率曲線の最小値以外には透過率曲線の極小値を有さ
ないことが好ましい。又、青又は緑の蛍光体発光を阻害
しないように４５０ｎｍ、５００ｎｍ、５５０ｎｍの透
過率はそれぞれ７０％以上、３０％以上、７０％以上が
好ましい。

【００７７】一般式（Ｖ）の金属錯体は、７００〜９５
０ｎｍ付近に吸収を有することから、プラズマディスプ
レーから放射される近赤外線をカットし、リモコンや伝
送系光通信における誤動作を防止することが出来る。ス
クアリリウム系化合物、又は金属錯体を含む塗工液のコ
ーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプ
レー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコー
ト法、プレードコート法及びエアーナイフコート法等の
公知の塗工方法でコーティングされる。このとき膜厚
は、0.1 〜30μm 、好ましくは0.5 〜10μm となるよう
コーティングされる。

【００７８】本発明のプラズマディスプレイパネル用の
フィルターを構成する透明基板の材質としては、実質的
に透明であって、吸収、散乱が大きくない材料であれば
特に制限はない。具体的な例としては、ガラス、ポリオ
レフィン樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ(メタ) アクリル
酸エステル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホ
ン樹脂等を挙げることができる。

【００７９】これらの中では、特に非晶質ポリオレフィ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リ(メタ) アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹
脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が好ましい。上記の樹
脂には、一般的に公知である添加剤、耐熱老化防止剤、
滑剤、帯電防止剤、等や、シアニン系色素、アントラキ
ノン系色素、フタロシアニン系色素、ピロメテン系色
素、メチン系色素、スクアリリウム系色素等の本発明以
外の色素を配合することができる。

【００８０】また上記樹脂は、公知の射出成形、T ダイ
成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤
に溶融させてキャスティングする方法などを用い、フィ
ルムまたはシート(板) に成形される。その厚みとして
は、目的に応じて10μm 〜5mmの範囲が望ましい。かか
る透明基板を構成する基材は、未延伸でも延伸されてい
ても良い。また、他の基材と積層されていても良い。

【００８１】更に、該透明基板は、コロナ放電処理、火
炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、
薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカ
ーコート剤やプライマー等のコーティングを施しても良
い。本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルター
は、前記一般式(II)で表わされるスクアリリウム系化合
物、又は一般式(Ｖ)金属錯体をポリカーボネート樹脂に
直接溶解あるいは分散させて、得られたスクアリリウム
系化合物を含有する樹脂を、射出成形、T ダイ成形、カ
レンダー成形あるいは圧縮成形などの成形技術を用いて
成形、フィルム化し、必要に応じて他の透明基板と張り
合わせて製造することもできる。

【００８２】また本発明では、フィルターの耐光性を上
げるために酸化防止剤、紫外線吸収剤等を含有する層を
設けることが出来る。酸化防止剤としては、フェノール
系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤等を挙げることが出
来る。酸化防止剤を紫外線吸収剤と併用することにより
より効果が大となる。紫外線吸収剤によって遮断しきれ
なかった紫外光によるか、又は可視光線による色素の活
性化により生じる色素のラジカルを酸化防止剤が不活性
化することにより色素の耐光性が向上するものと考えら
れる。又、酸化防止剤のみでは、強い光が酸化防止剤に
当たる結果、酸化防止剤が酸化され、色素の連鎖酸化反
応が酸化防止剤の酸化により誘起され、かえって、色素
の耐光性が劣化することがある。

【００８３】また本発明では、フィルターの耐光性を上
げるために、色素を含有する層に紫外線吸収剤を含有す
る透明樹脂層を積層することが出来る。紫外線吸収剤を
含有する透明樹脂としては、ポリカーボネート樹脂の
他、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエチルアクリ
レート樹脂等のアクリレート系樹脂、ポリカーボネート
樹脂、エチレンービニルアルコール共重合樹脂、エチレ
ンー酢酸ビニル共重合樹脂、ＡＳ樹脂、ポリエステル樹
脂、塩酢ビ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ＰＶＰ
Ａ、ポリスチレン系樹脂、フェノール系樹脂、フェノキ
シ系樹脂、ポリスルフォン、ナイロン、セルロース系樹
脂、酢酸セルロース系樹脂等を使用することが出来る。
この場合、特開昭１０−２０４３０４号公報に記載され
ているような色素と同じ層内に紫外線吸収剤を含有する
方法より、紫外線吸収層を積層する本発明の方法は、色
素の耐光性向上効果が遥かに大である。積層方法として
は、色素を含有する層に接して積層しても良いし、色素
を含有する層を塗布した透明基板の色素を含有する層と
反対側に積層しても良い。このとき紫外線吸収剤を含有
層の膜厚は、0.1 〜30μm 、好ましくは0.5 〜10μm と
なるように積層する。又、紫外線吸収剤含有層を塗布し
て形成する代わりに、市販の紫外線カットフィルターを
積層して使用しても良い。この様なフィルターとして
は、シャープカットフィルターＳＣ−３８、ＳＣ−３
９、ＳＣ−４０（富士写真フィルム（株）製）、アクリ
プレン（三菱レーヨン（株）製）等を挙げることが出来
る。

【００８４】紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収
剤と無機系紫外線吸収剤が使用出来る。有機系紫外線吸
収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾ
フェノン系化合物、フェニルサルシレート、４−ｔ−ブ
チルフェニルサルシレート、２，５−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチ
ル−４’−ヒドロキシベンゾーエート等のヒドロキシベ
ンゾエート系化合物等を挙げることが出来る。無機系紫
外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリ
ウム、酸化鉄、硫酸バリウム等を挙げることが出来る。
紫外線吸収剤としては、５０％透過率での波長が３５０
〜４２０ｎｍが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ〜
４００ｎｍであり、３５０ｎｍより低波長では、紫外線
遮断能が弱く、４２０ｎｍより高波長では着色が強くな
り好ましくない。

【００８５】本発明のプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターは、近赤外線カット層や電磁波カット層を設け
たり、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する
反射防止層、ぎらつき防止(ノングレア) 層を設けるこ
とができる。これらの層の膜厚は、それぞれ、0.1 〜30
μm 、好ましくは0.5 〜10μm となるように積層する。

【００８６】近赤外線カット層は、プラズマディスプレ
ーから放射される近赤外線によるリモコンや伝送系光通
信における誤動作を防止する目的でディスプレーの前面
に設置する。近赤外線光のカット領域は特に問題になる
波長としてリモコンや伝送系光通信に、800 〜1000nmで
あり、その領域に吸収を有する近赤外線吸収物質を使用
する。この近赤外線吸収物質しては、本発明の金属錯体
の他、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化
合物、ジチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニ
ン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム系
化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合
物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウ
ム塩系化合物の近赤外線吸収色素、あるいは、カーボン
ブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ
などの近赤外線吸収化合物を、単独又は組み合わせて使
うことができる。

【００８７】電磁波カット層は、金属酸化物等の蒸着あ
るいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化
インジウムスズ(ITO) が一般的であるが、誘電体層と金
属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させるこ
とで1000nm以上の光をカットすることもできる。誘電体
層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属
酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀- パラジ
ウム合金が一般的であり、通常、誘電体層よりはじまり
3 層、5 層、7 層あるいは11層程度積層する。基材は、
該フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィル
ムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリング後
に、該フィルターと貼り合わせても良い。

【００８８】反射防止層は、表面の反射を抑えてフィル
ターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化
物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の
無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
−ティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるい
は多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂な
どの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させ
る方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルム
を該フィルター上に貼り付けることもできる。

【００８９】また、ぎらつき防止層（ノングレア層）も
設けることもできる。ノングレア層は、フィルターの視
野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリ
カ、メラミン、アクリル等の徴粉体をインキ化して、表
面にコーティングする方法などを用いることができる。
インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることが
できる。また、ノングレア処理をしたフィルムを該フィ
ルター上に貼り付けることもできる。更に必要であれば
ハードコート層を設けることもできる。

【００９０】本発明のプラズマディスプレイ用フィルタ
ーには最外層に粘着剤層を設けても良い。この粘着剤層
によりプラズマディスプレイの製造工程の途中、または
プラズマディスプレイの製造後、プラズマディスプレイ
の前面にこのフィルターを貼着することにより、ネオン
発光を効率的にカットでき、かつ耐光性にも優れたプラ
ズマディスプレイパネル表示装置を得ることができる。

【００９１】このようにすることにより、プラズマディ
スプレイ自体の前面に順番に近赤外線吸収層、電磁波シ
ールド層や他の層を設ける必要がなくなり、またフィル
ターがプラズマディスプレイと一体形成されるので、プ
ラズマディスプレイの薄肉化が可能となる。粘着剤層を
構成する粘着剤としては、スチレンブタジエンラバー、
ポリイソブチレン、天然ゴム、ネオプレン（登録商
標）、ブチルゴム等のゴム類やポリアクリル酸メチル、
ボリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のポリ
アクリル酸アルキルエステル等の低重合度ポリマ- 単独
もしくはこれらに粘着付与剤としてピッコライト、ポリ
ベール、ロジンエステル等を添加したもの等が挙げられ
る。

【００９２】プラズマディスプレイにフィルターを貼着
時、プラズマディスプレイの表面とフィルターとの間に
気泡が入ると画像が歪んだり、見にくくなったりする
等、実用上の大きな問題となるので気泡の巻き込みには
十分に注意する必要がある。また、プラズマディスプレ
イ自体、その表面が高温になるので、加熱によりガスが
発生するような粘着剤は避けるべきである。

【００９３】ガスの発生が考えられる場合には吸収剤等
の添加を考慮するのがよい。このような理由から、3mm
のガラス板に30μm のポリエステルフィルムを、3 0 μ
m の粘着剤で貼り合わせ、8 0 ℃で10日間保持後におけ
る１８０度剥離強度が300g/cm 以上、好ましくは400g/c
m 以上の粘着剤を用いるのが望ましい。具体的には、ポ
リアクリル酸アルキルエステル系等のポリマー系粘着
剤、又はスチレンブタジエンラバー、天然ゴム等のゴム
系粘着剤を、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エ
ステル系、エ- テル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化
水素系等の有機溶剤を単独又は複数混合した溶剤系に分
散又は溶解して粘度を調整したものをディッピング法、
フロ- コート法、スプレー法、バーコート法、グラビア
コート法、ロールコート法、プレードコート法及びエア
ーナイフコ- ト法等の塗工方法で塗工し、その後溶剤を
乾燥させ、粘着剤層とする。

【００９４】この際の粘着剤層の厚みは、通常、5 〜10
0 μm 、好ましくは10〜50μm である。粘着剤層の表面
に剥離フィルムを設け、粘着剤層にゴミ等が付着しない
ように、プラズマディスプレイの表面に張り付けるまで
粘着剤層を保護するのも良い。この場合、フィルターの
縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を
設けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む
等して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時
の作業がやりやすい。

【００９５】更に、このプラズマディスプレイパネル用
フィルターは単独はもちろん透明のガラスや他の透明樹
脂板等と貼り合わせた積層体として用いることができ
る。本願のプラズマディスプレイパネル用フィルターを
用いて、プラズマディスプレイパネル表示装置を得るに
は、プラズマディスプレイパネル表示装置として、公知
の表示装置あるいは市販品であれば特に限定なく用いる
ことができる。

【００９６】そのようなプラズマディスプレイパネル表
示装置とは、次のような原理によってカラー画像の表示
を行う装置である。前面ガラス板と背面ガラス板との間
に表示電極対と、２枚のガラス板の間に設けた各画素
（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青））に対応するセルを設
け、セルの中にキセノンガスやネオンガスを封入し、一
方セル内の背面ガラス板側に各画素に対応する蛍光体を
塗布しておく。表示電極間の放電によって、セル中のキ
セノンガスおよびネオンガスの励起発光し、紫外線が発
生する。そしてこの紫外線を蛍光体に照射することによ
って、各画素に対応する可視光が発生する。そして、背
面ガラス板にアドレス用電極を設け、このアドレス用電
極に信号を印加することにより、どの放電セルを表示す
るかを制御し、カラー画像の表示を行うものである。

【００９７】

【実施例】以下に、実施例により本発明の実施態様を説
明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものでは
ない。 実施例１−１ ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリ
エステルフィルム社製PET フィルム「T １００E 」、厚
み１００μm ）に、一般式（III）において、ｎ＝０、
ｍ＝３（置換位置は２、４、６位）のスクアリリウム系
化合物（III-1）の０．６３％ＤＭＥ（ジメトキシエタ
ン）溶液０．３６ｇ、一般式（I-1）で表されるポリカ
ーボネート樹脂（Mｖ=４００００, Tg=１８２℃）の１
０％溶液（ＤＭＥ／ジオキサン＝１／１(vol比)）３ｇ
を混合溶解し、バーコーター（NO.24；江藤器械（株）
製）で塗工し、乾燥して、膜厚３μm のコーティング層
を有するネオン発光カットフィルターを得た。

【００９８】このフィルターの透過率を日立分光光度計
（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における
波長は５７５ｎｍ、スペクトルの半値幅は５０．０ｎｍ
で透過率は、８．０９％であった。５７５ｎｍの最小値
の他には、透過率の極小値はなく、透過率の良好なフィ
ルターが得られた。上記のネオン発光カットフィルター
を１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を
行い、 日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色
素残存率（％）を測定した所、９７．１％であり、非常
に良好な耐熱性を示した。

【００９９】比較例１―１ 実施例１のポリカーボネート樹脂の２０％ＤＭＥ溶液３
ｇの代わりに、下記の構造

【０１００】

【化３０】

【０１０１】を構成単位とするポリカーボネート樹脂
（ユーピロン Ｅ−１０００、Ｍｖ＝３万、Tg=１５０
℃ ；三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製）
の１０％溶液（ＤＭＥ／ジオキサン＝１／１(vol比)）
を作成しようとしたが、樹脂が溶解せず、塗布液を作成
できなかった。 比較例１―２ 実施例１のポリカーボネート樹脂の２０％ＤＭＥ溶液３
ｇの代わりに、ポリエステル樹脂（バイロン２００、Tg
=６７℃；東洋紡（株）製）の１０％ジメトキシエタン
溶液３ｇを使用し、他は、同様にして処理して膜厚３μ
m、透過率の最小値における波長が５７６ｎｍのコーテ
ィング膜を得た。

【０１０２】このコーティング膜の１００℃の恒温槽に
１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計
（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定し
た所、８３．７％であり、耐熱性が劣っていた。 実施例１−２ 実施例１のコーティングフィルムのスクアリリウム系化
合物含有層面と反対側のポリエチレンテレフタレート樹
脂面上に、２−（２' −ヒドロキシ−３' ，５' −ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールの０．６３％
シクロヘキサノン溶液０．３６ｇ、ポリエステル樹脂
（バイロン２００；東洋紡（株）製）の２０％シクロヘ
キサノン溶液３ｇを混合し、バーコーターで塗工し、乾
燥して、膜厚６μm のコーティング膜を得た（紫外線吸
収層積層膜）。この紫外線吸収層の５０％透過率での波
長は３９０ｎｍであった。

【０１０３】キセノンフェードメーター（スガ試験機
（株）製 FAL-25AX-HC.B.EC）で上記のネオン発光カッ
トフィルターの耐光性の評価を紫外線吸収層面より露光
して行った（２８０Ｈｒ露光）。日立分光光度計（Ｕ−
３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、
８３．０％であり、良好な耐光性を示した。 実施例２ 実施例１−１の一般式（III）で、ｎ＝０、ｍ＝３（置
換位置は２、４、６位）のスクアリリウム系化合物（II
I-1）の０．６３％ジメトキシエタン溶液０．３６ｇの
代わりに、Ｒ＝ｎ−プロピル基、ｎ＝１（置換位置 ３
位）、ｍ＝２（置換位置 ２、４位）のスクアリリウム
系化合物（III-5）の０．６３％ＤＭＥ（ジメトキシエ
タン）溶液０．３６ｇを使用し、他は同様に処理して膜
厚６μmのコーティング層を有するネオン発光カットフ
ィルターを得た。

【０１０４】このフィルターの透過率を日立分光光度計
（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における
波長は５８４ｎｍ、スペクトルの半値幅は５９．４ｎｍ
で透過率は、２３．０２％であった。５８４ｎｍの最小
値の他には、透過率の極小値はなく、透過率の良好なフ
ィルターが得られた。上記のネオン発光カットフィルタ
ーを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験
を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色
素残存率（％）を測定した所、９５．０％であり、良好
な耐熱性を示した。

【０１０５】比較例３ 実施例２のポリカーボネート樹脂の２０％ＤＭＥ溶液３
ｇの代わりに、ポリエステル樹脂（ＵＥ−３６９０、Tg
=９０℃ ；ユニチカ（株）製）の１０％ジメトキシエ
タン溶液３ｇを使用し、他は、同様にして処理して膜厚
３μm、透過率の最小値における波長が５８５ｎｍのコ
ーティング膜を得た。

【０１０６】このコーティング膜の１００℃の恒温槽に
１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計
（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定し
た所、５０．４％であり、耐熱性が劣っていた。 実施例３ 実施例２で用いたスクアリリウム系化合物の代わりに、
一般式（IV）で表されるスクアリリウム系化合物であっ
て、Ｒ₃ ＝メチル基、Ｒ₄ ＝ｎ−プロピル基、Ｘ＝Ｏで
あるスクアリリウム系化合物（IV-3）の０．２５％ジメ
トキシエタン溶液０．３６ｇを使用し、他は同様に処理
して膜厚３μm のコーティング層を有するネオン発光カ
ットフィルターを得た。

【０１０７】このフィルターの透過率を日立分光光度計
（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における
波長は４９９ｎｍ、スペクトルの半値幅は４５．６ｎｍ
で透過率は、３４．６３％であった。４９９ｎｍの最小
値の他には、透過率の極小値はなく、透過率の良好なフ
ィルターが得られた。上記のネオン発光カットフィルタ
ーを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験
を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色
素残存率（％）を測定した所、９７．８％であり、良好
な耐熱性を示した。

【０１０８】比較例４ 実施例３で用いたポリカーボネート樹脂の１０％ＤＭＥ
溶液３ｇの代わりに、ポリエステル樹脂（バイロン２０
０、Tg=６７℃ ；東洋紡（株）製）の１０％ジメトキ
シエタン溶液３ｇを使用した他は同様にして、膜厚３μ
m、透過率の最小値における波長が５００ｎｍのコーテ
ィング膜を得た。

【０１０９】このコーティング膜の１００℃の恒温槽に
１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計
（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定し
た所、６２．１％であり、耐熱性が劣っていた。 実施例４ 下式（Ｖ−１）に示す近赤外線吸収色素の５．０％ＴＨ
Ｆ（テトラヒドロフラン）溶液０．１ｇ、一般式（I）
のポリカーボネート樹脂（Mｖ=４００００, Tg=１８２
℃）の１４．３％溶液（ＤＭＥ／ジオキサン＝１／１(v
ol比)）３．５ｇを混合溶解し、バーコーター（NO.24）
でポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポ
リエステルフィルム社製PET フィルム「T １００E 」、
厚み１００μm ）に塗工し、乾燥して、近赤外線吸収フ
ィルターを得た。

【０１１０】

【化３１】

【０１１１】このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光
度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８４
６ｎｍであった。更にこのフィルムに、三菱レーヨン製
ＵＶカットフィルター(アクリプレン)をかぶせ、キセノ
ンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−
ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時
間照射し、８４６ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測
定したところ、照射後の強度は、照射前の強度の９０．
９％であり、耐光性が高いことを確認した。

【０１１２】また、この近赤外線吸収フィルターを１０
０℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、
日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率
（％）を測定した所、９６．６％であり、非常に良好な
耐熱性を示した。 比較例５ 下式（Ｖ−１）に示す近赤外線吸収色素の５重量％ＴＨ
Ｆ溶液０．０６ｇに、ポリメチルメタクリレート樹脂
（商品名；ダイヤナールＢＲ−８０；ＭＷ（重量平均分
子量） =９５０００, Tg=１０５℃；三菱レイヨン株式
会社製品）のＴＨＦ／トルエン（＝１／１（vol比））
溶液（樹脂濃度２０重量％）を１．５ｇ添加し、超音波
洗浄機にて、完全に溶解させた後、この塗工液を、バー
コータ＃２４でポリエチレンテレフタレート製フィルム
（三菱化学ポリエステルフィルム社製PET フィルム「T
１００E 」、厚み１００μm ）に塗工し、乾燥すること
により、近赤外線吸収フィルムを得た。塗布膜厚は、約
６μｍであった。

【０１１３】このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光
度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８３
５ｎｍであった。このコーティング膜の１００℃の恒温
槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光
度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測
定した所、８３．８％であり、耐熱性が劣っていた。

【０１１４】

【発明の効果】本発明の特定のポリカーボネート樹脂を
色素含有層に用いることにより、耐熱性、耐光性等の耐
久性に優れたプラズマディスプレイ用フィルターを得る
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 CA04 CA09 CA12 CA13 CA14 CA19 CA27 5C040 GH01 GH03 KB11 KB14 5C058 AA11 AB05 BA35 5G435 AA01 BB06 DD12 GG11 HH01 HH02

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリカーボネート樹脂と色素を含有する
   層を有するプラズマディスプレイパネル用フィルターで
   あって、該ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量（Ｍ
   ｖ）が１００００〜９００００であり、かつガラス転移
   点（Ｔｇ）が１６０℃以上である樹脂であることを特徴
   とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
2. 【請求項２】 ポリカーボネート樹脂と色素とを含有す
   る層を有するプラズマディスプレイパネル用フィルター
   であって、該ポリカーボネート樹脂が、下記式（I−
   １） 【化１】 で表される構成単位を含有する樹脂であることを特徴と
   するプラズマディスプレイパネル用フィルター。
3. 【請求項３】 色素が下記一般式（Ｉ） 【化２】 〔式（II) 中、Ａ及びＢは、各々独立に、置換基を有し
   ていても良いアリール基、置換基を有していても良い複
   素環基、又は、ＣＨ＝Ｄ（ただし、Ｄは、置換基を有し
   ていても良い複素環基を表す。）を表す。〕で表される
   スクアリリウム系化合物であることを特徴とする請求項
   １〜２に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ
   ー。
4. 【請求項４】 スクアリリウム系化合物が下記一般式
   （III） 【化３】 〔式（III) 中、Ｒは、ハロゲン原子、置換基を有して
   いても良いアルキル基、置換基を有していても良いアル
   コキシ基又は置換基を有していても良いアルケニル基を
   表し、ｍは、１〜４の整数をｎは０〜４の整数を表
   す。〕で表されるスクアリリウム系化合物であることを
   特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネ
   ル用フィルター。
5. 【請求項５】 スクアリリウム系化合物が、前記一般式
   （II）において、Ａ及びＢが、置換基を有してもよいピ
   ラゾール基であることを特徴とする請求項３に記載のプ
   ラズマディスプレイパネル用フィルター。
6. 【請求項６】 色素が下記一般式（V） 【化４】 （式中、ＭはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｓ
   ｎまたはＣｕを表す。Ｒ ₁ 〜Ｒ₈ は、それぞれ独立に水
   素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基
   を有していてもよいアリール基、置換基を有していても
   よいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキ
   シ基、アリールオキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ア
   ミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表わし、Ｘ₁ 〜
   Ｘ₁₀は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ア
   ルコキシ基，アリールオキシ基、ニトロ基、シアノ基、
   置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していて
   もよいアリール基または置換基を有していてもよいアラ
   ルキル基を表す。）で表される金属錯体であることを特
   徴とする請求項１〜２に記載のプラズマディスプレイパ
   ネル用フィルター。
7. 【請求項７】 請求項１〜６に記載のプラズマディスプ
   レイパネル用フィルターに、さらに紫外線吸収剤を含有
   する層を積層したことを特徴とするプラズマディスプレ
   イパネル用フィルター。