JP2001350013A - プラズマディスプレイパネル用フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ネオン発光を有効にカットすることができ、
且つ、耐光性に優れたプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターを提供する。 【解決手段】 スクアリリウム系化合物、酸化防止剤及
び紫外線吸収剤を含有するプラズマディスプレイパネル
用フィルター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル用フィルターに関する。詳しくは、プラズマ
ディスプレイパネルから放射されるネオン発光を有効に
遮断することができるフィルターであって、特定のスク
アリリウム系化合物を含有し、耐光性の良好なフィルタ
ーに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々
の電子機器の表示パネルとしてプラズマディスプレイパ
ネルが使用され、その需要が増大し、今後もその数は益
々増加するものと考えられる。プラズマディスプレイで
は、放電によりキセノンとネオンの混合ガスが励起され
真空紫外線を放射し、その真空紫外線励起による赤、
青、緑のそれぞれの蛍光体の発光を利用して３原色発光
を得ている。その際、ネオン原子が励起された後基底状
態に戻る際に６００ｎｍ（５８０〜５９０ｎｍ）付近を
中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光する（映像
情報メディア学会誌 Vol.51 NO.4 P.459-463 (199
7） )。この為、プラズマディスプレイでは、赤色にオ
レンジ色が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点があ
る。

【０００３】一方、プラズマディスプレイ等の電子ディ
スプレイ装置用のフィルターが知られているが、これら
の多くは、電子ディスプレイから発生する紫外線等の有
害光線の遮断や、眩しさを抑えることを主目的とするも
ので、ネオン発光の遮断や、耐光性については不十分で
あった。また、例えば、特開平１０−２０４３０４号公
報には、視野の明るさを保ちつつ眩しさを抑えるフィル
ターとして、スクアリリウム系の有機色素、紫外線吸収
剤及び青色光吸収剤を含有するフィルターが提案されて
いるが、耐光性については、実用的観点からはこれでも
まだ不十分であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はネオン
発光を有効にカットすることができ、かつ、耐光性の良
好なプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供す
ることにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、種々検討を
重ね、特定のスクアリリウム系化合物を、酸化防止剤、
及び紫外線吸収剤と組み合わせて使用することにより上
記目的が達成されることを見出し、本発明に到達した。
即ち本発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）

【０００６】

【化５】

【０００７】〔式（Ｉ）中、Ａ及びＢは、それぞれ独立
して、置換基を有していても良いアリール基、置換基を
有していても良い複素環基、又は−ＣＨ＝Ｄ基（Ｄは置
換基を有していてもよい複素環基を表す）を表す。〕で
示されるスクアリリウム系化合物、酸化防止剤及び紫外
線吸収剤を含有することを特徴とするプラズマディスプ
レイパネル用フィルターに存する。本発明のフィルター
は、酸化防止剤を用いることにより、色素と紫外線吸収
剤を含有するフィルターに比し、耐光性が著しく優れて
いる。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明につき詳細に説明す
る。本発明のフィルターに使用するスクアリリウム系化
合物は、上記一般式（Ｉ）で示される。一般式（Ｉ）に
おいて、Ａ、Ｂは置換基を有していても良いアリール
基、例えばフェニル基、ナフチル基等；置換基を有して
いても良い複素環基、例えばピロール基等；−ＣＨ＝Ｄ
基で（Ｄは例えばベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾ
リル基等の複素環基で、更に置換基を有していても良
い。）を示すが、好ましくは置換基を有していても良い
フェニル基である。Ａ及びＢが置換基を有していても良
いフェニル基である場合は、下記一般式（II）で示され
るスクアリリウム系化合物が好ましい。

【０００９】

【化６】

【００１０】〔式(II) 中、Ｒ は、ハロゲン原子、置換
基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していて
もよいアルコキシ基、置換基を有していても良いアリー
ル基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又
は置換基を有していても良いアルケニル基を示す。ここ
で、隣接するＲが一緒になって、アルカンジイル基やア
ルキレンジオキシ基を形成していても良い。Ｒ′ は、
水素原子、又は１価の置換基を示し、Ｇ¹は、−ＮＲ″
−で表される基（ここで、Ｒ″は、水素原子、又はアル
キル基を示す。）、又は酸素原子を示し、Ｇ²は、カル
ボニル基、又はスルホニル基を示す（ここで、Ｇ²がス
ルホニル基の場合には、Ｒ′ は水素原子ではな
い。）。ｌ、ｍ、及びｎは０以上の整数であり、ｌ＋ｍ
＋ｎは５以下である。ただし、ベンゼン環上のこれらの
置換基は、他方のベンゼン環との間で互いに異なってい
てもよく、また、一方のベンゼン環において、ｍ及びｎ
が２以上であるとき、Ｒ¹ 、及びＧ¹−Ｇ²−Ｒ²で表さ
れる基は、同一環内の他の置換基との間で互いに異なっ
ていてもよい。〕一般式（II) において、置換基Ｒのハ
ロゲン原子としては、例えば、弗素原子、塩素原子、臭
素原子等が挙げられ、置換基Ｒ のアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、ペンタデシル基、シクロプロピル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐鎖若しくは環状
のものが挙げられ、置換基Ｒ のアルコキシ基として
は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘ
プチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、
ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオ
キシ基、ペンタデシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直
鎖若しくは分岐鎖のものが挙げられ、置換基Ｒ のアリ
ール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が
挙げられ、置換基Ｒ のアリールオキシ基としては、例
えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられ、
置換基Ｒ のアルケニル基としては、例えば、エテニル
基等が挙げられる。

【００１１】前記アルキル基、アルコキシ基、アリール
基、アリールオキシ基及びアルケニル基の置換基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、デシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基
等の炭素数１〜１０のアルキル基、メトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、
ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基、デシルオキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ
基、水酸基、又は、弗素原子、塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子等が挙げられる。又、上記Ｒは、隣接する
Ｒが一緒になって、プロパンジイル基、ブタンジイル
基、ペンタンジイル基、ヘキサンジイル基等のアルカン
ジイル基又はメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ
基、プロピレンジオキシ基等のアルキレンジオキシ基を
形成していても良い。置換基Ｒの好ましいものとして
は、次の(i) 〜(v) が例示できる。 (i)ハロゲン原子、(ii) 置換基として水酸基、アルコキ
シ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基等のアルキコキシカルボニル基；
アセチルオキシカルボニル基、プロピオニルオキシカル
ボニル基等のアシルオキシカルボニル基；メトキシカル
ボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ブトキ
シカルボニルオキシ基等のアルコキシカルボニルオキシ
基、ハロゲン原子等を有していても良い炭素数１〜２０
の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基、

【００１２】(iii) 置換基として炭素数１〜８のアルコ
キシ基又はハロゲン原子を有していても良いする炭素数
１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルコキシ基、(iv) 置
換基としてアルキル基；フェニル基、４−ヒドロキシフ
ェニル基、４−アルコキシ（例えば、炭素数１〜１０の
アルコキシ基）フェニル基、３，４−ビスアルコキシ
（例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ基）フェニル
基、３，５−ビスアルコキシ（例えば、炭素数１〜１０
のアルコキシ基）フェニル基、３，４，５−トリスアル
コキシ（例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ基）フェ
ニル基等のアルコキシき置換フェニル基を有していても
良いアルケニル基

【００１３】(v) アルキル基、アルコキシ基、或いはハ
ロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基
又はアリールオキシ基。

【００１４】これらのうち、炭素数１〜６の直鎖もしく
は分岐鎖のアルキル基；ヒドロキシ基もしくはアルコキ
シカルボニル基で置換された炭素数１〜６の直鎖もしく
は分岐鎖のアルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；
または置換基を有するエテニル基が特に好ましい。

【００１５】前記一般式(II) におけるＲ′ の１価の置
換基としては、例えば、前記Ｒにおけるアルキル基とし
て挙げたと同様のアルキル基、前記Ｒ¹ におけるアルコ
キシ基として挙げたと同様のアルコキシ基、前記Ｒ に
おけるアリール基として挙げたと同様のアリール基、前
記Ｒ におけるアリールオキシ基として挙げたと同様の
アリールオキシ基、アミノ基、及び、３−ピリジル基、
２−フリル基、２−テトラヒドロフリル基、２−チエニ
ル基等の複素環基等が挙げられる。上記、アルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基及び複素
環基の置換基としては、炭素数１〜１０のアルキル基、
炭素数１〜１０のアルコキシ基、ハロゲン原子、又は、
前記アリール基等が挙げられ、上記アミノ基の置換基と
しては、アルキル基又はアリール基が挙げられる。

【００１６】置換基Ｒ′の好ましいものとしては、次の
(i) 〜(vi) が例示できる。 (i)シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、或
いはハロゲン原子を置換基として有していてもよい直鎖
若しくは分岐鎖アルキル基、(ii)アルコキシ基、(iii)
直鎖若しくは分岐鎖アルキル基を置換基として有してい
てもよいシクロアルキル基、(iv)アルキル基、アルコキ
シ基、或いはハロゲン原子を置換基として有していても
よいアリール基又はアリールオキシ基、(v)アルキル基
を置換基として有していてもよいアミノ基、(vi)複素環
基。これらのうち、炭素数１〜８の直鎖若しくは分岐鎖
アルキル基、炭素数１〜８の直鎖若しくは分岐鎖アルコ
キシ基、シクロヘキシル基、フェニル基、フェノキシ
基、アミノ基、２−フリル基、又は２−テトラヒドロフ
リル基がさらに好ましく、特に炭素数１〜８の直鎖若し
くは分岐鎖アルキル基が好ましい。

【００１７】前記一般式(I) におけるＧ¹は、ＮＨ基、
メチルアミノ基、エチルアミノ基等の−ＮＲ″−で表さ
れる基（ここで、Ｒ″は水素原子又はアルキル基であ
る。）又は酸素原子であり、このうち−ＮＲ″−で表さ
れる基が好ましく、特にＮＨ基が好ましい。前記一般式
(I) におけるＧ²としては、スルホニル基が好ましい。
Ｇ¹−Ｇ²−Ｒ′で表される基として、特に好ましい置換
基としては、アルキルスルホニルアミノ基、ハロアルキ
ルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、
ハロアリールスルホニルアミノ基、アルキルアリールス
ルホニルアミノ基、アルコキシアリールスルホニルアミ
ノ基が挙げられる。ｌ、ｎ及びｍは０以上の整数であ
り、ｌ＋ｍ＋ｎは５以下である。好ましくはｌが１以上
であり、ｌ＋ｎが２以上であることがより好ましい。置
換基Ａ，Ｂが置換基を有していても良いピロール基の場
合の好ましいスクアリリウム系化合物は、下記一般式
（Ｖ) で表される。

【００１８】

【化７】

【００１９】〔式（Ｖ）中、Ｒ₆ 、Ｒ₇ は、それぞれ独
立して、アルキル基、又は置換基を有していても良いフ
ェニル基を表し、ｓは０〜３の整数を表す。〕置換基
Ａ，Ｂが−ＣＨ＝Ｄ基の場合の好ましいスクアリリウム
系化合物は、下記一般式（VI) で表される。

【００２０】

【化８】

【００２１】〔式（VI）中、Ｒ₈ は置換基を有していて
も良いアルキル基、Ｒ₉ は置換基を有していても良いア
ルキル基、又はハロゲン原子を表し、ｔは０〜４の整数
を表す。Ｒ₈ 及びＲ₉ がアルキル基の場合、同じでも異
なっていてもよい。Ｘは硫黄原子、酸素原子又は＝ＣＲ
₁₀Ｒ₁₁基を表し、Ｒ₁₀，Ｒ₁₁はそれぞれアルキル基を表
す。〕 一般式（Ｖ）及び（VI）において、Ｒ₆ 、Ｒ₇ 、Ｒ₈ 、
Ｒ₉ で示されるアルキル基としては、一般式（II）のＲ
と同様のアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数１〜
６のアルキル基である。Ｒ₉ 及びＲ₁₀としてはメチル基
又はエチル基が好ましい。一般式（Ｉ) 、一般式（I
I）、一般式（Ｖ) 及び一般式（VI) で示されるスクア
リリウム系化合物の一部は公知の化合物であり、一部は
新規化合物であるが何れも、例えば、Angew.Chem．77
680-681 (1965) 記載の方法あるいはそれらに準じて製
造することが出来る。即ち、下記一般式（VII)

【００２２】

【化９】

【００２３】〔式中、Ｒ、Ｒ′、Ｇ¹、Ｇ²、ｌ、ｍ、ｎ
は、式（II）と同じ意義を示す。〕で表されるフェノー
ル系化合物２モル、又は下記一般式（VIII）

【００２４】

【化１０】

【００２５】〔式中、Ｒ₆ 、Ｒ₇ およびｓは、式（Ｖ）
と同じ意義を示す。〕で表されるピロール系化合物２モ
ル、又は下記一般式（IX）

【００２６】

【化１１】

【００２７】〔式中、Ｒ₈ 、Ｒ₉ 、Ｘおよびｔは、式
（VI）と同じ意義を示す。〕で表される化合物２モルに
対し、それぞれ、スクアリック酸１モルをエタノール、
酢酸、ｎ−ブチルアルコール−トルエン混合溶媒、ｎ−
ブチルアルコール−ベンゼン混合溶媒等の中で、７０〜
１５０℃程度に加熱しながら脱水縮合させることにより
合成することが出来る。下記に一般式（Ｉ）で示される
スクアリリウム系化合物の具体例を示すが、本発明のス
クアリリウム系化合物はこれらに限定されるものではな
い。

【００２８】

【表１】

【００２９】

【表２】

【００３０】一般式（II）のうち好ましいスクアリリウ
ム化合物の例を次に示す。

【００３１】

【表３】

【００３２】

【表４】

【００３３】

【表５】

【００３４】

【表６】

【表７】

【００３５】一般式（Ｖ）のうち好ましいスクアリリウ
ム化合物の例を次に示す。

【００３６】

【表８】

【００３７】

【表９】

【００３８】一般式（VI）のうち好ましいスクアリリウ
ム化合物の例を次に示す。

【００３９】

【表１０】

【００４０】本発明のフィルターには、上記スクアリリ
ウム系化合物と共に酸化防止剤と紫外線吸収剤を併用す
ることによりフィルターの耐光性を著るしく向上させる
ことができる。酸化防止剤は紫外線吸収剤と併用するこ
とによって、紫外線吸収剤によって遮断しきれなかった
紫外光によるか、又は可視光線によるスクアリリウム系
化合物の活性化により生じるスクアリリウム系化合物の
ラジカルを酸化防止剤が不活性化することにより、スク
アリリウム系化合物の耐光性が向上するものと考えられ
る。なお、酸化防止剤のみでは、強い光が酸化防止剤に
当たる結果、酸化防止剤が酸化され、スクアリリウム系
化合物の連鎖酸化反応が酸化防止剤の酸化により誘起さ
れ、返って、スクアリリウム系化合物の耐光性が劣化す
ることがある。本発明のフィルターに使用される酸化防
止剤としては、特に限定されるものではないが、下記一
般式（III)で示されるフェノール系酸化防止剤、又は下
記一般式（IV）で示されるリン系化合物が好ましい。

【００４１】

【化１２】

【００４２】〔式（III)) 中、Ｒ₁ は、ｔ−ブチル基又
はシクロヘキシル基を表し、Ｒ₂ 及びＲ₃ の少なくとも
一方は置換基を有するアルキル基を表し、他方は、置換
基を有していても良いアルキル基を表す。〕。

【００４３】

【化１３】

【００４４】〔式（IV) 中、環Ｃは、アルキル基で置換
されていても良いフェニル基を表し、Ｒ₄ は、置換基を
有していても良いアルキル基を表し、Ｒ₅ は、置換基を
有していても良いアルキル基又は置換基を有していても
良いフェニル基を表し、ｐ、ｑ、ｒは、０〜３の整数を
表し、ｐ＋ｑ＋ｒ＝３を表す。〕。一般式（IV）で示さ
れるリン系化合物の中、ｐが２以上の場合がより好まし
く、この場合、複数の環Ｃ同志が連結して更に環を形成
していてもよい。本発明に使用される好ましい酸化剤の
具体例を下記の表−７及び表−８に示すが、本発明の酸
化剤はこれらに限定されるものではない。

【００４５】

【表１１】

【００４６】

【表１２】

【００４７】

【表１３】

【００４８】

【表１４】

【００４９】本発明のフィルターに使用されるもう一つ
の成分である紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収
剤と無機系紫外線吸収剤が使用出来る。有機系紫外線吸
収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾ
フェノン系化合物、フェニルサルシレート、４−ｔ−ブ
チルフェニルサルシレート、２，５−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチ
ル−４’−ヒドロキシベンゾーエート等のヒドロキシベ
ンゾエート系化合物等を挙げることが出来る。無機系紫
外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリ
ウム、酸化鉄、硫酸バリウム等を挙げることが出来る。
紫外線吸収剤としては、５０％透過率での波長が３５
０〜４２０ｎｍが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ
〜４００ｎｍであり、３５０ｎｍより低波長では、紫外
線遮断能が弱く、４２０ｎｍより高波長では着色が強く
なり好ましくない。

【００５０】本発明のプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターの製法は特に限定されるものではなく種々の方
法が採用される。例えば、フィルムあるいはシート等に
成形された透明基板上に、前記一般式（Ｉ）で表される
スクアリリウム系化合物、酸化防止剤及び紫外線吸収剤
を含有する層を形成することにより、容易に製造され
る。スクアリリウム系化合物を含有する層は、通常、該
化合物を含有する塗工液を透明基板上に塗布することに
より形成される。塗工液は、スクアリリウム系化合物を
バインダーと共に有機溶剤に溶解させる方法、又は粒径
0.1 〜３μm に微粒化したスクアリリウム系化合物を、
必要に応じ分散剤を用い、バインダーと共に溶剤に分散
させる方法等により調製される。このとき溶剤に溶解、
又は分散されるスクアリリウム系化合物、バインダー、
分散剤等固形分の塗工液に対する含有量は0.5 〜5 0 重
量% で、スクアリリウム系化合物、バインダー、分散剤
の中でスクアリリウム系化合物が占める割合は0.05〜50
重量% 、好ましくは0.1 〜20重量% である。

【００５１】必要に応じて使用される分散剤としては、
ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変
性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエス
テル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げら
れる。その使用量は、スクアリリウム系化合物に対して
0.5 〜150 重量倍、好ましくは 0.5〜20重量倍である。
又、必要に応じて、色調調整、コントラスト改善、色温
度改善の目的で、黄色、橙色、青色、緑色、又は赤色系
の色素等を適宜混合して用いても良い。

【００５２】使用されるバインダーとしては、ポリメチ
ルメタクリレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂等
のアクリレート系樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレ
ンービニルアルコール共重合樹脂、エチレンー酢酸ビニ
ル共重合樹脂、ＡＳ樹脂、ポリエステル樹脂、塩酢ビ樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂、ＰＶＰＡ、ポリスチレ
ン系樹脂、フェノール系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリ
スルフォン、ナイロン、セルロース系樹脂、酢酸セルロ
ース系樹脂等の透明樹脂が挙げられる。その使用量はス
クアリリウム系化合物に対して、10〜500 重量倍、好ま
しくは50〜350重量倍である。

【００５３】一般式（Ｉ）のスクアリリウム系化合物を
含有する層の透過率曲線の最小値における波長は、使用
するバインダーにより異なる値を示すので、６００ｎｍ
付近のネオン発光を有効にカットする為には、スクアリ
リウム系化合物の種類に応じたバインダー樹脂を選ぶこ
とが好ましい。その際、６００ｎｍ付近のネオン発光を
効率的にカットし、蛍光体の発光色である５００〜５３
０ｎｍ付近の緑色発光及び６００ｎｍより長波長の赤色
発光はカットしない様にスクアリリウム系化合物とバイ
ンダー樹脂の組み合わせを選択することが好ましい。こ
の為には、スクアリリウム系化合物の透過率曲線はシャ
ープなバレー型（谷型）を有しているほうが良く、スク
アリリウム系化合物の透過率曲線の最小値における波長
は、５７０ｎｍ〜６０５ｎｍが好ましく、５８０〜６０
０ｎｍがより好ましい。透過率曲線の最小値としてはネ
オン発光をを抑えることを目的にしていることから、好
ましくは２０％以下、更に好ましくは１５％以下であ
り、シャープなバレー型（谷型）を有しているほうが良
いことから、最小透過率が１０％の場合、５０％透過率
における幅は、６０ｎｍ以下が好ましい。又、視野の明
るさを確保する為、６００ｎｍ付近の透過率曲線の最小
値以外には、スクアリリウム系化合物は、透過率曲線の
極小値を有さないことが好ましいが、有したとしても７
０％以上、より好ましくは８０％以上であり、可視光透
過率は好ましくは４０％以上であり、より好ましくは、
５０％以上である。また、本発明のスクアリリウム系化
合物の耐光性はバインダー樹脂により異なる。バインダ
ー樹脂として、ポリエステル樹脂を用いた場合、スクア
リリウム系化合物の耐光性が、より良好である。

【００５４】スクアリリウム系化合物を含む塗工液のコ
ーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプ
レー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコー
ト法、プレードコート法及びエアーナイフコート法等の
公知の塗工方法でコーティングされる。このとき膜厚
は、0.1 〜30μm 、好ましくは0.5 〜10μm となるよう
にコーティングされる。本発明のプラズマディスプレイ
パネル用のフィルターを構成する透明基板の材質として
は、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない材
料であれば特に制限はない。具体的な例としては、ガラ
ス、ポリオレフィン樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、
ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メ
タ) アクリル酸エステル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエ
ーテルサルホン樹脂等を挙げることができる。これらの
中では、特に非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ) アクリル酸
エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサル
ホン樹脂等が好ましい。

【００５５】上記の樹脂には、一般的に公知である添加
剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防止剤等を配合するこ
とができる。また上記樹脂は、公知の射出成形、T ダイ
成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤
に溶融させてキャスティングする方法などを用い、フィ
ルムまたはシート（板) に成形される。その厚みとして
は、目的に応じて10μm 〜5mm の範囲が望ましい。かか
る透明基板を構成する基材は、未延伸でも延伸されてい
ても良い。また、他の基材と積層されていても良い。更
に、該透明基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズ
マ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従
来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプ
ライマー等のコーティングを施しても良い。

【００５６】本発明のプラズマディスプレイパネル用フ
ィルターは、前記一般式（Ｉ) で表わされるスクアリリ
ウム系化合物、紫外線吸収剤、酸化剤の少なくとも一種
を透明基板を構成する各種樹脂あるいは他の樹脂に直接
溶解あるいは分散させて、得られたスクアリリウム系化
合物を含有する樹脂を、射出成形、Ｔダイ成形、カレン
ダー成形あるいは圧縮成形などの成形技術を用いて成
形、フィルム化し、必要に応じて他の透明基板と張り合
わせて製造することもできる。更に、前記塗工液のコー
ティング法に代えて、前記一般式（Ｉ) で表わされるス
クアリリウム系化合物を透明基板を構成する樹脂シート
あるいはフィルムその他の樹脂シート（板) またはフィ
ルムに染着させ、必要に応じて他の透明基板と張り合わ
せて製造することもできる。

【００５７】本発明で使用する酸化防止剤は、上記のス
クアリリウム系化合物を含有する層と同じ層に存在させ
ても、或いは別の層に存在させても良いが、スクアリリ
ウム系化合物と同一層内に存在させる方が耐光性に優れ
るので好ましい。同じ層に存在させる場合は、通常、ス
クアリリウム系化合物を含有する塗工液に混合して用い
る。また別の層に存在させるときは、スクアリリウム系
化合物の場合と同様にして得られる塗工液を用いて積層
すればよい。酸化防止剤の使用量は、その種類により異
なるが、通常バインダー樹脂に対して０．０１〜２０重
量％、好ましくは０．５〜１０重量％である。

【００５８】また本発明フィルターには、更に紫外線吸
収剤を含有させる。紫外線吸収剤もスクアリリウム系化
合物を含有する層に含有させても、或いは紫外線吸収剤
を含有する透明樹脂層をスクアリリウム系化合物を含有
する層に積層してもよいが、特開昭１０−２０４３０４
号公報に記載されているような、スクアリリウム系化合
物と同じ層内に紫外線吸収剤を含有させる方法より、紫
外線吸収剤含有層を積層する方が、スクアリリウム系化
合物の耐光性向上効果が遥かに大である。特に、フィル
ターの外光側に紫外線吸収剤含有層を設け、フィルター
のプラズマディスプレイパネル側にスクアリリウム系化
合物含有層を積層するのが好ましい。

【００５９】透明樹脂層に使用する樹脂としては、前記
のスクアリリウム系化合物のバインダーとして挙げた樹
脂を使用することが出来る。紫外線吸収剤含有層の積層
方法としては、スクアリリウム系化合物を含有する層に
接して積層しても良いし、スクアリリウム系化合物を含
有する層を塗布した透明基板のスクアリリウム系化合物
を含有する層と反対側に積層しても良い。このとき紫外
線吸収剤含有層の膜厚は、0.1 〜30μm 、好ましくは0.
5 〜10μm となるように積層する。又、紫外線吸収剤含
有層を塗布して形成する代わりに、市販の紫外線カット
フィルターを使用して積層しても良い。この様なフィル
ターとしては、シャープカットフィルターＳＣ−３８、
ＳＣ−３９、ＳＣ−４０（富士写真フィルム（株）製）
等を挙げることが出来る。本発明のプラズマディスプレ
イパネル用フィルターには、必要に応じ、更に近赤外線
カット層や電磁波カット層を設けたり、表面への蛍光灯
などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき
防止( ノングレア) 層を設けることができる。これらの
層の膜厚は、それぞれ、0.1 〜30μm 、好ましくは0.5
〜10μm となるように積層する。

【００６０】近赤外線カット層は、プラズマディスプレ
ーから放射される近赤外線によるリモコンや伝送系光通
信における誤動作を防止する目的でディスプレーの前面
に設置する。近赤外線光のカット領域は、特に問題にな
る波長としてリモコンや伝送系光通信では、800 〜1000
nmであり、その領域に吸収を有する近赤外線吸収物質を
使用する。この近赤外線吸収物質しては、ニトロソ化合
物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、ジチオールニ
ッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化
合物、フタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化
合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、ナ
フトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ
化合物、アミニウム塩系化合物の近赤外線吸収色素、あ
るいは、カーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸
化アンチモンスズなどの近赤外線吸収化合物を、単独又
は組み合わせて使うことができる。

【００６１】電磁波カット層は、金属酸化物等の蒸着あ
るいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化
インジウムスズ(ITO) が一般的であるが、誘電体層と金
属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させるこ
とで1000nm以上の光をカットすることもできる。誘電体
層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属
酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジ
ウム合金が一般的であり、通常、誘電体層よりはじまり
3 層、5 層、7 層あるいは11層程度積層する。基材は、
該フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィル
ムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリング後
に、該フィルターと貼り合わせても良い。

【００６２】反射防止層は、表面の反射を抑えてフィル
ターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化
物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の
無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
−ティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるい
は多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂な
どの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させ
る方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルム
を該フィルター上に貼り付けることもできる。また、ぎ
らつき防止層（ノングレア層）も設けることもできる。
ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、
透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリ
ル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする
方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬
化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノング
レア処理をしたフィルムを該フィルター上に貼り付ける
こともできる。更に必要であればハードコート層を設け
ることもできる。

【００６３】本発明のプラズマディスプレイ用フィルタ
ーには最外層に粘着剤層を設けても良い。この粘着剤層
によりプラズマディスプレイの製造工程の途中、または
プラズマディスプレイの製造後、プラズマディスプレイ
の前面にこのフィルターを貼着することにより、ネオン
発光を効率的にカットでき、かつ耐光性にも優れたプラ
ズマディスプレイパネル表示装置を得ることができる。
このようにすることにより、プラズマディスプレイ自体
の前面に順番に近赤外線吸収層、電磁波シールド層や他
の層を設ける必要がなくなり、またフィルターがプラズ
マディスプレイと一体形成されるので、プラズマディス
プレイの薄肉化が可能となる。

【００６４】粘着剤層を構成する粘着剤としては、スチ
レンブタジエンラバー、ポリイソブチレン、天然ゴム、
ネオプレン、ブチルゴム等のゴム類やポリアクリル酸メ
チル、ボリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等
のポリアクリル酸アルキルエステル等の低重合度ポリマ
ー単独もしくはこれらに粘着付与剤としてピッコライ
ト、ポリベール、ロジンエステル等を添加したもの等が
挙げられる。プラズマディスプレイにフィルターを貼着
時、プラズマディスプレイの表面とフィルターとの間に
気泡が入ると画像が歪んだり、見にくくなったりする
等、実用上の大きな問題となるので気泡の巻き込みには
十分に注意する必要がある。

【００６５】また、プラズマディスプレイ自体、その表
面が高温になるので、加熱によりガスが発生するような
粘着剤は避けるべきである。ガスの発生が考えられる場
合には吸収剤等の添加を考慮するのがよい。このような
理由から、3mm のガラス板に30μm のポリエステルフィ
ルムを、3 0 μm の粘着剤で貼り合わせ、8 0 ℃で10日
間保持後における１８０度剥離強度が300g/cm 以上、好
ましくは400g/cm 以上の粘着剤を用いるのが望ましい。

【００６６】具体的には、ポリアクリル酸アルキルエス
テル系等のポリマー系粘着剤、又はスチレンブタジエン
ラバー、天然ゴム等のゴム系粘着剤を、ハロゲン系、ア
ルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、脂肪
族炭化水素系、芳香族炭化水素系等の有機溶剤を単独又
は複数混合した溶剤系に分散又は溶解して粘度を調整し
たものをディッピング法、フローコート法、スプレー
法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート
法、プレードコート法及びエアーナイフコート法等の塗
工方法で塗工し、その後溶剤を乾燥させ、粘着剤層とす
る。

【００６７】この際の粘着剤層の厚みは、通常、5 〜10
0 μm 、好ましくは10〜50μm である。粘着剤層の表面
に剥離フィルムを設け、粘着剤層にゴミ等が付着しない
ように、プラズマディスプレイの表面に張り付けるまで
粘着剤層を保護するのも良い。この場合、フィルターの
縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を
設けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む
等して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時
の作業がやりやすい。更に、このプラズマディスプレイ
パネル用フィルターは単独はもちろん透明のガラスや他
の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いること
ができる。

【００６８】本願のプラズマディスプレイパネル用フィ
ルターを用いて、プラズマディスプレイパネル表示装置
を得るには、プラズマディスプレイパネル表示装置とし
て、公知の表示装置あるいは市販品であれば特に限定な
く用いることができる。そのようなプラズマディスプレ
イパネル表示装置とは、次のような原理によってカラー
画像の表示を行う装置である。前面ガラス板と背面ガラ
ス板との間に表示電極対と、２枚のガラス板の間に設け
た各画素（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青））に対応する
セルを設け、セルの中にキセノンガスやネオンガスを封
入し、一方セル内の背面ガラス板側に各画素に対応する
蛍光体を塗布しておく。表示電極間の放電によって、セ
ル中のキセノンガスおよびネオンガスの励起発光し、紫
外線が発生する。そしてこの紫外線を蛍光体に照射する
ことによって、各画素に対応する可視光が発生する。そ
して、背面ガラス板にアドレス用電極を設け、このアド
レス用電極に信号を印加することにより、どの放電セル
を表示するかを制御し、カラー画像の表示を行うもので
ある。

【００６９】

【実施例】以下に、実施例により本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に制約されるものではない。 製造例１ ジフェニルスクアリリウム系化合物（II−
５）の製造 １−ｎ−プロピル−２，４，６−トリヒドロキシベンゼ
ン０．５４ｇ、３，４−ジヒドロキシ−３−シクロブテ
ン−１，２−ジオン０．１８ｇ及び酢酸１５ｍｌを反応
器に加え、４時間加熱還流した。次いで、反応混合物を
放冷し、沈殿物を濾取し、メタノールと水の１：１混合
溶媒で洗浄し、乾燥して目的とする表−２記載の化合物
（II）−５を０．３２ｇ得た。 可視部吸収 λmax ；５７７ｎｍ（テトラヒドロフラ
ン） マススペクトル ＭＡＬＤＩ（ＮＥＧＡ）法；ｍ／ｚ＝
４１３（Ｍ−Ｈ）

【００７０】製造例２ ジフェニルスクアリリウム系化
合物（II−２８）、（II−２９）及び（II−３０）の製
造 エタンスルフォン酸（３，５−ジヒドロキシフェニル）
−アミド６２．２ｇ、３，４−ジヒドロキシ−３−シク
ロブテン−１，２−ジオン１５．６ｇ、溶媒としてトル
エン１５０ｍｌとｎ−ブタノール１５０ｍｌとを用いた
以外は実施例１と同様の操作で反応を行い、反応物３
５．２ｇを得た。 可視部吸収：λmax ＝５９３ｎｍ（テトラヒドロフラ
ン） 分子吸光係数＝２．０×１０⁵（ＴＨＦ） 尚、¹Ｈ−ＮＭＲにより、前記具体例(I- 34)、(I-35)、
(I-36)の２２：６０：１８の混合物であることが確認さ
れた。¹ Ｈ−ＮＭＲ（５００MHz，ｄ₈−ＴＨＦ，５０℃，δ（p
pm）） （I-34）＝ 6.80(2H,d)、5.98(2H,d)、3.31−3.20(4H,
m)、1.34−1.29(6H,m) (I-35) ＝ 6.82(1H,d)、6.26(2H,ｓ)、5.99(1H,d)、3.
31−3.20(4H,m)、1.34−1.29(6H,m) （I-36）＝ 6.28(２H,ｓ)、3.31−3.20(２H,m)、1.34
−1.29(6H, m)

【００７１】実施例１ １）製造例１で得られたスクアリリウム系化合物［表−
２、（II）−２］の０．６３％ＤＭＥ（ジメトキシエタ
ン）溶液０．３６ｇ、ポリエステル樹脂（バイロン２０
０；東洋紡績（株）製）の２０％ＤＭＥ溶液３ｇ、及び
酸化防止剤として、表−７記載の化合物（III)−１を
０．０１２ｇ混合溶解し、塗工液を調製した。この塗工
液を、ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化
学ポリエステルフィルム社製PET フィルム「T １００E
」、厚み１００μm ）に、乾燥膜厚６μｍのコーティ
ング膜となるようにバーコーターで塗工した。このコー
ティングフィルムの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５
００）で測定した。透過率曲線を図−１に示した。透過
率の最小値における波長は５８５ｎｍであった。５８５
ｎｍの最小値の他には、透過率の極小値はなく、透過率
の良好なネオン発光カットフィルターが得られた。

【００７２】２）上記１）のコーティングフィルムのス
クアリリウム系化合物含有層面と反対側のポリエチレン
テレフタレート樹脂面上に、２−（２' −ヒドロキシ−
３'，５' −ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール（紫外線吸収剤）の０．６３％シクロヘキサノン溶
液０．３６ｇ及びポリエチレンテレフタレート樹脂（バ
イロン２００；東洋紡（株）製）の２０％シクロヘキサ
ノン溶液３ｇの混合溶液を、バーコーターで塗工し、乾
燥して、膜厚６μm のコーティング膜を得た（紫外線吸
収層積層膜）。この紫外線吸収層の５０％透過率での波
長は３９０ｎｍであった。キセノンフェードメーター
（スガ試験機（株）製 FAL-25AX-HC.B.EC）で上記のネ
オン発光カットフィルターの耐光性の評価を紫外線吸収
層面より露光して行った（２８０Ｈｒ露光）。日立分光
光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を
測定したところ、９０．６％であり、良好な耐光性を示
した。

【００７３】実施例２ 実施例１で用いた酸化防止剤の代わりに、表−７記載の
化合物（III)−２を０．０１２ｇ使用し、他は実施例１
と同様に処理して、膜厚６μｍ、透過率の最小値におけ
る波長が５８５ｎｍのコーティング膜を得た。実施例１
と同様に、紫外線吸収層積層膜を積層し、耐光性の評価
を紫外線吸収層面より露光して行った（２８０Ｈｒ露
光）。色素残存率（％）を測定したところ、８９．７％
であり、良好な耐光性を示した。

【００７４】実施例３ 実施例１で用いた酸化防止剤の代わりに、表−７記載の
化合物（III)−３を０．０１２ｇ使用し、他は実施例１
と同様に処理して、膜厚６μｍ、透過率の最小値におけ
る波長が５８５ｎｍのコーティング膜を得た。実施例１
と同様に、紫外線吸収層積層膜を積層し、耐光性の評価
を紫外線吸収層面より露光して行った（２８０Ｈｒ露
光）。色素残存率（％）を測定したところ、８９．２％
であり、良好な耐光性を示した。

【００７５】実施例４ 実施例１で用いた酸化防止剤の代わりに、表−７記載の
化合物（III)−４を０．０１２ｇ使用し、他は実施例１
と同様に処理して、膜厚６μｍ、透過率の最小値におけ
る波長が５８５ｎｍのコーティング膜を得た。実施例１
と同様に、紫外線吸収層積層膜を積層し、耐光性の評価
を紫外線吸収層面より露光して行った（２８０Ｈｒ露
光）。色素残存率（％）を測定したところ、８６．７％
であり、良好な耐光性を示した。

【００７６】実施例５ 実施例１で用いた酸化防止剤の代わりに、表−８記載の
化合物（IV) −１を０．０１２ｇ使用し、他は実施例１
と同様に処理して、膜厚６μｍ、透過率の最小値におけ
る波長が５８５ｎｍのコーティング膜を得た。実施例１
と同様に、紫外線吸収層積層膜を積層し、耐光性の評価
を紫外線吸収層面より露光して行った（２８０Ｈｒ露
光）。色素残存率（％）を測定したところ、８９．２％
であり、良好な耐光性を示した。

【００７７】比較例１ 実施例１の酸化防止剤を使用しないで、他は実施例１と
同様に処理して、膜厚６μｍ、透過率の最小値における
波長が５８５ｎｍのコーティング膜を得た。実施例１と
同様に、紫外線吸収層積層膜を積層し、耐光性の評価を
紫外線吸収層面より露光して行った（２８０Ｈｒ露
光）。色素残存率（％）を測定したところ、７８．０％
であり、耐光性が劣っていた。

【００７８】比較例２ 実施例１と同じスクアリリウム系化合物及び酸化防止剤
を実施例１と同様にして使用してコーティング膜を形成
し、但し、紫外線吸収層積層膜を積層せずに、耐光性の
評価をスクアリリウム系化合物含有層面より露光して行
った（２８０Ｈｒ露光）。色素残存率（％）を測定した
ところ、１４．８％であり、耐光性が劣っていた。

【００７９】実施例６ １）ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学
ポリエステルフィルム社製PET フィルム「Ｔ１００E
」、厚み１００μm ）に、スクアリリウム系化合物と
して、表−２記載の化合物（II）−１の０．６３％ＤＭ
Ｅ溶液０．３６ｇ、ポリエステル樹脂（バイロン２０
０；東洋紡（株）製）の２０％ＤＭＥ溶液３ｇ、及び酸
化防止剤として、表−７記載の化合物(III) −１を０．
０１２ｇを混合溶解し、バーコーターで塗工し、乾燥し
て、膜厚６μm のでコーティング膜を得た。このコーテ
ィングフィルムの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５０
０）で測定した。透過率曲線を図−２に示した。透過率
の最小値における波長は５７６ｎｍであった。５７６ｎ
ｍの最小値の他には、透過率の極小値はなく、透過率の
良好なネオン発光カットフィルターが得られた。実施例
１と同様に、紫外線吸収層積層膜を積層し、耐光性の評
価を紫外線吸収層面より露光して行った（２８０Ｈｒ露
光）。色素残存率（％）を測定したところ、８９．６％
であり、良好な耐光性を示した。

【００８０】比較例３ ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリ
エステルフィルム社製PET フィル「T １００E 」、厚み
１００μm ）に、実施例６のスクアリリウム系化合物の
０．６３％ＤＭＥ溶液０．３６ｇ、ポリエステル樹脂
（バイロン２００；東洋紡（株）製）の２０％ＤＭＥ溶
液３ｇ、及び紫外線吸収剤として２−（２' −ヒドロキ
シ−３' ，５' −ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリ
アゾール０．０５８ｇを混合溶解し、バーコーターで塗
工し、乾燥して、膜厚６μm 、透過率の最小値における
波長が５７６ｎｍのコーティング膜を得た。実施例１と
同様に、耐光性の評価をスクアリリウム系化合物及び紫
外線吸収剤含有層面より露光して行った（２８０Ｈｒ露
光）。色素残存率（％）を測定したところ、７３．７％
であり、耐光性が劣っていた。

【００８１】比較例４ 紫外線吸収層積層膜を積層しないこと以外は実施例６と
同様に実施してコーティング膜を形成し、耐光性の評価
をスクアリリウム系化合物及び酸化防止剤含有層面より
露光して行った（２８０Ｈｒ露光）。色素残存率（％）
を測定したところ、３４．２％であり、耐光性が劣って
いた。

【００８２】実施例７ 前記製造例２で得られたジフェニルスクアリリウム系化
合物の混合物の０．６３重量％ジメトキシエタン溶液
０．１３ｇ、酸化防止剤としての表−７記載の化合物
（III）−１ ４．０ｍｇ、及びバインダー樹脂として
のアクリル系樹脂（三菱レーヨン社製「ダイヤナールＢ
Ｒ−８３」）の２０重量％ジメトキシエタン溶液１．０
ｇとを混合した後、透明基材としてのポリエチレンテレ
フタレート製フィルム（厚み１００μｍ、三菱化学ポリ
エステルフィルム社製「ＰＥＴフィルムＴ１００Ｅ」）
にバーコーターを用いて塗布し乾燥させて、膜厚６μｍ
のジフェニルスクアリリウム系化合物含有樹脂層を形成
させた。得られたコーティングフィルムについて、実施
例１と同様に光線透過率を測定したところ、透過率の最
小値における波長は５９１ｎｍ、その半値幅は４９．４
ｎｍであった。紫外線吸収剤として２−（２’−ヒドロ
キシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾト
リアゾールの０．６３重量％シクロヘキサノン溶液０．
３６ｇ、及び、バインダー樹脂としてのポリエチレンテ
レフタレート樹脂（東洋紡社製「バイロン２００」）の
２０重量％シクロヘキサノン溶液３ｇとを混合した後、
ジフェニルスクアリリウム系化合物含有樹脂層と反対面
のポリエチレンテレフタレート製フィルム上にバーコー
ターを用いて塗布し乾燥させて、膜厚６μｍの紫外線吸
収層を形成した得られた紫外線吸収層を有するプラズマ
ディスプレイパネル用フィルターについて、実施例１と
同様の操作で耐光性試験を行い、ジフェニルスクアリリ
ウム系化合物の残存率を算出したところ、８５．７％で
あり、良好な耐光性を示した。 比較例５ 酸化防止剤を有さない以外は実施例７と同様にフィルタ
ーを作製し、実施例１と同様の操作で耐光性試験を行
い、ジフェニルスクアリリウム系化合物の残存率を算出
したところ、７９．１％であった。

【００８３】

【発明の効果】本発明の、プラズマディスプレイパネル
用フィルターは一般式（Ｉ）で示されるスクアリリウム
系化合物、酸化防止剤及び紫外線吸収剤を含有する層を
有することによりネオン発光を十分カットするととも
に、耐光性に優れている。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得られたコーティングフィルムの透
過率曲線

【図２】実施例６で得られたコーティングフィルムの透
過率曲線

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｃ０９Ｋ 15/32 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｅ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（Ｉ） 【化１】 〔式（Ｉ) 中、Ａ及びＢは、それぞれ独立して、置換基
   を有していても良いアリール基、置換基を有していても
   良い複素環基、又は−ＣＨ＝Ｄ基（Ｄは、置換基を有し
   ていても良い複素環基を表す。）を表す。〕で示される
   スクアリリウム系化合物、酸化防止剤及び紫外線吸収剤
   を含有することを特徴とするプラズマディスプレイパネ
   ル用フィルター。
2. 【請求項２】 スクアリリウム系化合物を含有する層と
   紫外線吸収剤を含有する層とを積層してなることを特徴
   とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用
   フィルター。
3. 【請求項３】 一般式（Ｉ）で示されるスクアリリウム
   系化合物が、下記一般式（II） 【化２】 〔式(II) 中、Ｒは、ハロゲン原子、置換基を有してい
   てもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコ
   キシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基
   を有していてもよいアリールオキシ基、又は置換基を有
   していても良いアルケニル基を示す。ここで、隣接する
   Ｒが一緒になって、アルカンジイル基やアルキレンジオ
   キシ基を形成していても良い。Ｒ′は、水素原子、又は
   １価の置換基を示し、Ｇ¹は、−ＮＲ″−で表される基
   （ここで、Ｒ″は、水素原子、又はアルキル基を示
   す。）、又は酸素原子を示し、Ｇ²は、カルボニル基、
   又はスルホニル基を示す（ここで、Ｇ²がスルホニル基
   の場合には、Ｒ″ は水素原子ではない。）。ｌ、ｍ、
   及びｎは０以上の整数であり、ｌ＋ｍ＋ｎは５以下であ
   る。ただし、ベンゼン環上のこれらの置換基は、他方の
   ベンゼン環との間で互いに異なっていてもよく、また、
   一方のベンゼン環において、ｍ及びｎが２以上であると
   き、Ｒ¹ 、及びＧ¹−Ｇ²−Ｒ′で表される基は、同一環
   内の他の置換基との間で互いに異なっていてもよい。〕
   で示される構造を有することを特徴とする請求項１又は
   ２に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
4. 【請求項４】 酸化防止剤が、下記一般式（III) 【化３】 〔式（III)中、Ｒ₁ は、ｔ−ブチル基又はシクロヘキシ
   ル基を表し、Ｒ₂ 及びＲ ₃ の少くとも１方は、置換基を
   有するアルキル基を表し、他方は置換又は非置換のアル
   キル基を表す。〕で示されるフェノール系化合物である
   ことを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載のプラ
   ズマディスプレイパネル用フィルター。
5. 【請求項５】 酸化防止剤が、下記一般式（IV） 【化４】 〔式（IV) 中、環Ｃは、アルキル基で置換されていても
   良いフェニル基を表し、Ｒ₄ は、置換基を有していても
   良いアルキル基を表し、Ｒ₅ は、置換基を有していても
   良いアルキル基又は置換基を有していても良いフェニル
   基を表し、ｐ、ｑ、ｒは、それぞれ独立して、０〜３の
   整数を表し、ｐ＋ｑ＋ｒ＝３を表す。〕で示されるリン
   系化合物であることを特徴とする請求項１乃至３の何れ
   かに記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
6. 【請求項６】 透明基板上にスクアリリウム系化合物及
   び酸化防止剤を含有する層と紫外線吸収剤を含有する層
   とを積層してなることを特徴とする請求項１乃至５の何
   れかに記載のプラズマディスプレイパネル用フィルタ
   ー。