JP2002062420A

JP2002062420A - 光学素子とその製造方法、液晶素子

Info

Publication number: JP2002062420A
Application number: JP2000245574A
Authority: JP
Inventors: Taketo Nishida; 武人西田; Shoji Shiba; 昭二芝; Katsuhiko Takano; 勝彦高野; Takeshi Okada; 岡田　　健; Hiroshi Yanai; 洋谷内; Junichi Sakamoto; 淳一坂本; Kenitsu Iwata; 研逸岩田; Yoshikatsu Okada; 良克岡田
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2000-08-14
Filing date: 2000-08-14
Publication date: 2002-02-28

Abstract

(57)【要約】【課題】インクジェット方式により画素を形成する光
学素子の製造方法において、混色を防止すると同時に、
画素上に形成される部材におけるしわやクラックの発生
を防止する。【解決手段】支持基板上に隔壁３を形成し、その表面
に撥インク化処理を施してから、開口部にインクジェッ
トヘッドよりインクを付与して画素８を形成し、さら
に、隔壁３上面に親水化処理を施す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用されて
いるカラー液晶素子の構成部材であるカラーフィルタ、
及び、複数の発光層を備えたエレクトロルミネッセンス
素子といった光学素子を、インクジェット方式を利用し
て製造する製造方法に関し、さらには、該製造方法によ
り製造される光学素子、及び該光学素子の一つであるカ
ラーフィルタを用いてなる液晶素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。

【０００３】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく、種々の方法が試みら
れているが、未だ全ての要求特性を満足する方法は確立
されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。

【０００４】第一の方法は染色法である。染色法は、先
ず透明基板上に染色用の材料である、水溶性の高分子材
料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所
望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染
色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を
３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する。

【０００５】第二の方法は顔料分散法であり、近年最も
盛んに行われている。この方法は、先ず透明基板上に顔
料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニン
グすることにより、単色のパターンを得る。この工程を
３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部か
らなる着色層を形成する。

【０００６】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、先ず透明基板上に透明電極をパターニングし、顔
料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一
の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、
Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成
するものである。

【０００７】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着
色層を形成するものである。いずれの方法においても、
着色層の上に保護層を形成するのが一般的である。

【０００８】これらの方法に共通している点は、Ｒ、
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
数が多い程、歩留まりが低下するという問題も有してい
る。さらに、電着法においては、形成可能なパターン形
状が限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ型（ＴＦ
Ｔ、即ち薄膜トランジスタをスイッチング素子として用
いたアクティブマトリクス駆動方式）の液晶素子の構成
には適用困難である。

【０００９】また、印刷法は解像性が悪いため、ファイ
ンピッチのパターン形成には不向きである。

【００１０】上記のような欠点を補うべく、近年、イン
クジェット方式を利用したカラーフィルタの製造方法が
盛んに検討されている。インクジェット方式を利用した
方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという
利点がある。

【００１１】一方、インクジェット方式はカラーフィル
タの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子の製
造にも応用が可能である。

【００１２】エレクトロルミネッセンス素子は、蛍光性
の無機及び有機化合物を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟
んだ構成を有し、上記薄膜に電子及び正孔（ホール）を
注入して再結合させることにより励起子を生成させ、こ
の励起子が失活する際の蛍光の放出を利用して発光させ
る素子である。このようなエレクトロルミネッセンス素
子に用いられる蛍光性材料を、例えばＴＦＴ等素子を作
り込んだ基板上にインクジェット方式により付与して発
光層を形成し、素子を構成することができる。

【００１３】上記したように、インクジェット方式は製
造プロセスの簡略化及びコスト削減を図ることができる
ことから、カラーフィルタやエレクトロルミネッセンス
素子といった光学素子の製造へ応用されている。しかし
ながら、このような光学素子の製造において、インクジ
ェット方式特有の問題として、「混色」と言う問題があ
る。以下、カラーフィルタを製造する場合を例に挙げて
説明する。

【００１４】「混色」は、隣接する異なる色の画素（着
色部）間においてインクが混ざり合うことにより発生す
る障害である。ブラックマトリクスを隔壁として、該ブ
ラックマトリクスの開口部にインクを付与して着色部を
形成するカラーフィルタの製造方法においては、ブラッ
クマトリクスの開口部の容積に対して、数倍〜数十倍の
体積を有するインクを付与する必要がある。インク中に
含まれる着色剤や硬化成分等の固形分濃度が高い場合、
即ち付与するインクの体積が比較的少ない場合において
は、ブラックマトリクスが十分に隔壁として機能し、該
ブラックマトリクスの開口部内にインクを保持すること
ができるため、付与されたインクがブラックマトリクス
を乗り越えて、隣接する異なる色の着色部にまで到達す
ることはない。しかしながら、インク中の固形分濃度が
低い場合、即ち多量のインクを付与する必要がある場合
には、隔壁となるブラックマトリクスを超えてインクが
あふれてしまうため、隣接する着色部間で混色が発生し
てしまう。特に、インクジェットヘッドのノズルより安
定して吐出可能なインクの粘度には限界があり、インク
中に含有される固形分の濃度にも限界があるため、混色
を回避するための技術が必要である。

【００１５】そこで、着色部と隔壁との間におけるイン
クの濡れ性の差を利用して混色を防止する方法が提案さ
れている。例えば、特開昭５９−７５２０５号において
は、インクが目的領域外へ広がることを防止するため、
濡れ性の悪い物質で拡散防止パターンを形成する方法が
提案されているが、具体的な技術は開示されていない。
一方、特開平４−１２３００５号においては、具体的な
手法として、撥水、撥油作用の大きなシリコーンゴム層
をパターニングして混色防止用の仕切壁とする方法が提
案されている。さらに、特開平５−２４１０１１号や特
開平５−２４１０１２号においても同様に、遮光層とな
るブラックマトリクス上にシリコーンゴム層を形成し、
混色防止用の隔壁として用いる手法が開示されている。

【００１６】これらの方法によれば、隔壁の高さをはる
かに超える量のインクを付与した場合においても、隔壁
の表面層が撥インク性を示すためにインクがはじかれ、
隔壁を超えて隣接する着色部にまで及ぶことがなく、有
効に混色を防止することができる。

【００１７】図３にその概念図を示す。図中、３１は透
明基板、３３は隔壁を兼ねたブラックマトリクス、３６
はインクである。ブラックマトリクス３３の上面が撥イ
ンク性を有する場合には、図３（ｂ）に示すように、付
与されたインク３６がブラックマトリクス３３の開口部
中に保持され、隣接する着色部にまで達することはな
い。しかしながら、ブラックマトリクス３３の上面の撥
インク性が低い場合には、図３（ａ）に示すように、付
与されたインク３６がブラックマトリクス３３上にまで
濡れ広がり、隣接する開口部に付与されたインクと混じ
り合ってしまう。

【００１８】また、一般的にはシリコン化合物を用いる
よりも、フッ素化合物を用いる方がより優れた撥インク
性を得ることができる。例えば、特開２０００−３５５
１１号において、遮光部上にポジ型のレジストパターン
を形成し、さらに該パターン上に撥インク化処理剤を塗
布する方法が開示されており、撥インク化処理剤として
は、フッ素化合物を用いることが開示されている。しか
しながら、この方法の場合、遮光部上に設けられたポジ
型レジストパターンを着色部形成後に除去する必要があ
るが、レジストパターンを除去する際に画素の溶解、剥
離、膨潤といった問題を生じる場合がある。

【００１９】また、樹脂層の表面をフッ素化する手法と
しては、特開平６−６５４０８号にフッ素化合物の反応
ガスをプラズマ化して処理する方法が提案されている。
さらに、この技術をカラーフィルタに適用した例として
は、特開平１１−２７１７５３号において、隔壁をイン
クに対して親和性を有する下層と、非親和性を有する上
層の多層構造とし、上層をインクに対して非親和性とす
る手法として、フッ素化合物を含むガスによりプラズマ
処理する方法が開示されている。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、撥イン
ク性を高めた遮光部を使用することで、混色は防ぐこと
ができるものの、撥インク性を残したまま保護層を形成
した場合、遮光部と保護層の密着性が悪くなり、その上
に透明導電膜を形成することで、該透明導電膜の応力に
より、保護層にしわが生じたり、透明導電膜にクラック
を生じる場合もある。

【００２１】このような保護層のしわや透明導電膜のク
ラックの発生を防止する方法として特開平７−２４８４
１３号公報には、撥インク性をなくすための処理とし
て、着色層形成後に加熱処理やエタノール、イソプロパ
ノールなどの溶剤処理を施す方法が開示されている。し
かし、このような方法では、面内を均一に処理すること
が難しく、撥インク性をなくすための処理が不足した部
分ではしわやクラックの発生が生じるという問題があっ
た。

【００２２】上記問題は、インクジェット方式によりエ
レクトロルミネッセンス素子を製造する場合にも同様に
生じる。即ち、エレクトロルミネッセンス素子におい
て、例えばＲ、Ｇ、Ｂの各光を発光する有機半導体材料
をインクとして用い、隔壁で囲まれた領域に該インクを
付与して画素（発光層）を形成する際に、隣接する発光
層間でインクが混じり合った場合、当該発光層では所望
の色、輝度の発光が得られないという問題が生じる。ま
た、単一色の発光層であっても、隔壁内に充填するイン
ク量を均一化しているため、隣接画素へインクが流入す
ると、インク量に不均一性が生じ、輝度ムラとして認識
され、問題となる。そのため、カラーフィルタと同様に
隔壁に撥インク性を持たせて隣接画素の混じり合いを防
止する手段を講じることが考慮されるが、このような撥
インク性を有する隔壁上に電極層等必要な部材を積層し
た結果、上層の部材によってはその応力により、クラッ
クやしわが発生する場合があった。尚、以下の記述にお
いては、便宜上、エレクトロルミネッセンス素子を製造
する場合においても、隣接する発光層間でのインクの混
じり合いを「混色」と記す。

【００２３】本発明の課題は、カラーフィルタやエレク
トロルミネッセンス素子といった光学素子を、インクジ
ェット方式を利用して簡易なプロセスで安価に製造する
に際して、上記問題を解決し、信頼性の高い光学素子を
歩留まり良く提供することにある。具体的には、隔壁で
囲まれた領域内にインクを付与する際に、隣接する画素
間での混色を防止し、同時に、画素上に形成される部材
におけるしわやクラックの発生を防止することにある。

【００２４】本発明ではさらに、該製造方法によって得
られた光学素子を用いて、カラー表示特性に優れた液晶
素子をより安価に提供することを目的とする。

【００２５】

【課題を解決するための手段】本発明の第一は、支持基
板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する樹脂組成
物からなる隔壁とを少なくとも有する光学素子の製造方
法であって、支持基板上に隔壁を形成する工程と、上記
隔壁表面を撥インク化処理する工程と、インクジェット
方式により上記隔壁で囲まれた領域にインクを付与して
画素を形成する工程と、少なくとも上記隔壁上面に親水
化処理を施す工程と、を有することを特徴とする光学素
子の製造方法である。

【００２６】上記本発明は、上記隔壁表面の撥インク化
処理が、少なくともフッ素原子を含有するガスを導入し
てプラズマ照射を行うプラズマ処理であること、上記隔
壁を、遮光剤を含有する樹脂組成物で形成すること、上
記遮光剤がカーボンブラックであること、上記親水化処
理が、アルカリ水溶液による洗浄処理、ＵＶ洗浄処理、
エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理、酸素プラズマ処理
のいずれかであること、上記インクが少なくとも硬化成
分、水、有機溶剤を含有すること、上記インクが着色剤
を含有し、画素が着色部であるカラーフィルタを製造す
ること、上記画素上に保護層を形成すること、上記保護
層上に透明導電膜を形成すること、上記画素が発光層で
あり、該発光層を挟んで上下に電極を有するエレクトロ
ルミネッセンス素子を製造すること、を好ましい態様と
して含むものである。

【００２７】また本発明の第二は、支持基板上に複数の
画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有
し、上記本発明の光学素子の製造方法により製造された
ことを特徴とする光学素子である。

【００２８】上記本発明の第二は、上記隔壁が遮光層で
あること、上記支持基板が透明基板であり、上記画素が
着色剤を含有するインクで形成された着色部であり、複
数色の着色部を備えたカラーフィルタであること、上記
着色部上に保護層を有すること、上記保護層上に透明導
電膜を有すること、上記画素が発光層であり、該発光層
を挟んで上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス
素子であること、を好ましい態様として含むものであ
る。

【００２９】さらに本発明の第三は、一対の基板間に液
晶を挟持してなり、一方の基板が上記本発明の光学素子
の一態様であるカラーフィルタを用いて構成されたこと
を特徴とする液晶素子である。

【００３０】

【発明の実施の形態】本発明の光学素子の製造方法は、
支持基板上に隔壁を形成し、その表面に撥インク化処理
を施すことによってインクジェット方式によってインク
を付与した際の混色を防止し、画素を形成後に、少なく
とも該隔壁上面に親水化処理を施すことによって、画素
上に形成される部材と隔壁との密着性を高め、画素上の
部材におけるしわやクラックの発生を防止したものであ
る。

【００３１】尚、本発明において上記「インク」とは、
乾燥硬化した後に、例えば光学的、電気的に機能性を有
する液体を総称し、従来用いられていた着色材料に限定
されるものではない。

【００３２】本発明の製造方法で製造される本発明の光
学素子としては、カラーフィルタ及びエレクトロルミネ
ッセンス素子が挙げられる。先ず、本発明の光学素子に
ついて実施形態を挙げて説明する。

【００３３】図６に、本発明の光学素子の一実施形態で
あるカラーフィルタの一例の断面を模式的に示す。図
中、６１は支持基板としての透明基板、６２は隔壁を兼
ねたブラックマトリクス、６３は画素である着色部、６
４は必要に応じて形成される保護層である。本発明のカ
ラーフィルタを用いて液晶素子を構成する場合には、着
色部６３上或いは、着色部６３上に保護層６４を形成し
たさらにその上に、液晶を駆動するためのＩＴＯ（イン
ジウム・チン・オキサイド）等透明導電材からなる透明
導電膜が形成されて提供される場合もある。

【００３４】図７に、図６のカラーフィルタを用いて構
成された、本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図
を示す。図中、６７は共通電極（透明導電膜）、６８は
配向膜、６９は液晶、７１は対向基板、７２は画素電
極、７３は配向膜であり、図６と同じ部材には同じ符号
を付して説明を省略する。

【００３５】カラー液晶素子は、一般的にカラーフィル
タ側の基板６１と対向基板７１とを合わせ込み、液晶６
９を封入することにより形成される。液晶素子の一方の
基板７１の内側に、ＴＦＴ（不図示）と画素電極７２が
マトリクス状に形成されている。また、カラーフィルタ
側の基板６１の内側には、画素電極７２に対向する位置
に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列するように、カラーフィルタの着
色部６３が形成され、その上に透明な共通電極７７が形
成される。さらに、両基板の面内には配向膜６８、７３
が形成されており、液晶分子を一定方向に配列させてい
る。これらの基板は、スペーサー（不図示）を介して対
向配置され、シール材（不図示）によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶６９が充填される。

【００３６】上記液晶素子は、透過型の場合には、基板
７１及び画素電極７２を透明素材で形成し、それぞれの
基板の外側に偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板
を組み合わせたバックライトを用い、液晶化合物をバッ
クライトの光の透過率を変化させる光シャッターとして
機能させることにより表示を行う。また、反射型の場合
には、基板７１或いは画素電極７２を反射機能を備えた
素材で形成するか、或いは、基板７１上に反射層を設
け、透明基板６１の外側に偏光板を設け、カラーフィル
タ側から入射した光を反射して表示を行う。

【００３７】また、図８に、本発明の光学素子の他の実
施形態である、有機エレクトロルミネッセンス素子(以
下、「ＥＬ素子」と記す)の一例の断面模式図を示す。
図中、８１は支持基板である駆動基板、８２は隔壁、８
３は画素である発光層、８４は透明電極、８６は金属層
である。この図では、簡略化のために一つの画素領域の
みを示している。

【００３８】駆動基板８１には、ＴＦＴ（不図示）、配
線膜及び絶縁膜等が多層に積層されており、金属層８６
及び発光層８３毎に配置した透明電極８４間に発光層単
位で電圧を印加可能に構成されている。駆動基板８１は
公知の薄膜プロセスによって製造される。

【００３９】本発明の有機ＥＬ素子の構造については、
少なくとも一方が透明または半透明である一対の陽極及
び陰極からなる電極間に、樹脂組成物からなる隔壁内に
少なくとも発光材料を充填されてなる構成であれば、特
に制限はなく、その構造は公知のものを採用することが
でき、また本発明の主旨を逸脱しない限りにおいて各種
の改変を加えることができる。

【００４０】その積層構造は、例えば、（１）電極（陰極）／発光層／正孔注入層／電極（陽
極）（２）電極（陽極）／発光層／電子注入層／電極（陰
極）（３）電極（陽極）／正孔注入層／発光層／電子注入層
／電極（陰極）（４）電極（陽極または陰極）／発光層／電極（陰極ま
たは陽極）があるが、本発明は上記のいずれの構成の有機化合物層
を設けた積層構造体を有するＥＬ素子に対しても適用す
ることができる。

【００４１】上記（１）は２層構造、（３）は３層構造
（４）は単層構成と称されるものである。本発明の有機
ＥＬ素子はこれらの積層構造を基本とするが、これら以
外の（１）から（４）を組み合わせた構造やそれぞれの
層を複数有していてもよい。また、カラーフィルタと組
み合わせることによって、フルカラー表示を実現しても
良い。これらの積層構造からなる本発明の有機ＥＬ素子
の形状、大きさ、材質、製造方法等は該有機ＥＬ素子の
用途等に応じて適宜選択され、これらについては特に制
限はない。

【００４２】本発明の有機ＥＬ素子の発光層に用いられ
る発光材料は特に限定されず、種々のものを適用するこ
とができる。具体的には、低分子蛍光体や高分子蛍光体
が好ましく、高分子蛍光体がさらに好ましい。

【００４３】例えば、低分子有機化合物としては、特に
限定はないが、ナフタレン及びその誘導体、アントラセ
ン及びその誘導体、ペリレン及びその誘導体、ポリメチ
ン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色
素類、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯
体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン
及びその誘導体、テトラフェニルブタジエン及びその誘
導体等を用いることができる。具体的には、例えば、特
開昭５７−５１７８１号、特開昭５９−１９４３９３号
公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能で
ある。

【００４４】また、発光材料として使用可能な高分子有
機化合物としては、特に限定はないが、ポリフェニレン
ビニレン、ポリアリレン、ポリアルキルチオフェン、ポ
リアルキルフルオレン等を挙げることができる。

【００４５】尚、本発明の有機ＥＬ素子に用いる高分子
蛍光体は、ランダム、ブロックまたはグラフト共重合体
であってもよいし、それらの中間的な構造を有する高分
子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体であっ
てもよい。蛍光の量子収率の高い高分子蛍光体を得る観
点からは完全なランダム共重合体よりブロック性を帯び
たランダム共重合体やブロックまたはグラフト共重合体
が好ましい。また本発明の有機ＥＬ素子は、薄膜からの
発光を利用するので該高分子蛍光体は、固体状態で蛍光
を有するものが用いられる。

【００４６】該高分子蛍光体に対する良溶媒としては、
クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラ
ヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが例示される。
高分子蛍光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれら
の溶媒に０．１重量％以上溶解させることができる。

【００４７】本発明の有機ＥＬ素子において、発光材料
を含む層と陰極との間にさらに電子輸送層を設ける場合
の電子輸送層中に使用する、或いは正孔輸送材料及び発
光材料と混合使用する電子輸送性材料は、陰極より注入
された電子を発光材料に伝達する機能を有している。こ
のような電子輸送性材料について特に制限はなく、従来
公知の化合物の中から任意のものを選択して用いること
ができる。

【００４８】該電子輸送性材料の好ましい例としては、
ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン
誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシ
ド誘導体、複素環テトラカルボン酸無水物、或いはカル
ボジイミド等を挙げることができる。

【００４９】さらに、フレオレニリデンメタン誘導体、
アントラキノジメタン誘導体及びアントロン誘導体、オ
キサジアゾール誘導体等を挙げることができる。また、
発光層を形成する材料として開示されているが、８−ヒ
ドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体等も電子輸
送材料として用いることができる。

【００５０】次に、本発明の一例である積層構造を有す
る有機ＥＬ素子の代表的な作製方法について述べる。陽
極及び陰極からなる一対の電極で、透明または半透明な
電極としては、例えば、透明ガラス、透明プラスチック
等の透明基板の上に、透明または半透明の電極を形成し
たものが用いられる。

【００５１】本発明のＥＬ素子において、発光層は一般
には適当な結着性樹脂と組み合わせて薄膜を形成する。
上記結着剤としては広範囲な結着性樹脂より選択でき、
例えばポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ブチラ
ール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリ
ル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹
脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。これらは単独または共
重合体ポリマーとして１種または２種以上混合して用い
ても良い。陽極材料としては仕事関数がなるべく大きな
ものが良く、例えば、ニッケル、金、白金、パラジウ
ム、セレン、レニウム、イリジウムやこれらの合金、或
いは酸化錫、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、ヨウ化銅が
好ましい。またポリ（３−メチルチオフェン）、ポリフ
ェニレンスルフィド或いはポリピロール等の導電性ポリ
マーも使用出来る。

【００５２】一方、陰極材料としては仕事関数が小さな
銀、鉛、錫、マグネシウム、アルミニウム、カルシウ
ム、マンガン、インジウム、クロム或いはこれらの合金
が用いられる。

【００５３】以下に、図面を参照して本発明の光学素子
の製造方法について説明する。

【００５４】図１、図２は本発明の光学素子の製造方法
を模式的に示す工程図である。以下に各工程について説
明する。尚、以下の工程（ａ）〜（ｆ）は図１、図２の
（ａ）〜（ｆ）に対応する。また、図１、図２の各工程
において紙面左側の（ａ−１）〜（ｆ−１）は上方より
見た平面模式図、紙面右側の（ａ−２）〜（ｆ−２）は
（ａ−１）〜（ｆ−１）のＡ−Ｂ断面模式図である。図
中、１は支持基板、２は樹脂組成物層、３は隔壁、４は
隔壁３の開口部、５はインクジェットヘッド、６はイン
ク、８は画素である。

【００５５】工程（ａ）支持基板１を用意し、隔壁３を形成するための樹脂組成
物層２を形成する。支持基板１は、図６に例示したカラ
ーフィルタを製造する場合には透明基板６１であり、一
般にはガラス基板が用いられるが、液晶素子を構成する
目的においては、所望の透明性、機械的強度等の必要特
性を有するものであれば、プラスチック基板なども用い
ることができる。

【００５６】また、図８に例示したＥＬ素子を製造する
場合には、支持基板１は透明電極８４を形成した駆動基
板８１であり、図８の如く当該基板側から発光を観察す
る場合には、駆動基板８１にガラス基板などの透明基板
を用いる。該基板には後工程で発光層８３の材料が付着
しやすいように、その表面に対して、プラズマ処理、Ｕ
Ｖ処理、カップリング処理等の表面処理を施すことが好
ましい。

【００５７】本発明にかかる隔壁３は、図６のカラーフ
ィルタの場合にはブラックマトリクス６２に、図８のエ
レクトロルミネッセンス素子の場合には隔壁８２に相当
する。該隔壁３は、特にカラーフィルタを製造する場合
には、図６の６２で示したように、隣接する画素間を遮
光する遮光層とすることが好ましく、その場合、図６の
如くブラックマトリクス６２とするか、或いは、ブラッ
クストライプとすることもできる。また、ＥＬ素子を製
造する場合にも遮光層とすることが可能である。

【００５８】本発明において、隔壁３を形成するために
用いられる樹脂組成物としては、エポキシ系樹脂、アク
リル系樹脂、ポリアミドイミドを含むポリイミド系樹
脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニル
系樹脂などの感光性または非感光性の樹脂材料を用いる
ことができるが、２５０℃以上の耐熱性を有することが
好ましく、その点から、エポキシ系樹脂、アクリル系樹
脂、ポリイミド系樹脂が好ましく用いられる。

【００５９】また、かかる隔壁３を遮光層とする場合に
は、上記樹脂組成物中に、遮光剤を分散せしめた黒色樹
脂組成物を用いて樹脂組成物層２を形成する。該遮光剤
としては、後述するように、プラズマ処理により隔壁３
表面に高い撥インク性を得る上でカーボンブラックを用
いることが望ましく、該カーボンブラックとしては、チ
ャネルブラック、ローラーブラック、ディスクブラック
と呼ばれているコンタクト法で製造されたもの、ガスフ
ァーネストブラック、オイルファーネストブラックと呼
ばれているファーネスト法で製造されたもの、サーマル
ブラック、アセチレンブラックと呼ばれているサーマル
法で製造されたものなどを用いることができるが、特
に、チャネルブラック、ガスファーネストブラック、オ
イルファーネストブラックが好ましい。さらに必要に応
じて、Ｒ、Ｇ、Ｂの顔料の混合物などを加えても良い。
また、一般に市販されている黒色レジストを用いること
もできる。必要に応じて高抵抗化した遮光層を用いても
良い。

【００６０】樹脂組成物層２は、スピンコート、ロール
コート、バーコート、スプレーコート、ディップコー
ト、或いは印刷法等の方法により形成することができ
る。

【００６１】工程（ｂ）樹脂組成物層２として感光性材料を用いた場合には、フ
ォトリソグラフィ等によりパターニングすることで複数
の開口部４を有する隔壁３を形成する。また、非感光性
材料を用いた場合には、フォトレジストをマスクにし
て、ウェット或いはドライエッチングにより、もしくは
リフトオフによりパターニングして形成しても良い。

【００６２】工程（ｃ）隔壁３に対して撥インク化処理を施し、隔壁３の表面の
撥インク性を増大させる。該撥インク化処理の方法とし
ては、工程が簡単であり、樹脂組成物からなる隔壁３の
表面を効果的に撥インク化できることから、少なくとも
フッ素原子を含有するガスを導入してプラズマ照射を行
うプラズマ処理が好ましく用いられる。

【００６３】本工程において導入する、少なくともフッ
素原子を含有するガスとしては、ＣＦ₄、ＣＨＦ₃、Ｃ₂
Ｆ₆、ＳＦ₆、Ｃ₃Ｆ₈、Ｃ₅Ｆ₈から選択されるハロゲンガ
スを１種以上用いることが好ましい。特に、Ｃ₅Ｆ₈（オ
クタフルオロシクロペンテン）は、オゾン破壊能が０で
あると同時に、大気寿命が従来のガスに比べて（Ｃ
Ｆ ₄：５万年、Ｃ₄Ｆ₈：３２００年）０．９８年と非常
に短い。従って、地球温暖化係数が９０（ＣＯ₂＝２と
した１００年積算値）と、従来のガスに比べて（Ｃ
Ｆ₄：６５００、Ｃ₄Ｆ₈：８７００）非常に小さく、オ
ゾン層や地球環境保護に極めて有効であり、本発明で使
用する上で望ましい。

【００６４】さらに、導入ガスとしては、必要に応じて
酸素、アルゴン、ヘリウム等のガスを併用しても良い。
本工程においては、上記ＣＦ₄、ＣＨＦ₃、Ｃ₂Ｆ₆、ＳＦ
₆、Ｃ₃Ｆ₈、Ｃ₅Ｆ₈から選択されるハロゲンガスを１種
以上とＯ₂との混合ガスを用いると、本工程において処
理される隔壁３表面の撥インク性の程度を制御すること
が可能になる。但し、当該混合ガスにおいて、Ｏ₂の混
合比率が３０％を超えるとＯ₂による酸化反応が支配的
になり、撥インク性向上効果が妨げられるため、また、
Ｏ₂混合比率が３０％を超えると樹脂に対するダメージ
が顕著になるため、当該混合ガスを用いる場合にはＯ₂
の混合比率が３０％以下の範囲で使用する必要がある。

【００６５】また、プラズマの発生方法としては、低周
波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方式を用いる
ことができ、プラズマ処理の際の圧力、ガス流量、放電
周波数、処理時間等の条件は任意に設定することができ
る。

【００６６】図４、図５に、本発明のプラズマ処理工程
に用いることが可能なプラズマ発生装置の模式図を示
す。図中、５１は上部電極、５２は下部電極、５３は被
処理基板、５４は高周波電極である。当該装置は平行平
板の２極電極に高周波電圧を印加して、プラズマを発生
させる。図４はカソードカップリング方式、図５はアノ
ードカップリング方式の装置を示し、どちらの方式にお
いても、圧力、ガス流量、放電周波数、処理時間等の条
件によって、隔壁３表面の撥インク性を所望の程度とす
ることができる。

【００６７】図４、図５に示したプラズマ発生装置にお
いて、図４のカソードカップリング方式は処理時間を短
くすることが可能であり、当該処理工程に有利である。
また、図５のアノードカップリング方式では、必要以上
に支持基板１にダメージを与えることがない点で有利で
ある。よって、本工程に用いるプラズマ発生装置は、支
持基板１や隔壁３の材料に応じて選択すればよい。

【００６８】尚、本工程に先立って、ドライエッチング
処理を施すことが望ましい。即ち、酸素、アルゴン、ヘ
リウムのうちから選択される少なくとも一種を含むガス
を導入し、減圧雰囲気下或いは大気圧雰囲気下で支持基
板１にプラズマ照射を行う減圧プラズマ処理や大気圧プ
ラズマ処理を行うことで、隔壁３の形成工程において支
持基板１表面に付着した汚染物を除去し、開口部４内で
インク６を良好に拡散させることができるようになる。

【００６９】工程（ｄ）インクジェット記録装置を用いて、インクジェットヘッ
ド５より、インク６を隔壁３で囲まれた領域（開口部
４）に付与する。インクジェットとしては、エネルギー
発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェット
（登録商標）タイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能である。また、インク６とし
ては、カラーフィルタの場合には硬化後にＲ、Ｇ、Ｂの
着色部を形成するように各色の着色剤を含むもの、ＥＬ
素子の場合には、硬化後に電圧印加によって発光する発
光層を形成する材料を用いる。いずれの場合も、インク
６は硬化成分、水、溶剤を少なくとも含むものが好まし
い。以下に、本発明の製造方法によってカラーフィルタ
を製造する場合に用いるインクの組成についてさらに詳
細に説明する。

【００７０】〔１〕着色剤本発明でインク中に含有させる着色剤としては、染料系
及び顔料系共に使用可能であるが、顔料を使用する場合
には、インク中で均一に分散させるために別途分散剤の
添加が必要となり、全固形分中の着色剤比率が低くなっ
てしまうことから、染料系の着色剤が好ましく用いられ
る。また、着色剤の添加量としては、後述する硬化成分
と同量以下であることが好ましい。

【００７１】〔２〕硬化成分後工程におけるプロセス耐性、信頼性等を考慮した場
合、熱処理或いは光照射等の処理により硬化し、着色剤
を固定化する成分、即ち架橋可能なモノマー或いはポリ
マー等の成分を含有することが好ましい。特に、後工程
における耐熱性を考慮した場合、硬化可能な樹脂組成物
を用いることが好ましい。具体的には、例えば基材樹脂
として、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミ
ド基等の官能基を有するアクリル樹脂、シリコーン樹
脂；またはヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース等のセルロース誘導体或いはそれらの変性
物；またはポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアセタール等のビニル系ポリマーが挙げ
られる。さらに、これらの基材樹脂を光照射或いは加熱
処理により硬化させるための架橋剤、光開始剤を用いる
ことが可能である。具体的には、架橋剤としては、メチ
ロール化メラミン等のメラミン誘導体が、また光開始剤
としては重クロム酸塩、ビスアジド化合物、ラジカル系
開始剤、カチオン系開始剤、アニオン系開始剤等が使用
可能である。また、これらの光開始剤を複数種混合し
て、或いは他の増感剤と組み合わせて使用することもで
きる。

【００７２】〔３〕溶剤本発明で使用されるインクの媒体としては、水及び有機
溶剤の混合溶媒が好ましく使用される。水としては種々
のイオンを含有する一般の水ではなく、イオン交換水
（脱イオン水）を使用することが好ましい。

【００７３】有機溶剤としては、メチルアルコール、エ
チルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチル
アルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等の炭素数１
〜４のアルキルアルコール類；ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド等のアミド類；アセトン、ジアセ
トンアルコール等のケトン類またはケトアルコール類；
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポ
リアルキレングリコール類；エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ブチレングリコール、トリエチレン
グリコール、チオジグリコール、へキシレングリコー
ル、ジエチレングリコール等のアルキレン基が２〜４個
の炭素を含有するアルキレングリコール類；グリセリン
類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル等の多価アルコールの低級アルキル
エーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリ
ドン等の中から選択することが好ましい。

【００７４】また、上記成分の他に、必要に応じて所望
の物性値を持つインクとするために、沸点の異なる２種
類以上の有機溶剤を混合して用いたり、界面活性剤、消
泡剤、防腐剤等を添加しても良い。

【００７５】工程（ｅ）熱処理、光照射等必要な処理を施し、インク６中の溶剤
成分を除去して硬化させることにより、画素８を形成す
る。

【００７６】工程（ｆ）少なくとも隔壁３の上面に親水化処理を施す。本発明に
おいて係る親水化処理は、該隔壁３上に形成される部材
との密着性を高めるための処理であるから、図２に示す
ように、画素８の上面も含めた全面に処理を施せばよ
い。

【００７７】本発明で用いられる親水化処理としては、
例えばアルカリ水溶液による洗浄処理、ＵＶ洗浄処理、
エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理、酸素プラズマ処理
等の方法が好適に用いられる。各処理方法について特徴
と述べる。

【００７８】上記酸素プラズマ処理は、酸素雰囲気下に
おいてプラズマ照射する方法で、親水化の効果が大きい
反面、装置コストが高い。プラズマの発生方法として
は、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方式
を用いることができ、プラズマ処理の際の圧力、ガス流
量、放電周波数、処理時間等の条件は、任意に設定する
ことができる。それに対して、ＵＶ洗浄処理、エキシマ
洗浄処理は、親水化の効果が酸素プラズマ処理よりも小
さく、長い処理時間が必要となるが、装置コストが低い
メリットがある。処理の際の照射光強度、照射時間等の
条件は任意に設定することができる。

【００７９】さらに、カラーフィルタの場合には、上記
したように、必要に応じて保護層や透明導電膜を形成す
る。この場合の保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化
タイプ、或いは光熱併用硬化タイプの樹脂材料、或い
は、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用
いることができ、カラーフィルタとした場合の透明性を
有し、その後の透明導電膜形成プロセス、配向膜形成プ
ロセス等に耐えうるものであれば使用可能である。ま
た、ＥＬ素子の場合には、画素上に金属層等必要な部材
を形成する。

【００８０】本発明においては、混色防止のために撥イ
ンク化処理を施した隔壁の上面に親水化処理が施されて
いるため、隔壁の上層に保護層と透明導電膜を積層して
も、保護層が隔壁と十分に密着しているため、保護層に
しわが発生せず、透明導電膜にクラックが生じる恐れが
ない。

【００８１】また、ＥＬ素子の場合にもカラーフィルタ
と同様に、隔壁上面に親水化処理が施されているため、
隔壁とその上層との密着性が高く、上層として金属層を
形成した場合でもしわやクラックの発生が防止される。

【００８２】

【実施例】（実施例１）〔ブラックマトリクスの形成〕ガラス基板（コーニング
製「１７３７」）上に、カーボンブラックを含有する黒
色レジスト（新日鉄化学製「Ｖ−２５９ＢＫレジス
ト」）を塗布し、所定の露光、現像、ポストベーク処理
を行って、膜厚２μｍ、７５μｍ×２２５μｍの長方形
の開口部を有するブラックマトリクスパターン（隔壁）
を作成した。

【００８３】〔インクの調整〕下記に示す組成からなる
アクリル系共重合体を熱硬化成分として用い、以下の組
成にてＲ、Ｇ、Ｂの各インクを調製した。

【００８４】硬化成分メチルメタクリレート５０重量部ヒドロキシエチルメタクリレート３０重量部Ｎ−メチロールアクリルアミド２０重量部

【００８５】ＲインクＣ．Ｉ．アシッドオレンジ１４８３．５重量部Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２８９０．５重量部ジエチレングリコール３０重量部エチレングリコール２０重量部イオン交換水４０重量部上記硬化成分６重量部

【００８６】ＧインクＣ．Ｉ．アシッドイエロー２３２重量部亜鉛フタロシアニンスルホアミド２重量部ジエチレングリコール３０重量部エチレングリコール２０重量部イオン交換水４０重量部上記硬化成分６重量部

【００８７】ＢインクＣ．Ｉ．ダイレクトブルー１９９４重量部ジエチレングリコール３０重量部エチレングリコール２０重量部イオン交換水４０重量部上記硬化成分６重量部

【００８８】〔撥インク化処理〕ブラックマトリクスを
形成した上記ガラス基板（ブラックマトリクス基板）
に、カソードカップリング方式平行平板型プラズマ処理
装置を用いて、以下の条件にてプラズマ照射を行い、ド
ライエッチング処理を施した。

【００８９】使用ガス：Ｏ₂ ガス流量：８０ｓｃｃｍ圧力：８ＰａＲＦパワー：１５０Ｗ処理時間：３０ｓｅｃ

【００９０】さらに、上記ドライエッチング処理終了
後、同じ装置内で、ブラックマトリクス基板に対して、
以下の条件にてプラズマ処理を施した。

【００９１】使用ガス：ＣＦ₄ ガス流量：８０ｓｃｃｍ圧力：５０ＰａＲＦパワー：１５０Ｗ処理時間：３０ｓｅｃ

【００９２】〔撥インク性の評価〕協和界面社製自動液
晶ガラス洗浄・処理検査装置「ＬＣＤ−４００Ｓ」を用
いて、上記プラズマ処理後のブラックマトリクス基板の
ブラックマトリクス上面の純水に対する接触角を測定し
たところ、１２５°であった。

【００９３】〔着色部の作製〕吐出量２０ｐｌのインク
ジェットヘッドを具備したインクジェット記録装置を用
い、上記ブラックマトリクス基板に対して、上記Ｒ、
Ｇ、Ｂインクを開口部１個あたり６００ｐｌ付与した。
次いで、９０℃で１０分間、引き続き２３０℃で３０分
間の熱処理を行ってインクを硬化させて着色部（画素）
とした。

【００９４】〔親水化処理〕カソードカップリング方式
平行平板型プラズマ処理装置を用いて、以下の条件にて
上記着色部を形成した基板にプラズマ処理を施した。

【００９５】使用ガス：Ｏ₂ ガス流量：８０ｓｃｃｍ圧力：８ＰａＲＦパワー：１５０Ｗ処理時間：３０ｓｅｃ

【００９６】〔親水性の評価〕親水化処理を施したブラ
ックマトリクス上面の純水に対する接触角を測定したと
ころ、１０°であった。

【００９７】〔保護層の形成〕着色部上に保護層材料
（新日鉄化学製「Ｖ−２５９ＥＨ」）を塗布し、８０℃
で１０分間、引き続き２００℃で３０分間の熱処理を行
って硬化させ、保護層付きのカラーフィルタを形成し
た。

【００９８】〔カラーフィルタの評価〕得られたカラー
フィルタは混色が無く、また、該カラーフィルタに対し
て、ＩＴＯをマグネトロンスパッタ法によって膜厚が１
３５０Åになるように成膜したところ、しわ、クラック
は発生しなかった。

【００９９】（実施例２）親水化処理として、ＵＶラン
プ（１８５ｎｍと２５４ｎｍの輝線を持つ低圧水銀ラン
プ）を備えた洗浄装置を用い、照射光強度：３０ｍＷ／
ｃｍ²、照射時間：５ｍｉｎでＵＶ洗浄処理を施す以外
は実施例１と同様にして保護層及びＩＴＯ膜付きのカラ
ーフィルタを作製した。プラズマ処理直後のブラックマ
トリクス上面の純水に対する接触角は１２６°、親水化
処理直後のブラックマトリクス上面の純水に対する接触
角は２０°であった。得られたカラーフィルタには混色
が無く、また、保護層、ＩＴＯ膜にしわやクラックの発
生はなかった。

【０１００】（実施例３）親水化処理として、エキシマ
ランプ（１７２ｎｍに輝線を持つＸｅ₂ ^*ランプ）を備え
た洗浄装置を用い、照射光強度：３０ｍＷ／ｃｍ²、照
射時間：５ｍｉｎでエキシマ洗浄処理を施した以外は、
実施例１と同様にして保護層及びＩＴＯ膜付きのカラー
フィルタを作製した。プラズマ処理直後のブラックマト
リクス上面の純水に対する接触角は１２５°、親水化処
理直後のブラックマトリクス上面の純水に対する接触角
は１５°であった。得られたカラーフィルタに混色はな
く、また、保護層、ＩＴＯ膜にはしわやクラックの発生
はなかった。

【０１０１】（比較例１）親水化処理を施さない以外は
実施例１と同様にして保護層及びＩＴＯ膜付きのカラー
フィルタを作製した。プラズマ処理直後のブラックマト
リクス上面の純水に対する接触角は１２５°、着色部形
成後のブラックマトリクス上面の純水に対する接触角は
１１５°であった。得られたカラーフィルタに混色はな
く、また、保護層にしわが発生し、ＩＴＯ膜にはクラッ
クが発生した。

【０１０２】上記実施例、比較例の結果を表１に示す。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
混色のない画素を備え、画素上の部材にしわやクラック
の発生しない信頼性の高い光学素子をインクジェット方
式により簡易なプロセスによって歩留まり良く製造する
ことができ、着色部内で濃度ムラのないカラーフィル
タ、発光層内で発光輝度ムラのないＥＬ素子を歩留まり
良く提供することができる。よって、上記カラーフィル
タを用いて、カラー表示特性に優れた液晶素子をより安
価に提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。

【図２】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。

【図３】インクジェット方式による光学素子の製造方法
において発生する混色の概念図である。

【図４】本発明の製造方法において用いうるプラズマ発
生装置の構成の一例を示す模式図である。

【図５】本発明の製造方法において用いうるプラズマ発
生装置の他の構成を示す模式図である。

【図６】本発明の光学素子の他の実施形態であるカラー
フィルタの一例の断面模式図である。

【図７】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図で
ある。

【図８】本発明の光学素子の一実施形態であるエレクト
ロルミネッセンス素子の一例の断面模式図である。

【符号の説明】１支持基板２樹脂組成物層３隔壁４開口部５インクジェットヘッド６インク８画素３１透明基板３３ブラックマトリクス３６インク５１上部電極５２下部電極５３被処理基板５４高周波電極６１透明基板６２ブラックマトリクス６３着色部６４保護層６７共通電極６８配向膜６９液晶７１対向基板７２画素電極７３配向膜８１駆動基板８２隔壁８３発光層８４透明電極８６金属層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０５Ｂ 33/22 Ｈ０５Ｂ 33/22 Ｚ (72)発明者高野勝彦東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者岡田健東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者谷内洋東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者坂本淳一東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者岩田研逸東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者岡田良克東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA11 BA64 BB01 BB02 BB14 BB22 BB24 BB37 BB41 BB42 2H091 FA02Y FA34Y FA44Y FC01 FC25 FC27 FC29 GA03 GA16 LA12 3K007 AB04 AB18 BA06 CA01 CA05 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持基板上に複数の画素と隣接する画素
間に位置する樹脂組成物からなる隔壁とを少なくとも有
する光学素子の製造方法であって、支持基板上に隔壁を
形成する工程と、上記隔壁表面を撥インク化処理する工
程と、インクジェット方式により上記隔壁で囲まれた領
域にインクを付与して画素を形成する工程と、少なくと
も上記隔壁上面に親水化処理を施す工程と、を有するこ
とを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】上記隔壁表面の撥インク化処理が、少な
くともフッ素原子を含有するガスを導入してプラズマ照
射を行うプラズマ処理である請求項１に記載の光学素子
の製造方法。
【請求項３】上記隔壁を、遮光剤を含有する樹脂組成
物で形成する請求項１または２に記載の光学素子の製造
方法。
【請求項４】上記遮光剤がカーボンブラックである請
求項３に記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】上記親水化処理が、アルカリ水溶液によ
る洗浄処理、ＵＶ洗浄処理、エキシマ洗浄処理、コロナ
放電処理、酸素プラズマ処理のいずれかである請求項１
〜４のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】上記インクが少なくとも硬化成分、水、
有機溶剤を含有する請求項１〜５のいずれかに記載の光
学素子の製造方法。
【請求項７】上記インクが着色剤を含有し、画素が着
色部であるカラーフィルタを製造する請求項１〜６のい
ずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】上記画素上に保護層を形成する請求項７
に記載の光学素子の製造方法。
【請求項９】上記保護層上に透明導電膜を形成する請
求項８に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１０】上記画素が発光層であり、該発光層を
挟んで上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス素
子を製造する請求項１〜６のいずれかに記載の光学素子
の製造方法。
【請求項１１】支持基板上に複数の画素と隣接する画
素間に位置する隔壁とを少なくとも有し、請求項１〜６
のいずれかに記載の光学素子の製造方法により製造され
たことを特徴とする光学素子。
【請求項１２】上記隔壁が遮光層である請求項１１に
記載の光学素子。
【請求項１３】上記支持基板が透明基板であり、上記
画素が着色剤を含有するインクで形成された着色部であ
り、複数色の着色部を備えたカラーフィルタである請求
項１１または１２に記載の光学素子。
【請求項１４】上記着色部上に保護層を有する請求項
１３に記載の光学素子。
【請求項１５】上記保護層上に透明導電膜を有する請
求項１４に記載の光学素子。
【請求項１６】上記画素が発光層であり、該発光層を
挟んで上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス素
子である請求項１１または１２に記載の光学素子。
【請求項１７】一対の基板間に液晶を挟持してなり、
一方の基板が請求項１３〜１５のいずれかに記載の光学
素子を用いて構成されたことを特徴とする液晶素子。