JP2002139614A - 光学素子とその製造方法、該製造方法に用いる転写フィルム、該光学素子を用いた液晶素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インクジェット方式によるカラーフィルタの
製造方法において、混色及び白抜けを防止する。 【解決手段】 ベースフィルム３上に、撥インク性を有
する第１層４と、親インク性を有する樹脂組成物からな
る第２層５とを積層してなる転写フィルム２を、支持基
板１上に、第２層５を支持基板１側に向けて密着させ、
パターン露光し、ベースフィルム３を第１層４の未露光
部と共に剥離し、パターニングされた第１層４’をマス
クとして第２層５をパターニングして隔壁７を形成し、
該隔壁７の開口部８にインクジェット方式によりインク
を付与して画素を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台に使用されてい
るカラー液晶素子の構成部材であるカラーフィルタ、及
び、複数の発光層を備えたエレクトロルミネッセンス素
子といった光学素子を、インクジェット方式を利用して
製造する製造方法及び該製造方法に用いられる転写フィ
ルムに関し、さらには、該製造方法により製造される光
学素子、及び該光学素子の一つであるカラーフィルタを
用いてなる液晶素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。

【０００３】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく、種々の方法が試みら
れているが、未だ全ての要求特性を満足する方法は確立
されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。

【０００４】第一の方法は染色法である。染色法は、先
ず透明基板上に染色用の材料である、水溶性の高分子材
料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所
望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染
色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を
３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する。

【０００５】第二の方法は顔料分散法であり、近年最も
盛んに行われている。この方法は、先ず透明基板上に顔
料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニン
グすることにより、単色のパターンを得る。この工程を
３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部か
らなる着色層を形成する。

【０００６】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、先ず透明基板上に透明電極をパターニングし、顔
料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一
の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、
Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成
するものである。

【０００７】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着
色層を形成するものである。いずれの方法においても、
着色層の上に保護層を形成するのが一般的である。

【０００８】これらの方法に共通している点は、Ｒ、
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
数が多い程、歩留まりが低下するという問題も有してい
る。さらに、電着法においては、形成可能なパターン形
状が限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ型（ＴＦ
Ｔ、即ち薄膜トランジスタをスイッチング素子として用
いたアクティブマトリクス駆動方式）の液晶素子の構成
には適用困難である。

【０００９】一方、インクジェット方式はカラーフィル
タの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子（以
下、「ＥＬ素子」と記す）の製造にも応用が可能であ
る。

【００１０】ＥＬ素子は、蛍光性の無機及び有機化合物
を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有し、上記
薄膜に電子及び正孔（ホール）を注入して再結合させる
ことにより励起子を生成させ、この励起子が失活する際
の蛍光の放出を利用して発光させる素子である。このよ
うなＥＬ素子に用いられる蛍光性材料を、例えばＴＦＴ
等素子を作り込んだ基板上にインクジェット方式により
付与して発光層を形成し、素子を構成することができ
る。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上記したように、イン
クジェット方式は製造プロセスの簡略化及びコスト削減
を図ることができることから、カラーフィルタやＥＬ素
子といった光学素子の製造へ応用されている。しかしな
がら、このような光学素子の製造において、インクジェ
ット方式特有の問題として、「混色」及び「白抜け」と
言った問題がある。以下、カラーフィルタを製造する場
合を例に挙げて説明する。

【００１２】「混色」は、隣接する異なる色の画素（着
色部）間においてインクが混ざり合うことにより発生す
る障害である。ブラックマトリクスを隔壁として、該ブ
ラックマトリクスの開口部にインクを付与して着色部を
形成するカラーフィルタの製造方法においては、ブラッ
クマトリクスの開口部の容積に対して、数倍〜数十倍の
体積を有するインクを付与する必要がある。インク中に
含まれる着色剤や硬化成分等の固形分濃度が高い場合、
即ち付与するインクの体積が比較的少ない場合において
は、ブラックマトリクスが十分に隔壁として機能し、該
ブラックマトリクスの開口部内にインクを保持すること
ができるため、付与されたインクがブラックマトリクス
を乗り越えて、隣接する異なる色の着色部にまで到達す
ることはない。しかしながら、インク中の固形分濃度が
低い場合、即ち多量のインクを付与する必要がある場合
には、隔壁となるブラックマトリクスを超えてインクが
溢れてしまうため、隣接する着色部間で混色が発生して
しまう。特に、インクジェットヘッドのノズルより安定
して吐出可能なインクの粘度には限界があり、インク中
に含有される固形分の濃度にも限界があるため、混色を
回避するための技術が必要である。

【００１３】そこで、着色部と隔壁との間におけるイン
クの濡れ性の差を利用して混色を防止する方法が提案さ
れている。例えば、特開昭５９−７５２０５号において
は、インクが目的領域外へ広がることを防止するため、
濡れ性の悪い物質で拡散防止パターンを形成する方法が
提案されているが、具体的な技術は開示されていない。
一方、特開平４−１２３００５号においては、具体的な
手法として、撥水、撥油作用の大きなシリコーンゴム層
をパターニングして混色防止用の仕切壁とする方法が提
案されている。さらに、特開平５−２４１０１１号や特
開平５−２４１０１２号においても同様に、遮光層とな
るブラックマトリクス上にシリコーンゴム層を形成し、
混色防止用の隔壁として用いる手法が開示されている。

【００１４】これらの方法によれば、隔壁の高さをはる
かに超える量のインクを付与した場合においても、隔壁
の表面層が撥インク性を示すためにインクがはじかれ、
隔壁を超えて隣接する着色部にまで及ぶことがなく、有
効に混色を防止することができる。

【００１５】図３にその概念図を示す。図中、３１は透
明基板、３３は隔壁を兼ねたブラックマトリクス、３６
はインクである。ブラックマトリクス３３の上面が撥イ
ンク性を有する場合には、図３（ｂ）に示すように、付
与されたインク３６がブラックマトリクス３３の開口部
中に保持され、隣接する着色部にまで達することはな
い。しかしながら、ブラックマトリクス３３の上面の撥
インク性が低い場合には、図３（ａ）に示すように、付
与されたインク３６がブラックマトリクス３３上にまで
濡れ広がり、隣接する開口部に付与されたインクと混じ
り合ってしまう。

【００１６】また、フッ素化合物を用いて撥インク性を
得る方法も提案されている。例えば、特開２０００−３
５５１１号において、遮光部上にポジ型のレジストパタ
ーンを形成し、さらに該パターン上に撥インク化処理剤
を塗布する方法が開示されており、撥インク化処理剤と
しては、フッ素化合物を用いることが開示されている。
しかしながら、この方法の場合、遮光部上に設けられた
ポジ型レジストパターンを着色部形成後に除去する必要
があるが、レジストパターンを除去する際に画素の溶
解、剥離、膨潤といった問題を生じる場合がある。

【００１７】さらに、上述した手法はいずれも塗布−露
光−現像のフォトリソグラフィ工程を複数回実施する必
要があることから、プロセスの複雑化、コストアップ、
ひいては歩留まり低下を招くという問題がある。

【００１８】一方、「白抜け」は、主に付与されたイン
クが隔壁によって囲まれた領域内に十分且つ均一に拡散
することができないことに起因して発生する障害であ
り、色ムラやコントラストの低下といった表示不良の原
因となる。

【００１９】図４に、白抜けの概念図を示す。図中、
（ｂ）は（ａ）のＡ−Ｂ断面図であり、図３と同じ部材
には同じ符号を付した。また、３８は白抜け部分であ
る。

【００２０】近年、ＴＦＴ型液晶素子用のカラーフィル
タにおいては、ＴＦＴを外光から保護する目的で、或い
は、開口率を大きくして明るい表示を得る目的で、ブラ
ックマトリクス３３の開口部形状が複雑になっており、
複数のコーナー部を有するものが一般的に使用されてい
るため、図４（ａ）に示すように、該コーナー部に対し
てインク３６が十分に拡散しないという問題が発生す
る。また、ブラックマトリクス３３を形成する際には、
一般的にレジストを用いたフォトリソグラフィ工程が使
用されており、レジストに含まれる種々の成分により透
明基板３１の表面に汚染物が付着して、インク３６の拡
散の妨げとなる場合がある。さらに、透明基板３１の表
面に比べて、ブラックマトリクス３３の側面の撥インク
性が極端に高い場合、図４（ｂ）に示すように、ブラッ
クマトリクス３３の側面でインク３６がはじかれてしま
うため、インク３６とブラックマトリクス３３が接する
部分で色が薄くなるという問題が発生する場合もある。

【００２１】このような混色や白抜けの問題を解決する
手法として、特開平９−２０３８０３号においては、ブ
ラックマトリクス（凸部）に囲まれた領域（凹部）が、
水に対して２０°以下の接触角となるよう親インク化処
理された基板を用いることが提案されている。親インク
性を付与する方法としては、水溶性のレベリング剤や水
溶性の界面活性剤が例示されている。さらに、上述した
混色に対する問題を同時に解決するために、凸部の表面
を予め撥インク化処理剤で処理して撥インク性を付与す
る手法が開示されており、撥インク化処理剤としてフッ
素含有シランカップリング剤を用い、フッ素系の溶剤で
コートする方法が例示されている。また、この際、凸部
の表面層のみを選択的に撥インク化し、凸部の側面を撥
インク化しないための手法として、凸部以外の部分を
レジストで覆って、凸部の上面のみを撥インク化処理す
る、透明基板上にレジスト層を形成し、全面を撥イン
ク化処理した後、フォトリソ工程によりレジスト層をパ
ターニングして凸部を形成する、等の方法が例示されて
いる。

【００２２】また、特開平９−２３０１２９号において
は、同様に、凹部を親インク化処理する方法として、エ
ネルギー線を照射する方法が開示されている。この場合
にも、凸部の表面層のみを撥インク化処理する方法とし
て、ガラス基板上に凸部形成用の感光性材料を塗布し、
全面を撥インク化処理剤にて処理した後、フォトリソグ
ラフィ工程により感光性材料をパターニングする手法が
例示されている。その後、エネルギー線の照射により凸
部と凹部を同時に、もしくはどちらかを選択的に親イン
ク化処理するものである。

【００２３】しかしながら、これらの方法はいずれも凸
部の表面を撥インク化処理した後に凹部を親インク化処
理するものであることから、親インク化処理を行う際に
撥インク化処理された凸部の表面の撥インク性を低下さ
せてしまうという問題がある。そのため、透明基板表面
及びブラックマトリクスの側面においては十分な親イン
ク性を、ブラックマトリクスの上面においては十分な撥
インク性をそれぞれ得ることは困難である。さらには、
複数回のフォトリグラフィ工程を行うため、プロセスが
複雑となり、歩留りが低下してしまうという問題があ
る。

【００２４】上記問題は、インクジェット方式によりＥ
Ｌ素子を製造する場合にも同様に生じる。即ち、ＥＬ素
子において、例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色を発光する有機Ｅ
Ｌ材料をインクとして用い、隔壁で囲まれた領域に該イ
ンクを付与して画素（発光層）を形成する際に、隣接す
る発光層間でインクが混じり合った場合、当該発光層で
は所望の色、輝度の発光が得られないという問題が生じ
る。また、単一色の発光層であっても、隔壁内に充填す
るインク量を均一化しているため、隣接画素へインクが
流入すると、インク量に不均一性が生じ、輝度ムラとし
て認識され、問題となる。また、隔壁で囲まれた領域内
に十分にインクが拡散しなかった場合には、発光層と隔
壁との境界部分で十分な発光輝度が得られないという問
題を生じる。尚、以下の記述においては、便宜上、ＥＬ
素子を製造する場合においても、隣接する発光層間での
インクの混じり合いを「混色」、発光層と隔壁の境界部
でのインクの反発による発光輝度ムラの発生を「白抜
け」と記す。

【００２５】本発明の課題は、カラーフィルタやＥＬ素
子といった光学素子を、インクジェット方式を利用して
簡易なプロセスで安価に製造するに際して、上記問題を
解決し、信頼性の高い光学素子を歩留まり良く提供する
ことにある。具体的には、隔壁で囲まれた領域内にイン
クを付与する際に、隣接する画素間での混色を防止し、
且つ、該領域内でインクを十分に拡散させて白抜けのな
い画素を形成することにある。本発明ではさらに、該製
造方法によって得られた光学素子を用いて、カラー表示
特性に優れた液晶素子をより安価に提供することを目的
とする。

【００２６】

【課題を解決するための手段】本発明の第一は、支持基
板上に複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁と
を少なくとも有する光学素子の製造方法であって、ベー
スフィルム上に、撥インク性を有する樹脂組成物からな
る第１層と、親インク性を有する樹脂組成物からなる第
２層と、を積層してなる転写フィルムを、上記支持基板
に、上記第２層を支持基板側に向けて密着させる工程
と、上記転写フィルムをパターン露光する工程と、上記
転写フィルムのベースフィルムを第１層の未露光部と共
に剥離する工程と、上記第１層をマスクとして第２層を
パターニングし、隔壁を形成する工程と、インクジェッ
ト方式により隔壁に囲まれた領域にインクを付与して画
素を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とす
る光学素子の製造方法である。

【００２７】上記本発明の第一は、下記の構成を好まし
い態様として含むものである。上記第１層が、シリコン
系化合物或いはフッ素系化合物の少なくとも一方を含有
する。上記第１層が、光照射によりベースフィルムとの
接着性が低下する感光性樹脂組成物からなる。上記第２
層が遮光剤を含有する。上記インクが少なくとも硬化成
分、水、有機溶剤を含有する。上記支持基板が透明基板
であり、上記インクが着色剤を含有し、上記画素が着色
部であるカラーフィルタを製造する。上記インクが蛍光
性材料を含有し、画素が発光層であり、該発光層を挟ん
で上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス素子を
製造する。

【００２８】本発明の第二は、支持基板上に複数の画素
と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有す
る光学素子を、支持基板上に隔壁を形成した後、インク
ジェット方式により隔壁で囲まれた領域にインクを付与
して画素を形成する製造方法において、上記隔壁の形成
工程に用いる転写フィルムであって、ベースフィルム上
に、撥インク性を有し、剥離現像可能な樹脂組成物から
なる第１層と、親インク性を有する樹脂組成物からなる
第２層と、を積層してなることを特徴とする転写フィル
ムである。

【００２９】上記本発明の第二は、下記の構成を好まし
い態様として含むものである。上記第１層が、シリコン
系化合物或いはフッ素系化合物の少なくとも一方を含有
する。上記第１層が、光照射によりベースフィルムとの
接着性が低下する感光性樹脂組成物からなる。

【００３０】本発明の第三は、支持基板上に複数の画素
と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有
し、上記本発明の光学素子の製造方法により製造された
ことを特徴とする光学素子である。

【００３１】上記本発明の第三は、下記の構成を好まし
い態様として含むものである。上記隔壁が遮光層であ
る。上記支持基板が透明基板であり、上記画素が着色剤
を含有するインクで形成された着色部であり、複数色の
着色部を備えたカラーフィルタである。上記着色部上に
保護層を有する。表面に透明導電膜を有する。上記画素
が蛍光性材料からなる発光層であり、該発光層を挟んで
上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス素子であ
る。

【００３２】本発明の第四は、一対の基板間に液晶を挟
持してなり、一方の基板が上記本発明の光学素子を用い
て構成されたことを特徴とする液晶素子である。

【００３３】

【発明の実施の形態】本発明の光学素子の製造方法は、
予め撥インク性と親インク性とを有する異なる２種類の
層が形成された転写フィルムを用い、親インク性を有す
る層が支持基板と接するよう密着させ、剥離現像により
撥インク性の層をパターニングした後、該撥インク性の
パターンをマスクとして親インク性の層をパターニング
することで、上層部が撥インク性を有し、下層部が親イ
ンク性を有する隔壁を形成した後に、該隔壁で囲まれた
領域にインクジェット方式によりインクを付与して画素
を形成することに特徴を有する。よって本発明において
は、インクジェット適性に優れた隔壁を簡便な方法で形
成することが可能であり、インクを付与する際に、隔壁
上面の撥インク性によって多量のインクでも良好に保持
して混色を防止し、また、隔壁側面は下層が親インク性
であるためすみやかにインクが隔壁内に濡れ広がって白
抜けが防止される。

【００３４】尚、本発明において上記「インク」とは、
乾燥硬化した後に、例えば光学的、電気的に機能性を有
する液体を総称し、従来用いられていた着色材料に限定
されるものではない。

【００３５】本発明の製造方法で製造される本発明の光
学素子としては、カラーフィルタ及びエレクトロルミネ
ッセンス素子（ＥＬ素子）が挙げられる。先ず、本発明
の光学素子について実施形態を挙げて説明する。

【００３６】図５に、本発明の光学素子の一実施形態で
あるカラーフィルタの一例の断面を模式的に示す。図
中、５１は支持基板としての透明基板、５２は隔壁を兼
ねたブラックマトリクス、５３は画素である着色部、５
４は必要に応じて形成される保護層である。本発明のカ
ラーフィルタを用いて液晶素子を構成する場合には、着
色部５３上或いは、着色部５３上に保護層５４を形成し
たさらにその上に、液晶を駆動するためのＩＴＯ（イン
ジウム・チン・オキサイド）等透明導電材からなる透明
導電膜が形成されて提供される場合もある。また、本発
明において、隔壁を兼ねたブラックマトリクス５２は、
親インク性を有する第２層５２ａと撥インク性を有する
第１層５２ｂとから構成される。

【００３７】図６に、図５のカラーフィルタを用いて構
成された、本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図
を示す。図中、５７は共通電極（透明導電膜）、５８は
配向膜、５９は液晶、６１は対向基板、６２は画素電
極、６３は配向膜であり、図５と同じ部材には同じ符号
を付して説明を省略する。

【００３８】カラー液晶素子は、一般的にカラーフィル
タ側の基板５１と対向基板６１とを合わせ込み、液晶５
９を封入することにより形成される。液晶素子の一方の
基板６１の内側に、ＴＦＴ（不図示）と画素電極６２が
マトリクス状に形成されている。また、カラーフィルタ
側の基板５１の内側には、画素電極６２に対向する位置
に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列するように、カラーフィルタの着
色部５３が形成され、その上に透明な共通電極５７が形
成される。さらに、両基板の面内には配向膜５８，６３
が形成されており、液晶分子を一定方向に配列させてい
る。これらの基板は、スペーサー（不図示）を介して対
向配置され、シール材（不図示）によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶５９が充填される。

【００３９】上記液晶素子は、透過型の場合には、基板
６１及び画素電極６２を透明素材で形成し、それぞれの
基板の外側に偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板
を組み合わせたバックライトを用い、液晶化合物をバッ
クライトの光の透過率を変化させる光シャッターとして
機能させることにより表示を行なう。また、反射型の場
合には、基板６１或いは画素電極６２を反射機能を備え
た素材で形成するか、或いは、基板６１上に反射層を設
け、透明基板５１の外側に偏光板を設け、カラーフィル
タ側から入射した光を反射して表示を行なう。

【００４０】また、図７に、本発明の光学素子の他の実
施形態である、有機ＥＬ素子の一例の断面模式図を示
す。図中、７１は支持基板である駆動基板、７２は親イ
ンク性を有する第２層７２ａと撥インク性を有する第１
層７２ｂからなる隔壁、７３は画素である発光層、７４
は透明電極、７６は金属層である。この図では、簡略化
のために一つの画素領域のみを示している。

【００４１】駆動基板７１には、ＴＦＴ（不図示）、配
線膜及び絶縁膜等が多層に積層されており、金属層７６
及び発光層７３毎に配置した透明電極７４間に発光層単
位で電圧を印加可能に構成されている。駆動基板７１は
公知の薄膜プロセスによって製造される。

【００４２】本発明において有機ＥＬ素子を構成する場
合、その構造については、少なくとも一方が透明または
半透明である一対の陽極及び陰極からなる電極間に、樹
脂組成物からなる隔壁内に少なくとも蛍光性材料からな
るインクを充填して画素を形成した構成であれば、特に
制限はなく、その構造は公知のものを採用することがで
き、また本発明の主旨を逸脱しない限りにおいて各種の
改変を加えることができる。

【００４３】その積層構造は、例えば、 （１）電極（陰極）／発光層／正孔注入層／電極（陽
極） （２）電極（陽極）／発光層／電子注入層／電極（陰
極） （３）電極（陽極）／正孔注入層／発光層／電子注入層
／電極（陰極） （４）電極（陽極または陰極）／発光層／電極（陰極ま
たは陽極） があるが、本発明は上記のいずれの構成の有機化合物層
を設けた積層構造体を有するＥＬ素子に対しても適用す
ることができる。

【００４４】上記（１）及び（２）は２層構造、（３）
は３層構造、（４）は単層構造と称されるものである。
本発明における有機ＥＬ素子はこれらの積層構造を基本
とするが、これら以外の（１）から（４）を組み合わせ
た構造やそれぞれの層を複数有していてもよい。また、
カラーフィルタと組み合わせることによって、フルカラ
ー表示を実現しても良い。これらの積層構造からなる有
機ＥＬ素子の形状、大きさ、材質、隔壁と画素以外の部
材の形成工程等は該有機ＥＬ素子の用途等に応じて適宜
選択され、特に制限はない。

【００４５】本発明において、有機ＥＬ素子の発光層に
用いられる発光材料は蛍光性材料であれば特に限定され
ず、種々のものを適用することができる。具体的には、
蛍光性を有する有機化合物であり、低分子蛍光体、高分
子蛍光体のいずれもが好ましく用いられ、インクジェッ
ト方式への適用が簡単であることから、高分子蛍光体が
さらに好ましい。

【００４６】例えば、低分子蛍光体としては、特に限定
はないが、ナフタレン及びその誘導体、アントラセン及
びその誘導体、ペリレン及びその誘導体、ポリメチン
系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素
類、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯
体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン
及びその誘導体、テトラフェニルブタジエン及びその誘
導体等を用いることができる。具体的には、例えば、特
開昭５７−４１７８１号、特開昭５９−１８４３８３号
公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能で
ある。

【００４７】また、発光材料として使用可能な高分子蛍
光体としては、特に限定はないが、ポリフェニレンビニ
レン、ポリアリレン、ポリアルキルチオフェン、ポリア
ルキルフルオレン等を挙げることができる。

【００４８】尚、本発明において有機ＥＬ素子に用いる
高分子蛍光体は、ランダム、ブロックまたはグラフト共
重合体であってもよいし、それらの中間的な構造を有す
る高分子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体
であってもよい。蛍光の量子収率の高い高分子蛍光体を
得る観点からは完全なランダム共重合体よりブロック性
を帯びたランダム共重合体やブロックまたはグラフト共
重合体が好ましい。また本発明の有機ＥＬ素子は、薄膜
からの発光を利用するので該高分子蛍光体は、固体状態
で蛍光を有するものが用いられる。

【００４９】該高分子蛍光体に対する良溶媒としては、
クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラ
ヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが例示される。
高分子蛍光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれら
の溶媒に０．１重量％以上溶解させることができる。

【００５０】本発明における有機ＥＬ素子において、発
光層と陰極との間にさらに電子輸送層を設ける場合の電
子輸送層中に使用する、或いは正孔輸送性材料及び発光
材料と混合使用する電子輸送性材料は、陰極より注入さ
れた電子を発光材料に伝達する機能を有している。この
ような電子輸送性材料について特に制限はなく、従来公
知の化合物の中から任意のものを選択して用いることが
できる。

【００５１】該電子輸送性材料の好ましい例としては、
ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン
誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシ
ド誘導体、複素環テトラカルボン酸無水物、或いはカル
ボジイミド等を挙げることができる。

【００５２】さらに、フレオレニリデンメタン誘導体、
アントラキノジメタン誘導体及びアントロン誘導体、オ
キサジアゾール誘導体等を挙げることができる。また、
発光層を形成する材料として開示されているが、８−ヒ
ドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体等も電子輸
送性材料として用いることができる。

【００５３】本発明におけるＥＬ素子において、発光層
は一般には適当な結着性樹脂と組み合わせて薄膜状に形
成する。上記結着性樹脂としては広範囲な樹脂材料より
選択でき、例えばポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹
脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルア
セタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹
脂、メタクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、
シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。これらは
単独または共重合体ポリマーとして１種または２種以上
混合して用いても良い。

【００５４】また、陽極材料としては仕事関数がなるべ
く大きなものが良く、例えば、ニッケル、金、白金、パ
ラジウム、セレン、レニウム、イリジウムやこれらの合
金、或いは酸化錫、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、ヨウ
化銅が好ましい。またポリ（３−メチルチオフェン）、
ポリフェニレンスルフィド或いはポリピロール等の導電
性ポリマーも使用出来る。一方、陰極材料としては仕事
関数が小さな銀、鉛、錫、マグネシウム、アルミニウ
ム、カルシウム、マンガン、インジウム、クロム或いは
これらの合金が用いられる。

【００５５】ＥＬ素子は、発光層における発光を観察す
る側を透明或いは半透明にする必要があり、例えば図７
の構成においては、透明電極７４を形成した駆動基板７
１が透明或いは半透明になるように構成される。また、
透明電極７４は陰極、陽極のいずれでもかまわないが、
通常、ＩＴＯが用いられるため、陽極となるのが一般的
である。

【００５６】以下に、図面を参照して本発明の光学素子
の製造方法について説明する。

【００５７】図１、図２は本発明の光学素子の製造方法
を模式的に示す工程図である。以下に各工程について説
明する。尚、図１、図２の（ａ）〜（ｇ）は以下の工程
（ａ）〜（ｇ）に対応する模式図である。また、図１、
図２の各工程において紙面左側の（ａ−１）〜（ｇ−
１）は上方より見た平面模式図、紙面右側の（ａ−２）
〜（ｇ−２）は（ａ−１）〜（ｇ−１）のＡ−Ｂ断面模
式図である。図中、１は支持基板、２は転写フィルム、
３はベースフィルム、４は第１層、５は第２層、６はフ
ォトマスク、７は隔壁、８は隔壁７の開口部、９はイン
ク、１０は画素である。

【００５８】工程（ａ） 支持基板１及び転写フィルム２を用意する。支持基板１
は、図５に例示したカラーフィルタを製造する場合には
透明基板５１であり、一般にはガラス基板が用いられる
が、液晶素子を構成する目的においては、所望の透明
性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば、プ
ラスチック基板なども用いることができる。また、図７
に例示したＥＬ素子を製造する場合には、支持基板１は
透明電極７４を形成した駆動基板７１であり、図７の如
く当該基板側から発光を観察する場合には、駆動基板７
１にガラス基板などの透明基板を用いる。

【００５９】支持基板１には、その表面に対して、プラ
ズマ処理、ＵＶ処理、カップリング処理等の表面処理を
施しても良い。

【００６０】本発明に用いる転写フィルム２は、隔壁７
を形成するための部材であり、本発明にかかる隔壁７
は、図５のカラーフィルタの場合にはブラックマトリク
ス５２に、図７のＥＬ素子の場合には隔壁７２に相当す
る。該隔壁７は、特にカラーフィルタを製造する場合に
は、図５の５２で示したように、隣接する画素間を遮光
する遮光層とすることが好ましく、その場合、図５の如
くブラックマトリクス５２とするか、或いは、ブラック
ストライプとすることもできる。また、ＥＬ素子を製造
する場合にも遮光層とすることが可能である。

【００６１】転写フィルム２は、ベースフィルム３上に
撥インク性を有する第１層４と親インク性を有する第２
層５とを積層してなる。

【００６２】本発明において用いられる転写フィルム２
の各構成部材について以下に説明する。

【００６３】〔ベースフィルム〕ベースフィルム３とし
ては、熱、溶剤、光等に対して耐性を有するものを用い
ることが好ましい。さらには、該ベースフィルム３側か
ら光照射を行う場合には、光照射に用いる波長の光を透
過する必要があり、具体的にはポリエチレンテレフタレ
ート、ポリプロピレン、トリアセテート、セルロースア
セテート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ポリサルフォン、ポリテトラフル
オロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル、
テトラフルオロエチレン−エチレン等のシート、或いは
これらの樹脂材料にフィラーを添加したシートが用いら
れる。また、ベースフィルム３の膜厚は、一般的に５〜
５００μｍ程度のものが用いられ、特に２０〜２００μ
ｍ程度のものが好適に用いられる。

【００６４】〔第１層〕第１層４は、撥インク性を有す
る感光性樹脂組成物で形成される。具体的には、インク
に対する接触角が６０°以上となるような感光性材料と
することが好ましく、シリコン系化合物或いはフッ素系
化合物の少なくとも一方を含有させることで好ましい撥
インク性が得られる。また、第１層４には、好ましく
は、通常状態においてはベースフィルム３に対して接着
性を有し、光照射によって該ベースフィルム３に対する
接着性が低下する樹脂組成物を用いる。これらの特性を
満足し得る構成材料としては、光重合性モノマー、バイ
ンダー樹脂、光重合開始剤、シリコン系化合物及び／ま
たはフッ素系化合物を成分として含有することが好まし
い。以下に各成分について詳しく説明する。

【００６５】光重合性モノマー：光重合性モノマーとし
ては、多官能のビニル系或いはビニリデン系のモノマー
またはオリゴマーが好適に用いられ、例えばポリオール
の不飽和エステル類として、エチレングリコールジアク
リレート、グリセリントリアクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、１，３−プロパンジオールメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート
等を単独或いは複数混合して使用することができる。

【００６６】バインダー樹脂：バインダー樹脂として
は、熱可塑性樹脂を用いることが好ましく、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル等のアクリル系モノマーの単独または共重合
体、メチルセルロース、エチルセルロース等を高分子化
したセルロース系ポリマー、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポ
リエステル、ポリアミド等の縮合系ポリマー、塩素化ゴ
ム、ブタジエン−スチレン共重合体等のゴム系ポリマ
ー、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン等のポ
リオレフィン系ポリマー等から選択されるポリマーを単
独或いは複数混合して用いることができる。バインダー
樹脂の配合比としては、上述した光重合性モノマーに対
して重量比で１／１０〜１０倍の範囲において一般的に
用いられ、特に１／２〜２倍の範囲において好適に用い
られる。

【００６７】光重合開始剤：光重合開始剤としては、ラ
ジカル系のものが好適に用いられ、ベンゾフェノン、ｏ
−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ジクロロベンゾ
フェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケト
ン、フルオレン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフ
ェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、４−アジド
ベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベ
ンジリデン）シクロヘキサン、ＡＩＢＮ、ジフェニルジ
スルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノ
ン等を単独或いは複数混合して用いることができ、さら
に他の増感剤と併用しても良い。また、光重合開始剤の
配合比としては、上述した光重合性モノマーに対して
０．１〜２０重量％の範囲において好適に用いられる。

【００６８】シリコン系化合物、フッ素系化合物：シリ
コン系化合物、フッ素系化合物は、第１層４に撥インク
性を付与する目的で添加されるものであり、側鎖にアル
キル基を有するシロキサン化合物、パーフルオロアルキ
ル基を有するモノマー或いはポリマー等を単独或いは複
数混合して用いることができる。また、その添加量とし
ては、感光性、皮膜性等に悪影響を及ぼさない範囲内に
おいて、目的とする撥インク性が得られるよう任意に設
定することができる。さらに、上述した光重合性モノマ
ー或いはバインダー樹脂としてシリコン系化合物或いは
フッ素系化合物を用い、第１層４に撥インク性を付与す
る機能を持たせても良い。

【００６９】さらに、上述した構成材料以外にも、必要
に応じてジメチルフタレート、ジブチルフタート、ジシ
クロヘキシルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタ
レート等の可塑剤、重合禁止剤、界面活性剤、溶剤等を
添加しても良い。

【００７０】〔第２層〕第２層５は、親インク性を有す
る樹脂組成物にて形成され、具体的には、水酸基、アル
コキシ基、カルボキシル基等の極性置換基を含有する基
材樹脂、水に対する溶解性の高い極性溶剤等を選択して
調製され、後述するインク９に対する接触角が３０°以
下のものを用いることが好ましい。具体的には、アクリ
ル酸、メタクリル酸等のアルキルアクリレート、メチル
アクリレート、メチルメタクリレート等のアルキルメタ
クリレート、シクロヘキシルアクリレート等の環状のア
クリレートまたはメタクリレート、ヒドロキシエチルメ
タクリレート等のヒドロキシアルキルアクリレートまた
はメタクリレート、Ｎ−アルキロールアクリルアミド等
のモノマーを単独或いは複数共重合したものを用いるこ
とができる。また、第２層５には感光性は必要ないが、
市販のネガ型レジスト材料を用いても良く、特に、後述
する工程（ｅ）において第１層４’をマスクとして第２
層５をパターニングする際に作業性が良いことから、ア
クリル現像可能なネガ型レジストが好適に用いられる。

【００７１】また、本発明において隔壁７を遮光層とす
る場合には、少なくとも第２層５を遮光層とすれば良
く、このような第２層５を構成する場合には、上記樹脂
組成物中にカーボンブラック等遮光剤を分散せしめて用
いる。また、市販の黒色ネガ型レジストを用いても良
い。

【００７２】第１層４は、ベースフィルム３上に、ダイ
レクトグラビアコーティング法、グラビアリバースコー
ティング法、リバースロールコーティング法、スライド
ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコ
ート法、ナイフコート法、スピンコート法、シルクスク
リーン法等の公知の手法によって形成することができ
る。また、第２層５も、同様の手法によって第１層４上
に形成することができる。また、第１層４及び第２層５
の膜厚は任意に設定することが可能であるが、好ましく
は第１層４の膜厚としては０．１〜１．０μｍ、第２層
５の膜厚としては０．５〜５．０μｍである。尚、ベー
スフィルム３からの第１層４の剥離性を良くする目的
で、ベースフィルム３と第１層４の間にシリコン樹脂等
から成る剥離層を別途形成しても良い。

【００７３】工程（ｂ） 転写フィルム２を、第２層５を支持基板１側に向けて支
持基板１に密着させる。この時、転写フィルム２は加熱
圧着ロールを用いて支持基板１上に密着させることがで
きる。

【００７４】工程（ｃ） フォトマスク６を介してパターン露光を行う。本例にお
いては、ベースフィルム３側からギャップを設けて露光
する例を示すが、露光は、解像性を向上する目的でベー
スフィルム３に密着させた状態で行っても良い。また、
本例においてはベースフィルム３側から露光を行う例を
示すが、露光は、支持基板１側から行っても良い。

【００７５】工程（ｄ） ベースフィルム３を第１層４の未露光部と共に除去（剥
離現像）し、パターニングされた第１層４’を形成す
る。

【００７６】工程（ｅ） 第１層４’をマスクとして第２層５をエッチング等によ
りパターニングし、第１層４’と第２層５’からなる隔
壁７を形成する。

【００７７】工程（ｆ） インクジェット記録装置を用いて、インクジェットヘッ
ド（不図示）より、Ｒ、Ｇ、Ｂのインク９を隔壁７の開
口部８に付与する。インクジェットとしては、エネルギ
ー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェット
（登録商標）タイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能である。また、インク９とし
ては、カラーフィルタの場合には硬化後にＲ、Ｇ、Ｂの
着色部を形成するように各色の着色剤を含むもの、ＥＬ
素子の場合には、硬化後に電圧印加によって発光する発
光層を形成する材料を用いる。いずれの場合も、インク
９は硬化成分、溶媒を少なくとも含むものが好ましい。
以下に、本発明の製造方法によってカラーフィルタを製
造する場合に用いるインクの組成についてさらに詳細に
説明する。

【００７８】〔１〕着色剤 本発明でインク中に含有させる着色剤としては、染料系
及び顔料系共に使用可能である。顔料を使用する場合に
は、インク中で均一に分散させるために別途分散剤を添
加しても良い。また、着色剤の添加量としては、後述す
る硬化成分に対して、重量比で１／５〜５倍であること
が好ましい。

【００７９】〔２〕硬化成分 後工程におけるプロセス耐性、信頼性等を考慮した場
合、熱処理或いは光照射等の処理により硬化し、着色剤
を固定化する成分、即ち架橋可能なモノマー或いはポリ
マー等の成分を含有することが好ましい。特に、後工程
における耐熱性を考慮した場合、硬化可能な樹脂組成物
を用いることが好ましい。具体的には、例えば基材樹脂
として、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミ
ド基等の官能基を有するアクリル樹脂、シリコーン樹
脂；またはヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース等のセルロース誘導体或いはそれらの変性
物；またはポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアセタール等のビニル系ポリマーが挙げ
られる。さらに、これらの基材樹脂を光照射或いは加熱
処理により硬化させるための架橋剤、光開始剤を用いる
ことが可能である。具体的には、架橋剤としては、メチ
ロール化メラミン等のメラミン誘導体が、また光開始剤
としては重クロム酸塩、ビスアジド化合物、ラジカル系
開始剤、カチオン系開始剤、アニオン系開始剤等が使用
可能である。また、これらの光開始剤を複数種混合し
て、或いは他の増感剤と組み合わせて使用することもで
きる。

【００８０】〔３〕溶媒 本発明で使用されるインクの媒体としては、水及び有機
溶剤の混合溶媒が好ましく使用される。水としては種々
のイオンを含有する一般の水ではなく、イオン交換水
（脱イオン水）を使用することが好ましい。

【００８１】有機溶剤としては、メチルアルコール、エ
チルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチル
アルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等の炭素数１
〜４のアルキルアルコール類；ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド等のアミド類；アセトン、ジアセ
トンアルコール等のケトン類またはケトアルコール類；
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポ
リアルキレングリコール類；エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ブチレングリコール、トリエチレン
グリコール、チオジグリコール、へキシレングリコー
ル、ジエチレングリコール等のアルキレン基が２〜４個
の炭素を含有するアルキレングリコール類；グリセリン
類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル等の多価アルコールの低級アルキル
エーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリ
ドン等の中から選択することが好ましい。

【００８２】また、上記成分の他に、必要に応じて所望
の物性値を持つインクとするために、沸点の異なる２種
類以上の有機溶剤を混合して用いたり、界面活性剤、消
泡剤、防腐剤等を添加しても良い。

【００８３】工程（ｇ） 熱処理、光照射等必要な処理を施し、インク９中の溶剤
成分を除去して硬化させることにより、画素１０を形成
する。

【００８４】さらに、カラーフィルタの場合には、前記
したように、必要に応じて保護層や透明導電膜を形成す
る。この場合の保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化
タイプ、或いは光熱併用硬化タイプの樹脂材料、或い
は、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用
いることができ、カラーフィルタとした場合の透明性を
有し、その後の透明導電膜形成プロセス、配向膜形成プ
ロセス等に耐えうるものであれば使用可能である。ま
た、透明導電膜は、保護層を介さずに着色部上に直接形
成しても良い。

【００８５】また、ＥＬ素子の場合には、画素上に電極
（図７の金属層７６）等必要な部材を形成する。

【００８６】

【実施例】（実施例１） 〔隔壁の形成〕界面活性剤水溶液による洗浄及びＵＶ洗
浄を行ったガラス基板（コーニング製「１７３７」）上
に、以下の構成からなる転写フィルムを熱ロールを用い
て密着させた。なお、第１層の膜厚は０．５μｍ、第２
層の膜厚は２．０μｍの転写フィルムを用いた。

【００８７】ベースフィルム ２５μｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートフィルム

【００８８】 第１層 基材樹脂：ポリメチルメタクリレート ４０重量部 光重合性モノマー：ペンタエリトリットトリメタクリレート ４５重量部 光重合開始剤：「チバガイギー社製」イルガキュア９０７ １０重量部 フッ素系化合物：住友３Ｍ社製「フロラードＦＣ−４３０」 ５重量部

【段落番号】第２層 新日鉄化学製「Ｖ−２５９ＢＫレジスト」

【００８９】次いで、ブラックマトリクス形成用のフォ
トマスクを用いてベースフィルム側からパターン露光を
行った後、ベースフィルムを第１層の未露光部ごと除去
して剥離現像を行い、次いでアルカリ現像液（新日鉄化
学製「Ｖ−２４０１ＩＤ」）を用いて第２層を現像する
ことにより、８０μｍ×２２０μｍの開口部を有する隔
壁を形成した。

【００９０】〔インクの調整〕下記に示す組成からなる
アクリル系共重合体を熱硬化成分として用い、以下の組
成にてＲ、Ｇ、Ｂの各インクを調製した。

【００９１】硬化成分 メチルメタクリレート ５０重量部 ヒドロキシエチルメタクリレート ３０重量部 Ｎ−メチロールアクリルアミド ２０重量部

【００９２】Ｒインク Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ１４８ ３．５重量部 Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２８９ ０．５重量部 ジエチレングリコール ３０重量部 エチレングリコール ２０重量部 イオン交換水 ４０重量部 上記硬化成分 ６重量部

【００９３】Ｇインク Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー２３ ２重量部 亜鉛フタロシアニンスルホアミド ２重量部 ジエチレングリコール ３０重量部 エチレングリコール ２０重量部 イオン交換水 ４０重量部 上記硬化成分 ６重量部

【００９４】Ｂインク Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１９９ ４重量部 ジエチレングリコール ３０重量部 エチレングリコール ２０重量部 イオン交換水 ４０重量部 上記硬化成分 ６重量部

【００９５】尚、各インクの第１層に対する接触角は８
５°〜９０°の範囲にあり、第２層に対する接触角は２
５°〜２８°の範囲であった。

【００９６】〔着色部の作製〕吐出量２５ｐｌのインク
ジェットヘッドを具備したインクジェット記録装置を用
い、上記隔壁の開口部に対してＲ、Ｇ、Ｂインクを開口
部１個あたり１００〜４００ｐｌの範囲で５０ｐｌおき
に量を変化させて付与した。次いで、９０℃で１０分
間、引き続き２３０℃で３０分間の熱処理を行ってイン
クを硬化させて着色部（画素）とし、インク付与量の異
なる７種類のカラーフィルタを作製した。

【００９７】〔混色及び白抜けの評価〕得られたカラー
フィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラー
フィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。

【００９８】（実施例２）パターン露光を支持基板側か
ら行った以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタを
作製した。得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観察
したところ、全てのカラーフィルタにおいて、混色、白
抜けは観察されなかった。

【００９９】（実施例３）転写フィルムの第１層を以下
の組成とした以外は、実施例１と同様にしてカラーフィ
ルタを作製した。尚、第１層の各インクに対する接触角
は８０°〜８４°の範囲にあった。

【０１００】 第１層 基材樹脂：ポリメチルメタクリレート ４０重量部 光重合性モノマー：ペンタエリトリットトリメタクリレート ４０重量部 光重合開始剤：チバガイギー社製「イルガキュア９０７」 １０重量部 シリコン系化合物：ジメチルシロキサン １０重量部

【０１０１】〔混色及び白抜けの評価〕得られたカラー
フィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラー
フィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。

【０１０２】（実施例４）パターン露光をガラス基板側
から行った以外は実施例３と同様にしてカラーフィルタ
を作製した。得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観
察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、混色、
白抜けは観察されなかった。

【０１０３】（実施例５） 〔ＥＬ素子用基板の作製〕薄膜プロセスによって形成さ
れた、配線膜及び絶縁膜等が多層に積層されてなるＴＦ
Ｔ駆動基板上に画素（発光層）単位に、透明電極として
ＩＴＯをスパッタリングにより厚さ４０ｎｍ形成し、フ
ォトリソ法により、画素形状に従ってパターニングを行
った。

【０１０４】〔隔壁の形成〕次に、第２層を富士フィル
ムオーリン製「ＣＴ−２０００Ｌ」を用いて膜厚が１．
０μｍとした転写フィルムを用いた以外は、実施例１と
同様にして隔壁を作製した。下記インクに対する第１層
の接触角は６３°、第２層の接触角は２３°であった。

【０１０５】〔発光層の形成〕次に前記基板の隔壁内に
発光層を充填した。インクとして、電子輸送性２，５−
ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾオキサゾルイ
ル）−チオフェン〔蛍光ピーク４５０ｎｍをもつ電子輸
送性青色発光色素であり、発光中心形成化合物の１つで
ある。以下、「ＢＢＯＴ」と記す〕を、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール〔分子量１５０，０００、関東化学社
製、以下、「ＰＶＫ」と記す〕よりなるホール輸送性ホ
スト化合物中に３０重量％となるように分子分散させる
ことができるよう、両者をジクロロエタン溶液に溶解さ
せた。もう１つの発光中心形成化合物であるナイルレッ
ドを前記ＰＶＫ−ＢＢＯＴのジクロロエタン溶液に０．
０１５モル％になるように溶解してインクを調製した。
該インクをインクジェット法により透明樹脂からなる隔
壁の開口部内に充填、乾燥し、厚さ２００ｎｍの発光層
を形成した。このとき、各画素（発光層）は独立し、隔
壁間で前記発光材料を含む溶液が隣接画素で混ざること
はなかった。さらにこの上に、Ｍｇ：Ａｇ（１０：１）
を真空蒸着させて厚さ２００ｎｍのＭｇ：Ａｇ陰極を作
った。このようにして作ったＥＬ素子の各画素に１８Ｖ
の電圧を印加したところ、４８０ｃｄ／ｍ²の均一な白
色発光が得られた。

【０１０６】（比較例１）第１層にフッ素化合物を添加
しない転写フィルムを用いた以外は実施例１と同様にし
てカラーフィルタを作製した。第１層の各インクに対す
る接触角は２８°〜３６°であった。得られたカラーフ
ィルタを光学顕微鏡で観察したところ、インクの付与量
が２５０ｐｌ以上のカラーフィルタにおいて混色が観察
された。

【０１０７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
混色や白抜けのない画素を備えた信頼性の高い光学素子
をインクジェット方式により簡易なプロセスによって歩
留まり良く製造することができ、着色部内で濃度ムラの
ないカラーフィルタ、発光層内で発光輝度ムラのないＥ
Ｌ素子を歩留まり良く提供することができる。

【０１０８】特に、本発明においては転写フィルムを用
いて隔壁を形成するため、カラーフィルタの製造工程に
おいて、２層構成の隔壁を容易に形成することができ、
製造効率が高く、また、該隔壁の素子間のバラツキがな
く、より信頼性の高い光学素子を提供することができ
る。

【０１０９】よって、上記カラーフィルタを用いて、カ
ラー表示特性に優れた液晶素子をより安価に提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。

【図２】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。

【図３】インクジェット方式による光学素子の製造方法
において発生する、混色の概念図である。

【図４】インクジェット方式による光学素子の製造方法
において発生する、白抜けの概念図である。

【図５】本発明の光学素子の一実施形態であるカラーフ
ィルタの一例の断面模式図である。

【図６】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図で
ある。

【図７】本発明の光学素子の他の実施形態であるＥＬ素
子の一例の断面模式図である。

【符号の説明】

１ 支持基板 ２ 転写フィルム ３ ベースフィルム ４、４’ 第１層 ５、５’ 第２層 ６ フォトマスク ７ 隔壁 ８ 開口部 ９ インク １０ 画素 ３１ 透明基板 ３３ ブラックマトリクス ３６ インク ３８ 白抜け ５１ 透明基板 ５２ ブラックマトリクス ５２ａ 第２層 ５２ｂ 第１層 ５３ 着色部 ５４ 保護層 ５７ 共通電極 ５８ 配向膜 ５９ 液晶 ６１ 対向基板 ６２ 画素電極 ６３ 配向膜 ７１ 駆動基板 ７２ 隔壁 ７２ａ 第２層 ７２ｂ 第１層 ７３ 発光層 ７４ 透明電極 ７６ 金属層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ａ 33/22 33/22 Ｂ Ｄ // Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ (72)発明者 岡田 健 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 谷内 洋 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 西田 武人 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 国峯 昇 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA02 BA11 BA43 BA64 BA66 BB01 BB02 BB14 BB24 BB41 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB04 FC10 FC27 GA02 GA13 GA16 LA12 LA15 LA18 3K007 AB17 AB18 DA01 DB03 EB00 FA01 5C094 AA03 AA31 AA42 BA27 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA05 EA07 EB02 ED03 FB12 FB15 FB16

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持基板上に複数の画素と、隣接する画
   素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子の製
   造方法であって、ベースフィルム上に、撥インク性を有
   する樹脂組成物からなる第１層と、親インク性を有する
   樹脂組成物からなる第２層と、を積層してなる転写フィ
   ルムを、上記支持基板に、上記第２層を支持基板側に向
   けて密着させる工程と、上記転写フィルムをパターン露
   光する工程と、上記転写フィルムのベースフィルムを第
   １層の未露光部と共に剥離する工程と、上記第１層をマ
   スクとして第２層をパターニングし、隔壁を形成する工
   程と、インクジェット方式により隔壁に囲まれた領域に
   インクを付与して画素を形成する工程とを少なくとも有
   することを特徴とする光学素子の製造方法。
2. 【請求項２】 上記第１層が、シリコン系化合物或いは
   フッ素系化合物の少なくとも一方を含有する請求項１に
   記載の光学素子の製造方法。
3. 【請求項３】 上記第１層が、光照射によりベースフィ
   ルムとの接着性が低下する感光性樹脂組成物からなる請
   求項１または２に記載の光学素子の製造方法。
4. 【請求項４】 上記第２層が遮光剤を含有する請求項１
   〜３のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
5. 【請求項５】 上記インクが少なくとも硬化成分、水、
   有機溶剤を含有する請求項１〜４のいずれかに記載の光
   学素子の製造方法。
6. 【請求項６】 上記支持基板が透明基板であり、上記イ
   ンクが着色剤を含有し、上記画素が着色部であるカラー
   フィルタを製造する請求項１〜５のいずれかに記載の光
   学素子の製造方法。
7. 【請求項７】 上記インクが蛍光性材料を含有し、画素
   が発光層であり、該発光層を挟んで上下に電極を有する
   エレクトロルミネッセンス素子を製造する請求項１〜５
   のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
8. 【請求項８】 支持基板上に複数の画素と、隣接する画
   素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子を、
   支持基板上に隔壁を形成した後、インクジェット方式に
   より隔壁で囲まれた領域にインクを付与して画素を形成
   する製造方法において、上記隔壁の形成工程に用いる転
   写フィルムであって、ベースフィルム上に、撥インク性
   を有し、剥離現像可能な樹脂組成物からなる第１層と、
   親インク性を有する樹脂組成物からなる第２層と、を積
   層してなることを特徴とする転写フィルム。
9. 【請求項９】 上記第１層が、シリコン系化合物或いは
   フッ素系化合物の少なくとも一方を含有する請求項８に
   記載の転写フィルム。
10. 【請求項１０】 上記第１層が、光照射によりベースフ
    ィルムとの接着性が低下する感光性樹脂組成物からなる
    請求項８または９に記載の転写フィルム。
11. 【請求項１１】 上記第２層が遮光剤を含有する請求項
    ８〜１０のいずれかに記載の転写フィルム。
12. 【請求項１２】 支持基板上に複数の画素と、隣接する
    画素間に位置する隔壁とを少なくとも有し、請求項１〜
    ５のいずれかに記載の光学素子の製造方法により製造さ
    れたことを特徴とする光学素子。
13. 【請求項１３】 上記隔壁が遮光層である請求項１２に
    記載の光学素子。
14. 【請求項１４】 上記支持基板が透明基板であり、上記
    画素が着色剤を含有するインクで形成された着色部であ
    り、複数色の着色部を備えたカラーフィルタである請求
    項１２または１３に記載の光学素子。
15. 【請求項１５】 上記着色部上に保護層を有する請求項
    １４に記載の光学素子。
16. 【請求項１６】 表面に透明導電膜を有する請求項１４
    または１５に記載の光学素子。
17. 【請求項１７】 上記画素が蛍光性材料からなる発光層
    であり、該発光層を挟んで上下に電極を有するエレクト
    ロルミネッセンス素子である請求項１２または１３に記
    載の光学素子。
18. 【請求項１８】 一対の基板間に液晶を挟持してなり、
    一方の基板が請求項１４〜１６のいずれかに記載の光学
    素子を用いて構成されたことを特徴とする液晶素子。