JP2002131525A

JP2002131525A - 光学素子とその製造方法、該製造方法に用いる転写フィルム、液晶素子

Info

Publication number: JP2002131525A
Application number: JP2000320711A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Yanai; 洋谷内; Shoji Shiba; 昭二芝; Katsuhiko Takano; 勝彦高野; Takeshi Okada; 岡田　　健; Taketo Nishida; 武人西田; Noboru Kunimine; 昇国峯
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2000-10-20
Filing date: 2000-10-20
Publication date: 2002-05-09

Abstract

(57)【要約】【課題】インクジェット方式により隔壁の開口部にイ
ンクを付与して画素を形成する光学素子の製造におい
て、隣接する画素間での混色及び白抜けを防止する。【解決手段】感光性樹脂組成物からなる転写層をベー
スフィルムとカバーフィルムで挟持してなり、ベースフ
ィルムと転写層との界面にシリコーン成分を含有する転
写フィルムを用い、支持基板上にカバーフィルムを剥離
した該転写フィルムの転写層を貼付し、該転写層をパタ
ーン露光、現像して隔壁を形成し、該隔壁の開口部にイ
ンクジェット方式によりインクを付与して画素を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台に使用されてい
るカラー液晶素子の構成部材であるカラーフィルタ、及
び、複数の発光層を備えたエレクトロルミネッセンス素
子といった光学素子を、インクジェット方式を利用して
製造する製造方法及び該製造方法に用いられる転写フィ
ルムに関し、さらには、該製造方法により製造される光
学素子、及び該光学素子の一つであるカラーフィルタを
用いてなる液晶素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。

【０００３】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく、種々の方法が試みら
れているが、未だ全ての要求特性を満足する方法は確立
されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。

【０００４】第一の方法は染色法である。染色法は、先
ず透明基板上に染色用の材料である、水溶性の高分子材
料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所
望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染
色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を
３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する。

【０００５】第二の方法は顔料分散法であり、近年最も
盛んに行われている。この方法は、先ず透明基板上に顔
料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニン
グすることにより、単色のパターンを得る。この工程を
３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部か
らなる着色層を形成する。

【０００６】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、先ず透明基板上に透明電極をパターニングし、顔
料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一
の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、
Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成
するものである。

【０００７】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着
色層を形成するものである。いずれの方法においても、
着色層の上に保護層を形成するのが一般的である。

【０００８】これらの方法に共通している点は、Ｒ、
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
数が多い程、歩留まりが低下するという問題も有してい
る。さらに、電着法においては、形成可能なパターン形
状が限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ型（ＴＦ
Ｔ、即ち薄膜トランジスタをスイッチング素子として用
いたアクティブマトリクス駆動方式）の液晶素子の構成
には適用困難である。

【０００９】現在主流となっている顔料分散法において
はレジスト材料の少液化によりコストダウンを図ろうと
した提案もされており、とりわけ特開平１０−３３３３
２７号公報等に示されるような転写フィルムを用いたも
のは効率的であるが、着色部の色仕様が数種〜数十種あ
るため、これに対応することは転写フイルム製造上に
も、光学素子製造上の品種変更にもロスが多い。さら
に、転写フィルムを用いて多色のレジスト転写をする場
合、全色レジストの存在が立体的に障害となり、パター
ン周辺部の密着性不良が発生してしまう。現在実用化さ
れているものはクッション層を設けることでこれに対応
しているが転写フィルムの構造を複雑化している。

【００１０】また、印刷法は解像性が悪いため、ファイ
ンピッチのパターン形成には不向きである。

【００１１】上記のような欠点を補うべく、近年、イン
クジェット方式を利用したカラーフィルタの製造方法が
盛んに検討されている。インクジェット方式を利用した
方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという
利点がある。

【００１２】一方、インクジェット方式はカラーフィル
タの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子の製
造にも応用が可能である。

【００１３】エレクトロルミネッセンス素子は、蛍光性
の無機及び有機化合物を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟
んだ構成を有し、上記薄膜に電子及び正孔（ホール）を
注入して再結合させることにより励起子を生成させ、こ
の励起子が失活する際の蛍光或いは燐光の放出を利用し
て発光させる素子である。このようなエレクトロルミネ
ッセンス素子に用いられる蛍光性材料を、例えばＴＦＴ
等素子を作り込んだ基板上にインクジェット方式により
付与して発光層を形成し、素子を構成することができ
る。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】上記したように、イン
クジェット方式は製造プロセスの簡略化及びコスト削減
を図ることができることから、カラーフィルタやエレク
トロルミネッセンス素子といった光学素子の製造へ応用
されている。しかしながら、インクジェット方式で光学
素子を製造する場合でも各画素間の隔壁に関してはフォ
トリソグラフィ方式が使用されている場合が多い。その
理由として、近年の光学素子の高精細化により、各画素
パターンのエッジ直線性に要求される精度がインクジェ
ット方式で再現するのが困難なレベルになってきている
ことや、各画素間に形成される光学的なマスクパターン
（以下ブラックマトリクス）には線幅１０μｍ〜２０μ
ｍでＯＤ（光学濃度）値４以上が要求されるようになっ
てきたためインクジェット用インクではこの線幅内に要
求される濃度のインクを、ウエットな状態で保持するこ
とが困難であることが挙げられる。

【００１５】また、画素をインクジェット方式で形成す
る場合に特有の問題として、「混色」及び「白抜け」と
言った問題がある。以下、カラーフィルタを製造する場
合を例に挙げて説明する。

【００１６】「混色」は、隣接する異なる色の画素（着
色部）間においてインクが混ざり合うことにより発生す
る障害である。ブラックマトリクスを隔壁として、該ブ
ラックマトリクスの開口部にインクを付与して着色部を
形成するカラーフィルタの製造方法においては、ブラッ
クマトリクスの開口部の容積に対して、数倍〜数十倍の
体積を有するインクを付与する必要がある。インク中に
含まれる着色剤や硬化成分等の固形分濃度が高い場合、
即ち付与するインクの体積が比較的少ない場合において
は、ブラックマトリクスが十分に隔壁として機能し、該
ブラックマトリクスの開口部内にインクを保持すること
ができるため、付与されたインクがブラックマトリクス
を乗り越えて、隣接する異なる色の着色部にまで到達す
ることはない。

【００１７】しかしながら、インク中の固形分濃度が低
い場合、即ち多量のインクを付与する必要がある場合に
は、隔壁となるブラックマトリクスを超えてインクがあ
ふれてしまうため、隣接する着色部間で混色が発生して
しまう。特に、インクジェットヘッドのノズルより安定
して吐出可能なインクの粘度には限界があり、インク中
に含有される固形分の濃度にも限界があるため、混色を
回避するための技術が必要である。

【００１８】そこで、着色部と隔壁との間におけるイン
クの濡れ性の差を利用して混色を防止する方法が提案さ
れている。例えば、特開昭５９−７５２０５号公報に
は、インクが目的領域外へ広がることを防止するため、
濡れ性の悪い物質で拡散防止パターンを形成する方法が
提案されているが、具体的な技術は開示されていない。
一方、特開平４−１２３００５号公報には、具体的な手
法として、撥水、撥油作用の大きなシリコーンゴム層を
パターニングして混色防止用の仕切壁とする方法が提案
されている。さらに、特開平５−２４１０１１号公報や
特開平５−２４１０１２号公報においても同様に、遮光
層となるブラックマトリクス上にシリコーンゴム層を形
成し、混色防止用の隔壁として用いる手法が開示されて
いる。

【００１９】これらの方法によれば、隔壁の高さをはる
かに超える量のインクを付与した場合においても、隔壁
の表面層が撥インク性を示すためにインクがはじかれ、
隔壁を超えて隣接する着色部にまで及ぶことがなく、有
効に混色を防止することができる。

【００２０】図３にその概念図を示す。図中、３１は透
明基板、３３は隔壁を兼ねたブラックマトリクス、３６
はインクである。ブラックマトリクス３３の上面が撥イ
ンク性を有する場合には、図３（ｂ）に示すように、付
与されたインク３６がブラックマトリクス３３の開口部
中に保持され、隣接する着色部にまで達することはな
い。しかしながら、ブラックマトリクス３３の上面の撥
インク性が低い場合には、図３（ａ）に示すように、付
与されたインク３６がブラックマトリクス３３上にまで
濡れ広がり、隣接する開口部に付与されたインクと混じ
り合ってしまう。

【００２１】一方、「白抜け」は、主に付与されたイン
クが隔壁によって囲まれた領域内に十分且つ均一に拡散
することができないことに起因して発生する障害であ
り、色ムラやコントラストの低下といった表示不良の原
因となる。

【００２２】図４に、白抜けの概念図を示す。図中、
（ｂ）は（ａ）のＡ−Ｂ断面図であり、図３と同じ部材
には同じ符号を付した。また、３８は白抜け部分であ
る。

【００２３】近年、ＴＦＴ型液晶素子用のカラーフィル
タにおいては、ＴＦＴを外光から保護する目的で、或い
は、開口率を大きくして明るい表示を得る目的で、ブラ
ックマトリクス３３の開口部形状が複雑になっており、
複数のコーナー部を有するものが一般的に使用されてい
るため、図４（ａ）に示すように、該コーナー部に対し
てインク３６が十分に拡散しないという問題が発生す
る。

【００２４】また、ブラックマトリクス３３を形成する
際には、一般的にレジストを用いたフォトリソグラフィ
工程が使用されており、レジストに含まれる種々の成分
により透明基板３１の表面に汚染物が付着して、インク
３６の拡散の妨げとなる場合がある。さらに、透明基板
３１の表面に比べて、ブラックマトリクス３３の側面の
撥インク性が極端に高い場合、図４（ｂ）に示すよう
に、ブラックマトリクス３３の側面でインク３６がはじ
かれてしまうため、インク３６とブラックマトリクス３
３が接する部分で色が薄くなるという問題が発生する場
合もある。

【００２５】このような混色や白抜けの問題を解決する
手法として、特開平９−２０３８０３号公報において
は、ブラックマトリクス（凸部）に囲まれた領域（凹
部）が、水に対して２０°以下の接触角となるよう親イ
ンク化処理された基板を用いることが提案されている。
親インク性を付与する方法としては、水溶性のレベリン
グ剤や水溶性の界面活性剤が例示されている。さらに、
上述した混色に対する問題を同時に解決するために、凸
部の表面を予め撥インク化処理剤で処理して撥インク性
を付与する手法が開示されており、撥インク化処理剤と
してフッ素含有シランカップリング剤を用い、フッ素系
の溶剤でコートする方法が例示されている。また、この
際、凸部の表面層のみを選択的に撥インク化し、凸部の
側面を撥インク化しないための手法として、凸部自体がそのような性質を生じるよう２種類の材料
を積層する、凸部以外の部分をレジストで覆って、凸部の上面のみ
を撥インク化処理する、透明基板上にレジスト層を形成し、全面を撥インク化
処理した後、フォトリソ工程によりレジスト層をパター
ニングして凸部を形成する、等の方法が例示されてい
る。

【００２６】また、特開平９−２３０１２９号公報に
は、同様に、凹部を親インク化処理する方法として、エ
ネルギー線を照射する方法が開示されている。この場合
にも、凸部の表面層のみを撥インク化処理する方法とし
て、ガラス基板上に凸部形成用の感光性材料を塗布し、
全面を撥インク化処理剤にて処理した後、フォトリソグ
ラフィ工程により感光性材料をパターニングする手法が
例示されている。その後、エネルギー線の照射により凸
部と凹部を同時に、もしくはどちらかを選択的に親イン
ク化処理するものである。

【００２７】しかしながら、これらの方法はいずれも凸
部の表面を撥インク化処理した後に凹部を親インク化処
理するものであることから、親インク化処理を行う際に
撥インク化処理された凸部の表面の撥インク性を低下さ
せてしまうという問題がある。そのため、透明基板表面
及びブラックマトリクスの側面においては十分な親イン
ク性を、ブラックマトリクスの上面においては十分な撥
インク性をそれぞれ得ることは困難である。

【００２８】上記問題は、インクジェット方式によりエ
レクトロルミネッセンス素子を製造する場合にも同様に
生じる。即ち、エレクトロルミネッセンス素子におい
て、例えばＲ、Ｇ、Ｂの各光を発光する蛍光性材料を含
むインクを用い、隔壁で囲まれた領域に該インクを付与
して画素（発光層）を形成する際に、隣接する発光層間
でインクが混じり合った場合、当該発光層では所望の
色、輝度の発光が得られないという問題が生じる。

【００２９】また、単一色の発光層であっても、隔壁内
に充填するインク量を均一化しているため、隣接画素へ
インクが流入すると、インク量に不均一性が生じ、輝度
ムラとして認識され、問題となる。また、隔壁で囲まれ
た領域内に十分にインクが拡散しなかった場合には、発
光層と隔壁との境界部分で十分な発光輝度が得られない
という問題を生じる。尚、以下の記述においては、便宜
上、エレクトロルミネッセンス素子を製造する場合にお
いても、隣接する発光層間でのインクの混じり合いを
「混色」、発光層と隔壁の境界部でのインクの反発によ
る発光輝度ムラの発生を「白抜け」と記す。

【００３０】本発明の課題は、カラーフィルタやエレク
トロルミネッセンス素子といった光学素子を、インクジ
ェット方式を利用して簡易なプロセスで安価に製造する
に際して、上記問題を解決し、信頼性の高い光学素子を
歩留まり良く提供することにある。具体的には、隔壁で
囲まれた領域内にインクを付与する際に、隣接する画素
間での混色を防止し、且つ、該領域内でインクを十分に
拡散させて白抜けのない画素を形成することにある。本
発明ではさらに、該製造方法によって得られた光学素子
を用いて、カラー表示特性に優れた液晶素子をより安価
に提供することを目的とする。

【００３１】

【課題を解決するための手段】本発明の第一は、支持基
板上に複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁と
を少なくとも有する光学素子の製造方法であって、ベー
スフィルムとカバーフィルムの間に感光性樹脂組成物か
らなる転写層を挟持してなり、該転写層とベースフィル
ムとの界面にシリコーン成分を含有する転写フィルムの
カバーフィルムを剥離して転写層側を支持基板上に貼付
する工程と、上記転写層をパターン露光、現像して隔壁
を形成する工程と、インクジェット方式により隔壁に囲
まれた領域にインクを付与して画素を形成する工程とを
少なくとも有することを特徴とする光学素子の製造方法
である。

【００３２】上記本発明は、下記の構成を好ましい態様
として含むものである。上記シリコーン成分がオルガノ
ポリシロキサンであること。上記感光性樹脂組成物が遮
光剤を含有すること。上記インクが少なくとも硬化成
分、水、有機溶剤を含有すること。上記支持基板が透明
基板であり、上記インクが着色剤を含有し、上記画素が
着色部であるカラーフィルタを製造すること。上記イン
クが蛍光性材料を含有し、画素が発光層であり、該発光
層を挟んで上下に電極を有するエレクトロルミネッセン
ス素子を製造すること。

【００３３】本発明の第二は、支持基板上に複数の画素
と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有す
る光学素子を、支持基板上に隔壁を形成した後、インク
ジェット方式により隔壁で囲まれた領域にインクを付与
して画素を形成する製造方法において、上記隔壁の形成
工程に用いる転写フィルムであって、ベースフィルムと
カバーフィルムの間に感光性樹脂組成物からなる転写層
を挟持してなり、該転写層とベースフィルムとの界面に
シリコーン成分を含有することを特徴とする転写フィル
ムである。

【００３４】上記本発明第二の転写フィルムは、上記シ
リコーン成分がオルガノポリシロキサンであること、及
び、上記感光性樹脂組成物が遮光剤を含有することを好
ましい態様として含むものである。

【００３５】本発明の第三は、支持基板上に複数の画素
と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有
し、上記本発明の光学素子の製造方法により製造された
ことを特徴とする光学素子である。

【００３６】上記本発明の第三の光学素子においては、
下記の構成を好ましい態様として含むものである。上記
隔壁が遮光層であること。上記支持基板が透明基板であ
り、上記画素が着色剤を含有するインクで形成された着
色部であり、複数色の着色部を備えたカラーフィルタで
あること。上記着色部上に保護層を有すること。表面に
透明導電膜を有すること。上記画素が蛍光性材料からな
る発光層であり、該発光層を挟んで上下に電極を有する
エレクトロルミネッセンス素子であること。

【００３７】本発明の第四は、一対の基板間に液晶を挟
持してなり、一方の基板が上記本発明の光学素子を用い
て構成されたことを特徴とする液晶素子である。

【００３８】

【発明の実施の形態】本発明の光学素子の製造方法は、
支持基板上に転写フィルムを用いて隔壁層を形成し、フ
ォトリソグラフィ法によりパターニングを行って隔壁を
形成し、その間隙にインクジェット方式によりインクを
付与して画素を形成することに特徴を有する。本発明に
用いる上記転写フィルムは、ベースフィルムとカバーフ
ィルムの間に、感光性樹脂組成物からなる転写層を挟持
してなり、ベースフィルムと転写層との界面にシリコー
ン成分を含有する。該シリコーン成分がベースフィルム
と転写層との界面に存在することにより、ベースフィル
ムの転写層からの剥離性が良く、さらに、転写層表面に
残留したシリコーン成分によって、該転写層表面のみが
高い撥インク性を示す。そのため、本発明においては、
隔壁の開口部にインクを付与した際に、隔壁上面の高い
撥インク性によって、多量のインクでも十分に保持して
混色を防止する一方、隔壁側面及び支持基板表面は親イ
ンク性が高く、速やかにインクが濡れ広がり、白抜けが
防止される。

【００３９】尚、本発明において上記「インク」とは、
乾燥硬化した後に、例えば光学的、電気的に機能性を有
する液体を総称し、従来用いられていた着色材料に限定
されるものではない。

【００４０】本発明の製造方法で製造される本発明の光
学素子としては、カラーフィルタ及びエレクトロルミネ
ッセンス素子（以下、「ＥＬ素子」）が挙げられる。先
ず、本発明の光学素子について実施形態を挙げて説明す
る。

【００４１】図５に、本発明の光学素子の一実施形態で
あるカラーフィルタの一例の断面を模式的に示す。図
中、５１は支持基板としての透明基板、５２は隔壁を兼
ねたブラックマトリクス、５３は画素である着色部、５
４は必要に応じて形成される保護層である。本発明のカ
ラーフィルタを用いて液晶素子を構成する場合には、着
色部５３上或いは、着色部５３上に保護層５４を形成し
たさらにその上に、液晶を駆動するためのＩＴＯ（イン
ジウム・チン・オキサイド）等透明導電材からなる透明
導電膜が形成されて提供される場合もある。

【００４２】図６に、図５のカラーフィルタを用いて構
成された、本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図
を示す。図中、５７は共通電極（透明導電膜）、５８は
配向膜、５９は液晶、６１は対向基板、６２は画素電
極、６３は配向膜であり、図５と同じ部材には同じ符号
を付して説明を省略する。

【００４３】カラー液晶素子は、一般的にカラーフィル
タ側の基板５１と対向基板６１とを合わせ込み、液晶５
９を封入することにより形成される。液晶素子の一方の
基板６１の内側に、ＴＦＴ（不図示）と画素電極６２が
マトリクス状に形成されている。また、カラーフィルタ
側の基板５１の内側には、画素電極６２に対向する位置
に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列するように、カラーフィルタの着
色部５３が形成され、その上に透明な共通電極５７が形
成される。さらに、両基板の面内には配向膜５８，６３
が形成されており、液晶分子を一定方向に配列させてい
る。これらの基板は、スペーサー（不図示）を介して対
向配置され、シール材（不図示）によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶５９が充填される。

【００４４】上記液晶素子は、透過型の場合には、基板
６１及び画素電極６２を透明素材で形成し、それぞれの
基板の外側に偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板
を組み合わせたバックライトを用い、液晶化合物をバッ
クライトの光の透過率を変化させる光シャッターとして
機能させることにより表示を行なう。また、反射型の場
合には、基板６１或いは画素電極６２を反射機能を備え
た素材で形成するか、或いは、基板６１上に反射層を設
け、透明基板５１の外側に偏光板を設け、カラーフィル
タ側から入射した光を反射して表示を行なう。

【００４５】また、図７に、本発明の光学素子の他の実
施形態である、有機ＥＬ素子の一例の断面模式図を示
す。図中、７１は支持基板である駆動基板、７２は隔
壁、７３は画素である発光層、７４は透明電極、７６は
金属層である。この図では、簡略化のために一つの画素
領域のみを示している。

【００４６】駆動基板７１には、ＴＦＴ（不図示）、配
線膜及び絶縁膜等が多層に積層されており、金属層７６
及び発光層７３毎に配置した透明電極７４間に発光層単
位で電圧を印加可能に構成されている。駆動基板７１は
公知の薄膜プロセスによって製造される。

【００４７】本発明において有機ＥＬ素子を構成する場
合、その構造については、少なくとも一方が透明または
半透明である一対の陽極及び陰極からなる電極間に、樹
脂組成物からなる隔壁内に少なくとも蛍光性材料からな
るインクを充填して形成した画素を挟持した構成であれ
ば、特に制限はなく、その構造は公知のものを採用する
ことができ、また本発明の主旨を逸脱しない限りにおい
て各種の改変を加えることができる。

【００４８】その積層構造は、例えば、（１）電極（陰極）／発光層／正孔注入層／電極（陽
極）（２）電極（陽極）／発光層／電子注入層／電極（陰
極）（３）電極（陽極）／正孔注入層／発光層／電子注入層
／電極（陰極）（４）電極（陽極または陰極）／発光層／電極（陰極ま
たは陽極）があるが、本発明は上記のいずれの構成の有機化合物層
を設けた積層構造体を有するＥＬ素子に対しても適用す
ることができる。

【００４９】上記（１）及び（２）は２層構造、（３）
は３層構造（４）は単層構造と称されるものである。本
発明における有機ＥＬ素子はこれらの積層構造を基本と
するが、これら以外の（１）から（４）を組み合わせた
構造やそれぞれの層を複数有していてもよい。また、カ
ラーフィルタと組み合わせることによって、フルカラー
表示を実現しても良い。これらの積層構造からなる有機
ＥＬ素子の形状、大きさ、材質、隔壁と画素以外の部材
の形成工程等は該有機ＥＬ素子の用途等に応じて適宜選
択され、特に制限はない。

【００５０】本発明において、有機ＥＬ素子の発光層に
用いられる発光材料は蛍光性材料であれば特に限定され
ず、種々のものを適用することができる。具体的には、
蛍光性を有する有機化合物であり、低分子蛍光体、高分
子蛍光体のいずれもが好ましく用いられ、インクジェッ
ト方式への適用が簡単であることから、高分子蛍光体が
さらに好ましい。

【００５１】例えば、低分子蛍光体としては、特に限定
はないが、ナフタレン及びその誘導体、アントラセン及
びその誘導体、ペリレン及びその誘導体、ポリメチン
系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素
類、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯
体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン
及びその誘導体、テトラフェニルブタジエン及びその誘
導体等を用いることができる。具体的には、例えば、特
開昭５７−４１７７１号公報、特開昭５９−１７４３７
３号公報に記載されているもの等、公知のものが使用可
能である。

【００５２】また、発光材料として使用可能な高分子蛍
光体としては、特に限定はないが、ポリフェニレンビニ
レン、ポリアリレン、ポリアルキルチオフェン、ポリア
ルキルフルオレン等を挙げることができる。

【００５３】尚、本発明において有機ＥＬ素子に用いる
高分子蛍光体は、ランダム、ブロックまたはグラフト共
重合体であってもよいし、それらの中間的な構造を有す
る高分子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体
であってもよい。蛍光の量子収率の高い高分子蛍光体を
得る観点からは完全なランダム共重合体よりブロック性
を帯びたランダム共重合体やブロックまたはグラフト共
重合体が好ましい。また本発明の有機ＥＬ素子は、薄膜
からの発光を利用するので該高分子蛍光体は、固体状態
で蛍光を有するものが用いられる。

【００５４】該高分子蛍光体に対する良溶媒としては、
クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラ
ヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが例示される。
高分子蛍光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれら
の溶媒に０．１重量％以上溶解させることができる。

【００５５】本発明における有機ＥＬ素子において、発
光層と陰極との間にさらに電子輸送層を設ける場合の電
子輸送層中に使用する、或いは正孔輸送性材料及び発光
材料と混合使用する電子輸送性材料は、陰極より注入さ
れた電子を発光材料に伝達する機能を有している。この
ような電子輸送性材料について特に制限はなく、従来公
知の化合物の中から任意のものを選択して用いることが
できる。

【００５６】該電子輸送性材料の好ましい例としては、
ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン
誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシ
ド誘導体、複素環テトラカルボン酸無水物、或いはカル
ボジイミド等を挙げることができる。

【００５７】さらに、フレオレニリデンメタン誘導体、
アントラキノジメタン誘導体及びアントロン誘導体、オ
キサジアゾール誘導体等を挙げることができる。また、
発光層を形成する材料として開示されているが、８−ヒ
ドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体等も電子輸
送性材料として用いることができる。

【００５８】本発明におけるＥＬ素子において、発光層
は一般には適当な結着性樹脂と組み合わせて薄膜状に形
成する。上記結着性樹脂としては広範囲な樹脂材料より
選択でき、例えばポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹
脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルア
セタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹
脂、メタクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、
シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。これらは
単独または共重合体ポリマーとして１種または２種以上
混合して用いても良い。

【００５９】また、陽極材料としては仕事関数がなるべ
く大きなものが良く、例えば、ニッケル、金、白金、パ
ラジウム、セレン、レニウム、イリジウムやこれらの合
金、或いは酸化錫、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、ヨウ
化銅が好ましい。またポリ（３−メチルチオフェン）、
ポリフェニレンスルフィド或いはポリピロール等の導電
性ポリマーも使用出来る。一方、陰極材料としては仕事
関数が小さな銀、鉛、錫、マグネシウム、アルミニウ
ム、カルシウム、マンガン、インジウム、クロム或いは
これらの合金が用いられる。

【００６０】ＥＬ素子は、発光層における発光を観察す
る側を透明或いは半透明にする必要があり、例えば図７
の構成においては、透明電極７４を形成した駆動基板７
１が透明或いは半透明になるように構成される。また、
透明電極７４は陰極、陽極のいずれでもかまわないが、
通常、ＩＴＯが用いられるため、陽極となるのが一般的
である。

【００６１】以下に、図面を参照して本発明の光学素子
の製造方法について説明する。

【００６２】図１、図２は本発明の光学素子の製造方法
を模式的に示す工程図である。以下に各工程について説
明する。尚、以下の工程（ａ）〜（ｅ）は図１、図２の
（ａ）〜（ｅ）に対応する。図１、図２の各工程におい
て紙面左側の（ａ−１）〜（ｅ−１）は上方より見た平
面模式図、紙面右側の（ａ−２）〜（ｅ−２）は（ａ−
１）〜（ｅ−１）のＡ−Ｂ断面模式図である。図中、１
は支持基板、２は転写フィルム、３はベースフィルム、
４は転写層、５はカバーフィルム、６は隔壁、７は隔壁
６の開口部、８はインクジェットヘッド、９はインク、
１０は画素である。

【００６３】工程（ａ）支持基板１及び転写フィルム２を用意する。支持基板１
は、図５に例示したカラーフィルタを製造する場合には
透明基板５１であり、一般にはガラス基板が用いられる
が、液晶素子を構成する目的においては、所望の透明
性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば、プ
ラスチック基板なども用いることができる。

【００６４】また、図７に例示したＥＬ素子を製造する
場合には、支持基板１は透明電極７４を形成した駆動基
板７１であり、図７の如く当該基板側から発光を観察す
る場合には、駆動基板７１にガラス基板などの透明基板
を用いる。

【００６５】支持基板１の表面に対しては、プラズマ処
理、ＵＶ処理、カップリング処理等の表面処理を施して
も良い。

【００６６】本発明に用いられる転写フィルム２は、少
なくともベースフィルム３、転写層４、カバーフィルム
５で構成され、転写層４は感光性樹脂組成物からなる。
カバーフィルム５、ベースフィルム３の基材には熱、溶
剤、光などに対して耐性を有するものが好ましく、特に
ベースフィルム３はこれの上からパターン露光する場合
もあるため、特定波長光の透過率を考慮する必要があ
る。

【００６７】ベースフィルム３、カバーフィルム５とし
ては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロ
ピレン、トリアセテート、セルロースアセテート、ポリ
スチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリイ
ミド、ポリサルフォン、ポリテトラフルオロエチレン−
パーフルオロアルキルビニルエーテル、テトラフルオロ
エチレン−エチレン等のシートもしくはこれらの樹脂に
フィラーを混合したシートが好適である。

【００６８】転写フィルム２を構成する転写層４はパタ
ーニングが容易であることから感光性樹脂組成物で形成
される。このような感光性樹脂組成物としては、基材樹
脂、光重合成モノマー、光重合開始剤を主成分とし、隔
壁６をそのまま遮光層として使用する場合はカーボンブ
ラック等遮光剤が上記材料に加わる。また、光照射によ
り重合、架橋、二量体化反応等の反応を生じて硬化する
ネガ型の感光性材料が好適に用いられる。また、アルカ
リ現像可能な市販のネガ型レジストをフィルム上に塗布
し、溶剤を除去することでそのまま転写層とすることも
可能である。かかる転写層４の厚さは、目的とする隔壁
の高さに応じて適宜選択される。

【００６９】本発明においては、該転写フィルム２の転
写層４とベースフィルム３との界面にシリコーン成分が
含有されている。このシリコーン成分は転写層４からベ
ースフィルム３を剥離しやすくするためと、隔壁６表面
に高い撥インク性を付与するために用いられる。中で
も、ポリオルガノシロキサンが好ましく、例としては１
分子中にケイ素原子に結合した水素原子を２個以上含む
直鎖状のオルガノポリシロキサンにオルガノハイドロジ
エンポリシロキサンを少量混合したものを白金触媒下で
硬化させたものが好適である。これらの成分は転写フィ
ルム２の形成時に、必要に応じて適当な溶剤で希釈し、
該希釈液を転写層４或いはベースフィルム３の一方の表
面にロールコーターやスリットコーターにより塗布し、
１００〜１５０℃で３０〜６０秒間加熱した後、他方を
積層することで転写層４とベースフィルム３との界面に
含有させることができる。

【００７０】また、カバーフィルム５と転写層４との界
面は、後述するように転写フィルム２からカバーフィル
ム５を剥離して転写層４を支持基板１に貼付することか
ら、転写層４からカバーフィルム５が剥離しやすく、且
つ、転写層４と支持基板１との密着性を悪化させないこ
とが要求される。よって、当該界面には、アルケニル基
を有するブタジエン系共重合体とオルガノハイドロジエ
ンポリシロキサンの混合物を付加反応させて処理すると
好適である。剥離力はオルガノハイドロジエンポリシロ
キサン中のＳｉＨの含有量で調整することができる。

【００７１】また、本発明にかかる転写フィルム２に
は、本発明の効果を損ねない範囲でベースフィルム３、
転写層４、カバーフィルム５のほかに各種補助層を設け
てもかまわない。

【００７２】工程（ｂ）支持基板１にカバーフィルム５を剥離した転写フィルム
２の転写層４を貼付し、必要に応じて圧力や熱をかけて
密着させる。

【００７３】工程（ｃ）フォトリソグラフィ法によって転写層４をパターニング
し、開口部７を有する隔壁６を形成する。手順として
は、転写層４をフォトマスクを介してパターン露光し、
アルカリ現像において未露光部を除去する。ベースフィ
ルム３が露光用の光を透過する場合には、上記露光の際
にベースフィルム３を剥離してもしなくても良い。

【００７４】こうして得られた隔壁６は、その上面のみ
シリコーン成分が存在しているため、高い撥インク性を
示し、隔壁６の側面及び開口部７に露出した支持基板１
表面は逆に親インク性を示す。この手法はシリコーン樹
脂やフッ素樹脂といった撥インク性材料を積層する場合
に比べ安定したパターンが得られる。すなわち、一般的
に撥インク性表面とは表面エネルギーが低い表面を指
し、このような表面は接着性が弱くなる。よって、積層
する場合、撥インク層と隔壁層との密着性も悪くなり現
像条件が強い部分は一部欠落が生じてしまう。撥インク
層の一部欠落は混色につながる。逆に現像条件が弱いと
パターン解像度が低いこととなる。

【００７５】本発明は、隔壁６の上面となる側のみシリ
コーン成分が存在するため、転写層４の支持基板１への
高い密着性と、隔壁６上面の高い撥インク性を同時に得
ることができる。

【００７６】工程（ｄ）インクジェット記録装置を用いて、インクジェットヘッ
ド８よりインク９を隔壁６の開口部７内に付与する。

【００７７】本発明においては、隔壁６の上面がシリコ
ーン成分によって撥インク化されているため、開口部７
にその容積を超えるインクを付与しても混色は生じな
い。また、隔壁６側面及び開口部７に露出した支持基板
１表面は親インク性であるため、白抜けも発生しない。

【００７８】インクジェットとしては、エネルギー発生
素子として電気熱変換体を用いたバブルジェット（登録
商標）タイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジェット
タイプ等が使用可能である。

【００７９】また、インク９としては、カラーフィルタ
の場合には硬化後にＲ、Ｇ、Ｂの着色部を形成するよう
に各色の着色剤を含むもの、ＥＬ素子の場合には、硬化
後に電圧印加によって発光する発光層を形成するように
蛍光性材料を含むものを用いる。また、ＥＬ素子を構成
する場合に、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の発光が得られる異なる
蛍光性材料を含むインクを用いることにより、Ｒ、Ｇ、
Ｂの発光層を形成することもできる。いずれの場合も、
インク９は硬化成分、水、溶剤を少なくとも含むものが
好ましい。以下に、本発明の製造方法によってカラーフ
ィルタを製造する場合に用いるインクの組成についてさ
らに詳細に説明する。

【００８０】〔１〕着色剤本発明でインク中に含有させる着色剤としては、染料系
及び顔料系共に使用可能であるが、顔料を使用する場合
には、インク中で均一に分散させるために別途分散剤の
添加が必要となり、全固形分中の着色剤比率が低くなっ
てしまうことから、染料系の着色剤が好ましく用いられ
る。また、着色剤の添加量としては、後述する硬化成分
と同量以下であることが好ましい。

【００８１】〔２〕硬化成分後工程におけるプロセス耐性、信頼性等を考慮した場
合、熱処理或いは光照射等の処理により硬化し、着色剤
を固定化する成分、即ち架橋可能なモノマー或いはポリ
マー等の成分を含有することが好ましい。特に、後工程
における耐熱性を考慮した場合、硬化可能な樹脂組成物
を用いることが好ましい。

【００８２】具体的には、例えば基材樹脂として、水酸
基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミド基等の官能
基を有するアクリル樹脂、シリコーン樹脂；またはヒド
ロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等
のセルロース誘導体或いはそれらの変性物；またはポリ
ビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニル
アセタール等のビニル系ポリマーが挙げられる。さら
に、これらの基材樹脂を光照射或いは加熱処理により硬
化させるための架橋剤、光開始剤を用いることが可能で
ある。具体的には、架橋剤としては、メチロール化メラ
ミン等のメラミン誘導体が、また光開始剤としては重ク
ロム酸塩、ビスアジド化合物、ラジカル系開始剤、カチ
オン系開始剤、アニオン系開始剤等が使用可能である。
また、これらの光開始剤を複数種混合して、或いは他の
増感剤と組み合わせて使用することもできる。

【００８３】〔３〕溶剤本発明で使用されるインクの媒体としては、水及び有機
溶剤の混合溶媒が好ましく使用される。水としては種々
のイオンを含有する一般の水ではなく、イオン交換水
（脱イオン水）を使用することが好ましい。

【００８４】有機溶剤としては、メチルアルコール、エ
チルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチル
アルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等の炭素数１
〜４のアルキルアルコール類；ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド等のアミド類；アセトン、ジアセ
トンアルコール等のケトン類またはケトアルコール類；
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポ
リアルキレングリコール類；エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ブチレングリコール、トリエチレン
グリコール、チオジグリコール、へキシレングリコー
ル、ジエチレングリコール等のアルキレン基が２〜４個
の炭素を含有するアルキレングリコール類；グリセリン
類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル等の多価アルコールの低級アルキル
エーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリ
ドン等の中から選択することが好ましい。

【００８５】また、上記成分の他に、必要に応じて所望
の物性値を持つインクとするために、沸点の異なる２種
類以上の有機溶剤を混合して用いたり、界面活性剤、消
泡剤、防腐剤等を添加しても良い。

【００８６】工程（ｅ）熱処理、光照射等必要な処理を施し、インク９中の溶剤
成分を除去して硬化させることにより、画素１０を形成
する。

【００８７】さらに、カラーフィルタの場合には、前記
したように、必要に応じて保護層や透明導電膜を形成す
る。この場合の保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化
タイプ、或いは光熱併用硬化タイプの樹脂材料、或い
は、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用
いることができ、カラーフィルタとした場合の透明性を
有し、その後の透明導電膜形成プロセス、配向膜形成プ
ロセス等に耐えうるものであれば使用可能である。ま
た、透明導電膜は、保護層を介さずに着色部上に直接形
成しても良い。

【００８８】また、ＥＬ素子の場合には、画素上に電極
（図７の金属層７６）等必要な部材を形成する。

【００８９】本発明の光学素子の製造方法においては、
転写フィルムを用いて隔壁を形成し、仕様が細分化する
画素はインクジェット方式を用いて形成することで、適
応性と生産効率を高めることができる。しかも転写フィ
ルムの転写層とベースフィルムとの界面にシリコーン成
分を含有させることで、ベースフィルムの剥離容易性と
同時に隔壁上面のみ撥インク性を付与することができ、
工程数を増やさずにインクジェット特有の白抜けおよび
混色といった問題点を解決することができる。

【００９０】

【実施例】（実施例１）〔転写フィルムの作製〕厚さ２５μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルムをベースフィルムとして用い、こ
の上に下記処方の剥離処理液に触媒として塩化白金−オ
レフィン錯体を白金量で固形分比１２０ｐｐｍを加えた
処理液を塗布し、１５０℃で６０秒間加熱乾燥した。

【００９１】メチルビニルポリシロキサン５重量部メチルハイドロジエンポリシロキサン０．１重量部メチルポリシロキサン０．０５重量部トルエン９４．８５重量部

【００９２】次に、上記処理液を塗布したベースフィル
ム上に、転写層として新日鐵化学製「Ｖ−２５９Ｂｋレ
ジスト」を溶剤成分除去時に厚さ２μｍとなるよう塗布
し、９０℃、２分間加熱して溶剤成分を除去し、積層し
た。

【００９３】一方、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルムをカバーフィルムとして用い、この上
に下記処方の剥離処理液に触媒として白金−ビニルシロ
キサン錯体を白金量で固形分比３５０ｐｐｍを加えた処
理液を塗布し、１５０℃で６０秒間加熱乾燥した。

【００９４】メチルハイドロジエンポリシロキサン１．５重量部ブタジエン系重合体３．５重量部（出光石油化学製「Ｒ−４５ＨＴ」）ヘキサン９５重量部上記剥離処理面を転写層に密着させて転写フィルムとし
た。

【００９５】〔隔壁パターンの作製〕上記転写フィルム
のカバーフィルムを剥離し、露出した転写層表面とガラ
ス基板表面を密着させ熱圧着した。次にフォトマスクを
介してベースフィルム側からパターン露光を行った。次
にベースフィルムを剥離し、アルカリ現像した後、２３
０℃で３０分熱硬化させることで７５μｍ×２２５μｍ
の開口部を持つ線幅２０μｍの隔壁パターンを得た。

【００９６】〔インクの調整〕下記に示す組成からなる
アクリル系共重合体を熱硬化成分として用い、以下の組
成にてＲ、Ｇ、Ｂの各インクを調製した。これらのイン
クは先に作製した隔壁パターン各部に対し、次のような
接触角を示した。

【００９７】隔壁上面：９３° ガラス基板表面：２０° 隔壁側面：３７°

【００９８】硬化成分メチルメタクリレート５０重量部ヒドロキシエチルメタクリレート３０重量部Ｎ−メチロールアクリルアミド２０重量部

【００９９】ＲインクＣ．Ｉ．アシッドオレンジ１４８３．５重量部Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２８９０．５重量部ジエチレングリコール３０重量部エチレングリコール２０重量部イオン交換水４０重量部上記硬化成分６重量部

【０１００】ＧインクＣ．Ｉ．アシッドイエロー２３２重量部亜鉛フタロシアニンスルホアミド２重量部ジエチレングリコール３０重量部エチレングリコール２０重量部イオン交換水４０重量部上記硬
化成分６重量部

【０１０１】ＢインクＣ．Ｉ．ダイレクトブルー１９９４重量部ジエチレングリコール３０重量部エチレングリコール２０重量部イオン交換水４０重量部上記硬化成分６重量部

【０１０２】〔着色部の作製〕吐出量２０ｐｌのインク
ジェットヘッドを具備したインクジェット記録装置を用
い、上記隔壁の開口部に対して、上記Ｒ、Ｇ、Ｂインク
を隔壁の開口部１個あたりに２５０ｐｌ付与した。次い
で、９０℃で１０分間、引き続き２３０℃で３０分間の
熱処理を行ってインクを硬化させて着色部（画素）とし
た。

【０１０３】〔混色及び白抜けの評価〕得られたカラー
フィルタを光学顕微鏡で観察したところ、混色、白抜け
は観察されなかった。

【０１０４】また、このカラーフィルタに保護層、透明
導電膜を設けた液晶素子は良好な表示品質を得た。

【０１０５】（実施例２）インクジェット記録装置によ
るインク付与量を４００ｐｌとした以外は実施例１と同
様にしてカラーフィルタを作製した。得られたカラーフ
ィルタには混色、白抜けは観察されなかった。よって、
実施例１におけるプロセスマージンは十分に広いことが
確認できた。

【０１０６】(実施例３)隔壁パターン露光前に転写層か
らベースフィルムを剥離した以外は実施例１と同様にし
てカラーフィルタを作製した。得られた隔壁パターンの
各部に対するインクの接触角は、次のような値を示し
た。

【０１０７】隔壁上面：８９° ガラス基板表面：２０° 隔壁側面：３９°

【０１０８】〔混色及び白抜けの評価〕得られたカラー
フィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラー
フィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。

【０１０９】（実施例３）薄膜プロセスによって形成さ
れた、配線膜及び絶縁膜等が多層に積層されてなるＴＦ
Ｔ駆動基板上に画素（発光層）単位に、透明電極として
ＩＴＯをスパッタリングにより厚さ４０ｎｍ形成し、フ
ォトリソ法により、画素形状に従ってパターニングを行
った。

【０１１０】〔転写フィルムの作製〕富士フィルムオー
リン製「ＣＴ−２０００Ｌ」を用いて溶剤成分除去時に
０．６μｍとなるようベースフィルム上に塗布し、１１
０℃、２分間加熱して溶剤成分を除去して転写層を形成
した以外は実施例１と同じくして転写フィルムを準備し
た。

【０１１１】〔隔壁パターンの作製〕上記転写フィルム
を用いる以外は実施例１と同様にして隔壁を形成した。
得られた隔壁パターンの各部に対するインクの接触角
は、次のような値を示した。

【０１１２】隔壁上面：９０° ガラス基板表面：２０° 隔壁側面：２８°

【０１１３】〔発光層の形成〕上記隔壁の開口部に対し
て、下記インクをインクジェット記録装置にて乾燥後厚
さ２００ｎｍとなるよう充填し、発光層を形成した。イ
ンクとしては、電子輸送性２，５−ビス（５−ｔｅｒｔ
−ブチル−２−ベンゾオキサゾルイル）−チオフェン
〔蛍光ピーク４５０ｎｍをもつ電子輸送性青色発光色素
であり、発光中心形成化合物の１つである。以下、「Ｂ
ＢＯＴ」と記す〕をポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール〔分
子量１５０，０００、関東化学社製、以下、「ＰＶＫ」
と記す〕よりなるホール輸送性ホスト化合物中に３０重
量％で分子分散させることができるよう、両者をジクロ
ロエタン溶液に溶解させ、もう１つの発光中心形成化合
物であるナイルレッドを前記ＰＶＫ−ＢＢＯＴのジクロ
ロエタン溶液に０．０１５モル％となるように溶解して
調製した。

【０１１４】〔混色および白抜けの評価〕各画素（発光
層）は独立し、隔壁間で前記発光材料を含むインクが隣
接画素で混ざることはなかった。また、白抜けは確認さ
れなかった。

【０１１５】さらにこの上に、Ｍｇ：Ａｇ（１０：１）
を真空蒸着させて厚さ２００ｎｍのＭｇ：Ａｇ陰極を作
った。このようにして作ったＥＬ素子の各画素に１８Ｖ
の電圧を印加したところ、４８０ｃｄ／ｍ²の均一な白
色発光が得られた。

【０１１６】（比較例１）実施例１でベースフィルム側
で用いた剥離処理剤をカバーフィルム側でも用いた以外
は実施例１と同じとして隔壁パターンの作製を行った。
しかし、転写層と支持基板との密着性が悪く現像時に転
写層はすべて剥離してしまった。

【０１１７】（比較例２）実施例１でカバーフィルム側
で用いた剥離処理剤をベースフィルム側でも用いた以外
は実施例１と同じとして隔壁パターンの作製を行った。
得られた隔壁パターンの各部に対するインクの接触角
は、次のような値を示した。

【０１１８】隔壁上面：５１° ガラス基板表面：２０° 隔壁側面：４３°

【０１１９】しかし、インク付与量が隔壁パターン開口
部１個あたりに1５０ｐｌを超えたあたりから混色が始
まり、２００ｐｌに達するとほぼ全面が混色となってし
まった。

【０１２０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
混色や白抜けのない画素を備えた信頼性の高い光学素子
をインクジェット方式により簡易なプロセスによって歩
留まり良く製造することができ、着色部内で濃度ムラの
ないカラーフィルタ、発光層内で発光輝度ムラのないＥ
Ｌ素子を歩留まり良く提供することができる。よって、
上記カラーフィルタを用いて、カラー表示特性に優れた
液晶素子をより安価に提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。

【図２】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。

【図３】インクジェット方式による光学素子の製造方法
において発生する混色の概念図である。

【図４】インクジェット方式による光学素子の製造方法
において発生する白抜けの概念図である。

【図５】本発明の光学素子の一実施形態であるカラーフ
ィルタの一例の断面模式図である。

【図６】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図で
ある。

【図７】本発明の光学素子の他の実施形態であるエレク
トロルミネッセンス素子の一例の断面模式図である。

【符号の説明】

１支持基板２転写フィルム３ベースフィルム４転写層５カバーフィルム６隔壁７開口部８インクジェットヘッド９インク１０画素３１透明基板３３ブラックマトリクス３６インク３８白抜け５１透明基板５２ブラックマトリクス５３着色部５４保護層５７共通電極５８配向膜６９液晶６１対向基板６２画素電極６３配向膜７１駆動基板７２隔壁７３発光層７４透明電極７６金属層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/40 ５２１Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ａ５Ｃ０９４Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９３６５Ｚ３６５Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｚ (72)発明者高野勝彦東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者岡田健東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者西田武人東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者国峯昇東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内Ｆターム(参考） 2C056 FB01 FB08 2H025 AA00 AB11 AB13 AC01 AD01 AD03 CC08 CC20 FA03 FA17 FA29 FA39 2H048 BA02 BA11 BA64 BA66 BB01 BB02 BB24 BB41 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FA41Z FB02 FC01 FC25 GA13 LA12 2H096 AA00 AA28 BA20 EA02 GA08 HA30 JA04 5C094 AA08 BA03 BA27 BA43 CA19 CA23 EA04 EA05 EA07 EB02 EB05 ED02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持基板上に複数の画素と、隣接する画
素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子の製
造方法であって、ベースフィルムとカバーフィルムの間
に感光性樹脂組成物からなる転写層を挟持してなり、該
転写層とベースフィルムとの界面にシリコーン成分を含
有する転写フィルムのカバーフィルムを剥離して転写層
側を支持基板上に貼付する工程と、上記転写層をパター
ン露光、現像して隔壁を形成する工程と、インクジェッ
ト方式により隔壁に囲まれた領域にインクを付与して画
素を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とす
る光学素子の製造方法。
【請求項２】上記シリコーン成分がオルガノポリシロ
キサンである請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】上記感光性樹脂組成物が遮光剤を含有す
る請求項１または２に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】上記インクが少なくとも硬化成分、水、
有機溶剤を含有する請求項１〜３のいずれかに記載の光
学素子の製造方法。
【請求項５】上記支持基板が透明基板であり、上記イ
ンクが着色剤を含有し、上記画素が着色部であるカラー
フィルタを製造する請求項１に記載の光学素子の製造方
法。
【請求項６】上記インクが蛍光性材料を含有し、画素
が発光層であり、該発光層を挟んで上下に電極を有する
エレクトロルミネッセンス素子を製造する請求項１に記
載の光学素子の製造方法。
【請求項７】支持基板上に複数の画素と、隣接する画
素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子を、
支持基板上に隔壁を形成した後、インクジェット方式に
より隔壁で囲まれた領域にインクを付与して画素を形成
する製造方法において、上記隔壁の形成工程に用いる転
写フィルムであって、ベースフィルムとカバーフィルム
の間に感光性樹脂組成物からなる転写層を挟持してな
り、該転写層とベースフィルムとの界面にシリコーン成
分を含有することを特徴とする転写フィルム。
【請求項８】上記シリコーン成分がオルガノポリシロ
キサンである請求項７に記載の転写フィルム。
【請求項９】上記感光性樹脂組成物が遮光剤を含有す
る請求項７または８に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１０】支持基板上に複数の画素と、隣接する
画素間に位置する隔壁とを少なくとも有し、請求項１〜
４のいずれかに記載の光学素子の製造方法により製造さ
れたことを特徴とする光学素子。
【請求項１１】上記隔壁が遮光層である請求項１０に
記載の光学素子。
【請求項１２】上記支持基板が透明基板であり、上記
画素が着色剤を含有するインクで形成された着色部であ
り、複数色の着色部を備えたカラーフィルタである請求
項１０または１１に記載の光学素子。
【請求項１３】上記着色部上に保護層を有する請求項
１２に記載の光学素子。
【請求項１４】表面に透明導電膜を有する請求項１２
または１３に記載の光学素子。
【請求項１５】上記画素が蛍光性材料からなる発光層
であり、該発光層を挟んで上下に電極を有するエレクト
ロルミネッセンス素子である請求項１０または１１に記
載の光学素子。
【請求項１６】一対の基板間に液晶を挟持してなり、
一方の基板が請求項１２〜１４のいずれかに記載の光学
素子を用いて構成されたことを特徴とする液晶素子。