JP2002037623A - アンモニアの精製方法 - Google Patents

アンモニアの精製方法

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JP2002037623A JP2000228287A JP2000228287A JP2002037623A JP 2002037623 A JP2002037623 A JP 2002037623A JP 2000228287 A JP2000228287 A JP 2000228287A JP 2000228287 A JP2000228287 A JP 2000228287A JP 2002037623 A JP2002037623 A JP 2002037623A
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catalyst
manganese oxide
crude
carbon dioxide
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Kenji Otsuka
健二 大塚
Chitsu Arakawa
秩 荒川
Hisafumi Kasatani
尚史 笠谷
Tomohisa Ikeda
友久 池田
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Japan Pionics Ltd
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    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01CAMMONIA; CYANOGEN; COMPOUNDS THEREOF
    • C01C1/00Ammonia; Compounds thereof
    • C01C1/02Preparation, purification or separation of ammonia
    • C01C1/024Purification
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

(57)【要約】 【課題】 粗アンモニアに含まれている微量の酸素、二
酸化炭素、水等の不純物を極めて低濃度になるまで除去
できるとともに、比較的高い接触温度においてもアンモ
ニアが分解して水素を発生することがないアンモニアの
精製方法を提供する。 【解決手段】 粗アンモニアを、酸化マンガンを有効成
分とする触媒と接触させて、粗アンモニアに不純物とし
て含まれる酸素、二酸化炭素を除去する。また、粗アン
モニアを、酸化マンガンを有効成分とする触媒と接触さ
せた後、さらに細孔径が4〜10Å相当の合成ゼオライ
トと接触させて、粗アンモニアに不純物として含まれる
酸素、二酸化炭素、水を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アンモニアの精製
方法に関する。さらに詳細には、アンモニア中に不純物
として含まれる酸素、二酸化炭素、水を極めて低濃度ま
で除去しうるアンモニアの精製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】アンモニアは、半導体プロセスにおい
て、窒化珪素膜生成のためにシランとともに使用され、
また、窒化ガリウム膜生成のためにトリエチルガリウム
等とともに使用されている。近年、成膜技術の進歩とと
もにアンモニアが極めて高純度であることが強く要求さ
れており、更にアンモニアが多量に使用されることか
ら、高純度アンモニアを連続して供給可能なアンモニア
の精製方法が要求されている。
【0003】一般的に工業用として市販されているアン
モニアには、酸素、二酸化炭素、水等が含まれている。
また、比較的高純度のアンモニアとしては、これをさら
に蒸留あるいは精留することにより得られた形態、また
はこれを高純度の不活性ガスで希釈した形態で市販され
ている。しかし、前記のような半導体プロセス等に使用
される原料としては極めて高い純度のアンモニアが要求
されるため、従来より工業用のアンモニアを蒸留あるい
は精留して得られた比較的高純度のアンモニアをさらに
精製する方法が開発されている。
【0004】従来のアンモニアの精製方法としては、例
えば、粗アンモニアを、固型アルカリの潮解性によっ
て固型アルカリが溶解しない温度以上でかつ固型アルカ
リの溶解温度以下の温度に保持した固型アルカリ層を通
過させることにより、粗アンモニア中の炭酸ガスを吸着
除去するアンモニアの精製方法(特開平6−24737
号公報)、粗アンモニアを、実質的に室温条件下に、
BaO単体またはBaOを主とする混合物と接触させ
て、粗アンモニア中の水分を除去するアンモニアの精製
方法(特開平9−142833号公報)がある。
【0005】また、本願の出願人においても、粗アン
モニアを、ニッケルを主成分とする触媒と接触させて、
粗アンモニアに含有される酸素を除去するアンモニアの
精製方法(特開平5−124813号公報)、粗アン
モニアをニッケルを主成分とする触媒と接触させて、粗
アンモニアに含有される一酸化炭素および二酸化炭素を
除去するアンモニアの精製方法(特開平6−10741
2号公報)等を開発している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
の精製方法は炭酸ガスのみを、の精製方法は水分の
みを除去することができるので、半導体プロセスに使用
するためには他の精製方法と組合せて精製しなれけばな
らない場合が多いという不都合があった。また、、
の精製方法は、アンモニアと触媒の接触温度が高くなる
とアンモニアが分解し水素を発生する虞があるため、接
触温度を常温付近に維持しながら精製する必要があっ
た。
【0007】従って、本発明が解決しようとする課題
は、粗アンモニアに含まれている微量の酸素、二酸化炭
素、水等の不純物を極めて低濃度になるまで除去できる
とともに、比較的高い接触温度においてもアンモニアが
分解して水素を発生することがないアンモニアの精製方
法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
課題を解決すべく鋭意検討した結果、粗アンモニアを、
酸化マンガンを有効成分とする触媒、好ましくはさらに
細孔径が4〜10Å相当の合成ゼオライトと接触させる
ことにより、前記粗アンモニアに不純物として含まれる
酸素、二酸化炭素、水を0.1ppm、さらには0.0
1ppm以下まで除去しうること、及び酸化マンガンは
アンモニアを分解しにくい触媒であることを見い出し、
本発明のアンモニアの精製方法に到達した。
【0009】すなわち本発明は、粗アンモニアを、酸化
マンガンを有効成分とする触媒と接触させて、該粗アン
モニアに不純物として含まれる酸素及び/または二酸化
炭素を除去することを特徴とするアンモニアの精製方法
である。また、本発明は、粗アンモニアを、酸化マンガ
ンを有効成分とする触媒と接触させた後、さらに細孔径
が4〜10Å相当の合成ゼオライトと接触させて、該粗
アンモニアに含まれる酸素、二酸化炭素、及び水から選
ばれる一種以上の不純物を除去することを特徴とするア
ンモニアの精製方法でもある。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明はアンモニア単独、また
は、水素(水素ガスベース)および窒素、アルゴンなど
の不活性ガス(不活性ガスベース)で希釈されたアンモ
ニア(以下総称して粗アンモニアと記す)に含まれる酸
素、二酸化炭素、及び水から選ばれる一種以上の不純物
の除去に適用される。本発明のアンモニアの精製方法
は、粗アンモニアを、酸化マンガンを有効成分とする触
媒と接触させて、粗アンモニアに不純物として含まれる
酸素、二酸化炭素を除去する精製方法である。また、本
発明のアンモニアの精製方法は、粗アンモニアを、前記
酸化マンガンを有効成分とする触媒と接触させた後、さ
らに細孔径が4〜10Å相当の合成ゼオライトと接触さ
せて、粗アンモニアに不純物として含まれる酸素、二酸
化炭素、水を除去する精製方法でもある。
【0011】本発明のアンモニアの精製方法において使
用される酸化マンガンを有効成分とする触媒は、Mn
O、Mn、Mn、MnO等を主成分とす
る触媒である。本発明においては、酸化マンガンの製造
方法により触媒が制限されることはないが、BET比表
面積が10〜500m/gであるものが好ましい。B
ET比表面積が10m/g未満の酸化マンガンを使用
した場合は、触媒の単位量当たりの不純物除去量が少な
くなる虞がある。また、BET比表面積が500m
gを越える酸化マンガンを使用した場合は不純物を効率
よく除去できるが、このような高いBET比表面積の酸
化マンガンは製造が困難である。
【0012】これらの酸化マンガンを主成分とする触媒
は、市販品をそのまま用いてもよく、また公知の方法で
製造したものを用いてもよい。酸化マンガンを製造する
方法としては、例えばMnOは、MnCO、Mn(O
H)を無酸素下で約500℃で加熱するか、あるいは
高級マンガン酸化物をHまたはCO気流中で還元する
方法がある。Mnは、マンガンを含む化合物(酸
化物、水酸化物、硫酸塩、炭酸塩等)を空気中あるいは
酸素気流中で約1000℃に強熱することにより容易に
得られる。また、Mnは、例えばマンガン塩(硫
酸塩を除く)を空気中で600〜800℃で加熱するこ
とにより得られる。さらにMnOは、希薄な過マンガ
ン酸カリウム水溶液と希薄な硫酸マンガン水溶液と濃硫
酸を加熱しながら攪拌、混合し、得られた沈殿を洗浄後
乾燥することにより製造することができる。
【0013】尚、触媒を製造する場合は、触媒の成型性
や成型強度を高めるために触媒の調製の際にはバインダ
ーを添加することが好ましい。このようなバインダーと
しては、アルミナゾル、シリカゾル等を例示することが
できる。バインダーを加える場合は、通常は触媒の全重
量に対して10wt%以下であり、好ましくは5wt%
以下である。また、酸化マンガン以外の成分としてクロ
ム、鉄、コバルト、銅等の金属、及びこれらの酸化物等
が少量含まれているものであってもよいが、触媒全体に
対する酸化マンガンの含有率は、通常は70wt%以
上、好ましくは90wt%以上である。
【0014】触媒の形状及び大きさは特に限定されない
が、例えば形状としては、球状、円柱状、円筒状及び粒
状などが挙げられ、その大きさとしては、球状であれば
直径0.5〜10mm程度のもの、ペレットやタブレッ
ト等の円柱状であれば直径0.5〜10mm、高さ2〜
20mm程度のもの、粒状等不定形のものであれば、ふ
るいの目の開きで0.84〜5.66mm程度のものが
好ましい。触媒を浄化筒に充填したときの充填密度は、
触媒の形状及び調製方法により異なるが、通常は0.4
〜2.0g/ml程度である。
【0015】本発明のアンモニアの精製方法において、
酸化マンガンを有効成分とする触媒は、通常は使用する
前にこれを活性化するために水素還元が行なわれる。水
素還元の際は、例えば350℃以下程度で水素と窒素の
混合ガスを空筒線速度(LV)5cm/sec程度で通
すことによって行なうことができる。
【0016】本発明のアンモニアの精製方法において使
用される細孔径が4〜10Å相当の合成ゼオライトと
は、化学的には合成結晶アルミノシリケート含水ナトリ
ウム塩のナトリウムの一部をカリウムで置換した合成ゼ
オライトである。この合成ゼオライト結晶は内部に多数
の細孔を有し、その細孔径がほぼ揃っていることが特徴
である。これらの合成ゼオライトは効率よく使用できる
ように、通常は4〜20meshの球状物、直径1.5
〜4mm、高さ5〜20mmの柱状物などに成形されて
用いられる。この条件に適合する市販の合成ゼオライト
としては、モレキュラーシーブス4A、5A、13X
(米、ユニオンカーバイト社またはユニオン昭和
(株))等が挙げられる。これらの合成ゼオライトは、
通常は使用する前に200〜350℃程度の温度で不活
性ガスを通気しながら活性化される。
【0017】アンモニアの精製は、酸化マンガンを有効
成分とする触媒のみを使用する場合は、通常は図1に示
すような還元処理した酸化マンガンを有効成分とする触
媒が充填された触媒筒に粗アンモニアを通すことによっ
て行われる。また、酸化マンガンを有効成分とする触媒
及び細孔径が4〜10Å相当の合成ゼオライトを使用す
る場合は、通常は図2(A)に示すような触媒筒及び活
性化処理した細孔径が4〜10Å相当の合成ゼオライト
が充填された吸着筒に粗アンモニアを通すことによって
行われる。
【0018】本発明のアンモニアの精製方法において
は、触媒筒で主に酸素、二酸化炭素が除去され、吸着筒
で主に二酸化炭素、水が除去される。本発明に適用され
る粗アンモニアに含まれる酸素、二酸化炭素、水の濃度
は、通常は各々100ppm以下である。これらの不純
物の濃度がこれよりも高くなると発熱量が増加する場合
があるため条件によっては除熱手段が必要となる。尚、
図2(B)に示すように1つの筒に触媒と合成ゼオライ
トを充填してアンモニアの精製を行なうこともできる。
【0019】触媒筒に充填される酸化マンガンを有効成
分とする触媒の充填長、及び吸着筒に充填される細孔径
が4〜10Å相当の合成ゼオライトの充填長は、実用上
通常は50〜1500mmとされる。充填長が50mm
よりも短くなると不純物の除去率が低下する虞があり、
また、1500mmよりも長くなると圧力損失が大きく
なり過ぎる虞が生ずる。精製時の粗アンモニアの空筒線
速度(LV)は供給されるアンモニア中の不純物の濃度
および操作条件などによって異なり一概に特定できない
が、通常は100cm/sec以下、好ましくは30c
m/sec以下である。
【0020】アンモニアと触媒の接触温度は、触媒筒の
入口に供給されるガスの温度で150℃以下であり、通
常は常温でよく、特に加熱や冷却を必要としない。ま
た、アンモニアと合成ゼオライトの接触温度も通常は常
温である。また、アンモニアと触媒または合成ゼオライ
トの接触時の圧力にも特に制限はなく常圧、減圧、加圧
のいずれでも処理が可能であるが通常は常圧ないし0.
3MPaの加圧下で行なわれる。
【0021】
【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明がこれらにより限定されるものではない。
【0022】実施例1 (触媒の調製)398gの過マンガン酸カリウムを水1
2.5kgに溶解した液に、3wt%の硫酸マンガン水
溶液8.45kgと濃硫酸144gとの混合液を温度7
0℃にて速やかに注加し反応させた。生成した沈殿物を
90℃で3時間攪拌した後、濾過し、イオン交換水25
kgで3回洗浄した後、再度濾過し、1200gのケー
キ状酸化マンガン(MnO)を得た。このケーキ状M
nOを90℃で12時間乾燥し、粉末状MnO36
0gを得た。この粉末状MnOのBET比表面積をガ
ス吸着量測定装置(ユアサアイオニクス(株)製、オー
トソーブ3B)で測定したところ245m/gであっ
た。
【0023】得られたBET比表面積が245m/g
のMnO500gにアルミナゾル10g、水200g
を加えて混練し、得られたケーキを押し出し成型機で押
し出して直径1.6mmの成型物を得た。これを長さ1
0mm程度に切断してペレットとし、120℃で12時
間乾燥させることによって触媒Aを得た。この触媒A中
の水分は、0.8wt%であった。
【0024】(アンモニアの精製)触媒Aを内径45.
2mm、長さ200mmのステンレス製の触媒筒に充填
長150mmとなるように充填した。次に、触媒筒の温
度を250℃に昇温し、水素と窒素の混合ガス(水素5
vol%、窒素95vol%)を常圧、流量2887m
l/min(LV:3.0cm/sec)で5時間流通
して触媒Aの還元処理を行ない触媒筒を常温に冷却し
た。
【0025】引き続き、この触媒筒に不純物として10
ppmの酸素及び10ppmの二酸化炭素を含有する粗
アンモニアを、常温(20℃)において9622ml/
min(LV:10cm/sec)の速度で流してアン
モニアの精製を行なった。粗アンモニアを流し始めてか
ら5分後、及びその後20分間隔で熱伝導度検出器(G
C−TCD)(検出下限濃度0.01ppm)を用いて
出口ガス中の酸素及び二酸化炭素の濃度を測定した。そ
の結果を表1に示す。(表中のN.D.は「検出せず」を
示す)尚、アンモニアの精製開始直後に触媒が発熱した
が、精製アンモニア中に水素は検出されなかった。
【0026】実施例2 実施例1と同様にして得られた粉末状MnOを、CO
気流中250℃で還元してMnOを得た。このMnOに
実施例1と同様にしてアルミナゾル及び水を加えて混練
し、得られたケーキを押し出し成型機で押し出した後、
切断してペレットとし、さらに乾燥させることによって
触媒Bを得た。この触媒B中の水分は、0.7wt%で
あった。実施例1における触媒Aを触媒Bに替えたほか
は実施例1と同様にしてアンモニアの精製を行なった。
その結果を表1に示す。
【0027】実施例3 実施例1と同様にして得られた粉末状MnOを、酸素
気流中で約1000℃に強熱することによりMn
を得た。このMnに実施例1と同様にしてアルミ
ナゾル及び水を加えて混練し、得られたケーキを押し出
し成型機で押し出した後、切断してペレットとし、さら
に乾燥させることによって触媒Cを得た。この触媒C中
の水分は、0.7wt%であった。実施例1における触
媒Aを触媒Cに替えたほかは実施例1と同様にしてアン
モニアの精製を行なった。その結果を表1に示す。
【0028】実施例4 市販のMnCOを、空気中で約700℃に加熱するこ
とによりMnを得た。このMnに実施例1
と同様にしてアルミナゾル及び水を加えて混練し、得ら
れたケーキを押し出し成型機で押し出した後、切断して
ペレットとし、さらに乾燥させることによって触媒Dを
得た。この触媒D中の水分は、0.8wt%であった。
実施例1における触媒Aを触媒Dに替えたほかは実施例
1と同様にしてアンモニアの精製を行なった。その結果
を表1に示す。
【0029】
【表1】
【0030】実施例5 触媒Aを内径45.2mm、長さ200mmのステンレ
ス製の触媒筒に充填長150mmとなるように充填し、
市販の4Å相当の合成ゼオライト(モレキュラーシーブ
ス4A、ユニオンカーバイト社製)を、触媒筒の下流に
配置された内径45.2mm、長さ200mmのステン
レス製の吸着筒に充填長150mmとなるように充填し
た。次に、触媒筒の温度を250℃に昇温し、吸着筒の
方向から水素と窒素の混合ガス(水素5vol%、窒素
95vol%)を常圧、流量2887ml/min(L
V:3.0cm/sec)で5時間流通して触媒Aの還
元処理を行ない触媒筒を常温に冷却した。また、吸着筒
の温度を350℃に昇温し、触媒筒の方向から窒素ガス
を常圧、流量2887ml/min(LV:3.0cm
/sec)で4時間流通して合成ゼオライトの活性化処
理を行ない吸着筒を常温に冷却した。
【0031】引き続き、この触媒筒に不純物として10
ppmの酸素、10ppmの二酸化炭素、及び50pp
mの水を含有する粗アンモニアを、常温(20℃)にお
いて9622/min(LV:10cm/sec)の速
度で流してアンモニアの精製を行なった。粗アンモニア
を流し始めてから5分後、及びその後20分間隔で熱伝
導度検出器(GC−TCD)、水素炎イオン化検出器
(GC−FID)、及びフーリエ変換赤外分光光度計
(FT−IR)(検出下限濃度はいずれも0.01pp
m)を用いて出口ガス中の酸素、二酸化炭素、及び水の
濃度を測定した。その結果を表2に示す。尚、アンモニ
アの精製開始直後に触媒が発熱したが、精製アンモニア
中に水素は検出されなかった。
【0032】実施例6〜8 実施例5における触媒Aを、各々触媒B、触媒C、触媒
Dに替えたほかは実施例5と同様にしてアンモニアの精
製を行なった。その結果を表2に示す。
【0033】実施例9、10 実施例5における4Å相当の合成ゼオライトを、各々5
Å相当の合成ゼオライト(モレキュラーシーブス5A、
ユニオンカーバイト社製)、10Å相当の合成ゼオライ
ト(モレキュラーシーブス13X、ユニオンカーバイト
社製)に替えたほかは実施例5と同様にしてアンモニア
の精製を行なった。その結果を表2に示す。
【0034】
【表2】
【0035】実施例11 実施例5における粗アンモニアを、不純物として5pp
mの酸素、5ppmの二酸化炭素、及び60ppmの水
を含有する10vol%の粗アンモニア(窒素ベース)
に替えたほかは実施例5と同様にしてアンモニアの精製
を行なった。その結果を表3に示す。
【0036】実施例12〜14 実施例11における触媒Aを、各々触媒B、触媒C、触
媒Dに替えたほかは実施例13と同様にしてアンモニア
の精製を行なった。その結果を表3に示す。
【0037】実施例15、16 実施例11における4Å相当の合成ゼオライトを、各々
5Å相当の合成ゼオライト(モレキュラーシーブス5
A、ユニオンカーバイト社製)、10Å相当の合成ゼオ
ライト(モレキュラーシーブス13X、ユニオンカーバ
イト社製)に替えたほかは実施例11と同様にしてアン
モニアの精製を行なった。その結果を表3に示す。
【0038】
【表3】
【0039】比較例1 市販のニッケル触媒(N−111、日揮(株)製)を用
いた。この触媒は、組成がNi+NiOの形で、Ni4
5〜47wt%、Cr2〜3wt%、Cu2〜3wt
%、珪藻土27〜29wt%、及び黒鉛4〜5wt%で
あり、比表面積が150m2/gであり、直径5mm、
高さ4.5mmの成型体である。このニッケル触媒を1
0〜20meshに破砕したものを触媒Eとした。実施
例1における触媒Aを触媒Eに替えたほかは実施例1と
同様にしてアンモニアの精製を行なった。その結果、出
口ガス中の酸素及び二酸化炭素の濃度はいずれも0.0
1ppm以下であったが、アンモニアの精製開始直後に
触媒が発熱し、その間精製アンモニア中に20ppmの
水素を生じた。
【0040】比較例2 実施例5における触媒Aを触媒Eに替えたほかは実施例
5と同様にしてアンモニアの精製を行なった。その結
果、出口ガス中の酸素、二酸化炭素及び水の濃度はいず
れも0.01ppm以下であったが、アンモニアの精製
開始直後に触媒が発熱し、その間精製アンモニア中に2
0ppmの水素を生じた。
【0041】
【発明の効果】本発明のアンモニアの精製方法により、
粗アンモニアに含まれている微量の酸素、二酸化炭素、
水等の不純物を極めて低濃度になるまで除去できるとと
もに、粗アンモニアと触媒の接触温度が比較的高くなる
条件においてもアンモニアが分解して水素が発生するこ
となくアンモニアを精製することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のアンモニアの精製方法を実施するため
の精製ラインの一例を示す構成図
【図2】本発明のアンモニアの精製方法を実施するため
の精製ラインの図1以外の一例を示す構成図
【符号の説明】
1 酸化マンガンを有効成分とする触媒 2 細孔径が4〜10Å相当の合成ゼオライト 3 触媒筒 4 吸着筒 5 精製筒 6 ヒーター 7 粗アンモニア供給ライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 友久 神奈川県平塚市田村5181番地 日本パイオ ニクス株式会社平塚研究所内 Fターム(参考) 4D012 BA02 CA01 CA03 CA20 CB12 CB13 CE03 CG01 CG05 CH05 4G069 AA02 BA07A BA07B BB04A BB04B BC62A BC62B CB82 DA06 EA02Y EC02X EC03X EC03Y EC11X EC11Y EC12X EC12Y

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粗アンモニアを、酸化マンガンを有効成
    分とする触媒と接触させて、該粗アンモニアに不純物と
    して含まれる酸素及び/または二酸化炭素を除去するこ
    とを特徴とするアンモニアの精製方法。
  2. 【請求項2】 粗アンモニアを、酸化マンガンを有効成
    分とする触媒と接触させた後、さらに細孔径が4〜10
    Å相当の合成ゼオライトと接触させて、該粗アンモニア
    に含まれる酸素、二酸化炭素、及び水から選ばれる一種
    以上の不純物を除去することを特徴とするアンモニアの
    精製方法。
  3. 【請求項3】 触媒全体に対する酸化マンガンの含有率
    が、70wt%以上である請求項1または請求項2に記
    載のアンモニアの精製方法。
  4. 【請求項4】 酸化マンガンのBET比表面積が、10
    〜500m/gである請求項1または請求項2に記載
    のアンモニアの精製方法。
  5. 【請求項5】 酸化マンガンがMnO、Mn、M
    、またはMnOである請求項1または請求項
    2に記載のアンモニアの精製方法。
  6. 【請求項6】 粗アンモニアと触媒の接触温度が150
    ℃以下である請求項1または請求項2に記載のアンモニ
    アの精製方法。
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