JP2002030165A - 寸法安定性を有するプラスチック基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 特に液晶表示パネル用に好適な、寸法安定性
を有するプラスチックシートの提供。 【解決手段】 プラスチックシートを空気中で１５０
℃、３時間加熱した後、５０％ＲＨの空気中で２３℃、
１週間放置する試験を三回繰り返す加熱サイクル試験に
おいて、各回の試験前後の寸法変化量が±０．０２％以
内であることを特徴とするプラスチックシート。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、寸法安定性を有す
るプラスチック基板に関する。詳しくは、パネル製造時
の加熱や温水洗浄工程において、寸法安定性を有するプ
ラスチック基板に関する本発明の基板は、有機ＥＬ表示
パネル用、タッチパネル用等の表示用、光ディスク等の
記憶、記録用、太陽電池パネル用、等の光学用部材、特
に低複屈折光学部材、殊に液晶表示パネル用に好適であ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来使用されている液晶用表示パネル
（セルと呼ばれることがある）は、ガラス板を基板とし
て使用するものであるが、このようなパネルでは、ガラ
スの低密度化と機械的強度の向上に関して限界があるた
め、現在要望されている軽量薄型化に対応できない。ま
た生産性の向上に関しても成形性、加工性の観点から問
題点が指摘されており、プラスチックを基板として用い
たパネルに注目が集まっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
の代りにプラスチック基板を使用した場合、従来用いら
れているプラスチック基板については、パネルを製造す
る際の、加熱や温水洗浄工程において、基板の脱水や吸
湿に伴う寸法変化が大きく、設計通りの表示機能が得ら
れないという問題点がある。

【０００４】特にカラー表示を行うパネルを作製する際
には、この寸法変化が大きな問題となる。通常カラー表
示には、カラーフィルターと呼ばれるＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）及びブラックマトリックス（黒）が形
成された基板と、対向基板と呼ばれるこれら画素の無い
基板が必要となる。このカラーフィルター上に透明電極
をパターニングしたものと、対向基板上に透明電極をパ
ターニングしたものを、共に配向膜処理した後シール剤
を介して貼り合わせ、基板間に液晶を注入することによ
り表示用パネルが完成する。このパネル化工程中に基板
が寸法変形を起こすと下記のような問題が発生する。

【０００５】（１）画素が設計図面通りに基板上に形成
されない。 （２）透明電極のパターニングラインが設計図面通りに
基板上に形成されない。 （３）両基板の貼り合わせ位置が設計からずれる。 （４）パネル全体に応力歪みが生じ耐久性が低下する。

【０００６】従って液晶表示パネルを作製する場合に
は、上記問題を改良する低寸法変形のプラスチック基板
が不可欠となっている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる事
情に鑑み、先ずパネル化の各工程における基板の寸法変
化について詳細に解析を行った。その結果、主に下記工
程において従来のプラスチック基板は寸法変化を起こ
し、その結果、カラー表示パネルに必要な寸法精度が得
られていないことが判明した。

【０００８】画素を形成する際のインキ乾燥工程にお
いて、加熱により基板から水分や残存溶剤等のガラスが
揮発することにより寸法収縮を起こす。 透明電極成膜時の加熱や、パターニングの際の露光
や、配向膜焼結の際の加熱により、上記同様に揮発ガス
のため寸法収縮を起こす。 シール剤の加熱硬化の際に上記同様に揮発ガスのため
寸法収縮を起こす。

【０００９】画素形成や透明電極パターニング、或い
は配向膜処理等のパネル化工程中に基板は何度も温水洗
浄されるので、吸水による寸法膨張を起こす。 基板が保管される温湿度条件に従って、水分の出入り
による寸法変化が生じる。 延伸操作等により基板面内に何等かのストレスや構造
上の不均一性がある場合には、以上のような工程中で吸
水脱水に伴う基板の寸法変化の挙動が、縦横で異なる等
一様でない。

【００１０】これらの繰り返し行われる加熱及び温水洗
浄工程において、プラスチック基板は寸法収縮と寸法膨
張を繰り返すことになる。その際の収縮膨張の大きさは
カラー化工程やセル化工程における寸法精度の低下を招
く。例えば基板上にＲ、Ｇ、Ｂのカラー画素を形成する
際、通常フォトリソグラフィーにより次のような工程に
従って一色ずつ形成していく。フォトリソによるＲ画素
作製（室温）→インキの加熱硬化→フォトリソによるＧ
画素作製（室温）→インキの加熱硬化→フォトリソによ
るＢ画素作製（室温）→インキの加熱硬化。加熱による
プラスチック基板の寸法収縮が大きい場合には、Ｒ画素
加熱硬化後、基板を室温に戻しても、Ｒ画素はその形成
時の位置から大きく位置ずれを起こしており、次ぎのＧ
画素形成に速やかに進むことができない。従って設計図
面通りの所定の位置にＧ画素、延いてはＢ画素を形成す
ることが不可能となる。

【００１１】また基板上に画素を形成する際、前処理と
して通常温水洗浄が行われるが、プラスチック基板の吸
水による寸法膨張が大きい場合には、洗浄後に基板を乾
燥させても所定の位置に画素を形成できない。即ち洗浄
工程後、基板からの脱水による寸法の回復を待つ必要が
あり、速やかに画素形成工程に進むことができない。

【００１２】そして、かかる基板の寸法変化挙動の解析
結果、液晶表示パネル用のプラスチックシートとして
は、特定の加熱サイクル試験における寸法変化及び特定
の温水サイクル試験における寸法変化がそれぞれ或る範
囲内にあるものを用いることが必要であること、更に、
かかるプラスチックシートが特定の重合性組成物を重合
硬化させることにより得られることを見い出し、本発明
を完成するに至った。

【００１３】即ち、本発明の要旨は、プラスチックシー
トを空気中で１５０℃、３時間加熱した後、５０％ＲＨ
の空気中で２３℃、１週間放置する試験を三回繰り返す
加熱サイクル試験において、各回の試験前後の寸法変化
量が±０．０２％以内であることを特徴とするプラスチ
ックシート及び／又はプラスチックシートを４０℃の温
水中に１時間浸漬した後、５０％ＲＨの空気中で２３
℃、１週間放置する試験を三回繰り返す温水サイクル試
験において、各回の試験前後の寸法変化量が±０．０２
％以内であることを特徴とするプラスチックシート、に
ある。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のプラスチックシートは、（１）空気中で１５０
℃、３時間加熱した後、５０％ＲＨの空気中で２３℃、
１週間放置する試験を三回繰り返す加熱サイクル試験に
おいて、各回の試験前後の寸法変化量が±０．０２％以
内、好ましくは±０．０１％以内、及び／又は（２）４
０℃の温水中に１時間浸漬した後、５０％ＲＨの空気中
で２３℃、１週間放置する試験を三回繰り返す温水サイ
クル試験において、各回の試験前後の寸法変化量が±
０．０２％以内、好ましくは±０．０１％以内であるも
のである。

【００１５】（加熱試験）（１）の加熱試験は、プラス
チックシートからパネルを製造する際の加熱処理条件を
参酌して設定したものである。即ち、プラスチックシー
トは、パネル製造の際、画素形成時、透明電極形成時及
び配向膜形成時において、複数回の加熱工程を経るが、
この条件は、空気中で１５０℃近辺で数分ないし数時間
加熱されるものである。そして、空気中で２３℃、１週
間放置する条件については、これらの加熱工程内におけ
るプラスチックシートの保管条件の代表例として、ま
た、ＪＩＳ Ｋ−７１００記載の恒温恒湿条件に準ずる
ものとして設定した。

【００１６】なお、試験条件の許容範囲は、±２℃、±
５％ＲＨ、±５分である。この加熱試験において、一回
の試験前後の寸法変化量が−０．０３％であると、例え
ば３００ｍｍ角のシートであればその一辺が９０μｍ伸
収縮することを意味する。現在カラー表示を行う際に使
用される１画素の幅は１００μｍ程度であり、９０μｍ
の縮みはこの１画素の幅分近く色ずれを起こすことにな
る。即ち、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の画素がそ
れぞれ１００μｍ幅でこの順でストライプ状に形成され
る設計において、シート端部ではＲ画素の位置にＧ画素
が、またＧ画素の位置にＢ画素が配置されることになっ
てしまうため、設計通りの色表示ができない。

【００１７】色ずれの度合いはシート長に依存するが、
寸法変化量が例えば−０．０２％以内の場合には、３０
０ｍｍ角シート中央に設計の中心を置くことにより設計
通りの位置で各色の表示が可能となる。即ち、３００ｍ
ｍ角シートの中央から各辺中央までの位置ずれを（本来
１５０ｍｍ長）−３０μｍ以内に抑えることができるた
め、シート端部においても７０％以上は本来の画素色を
表示することができる。

【００１８】寸法変化量は、好ましくは±０．０１％以
内である。例えば−０．０１％の場合には、３００ｍｍ
角シートの中央から各辺中央までの位置ずれは−１５μ
ｍとなる。実際のパネル化工程においては、各色がスト
ライプ状に形成されたカラーフィルター上に、やはりス
トライプ状に透明電極をパターニングする。この際、透
明電極のパターニング幅を７０μｍに設計すれば、仮に
１００μｍ幅のストライプ状画素が最大−１５μｍの位
置ずれを起こしていても、位置ずれのマージンが１５μ
ｍあるため、１００％設計通り本来の画素色を表示する
パネルを作製することが可能である。

【００１９】（温水試験）また（２）の温水試験は、
（１）と同様にプラスチックシートからパネルを製造す
る際の温水処理条件を参酌して設定したものである。即
ち、プラスチックシートは、パネル製造の際、画素形成
前、透明電極形成前、配向膜形成後にそれぞれ複数回温
水洗浄されるが、この洗浄は通常、４０℃の温水で数分
ないし数時間行われている。そして、空気中で２３℃、
１週間放置する条件については、これらの洗浄工程内に
おけるプラスチックシートの保管条件の代表例として、
また、ＪＩＳ Ｋ−７１００に準ずるものとして設定し
た。

【００２０】なお、試験条件の許容範囲は、±２℃、±
５％ＲＨ、±５分である。この温水試験の場合は基板が
膨張することになるので、加熱試験とは逆に寸法変化量
が＋０．０２％以内の場合に設計通りの色表示が可能と
なる。即ち、加熱試験とはプラスマイナスの符号が逆に
なる。温水試験において、一回の試験前後の寸法変化量
が＋０．０３％であると、例えば３００ｍｍ角のシート
であればその一辺が９０μｍ伸膨張することを意味す
る。現在カラー表示を行う際に使用される１画素の幅は
１００μｍ程度であり、９０μｍの膨張はこの１画素の
幅分近く色ずれを起こすことになる。即ち、Ｒ（赤）、
Ｇ（緑）及びＢ（青）の画素がそれぞれ１００μｍ幅で
この順でストライプ状に形成される設計において、シー
ト端部ではＲ画素の位置にＧ画素が、またＧ画素の位置
にＢ画素が配置されることになってしまうため、設計通
りの色表示ができない。

【００２１】色ずれの度合いはシート長に依存するが、
寸法変化量が例えば＋０．０２％以内の場合には、３０
０ｍｍ角シート中央に設計の中心を置くことにより設計
通りの位置で各色の表示が可能となる。即ち、３００ｍ
ｍ角シートの中央から各辺中央までの位置ずれを（本来
１５０ｍｍ長）＋３０μｍ以内に抑えることができるた
め、シート端部においても７０％以上は本来の画素色を
表示することができる。

【００２２】寸法変化量は、好ましくは±０．０１％以
内である。例えば＋０．０１％の場合には、３００ｍｍ
角シートの中央から各辺中央までの位置ずれは＋１５μ
ｍとなる。実際のパネル化工程においては、各色がスト
ライプ状に形成されたカラーフィルター上に、やはりス
トライプ状に透明電極をパターニングする。この際、透
明電極のパターニング幅を７０μｍに設計にすれば、仮
に１００μｍ幅のストライプ状画素が最大＋１５μｍの
位置ずれを起こしていても、位置ずれのマージンが１５
μｍあるため、１００％設計通り本来の画素色を表示す
るパネルを作製することが可能である。

【００２３】前述したように、加熱試験において試験前
後の寸法変化量が±０．０２％以内であるプラスチック
シートを得るためには、１５０℃以上の耐熱性を有して
いることは必須条件である。即ち、ガラス転移温度が１
５０℃未満の場合には、加熱試験中、即ち、製造工程に
おいてシート全体が変形を起こしたり、熱による構造変
化のために試験前の寸法に戻らない。

【００２４】また温水試験中、即ち、製造工程において
試験前後の寸法変化量が±０．０２％以内であるプラス
チックシートを得るためには、シートの樹脂成分が水分
と反応して組成変化を起こさないことが必須条件であ
る。特に水分との反応が不可逆な場合には反応による構
造変化のために試験前の寸法に戻らないし、可逆の場合
でも試験前の寸法に戻るまで多大な時間を要する。

【００２５】シート中に水分以外の揮発ガス（加熱によ
る分解ガスを含む）が無いことも重要な因子である。即
ち、シート中に残存溶剤等の揮発成分があると、加熱試
験において揮発していく結果、えてして寸法が試験前よ
りも収縮する傾向にある。かかるプラスチックシート
は、特に限定されるものではなく、本発明により規定さ
れる特性を有するプラスチックが使用できるが、好まし
くはエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、等の熱硬化性又
は光硬化性の硬化性プラスチックであり、特に好ましく
は後述する特定の重合性組成物を重合硬化させることに
より得られる。かかる重合性組成物としては、光硬化性
組成物が好ましく、以下の説明は、光硬化性組成物、こ
れを重合硬化させて得られるプラスチックシート（以
下、光硬化性樹脂層又は光硬化性樹脂シートということ
がある）及びそのシートを用いるプラスチック積層体に
ついて述べる。

【００２６】（光硬化性組成物）本発明に用いられる光
硬化性組成物とは、成分Ａ、Ｂ及びＣを含有してなるも
のである。ここで、「含有してなる」とは、挙示成分
Ａ、Ｂ及びＣの外に、本発明の趣旨を損なわない限り、
少量の補助成分を含有してもよいことを意味する。

【００２７】なお、「（メタ）アクリル」及び「（メ
タ）アクリレート」とは、アクリルないしメタクリル及
びアクリレートないしメタクリレートをそれぞれ総称す
るものである。 ＜成分Ａ：含脂環骨格ビス（メタ）アクリレート＞成分
Ａは、式（Ｉ）で表される脂環式炭化水素骨格を有する
ビス（メタ）アクリレート（含脂環骨格ビス（メタ）ア
クリレート又はビス（メタ）アクリレートと略記するこ
とがある）である。

【００２８】

【化３】

【００２９】（式中、Ｒ¹ 及びＲ² は、それぞれ独立し
て、水素原子又はメチル基を示し、ｍは１又は２を示
し、ｎは０又は１を示し、ｐ及びｑは、それぞれ独立し
て０、１又は２を示す） 式（Ｉ）の含脂環骨格ビス（メタ）アクリレートの具体
例としては、例えばビス（ヒドロキシ）トリシクロ
［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジアクリレート、ビス
（ヒドロキシ）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカ
ン＝ジメタクリレート、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ
［５．２．１．０^2,6］デカン＝アクリレートメタクリ
レート及びこれらの混合物、ビス（ヒドロキシ）ペンタ
シクロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペンタ
デカン＝ジアクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシ
クロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペンタデ
カン＝ジメタクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシ
クロ［６．５．１．１^3,6 ．０ ^2,7 ．０^9,13］ペンタデ
カン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合
物、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．
１．０^2,6 ］デカン＝ジアクリレート、ビス（ヒドロキ
シメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝
ジメタクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシク
ロ［５．２．１．０^{2, 6} ］デカン＝アクリレートメタク
リレート及びこれらの混合物、ビス（ヒドロキシメチ
ル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０
^9,13］ペンタデカン＝ジアクリレート、ビス（ヒドロキ
シメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１^{3, 6} ．
０^2,7 ．０^9,13］ペンタデカン＝ジメタクリレート、ビ
ス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１
^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペンタデカン＝アクリレートメ
タクリレート及びこれらの混合物、ビス（ヒドロキシエ
チル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジア
クリレート、ビス（ヒドロキシエチル）トリシクロ
［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート、ビ
ス（ヒドロキシエチル）トリシクロ［５．２．１．０
^2,6 ］デカン＝アクリレートメタクリレート及びこれら
の混合物、ビス（ヒドロキシエチル）ペンタシクロ
［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペンタデカン
＝ジアクリレート、ビス（ヒドロキシエチル）ペンタシ
クロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペンタデ
カン＝ジメタクリレート、ビス（ヒドロキシエチル）ペ
ンタシクロ［６．５．１．１ ^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペ
ンタデカン＝アクリレートメタクリレート及びこれらの
混合物、等が挙げられる。

【００３０】これらの中、ビス（ヒドロキシメチル）ト
リシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジアクリレー
ト、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．
１．０ ^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート、ビス（ヒドロ
キシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン
＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物が好
ましい。

【００３１】なお、これらのトリシクロデカン化合物及
びペンタシクロデカン化合物は、群内及び／又は群間で
二種以上併用してもよい。本発明に用いる光硬化性組成
物中のビス（メタ）アクリレートの割合は、成分Ａと成
分Ｂとの合計（以下、全アクリレート成分ということが
ある）１００重量部に対して７０〜９９重量部、好まし
くは８０〜９８重量部、より好ましくは８８〜９７重量
部、特に好ましくは９２〜９６重量部である。

【００３２】ビス（メタ）アクリレートの製造方法につ
いては、特に限定されるものではなく、一般的なエステ
ル合成法（日本化学会編，新実験化学講座，１４，有機
化合物の合成と反応（II）（丸善，１９７７年刊））等
に準拠して行うことができるが、代表的な製造方法とし
ては、（ｉ）式（１）で表される含脂環骨格ジオール
（以下、式（１）のジオール又はジオールと略記するこ
とがある）と（メタ）アクリル酸とのエステル化反応に
よる方法（特開昭６２−２２５５０８号公報）、

【００３３】

【化４】

【００３４】（式中、ｍは１又は２であり、ｎは０又は
１である） なお、式（１）の化合物の具体例としては、例えばビス
（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．
０^2,6 ］デカン、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシク
ロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペンタデカ
ン等を挙げることができる。これらの中、ビス（ヒドロ
キシメチル）トリシクロデカンは、「ＴＣＤアルコール
ＤＭ（ヘキスト社商品名）」として市販されている。

【００３５】（ii）ジオールと（メタ）アクリル酸エス
テルとのエステル交換反応による方法、（iii）ジオー
ルと（メタ）アクリル酸ハライドとの反応による方法、
等が挙げられる。これらの中、（ｉ）及び（ii）の方法
が実用的であり、好ましい。

【００３６】（ｉ）のジオールと（メタ）アクリル酸と
のエステル化反応は、ジオール１モルに対して、通常
２．０〜２．６モルの（メタ）アクリル酸を用い、触媒
として、例えば、硫酸、塩酸、リン酸、フッ化硼素、ｐ
−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、カチオン
型イオン交換樹脂等を用い、通常トルエン、ベンゼン、
へプタン、ヘキサン等の溶媒の存在下、反応により生成
する水を留去しながら行う。また、（ii）のジオールと
（メタ）アクリル酸エステルとのエステル交換反応は、
ジオール１モルに対して、一般的には（メタ）アクリル
酸メチルを通常２．０〜１０．０モルを用い、触媒とし
て、例えば、硫酸、Ｐ−トルエンスルホン酸、テトラブ
チルチタネート、テトライソプロピルチタネート、カリ
ウムブトキシド等を用い、通常トルエン、ベンゼン、ヘ
プタン、ヘキサン等の溶媒の存在下、反応により生成す
るメタノールを留去しながら行う。

【００３７】反応は、重合禁止剤として、例えば、ハイ
ドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェ
ノチアジン、銅塩等を用いることができる。これらの反
応においては、反応の進行状況を高速液体クロマトグラ
フ、ガスクロマトグラフ等により分析し、反応が１００
％完結する前段階で停止して、反応混合物から未反応の
ジオール、（メタ）アクリル酸、触媒、重合禁止剤、溶
媒、等を除去することにより、ビス（メタ）アクリレー
トとモノ（メタ）アクリレートとの混合物を得ることが
できる。

【００３８】そして、その混合割合が適当なものについ
ては、本発明に用いる光硬化性組成物の成分Ａと成分Ｂ
との混合物原料として、そのまま用いることができるの
で、便利であり、好ましい。 ＜成分Ｂ：含脂環骨格モノ（メタ）アクリレート＞成分
Ｂは、式（II）で表される脂環式炭化水素骨格を有する
モノ（メタ）アクリレート（含脂環骨格モノ（メタ）ア
クリレート又はモノ（メタ）アクリレートと略記するこ
とがある）である。

【００３９】

【化５】

【００４０】（式中、Ｒ³ は水素原子又はメチル基を示
し、ｍは１又は２を示し、ｎは０又は１を示し、ｒ及び
ｓは、それぞれ独立して、０、１又は２を示す） 式（II）の含脂環骨格モノ（メタ）アクリレートの具体
例としては、例えばビス（ヒドロキシ）トリシクロ
［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝モノアクリレート、ビ
ス（ヒドロキシ）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デ
カン＝モノメタクリレート及びこれらの混合物、ビス
（ヒドロキシ）ペンタシクロ［６．５．１．１ ^3,6 ．０
^2,7 ．０^9,13］ペンタデカン＝モノアクリレート、ビス
（ヒドロキシ）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6 ．０
^2,7 ．０^9,13］ペンタデカン＝モノメタクリレート及び
これらの混合物、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ
［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝モノアクリレート、ビ
ス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０
^2,6 ］デカン＝モノメタクリレート及びこれらの混合
物、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ［６．５．
１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペンタデカン＝モノアク
リレート、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ
［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペンタデカン
＝モノメタクリレート及びこれらの混合物、ビス（ヒド
ロキシエチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカ
ン＝モノアクリレート、ビス（ヒドロキシエチル）トリ
シクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝モノメタクリレ
ート及びこれらの混合物、ビス（ヒドロキシエチル）ペ
ンタシクロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペ
ンタデカン＝モノアクリレート、ビス（ヒドロキシエチ
ル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6．０^2,7 ．０
^9,13］ペンタデカン＝モノメタクリレート及びこれらの
混合物、等が挙げられる。

【００４１】これらの中、ビス（ヒドロキシメチル）ト
リシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝モノアクリレ
ート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．
１．０^2,6 ］デカン＝モノメタクリレート及びこれらの
混合物、が好ましい。これらのトリシクロデカン化合物
及びペンタシクロデカン化合物は、群内及び／又は群間
で二種以上併用してもよい。

【００４２】本発明に用いる光硬化性組成物中のモノ
（メタ）アクリレートの割合は、全アクリレート成分１
００重量部に対して１〜３０重量部、好ましくは２〜２
０重量部、より好ましくは３〜１２重量部、特に好まし
くは４〜８重量部である。モノ（メタ）アクリレートの
割合が少なすぎると、硬化樹脂の機械強度改良効果が得
られなくなるし、逆に多すぎると硬化樹脂の耐熱性が低
下する。

【００４３】かかるモノ（メタ）アクリレートについて
は、式（Ｉ）のビス（メタ）アクリレートの合成法の例
えば（ｉ）又は（iii）の方法において、ジオール１モ
ルに対する（メタ）アクリル酸の量を半分の１〜１．３
モルにするとか、（メタ）アクリル酸ハライドの量を半
分の１モルにするとかにして、半エステルが生成する条
件で反応を行うことにより合成することができる。

【００４４】しかしながら、前記の式（Ｉ）のビス（メ
タ）アクリレートを例えば（ｉ）の方法により合成する
際に、前述したように、反応を途中で停止することによ
り、モノ（メタ）アクリレートの所望量を含むビス（メ
タ）アクリレートの混合物が得られ、これを本発明に用
いる光硬化性組成物の原料としてそのまま使用すること
ができるので、通常は、モノ（メタ）アクリレートを別
途合成するには及ばない。

【００４５】＜成分Ｃ：少なくとも二官能性のメルカプ
ト化合物＞本発明に用いる光硬化性組成物に用いられる
メルカプト化合物は、少なくとも二官能性の、好ましく
は三官能性以上のメルカプト化合物（以下、多官能メル
カプト化合物ということがある）である。少なくとも二
官能性のメルカプト化合物の具体例としては、例えば一
般式（III）、（IV）及び（Ｖ）でそれぞれ表される化
合物並びに２，２−ビス（２−ヒドロキシ−３−メルカ
プトプロポキシフェニル）プロパン、１，１０−デカン
ジチオール、ジメルカプトトリエチレンジスルフィド、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプ
ロピレングリコールジグリシジルエーテル、のようなジ
グリシジル化合物と硫化水素との反応により合成される
ジメルカプト化合物、等が挙げられる。

【００４６】

【化６】

【００４７】（式中、Ｒ⁴ はメチレン基又はエチレン基
を示し、Ｒ⁵ はエーテル酸素を含んでいてもよい炭素数
２〜１５の炭化水素残基を示し、ａは２〜６の整数を示
す）式（III）において、Ｒ⁵ はエーテル酸素を含んで
いてもよい炭素数２〜１５の炭化水素残基であるが、そ
の具体例としては、例えばペンタエリスリトール残基、
ジペンタエリスリトール残基、トリメチロールプロパン
残基、エチレングリコール残基、ジエチレングリコール
残基、トリエチレングリコール残基、ブタンジオール残
基、等が挙げられる。

【００４８】式（III）のメルカプト化合物は、２〜６
価のチオグリコール酸エステル又はチオプロピオン酸エ
ステルであるが、その具体例としては、例えば、ペンタ
エリスリトールテトラキス（β−チオプロピオネー
ト）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレ
ート）、トリメチロールプロパントリス（β−チオプロ
ピオネート）、トリメチロールプロパントリス（チオグ
リコレート）、エチレングリコールビス（β−チオプロ
ピオネート）、エチレングリコールビス（チオグリコレ
ート）、ジエチレングリコールビス（β−チオプロピオ
ネート）、ジエチレングリコールビス（チオグリコレー
ト）、トリエチレングリコールビス（β−チオプロピオ
ネート）、トリエチレングリコール（チオグリコレー
ト）、ブタンジオールビス（β−チオプロピオネー
ト）、ブタンジオールビス（チオグリコレート）、ジペ
ンタエリスリトールヘキサキス（β−チオプロピオネー
ト）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（チオグリコ
レート）等が挙げられる。

【００４９】

【化７】

【００５０】（式中、ＸはＨＳ−（ＣＨ₂ ）_b −ＣＯ−
（ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ）_d −（ＣＨ₂ ）_c−を示す。但し、
ｂ及びｃは、それぞれ独立して、１〜８の整数を示し、
ｄは０、１又は２を示す） 式（IV）の化合物は、ω−チオール基含有イソシアネー
トである。式（IV）の化合物の具体例としては、例え
ば、トリス［２−（β−チオプロピオニルオキシ）エチ
ル］イソシアヌレート、トリス（２−チオグリコニルオ
キシエチル）イソシアヌレート、トリス［２−（β−チ
オグリコニルオキシエトキシ）エチル］イソシアヌレー
ト、トリス（２−チオグリコニルオキシエトキシ）エチ
ル］イソシアヌレート、トリス［３−（β−チオプロピ
オニルオキシ）プロピル］イソシアヌレート、トリス
（３−チオグリコニルオキシプロピル）イソシアヌレー
ト等が挙げられる。

【００５１】

【化８】

【００５２】（式中、Ｒ⁶ 及びＲ⁷ は、それぞれ独立し
て、アルキレン基を示し、ｅ及びｆは、それぞれ独立し
て、０又は１を示し、ｇは１又は２を示す） 式（Ｖ）の化合物はチオール基含有炭化水素である。式
（Ｖ）の化合物の具体例としては、例えばベンゼンジメ
ルカプタン、キシリレンジメルカプタン、４，４′−ジ
メルカプトジフェニルスルフィド、等が挙げられる。

【００５３】これらの少なくとも二官能性のメルカプト
化合物の中、式（III）、（IV）及び（Ｖ）でそれぞれ
表される化合物が好ましく、これらの化合物の中、三官
能性以上のメルカプト化合物がより好ましく、四官能性
のメルカプト化合物が特に好ましい。本発明に用いる光
硬化性組成物中の少なくとも二官能性のメルカプト化合
物の配合割合は、全アクリレート成分１００重量部に対
して１〜１０重量部、好ましくは４〜８の重量部であ
る。

【００５４】メルカプト化合物の割合が少なすぎると、
硬化樹脂の複屈折が増大するし、逆に多すぎると硬化樹
脂の耐熱性が低下する。本発明に用いる光硬化性組成物
の中から、前記成分Ｂの含脂環骨格モノ（メタ）アクリ
レートを除いた組成物でも、低複屈折性と高耐熱性の二
つの課題だけであれば解決することが可能である。即
ち、前記成分Ａの含脂環骨格ビス（メタ）アクリレート
と前記成分Ｃの多官能メルカプト化合物よりなる組成物
を光重合硬化させることにより、低複屈折且つ高耐熱性
を有する樹脂が得られる。多官能メルカプト化合物を配
合する理由は、メルカプト化合物中のチオール基が連
鎖移動剤として作用し、重合硬化を緩やかに均一に進行
させることにより、硬化物中の複屈折を大幅に低減す
る。また分子内に二個以上のチオール基を有する多官
能性のメルカプト化合物を用いることにより、前記成分
Ａのビス（メタ）アクリレート化合物から形成される三
次元網目構造にメルカプタン化合物が入り込む際、耐熱
性を損なうことなく上記複屈折の問題を解決することが
できる。

【００５５】しかしながら、成分Ａも成分Ｂも多官能性
であり、得られる硬化物は高度に架橋された高分子構造
を有するため、耐衝撃性等の機械強度に劣る問題があ
る。この問題は前記成分Ｂの含脂環骨格モノ（メタ）ア
クリレートを特定の割合配合することにより解決され
る。即ち、高度に架橋された高分子の中に、単官能であ
り、架橋には寄与しない成分Ｂが入り込むことにより、
架橋密度が適度に制御される。その結果、耐衝撃性等の
機械強度が向上すると共に、成形時の製品割れ等生産歩
留まりの問題を解決することができる。

【００５６】重要なのは成分Ｂを配合した際に、硬化物
の複屈折を増大させたり、耐熱性の低下や吸水率の悪化
を引き起こさないことであるが、本発明における成分Ｂ
は、成分Ａと同様な脂環骨格を有する（メタ）アクリレ
ートであるため両者の重合速度はほぼ等しく、また相分
離を起こさないため全く複屈折は変化しない。耐熱性や
吸水率に関しても、成分ＡとＢからそれぞれ得られる硬
化物は同様な特性を持つため、性能悪化を引き起こすこ
となく液晶表示用の低複屈折光学部材として十分な性能
を維持している。

【００５７】＜ラジカル重合開始剤＞本発明に用いる光
硬化性組成物の共重合に用いられるラジカル重合開始剤
（以下、光重合開始剤又は光開始剤ということがある）
については、紫外線等の活性エネルギー線によりラジカ
ルを発生するものであれば、特に限定されるものではな
い。その具体例としては、例えば一般式（VI）で表され
る化合物、アセトフェノン系光開始剤及びベンゾフェノ
ン系光開始剤を挙げることができる。

【００５８】

【化９】

【００５９】（式中、Ｒ⁸ はメチル基、メトキシ基又は
塩素原子を示し、ｎは２又は３の数を示し、Ｒはフェニ
ル基又はメトキシ基を示す） そして、式（VI）の化合物の具体例としては、例えば
２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
シド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイル
フェニルホスフィン酸メチルエステル、２，６−ジクロ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，６−
ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等
のアシルホスフィンオキシド及びアシルホスフィン酸エ
ステル類、を挙げることができる。

【００６０】また、アセトフェノン系化合物の具体例と
しては、例えば１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、４−ジフェノキシジクロロアセトフ
ェノン、ジエトキシジアセトフェノン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン、等を挙げることができる。

【００６１】また、ベンゾフェノン系化合物の具体例と
しては、例えばベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メ
チル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾ
フェノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフ
ェノン、ジフェノキシベンゾフェノン、等を挙げること
ができる。これらの中、２，４，６−トリメチルベンゾ
イルジフェニルホスフィンオキシド、トリメチルベンゾ
イルフェニルホスフィン酸メチルエステル、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン及
び、ジフェノキシベンゾフェノンが好ましく、２，４，
６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド、ベンゾフェノンが特に好ましい。

【００６２】これらの光重合開始剤は二種以上を併用し
てもよい。なお、光重合開始剤の添加量は、モノマー１
００重量部に対し０．０１〜１重量部、好ましくは０．
０２〜０．３重量部である。光重合開始剤の添加量が多
すぎると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもたらす
だけでなく色相も悪化する。また、少なすぎると組成物
を十分に硬化させることができなくなる。

【００６３】＜補助成分＞本発明に用いる低複屈折材料
は成分Ａ、Ｂ及びＣを含んでなる組成物を重合硬化させ
てなるものであり、この組成物が少量の補助成分を含ん
でもよいことは前記したところである。従って本発明に
用いるプラスチックシート用樹脂は、その硬化前の組成
物１００重量部に対し３０重量部程度までの量でラジカ
ル重合可能な他の単量体を混合して共重合させて製造す
ることも可能である。その際に用いる他の単量体として
は、例えばメチル（メタ）アクリレート、フェニル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、メタクリロイルオキシメチルテトラシクロデ
カン、メタクリロイルオキシメチルテトラシクロドデセ
ン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘ
キセンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノー
ルＡジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレー
ト、ビスフェノールＡアクリレートメタクリレート及び
これらの混合物、ビスフェノールＡビス［（オキシエチ
ル）エーテル］＝ジアクリレート、ビスフェノールＡビ
ス［（オキシエチル）エーテル］＝ジメタクリレート、
ビスフェノールＡビス［（オキシエチル）エーテル］＝
アクリレートメタクリレート及びこれらの混合物、テト
ラブロモビスフェノールＡビス［（オキシエチル）エー
テル］＝ジアクリレート、テトラブロモビスフェノール
Ａビス［（オキシエチル）エーテル］＝ジメタクリレー
ト、テトラブロモビスフェノールＡビス［（オキシエチ
ル）エーテル］＝アクリレートメタクリレート及びこれ
らの混合物、ビスフェノールＡビス［（ジオキシエチ
ル）エーテル］＝ジアクリレート、ビスフェノールＡビ
ス［（ジオキシエチル）エーテル］＝ジメタクリレー
ト、ビスフェノールＡビス［（ジオキシエチル）エーテ
ル］＝アクリレートメタクリレート及びこれらの混合
物、ビスフェノールＡビス［（ポリオキシエチル）エー
テル］＝ジアクリレート、ビスフェノールＡビス［（ポ
リオキシエチル）エーテル］＝ジメタクリレート、ビス
フェノールＡビス［（ポリオキシエチル）エーテル］＝
アクリレートメタクリレート、２，２′−ビス［４−
（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシ
ル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキシメ
チル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合
物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α
−メチルスチレン等の核及び／又は側鎖置換及び非置換
スチレン等が挙げられる。

【００６４】これらの他の単量体の中でもメタクリロイ
ルオキシメチルシクロドデカン、２，２−ビス［４−
（β−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］プロ
パン、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシ
エトキシ）シクロヘキシル］プロパン、１，４−ビス
（メタクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、及び
これらの混合物が特に好ましい。

【００６５】補助成分としては、その他にも、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、染顔料、充填剤等がある。なお、所
望により添加してもよい紫外線吸収剤については、特に
限定されるものではないが、ベンゾフェノン系のもの
と、トリアゾール系のものが好ましく、これらは単独で
使用してもよく、また二種以上を併用してもよい。

【００６６】その具体例としては、２，４−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフ
ェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾ
フェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメ
トキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、２
−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ
ターシャリーブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（２′−ヒドロキシ−３′−ターシャリーブチル−
５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾ
トリアゾール系化合物を挙げることができる。

【００６７】これらの紫外線吸収剤の割合は、ジエチレ
ン性不飽和単量体１００重量部に対して、０．０１〜
０．２重量部、好ましくは０．０３〜０．１重量部であ
る。紫外線吸収剤の配合割合が、多すぎると、硬化物が
充分に硬化しないが、もしくは、得られた硬化物の内部
均質性が悪くなる。また、少なすぎると、所望の紫外線
カット性が得られなくなる。

【００６８】（プラスチックシートの製造） ＜光硬化性組成物の共重合＞本発明に用いる光硬化性組
成物については、ラジカル重合開始剤の存在下に活性エ
ネルギー線を照射することにより容易に共重合（光重
合、光重合硬化又は光硬化ということがある）させるこ
とができる。

【００６９】活性エネルギー線については、ラジカル重
合開始剤に作用してラジカルを発生させるものであれば
特に限定されるものではなく、例えば電子線、紫外線等
を用いることができる。これらの中、モノマー及び重合
開始剤の種類、量を参酌して、２００〜４００ｎｍの紫
外線を好ましくは０．１〜２００ｊの範囲で照射するの
が好ましい。

【００７０】照射が極端に少ない場合は重合が不完全な
ため硬化物の耐熱性、機械特性が十分に発現されず、逆
に極端に過剰な場合は硬化物の黄変等の光による劣化を
生じるので好ましくない。そして、活性エネルギー線の
照射については、一段で行ってもよいが、表面性状の良
好なシートを得るためには、複数段で、少なくとも二段
で行うことが好ましい。

【００７１】照射を二段で行う場合、その第一段階では
活性エネルギー線の硬化所要量の１５％以下、好ましく
は１０％以下、特に好ましくは７％以下を照射して、キ
ャビティ内の光硬化性樹脂を自己保形性を有するよう
に、即ち、スペーサーを取外しても樹脂が漏洩しないよ
うにゲル化させる。なお、本明細書において活性エネル
ギー源の硬化所要量とは、キャビティ内の樹脂組成物の
エチレン性炭素−炭素二重結合の８０％を消失させるの
に要する照射量を指すものとする。なお、活性エネルギ
ー線の照射によるエチレン性炭素−炭素二重結合の消失
の割合は、下記式により算出される。

【００７２】消失量＝（１−Ｋ／Ｍ）×１００（％） Ｍ＝Ａ_M ／Ｂ_M Ａ_M ：活性エネルギー線照射前の赤外吸収における二重
結合のピーク面積 Ｂ_M ：活性エネルギー線照射前の赤外吸収におけるＣ−
Ｈ結合のピーク面積 Ｋ＝Ａ_K ／Ｂ_K Ａ_K ：活性エネルギー線照射後の赤外吸収における二重
結合のピーク面積 Ｂ_K ：活性エネルギー線照射後の赤外吸収におけるＣ−
Ｈ結合のピーク面積 なお、二重結合のピークは１６５８．５〜１５９１ｃｍ
^-1に出現し、Ｃ−Ｈ結合のピークは３２１０〜２８０
９．８ｃｍ^-1に出現する。

【００７３】この第一段階における活性エネルギー線照
射量が硬化所要量の１５％を超えると、硬化収縮が起
り、キャビティ内の樹脂が面板から剥離して、生成する
樹脂シート表面に欠陥を生じ易い。また、ゲル化した樹
脂がスペーサーに強固に付着して、スペーサーが取外し
難くなるという問題もある。好ましくは照射量が硬化所
要量の１０％以下の段階で面板間の間隔を一定に保持す
る手段を解放する。逆に活性エネルギー線照射量が少な
すぎると、ゲル化が不十分で、成形型の面板の緊締を解
放したときに、キャビティ内の樹脂が成形型の隙間から
漏れる事故が起こり易い。また、ゲル化した樹脂と面板
との付着力が弱く、成形型の面板の緊締を解放したとき
の衝撃で樹脂が面板から剥離するという事故が起ること
もある。

【００７４】そして、第二段階において、モノマーの９
５〜１００％が反応するように照射を行い、重合を完結
させる。活性エネルギー線を照射する雰囲気は、通常の
大気中、又は不活性ガス雰囲気中のいずれでもよい。ま
た、照射時の温度は、通常、第１段：常温〜１００℃、
第２段：常温〜３００℃であり、照射時間は、通常、第
１段：１秒〜１分、第２段：１０秒〜１０分である。

【００７５】活性エネルギー線用の光源としては、ケミ
カルランプ、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水
銀ランプ、メタルハライドランプ等が用いられる。硬化
を速やかに完了させる目的で、熱重合を併用してもよ
い。即ち、光照射と同時に組成物並びに型全体を３０〜
３００℃の範囲で加熱する。この場合は重合をよりよく
完結するためにラジカル重合開始剤を添加してもよい
が、過剰な使用は複屈折の増大と色相の悪化をもたら
す。熱重合開始剤の具体例としてはベンゾイルパーオキ
シド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ｔ−ブ
チルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）等が挙げ
られ、使用量はモノマー１００重量部に対して１重量部
以下が好ましい。

【００７６】更に本発明において光照射によるラジカル
重合を行った後、硬化物を加熱することにより重合反応
の完結及び重合時に発生する内部歪を低減することも可
能である。加熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度
に合わせて適宜選択されるが、過剰な加熱は硬化物の色
相悪化をもたらすため、ガラス転移温度付近かそれ以下
の温度が望ましい。

【００７７】上記により得られるプラスチックシート
は、低複屈折性を有する光学部材である。本発明のプラ
スチックシートは、複屈折の値が、１０ｎｍ以下、好ま
しくは５ｎｍ以下、更に好ましくは２ｎｍ以下、特に好
ましくは１ｎｍ以下のものである。 ＜ガスバリア膜＞本発明に用いられる硬化物の表面に
は、種々の方法により、ガスバリア膜を形成することが
でき、ガスバリア付き光学部材として利用することがで
きる。

【００７８】ガスバリア膜としては公知のものが使用で
きる。例えば、無機酸化物膜、或いは、ポリビニルアル
コール、エチレンービニルアルコール共重合体、塩化ビ
ニリデン等のガスバリア性樹脂層が挙げられるが、好ま
しくは無機酸化物膜である。無機酸化物とは、金属、非
金属、亜金属の酸化物であり、具体例としては、酸化ア
ルミニウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化インジウ
ム、酸化カルシウム、酸化カドミウム、酸化銀、酸化
金、酸化クロム、酸化珪素、酸化コバルト、酸化ジルコ
ニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニ
ッケル、酸化白金、酸化パラジウム、酸化ビスマス、酸
化マグネシウム、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化
バナジウム、酸化バリウム等が挙げられるが、酸化珪素
が特に好ましい。なお、無機酸化物には、微量の金属、
非金属、亜金属単体やそれらの水酸化物、また、可撓性
を向上させるために適宜炭素又はフッ素が含まれていて
もよい。

【００７９】ガスバリア膜を形成する方法としては、樹
脂等をコートする方法、無機酸化物よりなる蒸着膜を形
成する方法が挙げられる。蒸着膜を形成する方法として
は、真空蒸着法、真空スパッタ法、イオンプレーティン
グ法、ＣＶＤ法等、従来公知の方法が使用できる。以上
のガスバリア膜の厚さは特に制限はなく、ガスバリア膜
の構成成分の種類によっても異なるが、例えば、酸化珪
素の場合には、酸素ガスバリア性及び水蒸気ガスバリア
性、更には経済性を考慮すると、膜の厚さは５〜５０ｎ
ｍが好ましい。更に高度な酸素ガスバリア性や水蒸気バ
リア性を得るためには膜の厚さを厚くすればよいが、５
０ｎｍ以上では成膜する際生じる膜応力からクラックが
入りやすくなる。また、膜の厚さが５ｎｍ未満ではガス
バリア性が不十分である。

【００８０】＜硬化被膜＞本発明における硬化被膜はプ
ラスチックシート上に導電膜を積層する際に、導電膜と
基板との密着性を向上し、更にガスバリア膜を保護する
ための樹脂膜である。この膜はアクリレート系の光硬化
性モノマーとイソシアネート基含有化合物、好ましくは
イソシアネート基含有アクリレート化合物、更に好まし
くはイソシアネート基含有シランカップリング剤と分子
内に水酸基と３個以上のアクリロイル基を有する水酸基
含有多官能アクリレートとを反応して得られる化合物、
を含んでなる光硬化性組成物を重合硬化して得られる。
ここで、「含んでなる」とは、アクリレート系の光硬化
性モノマーとイソシアネート基含有化合物以外に活性エ
ネルギー線の照射による重合硬化を阻害しないポリマー
等を全組成物１００重量部中５０重量部以下の範囲で併
用してもよいことを意味する。

【００８１】アクリレート系の光硬化性のモノマーとし
ては、例えば、ジエチレングリコールジアクリレート、
ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレン
グリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、１，
３−ブチレングリコールジメタクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオール
ジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、
ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、ビス（オキシメ
チル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカンジアク
リレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．
１．０^2,6 ］デカンジメタクリレート、ビス（オキシメ
チル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7．０
^9,13］ペンタデカンジアクリレート、ビス（オキシメチ
ル）ペンタシクロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０
^9,13］ペンタデカンジメタクリレート、２，２−ビス
（４−（アクリルオキシジエトキシ）フェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−（メタクリルオキシジエトキ
シ）フェニル）プロパン、トリシクロ［５．２．１．０
^2,6 ］デカン−３，８−ジイルジメチルジアクリレー
ト、トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン−３，８
−ジイルジメチルジメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシト
リアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ
メタクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレ
ート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチ
ロールメタンテトラメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタ
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジト
リメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサメタクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアネートトリアクリレート、トリス（２−ヒ
ドロキシエチル）イソシアヌレートトリメタクリレート
等が挙げられる。

【００８２】イソシアネート基含有化合物の例として
は、アクリルイソシアネート、メチルイソシアネート、
イソプロピルイソシアネート、ｔ−ブチルイソシアネー
ト、シクロヘキシルイソシアネート、ｍ−イソプロペニ
ル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネート、オクタ
デシルイソシアネート、（メタ）アクリロイルイソシア
ネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシ
アネート、３−イソプロペニルイソシアネート、ジメチ
ル（ｍ−イソプロペニル）ベンジルイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、１，２−ジイソシアネート
エタン、１，３−ジイソシアネートプロパン、１，２−
ジイソシアネートプロパン、１，４−ジイソシアネート
ブタン、１，５−ジイソシアネートブタン、１，５−ジ
イソシアネートペンタン、１，６−ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、ビス（３−イソシアネートプロピル）エ
ーテル、ビス（３−イソシアネートプロピル）スルフィ
ド、ビス（６−イソシアネートヘキシル）スルフィド、
１，７−ジイソシアネートヘプタン、１，５−ジイソシ
アネート−２，２−ジメチルペンタン、２，６−ジイソ
シアネート−３−メトキシヘキサン、１，８−ジイソシ
アネートオクタン、１，５−ジイソシアネート−２，
２，４−トリメチルペンタン、１，９−ジイソシアネー
トノナン、１，１０−ジイソシアネートデカン、１，１
１−ジイソシアネートウンデカン、１，１２−ジイソシ
アネートドデカン、１，４−シクロヘキサンジイソシア
ネート、４，４′−ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネート、２，４−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネ
ート、３，３′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネ
ート、リジンイソシアネート、トリレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフチレン
ジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、１，３−ビス（α，α−ジメチルイソシア
ネートメチル）ベンゼン、１，３−ビス（イソシアネー
トメチル）シクロヘキサン、トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアネート等が挙げられる。

【００８３】イソシアネート基含有アクリレートとして
は、公知のジイソシアネートと公知のヒドロキシアクリ
レート、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシ
ブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルジアクリレ
ート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリ
レート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を
反応させて得られる化合物等が挙げられるが、好ましく
は、５−イソシアネート−１−（イソシアネートメチ
ル）−１，３，３−トリメチルシクロヘキサンと２−ヒ
ドロキシエチルアクリレートの付加体、２−（５−イソ
シアネート−１，３，３−トリメチル−シクロヘキシル
メチルカルバモイルオキシ）−エチルアクリレート、２
−（３−イソシアネートメチル−３，５，５−トリメチ
ル−シクロヘキシルカルバモイルオキシ）−エチルアク
リレート、２−（４′−イソシアネート−４−ジフェニ
ルメタンカルバモイルオキシ）−エチルアクリレート、
２−（５−イソシアネート−１−カルバモイルオキシ）
−エチルアクリレート、４−（５−イソシアネート−
１，３，３−トリメチル−シクロヘキシルメチルカルバ
モイルオキシ）−ブチルアクリレート、４−（３−イソ
シアネートメチル−３，５，５−トリメチル−シクロヘ
キシルカルバモイルオキシ）−ブチルアクリレート、４
−（４′−イソシアネート−４−ジフェニルメタンカル
バモイルオキシ）−ブチルアクリレート、４−（５−イ
ソシアネート−１−カルバモイルオキシ）−ブチルアク
リレート、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネ
ート等が挙げられる。イソシアネート基含有シランカッ
プリング剤は、一般式で表わされるものが使用される。

【００８４】

【化１０】

【００８５】（式中、Ｒ¹ 及びＲ² は同じ又は異なる一
価炭化水素基であり、好ましくはＲ¹及びＲ² はメチ
ル、エチル、プロピル等の低級アルキル基である。Ｒ³
は炭素数２〜８の二価炭化水素基である。ａは２〜３の
整数、ｂは０〜１の整数、ｃは４−ａ−ｂに等しい整数
である） イソシアネート基含有シランカップリング剤の具体例と
しては、３−イソシアナトプロピルトリメトキシシラ
ン、２−イソシアナトエチルトリメトキシシラン、３−
イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、２−イソシ
アナトエチルトリエトキシシラン、３−イソシアナトプ
ロピルメチルジメトキシシラン、２−イソシアナトエチ
ルメチルジメトキシシラン、３−イソシアナトプロピル
メチルジエトキシシラン、２−イソシアナトエチルメチ
ルジエトキシシラン等が挙げられる。次に、分子内に水
酸基と３個以上のアクリロイル基を有する水酸基含有多
官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及
びこれらの混合物等が挙げられる。

【００８６】イソシアネート基含有シランカップリング
剤と水酸基含有多官能アクリレートの反応は、各化合物
を−ＮＣＯ／−ＯＨ基≦１の割合で混合し、６０〜１１
０℃で１〜２０時間攪拌することにより得られる。これ
らの光硬化性組成物はアクリレート系の光硬化性モノマ
ー５０〜９９重量部に対して、イソシアネート基含有化
合物を１〜５０重量部、より好ましくは５〜３０重量
部、更に好ましくは１０〜２０重量部配合することによ
り、硬化被膜としての物性バランスが得られる。イソシ
アネート基含有化合物が無くても光硬化性樹脂シートと
硬化被膜の密着性は得られるが、イソシアネート基を添
加することにより、更にガスバリア膜及び透明導電膜と
の密着性が得られるようになる。即ち、これらの無機膜
上の水酸基とイソシアネート基が反応することにより強
固な結合が形成され、導電膜側のアンカー能及びガスバ
リア膜側の保護層としての両性能が発現する。イソシア
ネート基含有化合物の量が少なすぎるとガスバリア膜側
の密着性が低下し、多すぎると耐薬品性が低下する。

【００８７】また、その他併用できるポリマー等とし
て、幾つかを例示すると次の通りである。ポリメチルア
クリレート、ポリブチルアクリレート、ポリエチレング
リコール、ポリヒドロキシエチルアクリレート。また、
これら活性エネルギー線硬化性組成物には公知の添加
剤、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング
剤、熱重合禁止剤、シランカップリング剤等が配合され
ていてもよい。上記組成物は通常揮発性溶媒により希釈
して塗布されることが好ましい。溶媒及び希釈度は特に
限定されないが、使用に当って被塗布物の表面性状を損
なわないことが要求される。更には、組成物の安定性、
基材に対する濡れ性、揮発性等も考慮して溶媒は決めら
れるべきである。また、溶媒は一種のみならず、二種以
上の混合物として用いることも可能である。溶媒として
は、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、ハロゲ
ン化炭化水素、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水
素、及び、非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。

【００８８】これらの光硬化性組成物は、紫外線等の活
性エネルギー線によりラジカルを発生する光重合開始剤
を添加する公知のラジカル重合により硬化させる。その
際に用いる重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノ
ン、ベンゾイルメチルエーテル、ベンゾイルイソプロピ
ルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、２，６−ジメチルベ
ンゾイルフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
好ましい開始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイ
ル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキ
シド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホス
フィンオキシドである。これら光重合開始剤は二種以上
を併用してもよい。

【００８９】光重合開始剤の添加量は、光硬化性組成物
１００重量部に対し、１〜３０重量部、好ましくは１０
〜２０重量部である。光開始剤の添加量が多すぎると、
重合が急激に進行し、複屈折の増大をもたらすだけでな
く、色相も悪化する。また、少なすぎると組成物を十分
に硬化させることができなくなる。硬化被膜を形成する
には、ディップコート法が最適である。即ち、ガスバリ
ア付き光硬化性樹脂シートを硬化被膜を形成する光硬化
性組成物中に浸漬して引き上げた後、活性エネルギー線
を照射して硬化させればよい。この時、塗布してから硬
化させる前に予備加熱を行ってもよい。光硬化性組成物
が溶剤で希釈されている場合には、この予備加熱の工程
において溶剤を除去しなければならない。硬化被膜の膜
厚は、特に限定されるものではないが、接着強度の保持
や硬度等の点から、通常０．１〜５０μｍ、好ましくは
０．３〜１０μｍである。硬化被膜の膜厚はディップコ
ート時の引き上げ速度、溶剤の希釈度でコントロールす
ることができる。

【００９０】照射する活性エネルギー線の量は光重合開
始剤がラジカルを発生する範囲であれば任意であるが、
２００〜４００ｎｍの紫外線を０．１〜１００Ｊ／ｃｍ
² 、好ましくは１〜３０Ｊ／ｃｍ² の範囲で照射する。
使用するランプの具体例としては、メタルハライドラン
プ、高圧水銀灯ランプ等が挙げられる。 ＜導電膜＞本発明に用いられる硬化物の表面には種々の
手法により各種透明導電膜を好ましく形成することがで
き、透明電極付光学部材として利用することができる。
硬化物の表面に形成できる透明導電膜には特に制限はな
いが、例えば、この導電膜を形成する導電物質として、
酸化インジウム、酸化スズ、金、銀、銅、ニッケル等が
挙げられ、これらは単独又は二種以上を混合して使用す
ることができる。このうち、通常は酸化インジウム９９
〜９０％と酸化スズ１〜１０％との混合物よりなるイン
ジウムスズオキサイド（以下「ＩＴＯ」という）が透明
性と導電性のバランスの面から好ましい。透明導電膜を
形成する方法は、従来から公知の真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、化学蒸着法等を用
いて行うことができる。このうち、スパッタリング法が
密着性の点から好ましい。以上の透明導電膜の厚さは、
５００〜２０００Åの範囲が透明性、導電性のバランス
の面から好ましい。

【００９１】（積層体の構成）本発明のプラスチック積
層体は、光硬化性樹脂層（Ａ）の少なくとも片面にガス
バリア層（Ｂ）を設けてなるもの（積層体１）、積層体
１の少なくとも片面に更に硬化被膜（Ｃ）を設けてなる
もの（積層体２）及び積層体１又は２の少なくとも片面
に更に導電膜を設けてなるものである。

【００９２】そして、積層体１の具体例が図１及び図２
に示されており、積層体２の具体例が図３ないし図７に
示されている。なお、光硬化性樹脂層（Ａ）、例えばプ
ラスチックシート基板の厚みは、通常、０．０５〜３ｍ
ｍ、好ましくは０．１〜１．５ｍｍの範囲内である。 （積層体の性質）本発明のプラスチック積層体は、５５
０ｎｍの光の波長での光線透過率が８０％以上であるこ
とが好ましい。光線透過率が８０％未満であると画面が
暗くなるため液晶表示パネルとして使用でき難い。ま
た、プラスチック積層体の複屈折率としては、通常１０
ｎｍ以下であるが、好ましくは５ｎｍ以下、更に好まし
くは２ｎｍ以下、特には１ｎｍ以下であることが好まし
い。２０ｎｍよりも大きいと表示パネルとした場合、表
示画面の色ムラが生じる傾向がある。

【００９３】また、プラスチック積層体の厚みは、０．
０５〜３ｍｍが好ましい。０．０５ｍｍ未満では、シー
トが自重により撓み易く、従来の液晶装置の製造プロセ
スが使用できない傾向があり、一方、３ｍｍを越える
と、従来の０．７〜１．５ｍｍのガラス基板と同じ重量
となり、軽量化の目的から外れてしまう。本発明のプラ
スチック積層体の応用例としては、例えば、液晶表示装
置用基板として使用する場合、通常、二枚のプラスチッ
ク積層体によって液晶を挟んだ構成をとる。即ち、プラ
スチック積層体の導電膜上に、必要に応じて絶縁膜、更
に、その上に配向膜が設けられた基板により液晶層を挟
持した構造をとる。また、液晶層を挟持した基板の外側
には偏光板が設けられる。また、エレクトロルミネッセ
ンス表示素子においては、通常、本発明のプラスチック
積層体上に、発光体層、絶縁層及び背面電極を順次形成
し、更に全体をガスバリア層で被覆した構造の物が例示
される。この場合、発光体層には硫化亜鉛、硫化カドミ
ウム、セレン化亜鉛等が、絶縁層には酸化イットリウ
ム、酸化タリウム、窒化シリコン等が、背面電極にはア
ルミニウム等が用いられる。

【００９４】本発明により得られるプラスチックシート
は、透明性はもとより高耐熱性と高機械強度を併せ持
ち、液晶や有機ＥＬ等のディスプレイ基板、光ディスク
基板、太陽電池基板、各種レンズ、プリズム、光学フィ
ルター、光通信材料等の多くの光学用途に用いることが
できる。

【００９５】

【実施例】以下に本発明の内容及び効果を実施例により
更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。また実
施例及び比較例で得られたプラスチックシート及びプラ
スチック積層体は以下の方法で評価した。

【００９６】（１）光線透過率:５００ｎｍにおける光
線透過率を０．４ｍｍ厚の試験片で測定した。 （２）複屈折:０．４ｍｍ厚の試験片で複屈折測定装置
（オーク社製）を用いて２５℃で測定した。 （３）耐熱性:３ｍｍ×３０ｍｍ×０．４ｍｍの短冊状
試験片を用いて、ガラス転移温度Ｔｇを引っ張り法ＴＭ
Ａにて加重２ｇで測定した。

【００９７】（４）加熱による寸法変化：１００ｍｍ×
１００ｍｍ×０．４ｍｍ厚の試験片の四隅に、隣り合う
マーキング間の距離が約８０ｍｍになるように微細な十
字型のマーキングを施し、２３℃、５０％ＲＨの恒温恒
湿室に１週間放置した後、正確に（精度±１μｍ）各マ
ーキング間の距離を測長する。この試験片をオーブン中
で１５０℃、３時間加熱し、再び２３℃、５０％ＲＨの
恒温恒湿室に１週間放置した後に、加熱前と同様に各マ
ーキング間の距離を測長する。更に加熱、恒温恒湿、測
長の操作を二回繰り返し、下式に基づき一回目の寸法変
化量Ｃ₁ 、二回目の寸法変化量Ｃ₂ 、三回目の寸法変化
量Ｃ₃ を算出した。

【００９８】加熱前のマーキング間の距離：ａ（μｍ） 加熱後のマーキング間の距離：ｂ（μｍ） 寸法変化量Ｃ（％）＝（ａ−ｂ）×１００／ａ （５）温水浸漬による寸法変化：１００ｍｍ×１００ｍ
ｍ×０．４ｍｍ厚の試験片の四隅に、隣り合うマーキン
グ間の距離が約８０ｍｍになるように微細な十字型のマ
ーキングを施し、２３℃、５０％ＲＨの恒温恒湿室に１
週間放置した後、正確に（精度±１μｍ）各マーキング
間の距離を測長する。この試験片を４０℃の温水中に１
時間浸漬し、表面の水分を吸湿紙で除去して、再び２３
℃、５０％ＲＨの恒温恒湿室に１週間放置した後に、温
水浸漬前と同様に各マーキング間の距離を測長する。更
に温水浸漬、恒温恒湿、測長の操作を二回繰り返し、下
式に基づき一回目の寸法変化量Ｆ₁ 、二回目の寸法変化
量Ｆ₂ 、三回目の寸法変化量Ｆ₃ を算出した。

【００９９】 温水浸漬前のマーキング間の距離：ｄ（μｍ） 温水浸漬後のマーキング間の距離：ｅ（μｍ） 寸法変化量Ｆ（％）＝（ａ−ｂ）×１００／ａ （６）ガスバリア測定：０．４ｍｍ厚の試験片でオキシ
トラン社製酸素モコン測定器にて２３℃、湿度８０％の
条件下で酸素透過率を測定した。

【０１００】（７）硬化皮膜の硬度：ＪＩＳ Ｋ５４０
０に準拠して、硬化皮膜の鉛筆硬度を測定した。 （８）導電膜の表面抵抗値：三菱化学（株）製の四端子
法抵抗測定器（ロレスタ−ＭＰ）を用いて表面抵抗値を
測定した。 実施例１ （プラスチックシートの製造）ビス（ヒドロキシメチ
ル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジメタ
クリレート９４部、ビス（ヒドロキシメチル）トリシク
ロ［５．２．１．０^2,6］デカン＝モノメタクリレート
６部のアクリレート組成物に、ペンタエリスリトールテ
トラキス（β−チオプロピオネート）６部、光開始剤と
して２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）
０．１０部を均一に撹拌混合した後、脱泡して組成物を
得た。この組成物をスペーサーとして厚さ０．４ｍｍの
シリコン板を用いた光学研磨ガラスの型に注液し、ガラ
ス面より距離２０ｃｍで上下にある出力１６０Ｗ／ｃｍ
のメタルハライドランプの間にて、１０分間紫外線を照
射した。紫外線照射後脱型し、１９０℃で１時間加熱し
て硬化物を得た。硬化物の光線透過率は９２％、複屈折
は１ｎｍ、耐熱性は１９０℃、加熱及び温水浸漬による
寸法変化は表１に示す通りであった。

【０１０１】（ガスバリア膜の成膜）得られた０．４ｍ
ｍ厚の硬化物の片面に、スパッタ装置（徳田製作所；形
式ＣＦＳ−４ＥＳ）にてＳｉＯ₂ を２００Å成膜した。
得られたプラスチック積層体の酸素透過率は０．５ｃｃ
／ｍ² ・２４ｈ・ａｔｍであった。また加熱及び温水浸
漬による寸法変化は表１に示す通りであった （硬化皮膜の成膜）得られたガスバリア膜付きプラスチ
ックシートのＳｉＯｘ面上に、ビス（ヒドロキシメチ
ル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカン＝ジアク
リレート２０部と２，４，６−トリメチルベンゾイルジ
フェニルホスフィンオキシド２部と溶剤としてプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート７８部より
なる組成物をスピンコートした後、１００℃で１０分加
熱して溶剤を乾燥し、出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライ
ドランプにて５分間紫外線を照射した。得られた硬化皮
膜の鉛筆硬度は４Ｈであった。また加熱及び温水浸漬に
よる寸法変化は表１に示す通りであった。

【０１０２】（導電膜の成膜）得られた０．４ｍｍ厚の
プラスチック積層体のＳｉＯｘ面上に、スパッタ装置
（徳田製作所；形式ＣＦＳ−４ＥＳ）にてＩＴＯを１５
００Å成膜した。得られた導電性シートの表面抵抗値は
３０Ω／□であった。 実施例２ ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．
０^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート９２部、ビス（ヒド
ロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカ
ン＝モノメタクリレート８部のアクリレート組成物を用
いる以外は、実施例１と同様に行い硬化物を得た。硬化
物の光線透過率は９２％、複屈折は１ｎｍ、耐熱性は１
９０℃、加熱及び温水浸漬による寸法変化は表１に示す
通りであった。

【０１０３】実施例３ ビス（オキシメチル）トリシクロ［５．２．１．
０^2,6 ］デカン＝ジメタクリレート９６部、ビス（ヒド
ロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０^2,6 ］デカ
ン＝モノメタクリレート４部のアクリレート組成物を用
いる以外は、実施例１と同様に行い硬化物を得た。硬化
物の光線透過率は９２％、複屈折は１ｎｍ、耐熱性は１
９０℃、加熱及び温水浸漬による寸法変化は表１に示す
通りであった。

【０１０４】実施例４ 実施例１で得られた０．４ｍｍ厚の硬化物の両面に、ス
パッタ装置（徳田製作所；形式ＣＦＳ−４ＥＳ）にてＳ
ｉＯ₂ を２００Å成膜した。得られたプラスチック積層
体の酸素透過率は０．１ｃｃ／ｍ² ・２４ｈ・ａｔｍで
あった。また加熱及び温水浸漬による寸法変化は表１に
示す通りであった 比較例１ 市販の０．４ｍｍ厚のポリカーボネート製プラスチック
シートの加熱及び温水浸漬による寸法変化は表１に示す
通りであった。このシートの光線透過率は９０％、複屈
折は１０ｎｍ、耐熱性は１４０℃であった。

【０１０５】

【表１】

【０１０６】

【発明の効果】本発明によれば、特に液晶表示パネル用
に好適な、寸法安定性を有するプラスチックシートが得
られる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 220/20 Ｃ０８Ｆ 220/20 ５Ｃ０９４ Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＥＹ Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＥＹＰ ＣＥＹＤ ＣＥＹＫ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３１０ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３１０ //(Ｃ０８Ｆ 220/20 (Ｃ０８Ｆ 220/20 220:26） 220:26） (72)発明者 鈴木 幹夫 茨城県稲敷郡阿見町中央八丁目３番１号 三菱化学株式会社筑波研究所内 (72)発明者 坂井 昭彦 茨城県牛久市東猯穴町1000番地 三菱化学 株式会社筑波事業所内 Ｆターム(参考） 4F006 AA22 AB17 AB20 AB37 AB74 BA02 BA05 BA07 4F071 AA33X AA86 AF31 AF61 AH19 BB12 BC01 BC12 4F100 AK01A AK25A AK57A AL01A AL05A BA01 BA02 CA30A EJ08A EJ08B EJ52A EJ99 GB41 JA05A JB12B JD02B JG01B JL04A JN18A YY00A 4J011 NA25 QA03 QA12 QA13 QA34 QB16 SA06 SA21 SA26 SA84 4J100 AL08Q AL66P BA03Q BC12P BC12Q CA04 FA04 JA43 5C094 AA05 AA42 AA43 AA48 BA43 CA19 EB02 FA01 FB01 FB15 JA01 JA11 JA20

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラスチックシートを空気中で１５０
   ℃、３時間加熱した後、５０％ＲＨの空気中で２３℃、
   １週間放置する試験を三回繰り返す加熱サイクル試験に
   おいて、各回の試験前後の寸法変化量が±０．０２％以
   内であることを特徴とするプラスチックシート。
2. 【請求項２】 プラスチックシートを４０℃の温水中に
   １時間浸漬した後、５０％ＲＨの空気中で２３℃、１週
   間放置する試験を三回繰り返す温水サイクル試験におい
   て、各回の試験前後の寸法変化量が±０．０２％以内で
   あることを特徴とするプラスチックシート。
3. 【請求項３】 プラスチックシートを４０℃の温水中に
   １時間浸漬した後、５０％ＲＨの空気中で２３℃、１週
   間放置する試験を三回繰り返す温水サイクル試験におい
   て、各回の試験前後の寸法変化量が±０．０２％以内で
   ある請求項１に記載のプラスチックシート。
4. 【請求項４】 そのガラス転移温度が１５０℃以上であ
   る請求項１ないし３のいずれかに記載のプラスチックシ
   ート。
5. 【請求項５】 その複屈折が５ｎｍ以下である請求項１
   ないし４のいずれかに記載のプラスチックシート。
6. 【請求項６】 その厚みが０．０５〜３ｎｍの範囲にあ
   る請求項１ないし５のいずれかに記載のプラスチックシ
   ート。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかに記載のプ
   ラスチックシートの少なくとも片面にガスバリア層を設
   けてなるプラスチック積層体。
8. 【請求項８】 請求項１ないし６のいずれかに記載のプ
   ラスチックシート又は請求項７に記載の積層体の少なく
   とも片面に更に硬化被膜を設けてなるプラスチック積層
   体。
9. 【請求項９】 請求項１ないし６のいずれかに記載のプ
   ラスチックシート又は請求項７又は８に記載の積層体の
   少なくとも片面に導電膜を設けてなるプラスチック積層
   体。
10. 【請求項１０】 分子内に二個以上の重合性官能基を有
    する重合性単量体を含む重合性組成物を重合硬化させて
    得られる請求項１ないし６のいずれかに記載のプラスチ
    ックシート。
11. 【請求項１１】 重合性組成物が下記成分Ａ、Ｂ及びＣ
    を含有してなるもの（但し、各成分の割合は成分Ａと成
    分Ｂとの合計を１００重量部として表す）である請求項
    １０に記載のプラスチックシート。 成分Ａ：一般式（Ｉ）で表される含脂環骨格ビス（メ
    タ）アクリレート：７０〜９９重量部 【化１】 （式中、Ｒ¹ 及びＲ² は、それぞれ独立して、水素原子
    又はメチル基を示し、ｍは１又は２を示し、ｎは０又は
    １を示し、ｐ及びｑは、それぞれ独立して、０、１又は
    ２を示す） 成分Ｂ：一般式（II）で表される含脂環骨格モノ（メ
    タ）アクリレート：１〜３０重量部 【化２】 （式中、Ｒ³ は水素原子又はメチル基を示し、ｍは１又
    は２を示し、ｎは０又は１を示し、ｒ及びｓは、それぞ
    れ独立して、０、１又は２を示す） 成分Ｃ：少なくとも二官能性のメルカプト化合物：１〜
    １０重量部
12. 【請求項1２】 請求項１１に記載の重合性組成物を賦
    形し、これをラジカル重合開始剤の存在下に活性エネル
    ギー線を照射して光重合硬化させて得られるプラスチッ
    クシート。
13. 【請求項１３】 液晶表示パネル用の請求項１〜１２の
    いずれかに記載のプラスチックシート。