JP2002025902A - リソグラフィ投影装置に用いられる位置決め装置 - Google Patents
リソグラフィ投影装置に用いられる位置決め装置Info
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 リソグラフィ装置の投影装置内に配置するマ
スクテーブルあるいは基板テーブルの位置決めをする位
置きめ機構であって、それぞれ第１および第２スライダ
を担持する第１と第２サイドビームの間に横渡しにさ
れ、かつ第３スライダを担持するクロスビームとで構成
されるＨ形の位置決め機構において、正確な位置決めが
できるようにする。 【解決手段】 Ｘ桁梁11がＹスライダ121a，121bに対し
てＸとＹの併進運動とＺ−軸の周りの回転(ヨウ)に剛的
に装着され、ＸＹ平面において剛的な本体が構成され
る。Ｘ−軸とＹ−軸の周りの回転は、Ｘ桁梁11とＹスラ
イダ121a，121bの少なくとも一つとの間に設けた継手に
おいて許容されている。ヨウレートセンサと弾性バッフ
ァとにより衝撃保護を提供し、ヨウ運動が所定範囲外に
なったときにＹ桁梁12a,12bにバッファが接触する用に
構成する。
スクテーブルあるいは基板テーブルの位置決めをする位
置きめ機構であって、それぞれ第１および第２スライダ
を担持する第１と第２サイドビームの間に横渡しにさ
れ、かつ第３スライダを担持するクロスビームとで構成
されるＨ形の位置決め機構において、正確な位置決めが
できるようにする。 【解決手段】 Ｘ桁梁11がＹスライダ121a，121bに対し
てＸとＹの併進運動とＺ−軸の周りの回転(ヨウ)に剛的
に装着され、ＸＹ平面において剛的な本体が構成され
る。Ｘ−軸とＹ−軸の周りの回転は、Ｘ桁梁11とＹスラ
イダ121a，121bの少なくとも一つとの間に設けた継手に
おいて許容されている。ヨウレートセンサと弾性バッフ
ァとにより衝撃保護を提供し、ヨウ運動が所定範囲外に
なったときにＹ桁梁12a,12bにバッファが接触する用に
構成する。
Description
【０００１】本発明は、３自由度で可動対物テーブルを
位置決めするのに使用しうる位置決め装置に関する。特
に本発明は、照射ビームを発する照射システムと、マス
クを保持する第１対物テーブルと、基板を保持する第２
可動対物テーブルと、マスクの照射部分を基板の目標部
分に造影するシステムと、を有するリソグラフィ投影装
置に用いられ位置決めシステムに関する。
位置決めするのに使用しうる位置決め装置に関する。特
に本発明は、照射ビームを発する照射システムと、マス
クを保持する第１対物テーブルと、基板を保持する第２
可動対物テーブルと、マスクの照射部分を基板の目標部
分に造影するシステムと、を有するリソグラフィ投影装
置に用いられ位置決めシステムに関する。
【０００２】
【従来技術】簡単のために、投影システムは、以下の説
明で“レンズ”と称することにするが、このレンズなる
用語は、広義に解釈し、屈折光学素子、反射光学素子、
反射屈折光学系、電荷粒子光学素子などを含む種々の投
影システムを考慮し得るものである。照射システムも
又、照射ビームを指向し、整形しおよび制御する種々の
原理のいずれかに従い動作する素子を含んで良く、さら
に、第１と第２の対物テーブルは、“マスクテーブル”
および“基板テーブル”とそれぞれ称しても良い。
明で“レンズ”と称することにするが、このレンズなる
用語は、広義に解釈し、屈折光学素子、反射光学素子、
反射屈折光学系、電荷粒子光学素子などを含む種々の投
影システムを考慮し得るものである。照射システムも
又、照射ビームを指向し、整形しおよび制御する種々の
原理のいずれかに従い動作する素子を含んで良く、さら
に、第１と第２の対物テーブルは、“マスクテーブル”
および“基板テーブル”とそれぞれ称しても良い。
【０００３】リソグラフィ投影装置は、例えば、集積回
路（ＩＣ）の製造に使用し得る。このような場合、マス
ク（レチクル）は、ＩＣの各層に対応する回路パターン
含むことができ、かつこのパターンは、放射線感知性材
料層（レジスト）で被覆された基板（シリコンウェフ
ァ）上の目標部分（一つ以上のダイを含む）に投影可能
である。一般に、一つの基板には、一回に一度で数回に
わたり順次マスクを介して照射された各目標部分の全ネ
ットワークを含む。リソグラフィ投影装置のある形式の
ものは、一気に各目標部分に全マスクパターンを露光さ
せることにより目標部分が照射される。このような装置
は、一般にウェファステッパと称されている。一般にス
テップ‐アンド‐スキャン装置と称する別の装置では、
所与の方向（スキャン方向）に投影ビーム下でマスクパ
ターンを逐次スキャンしつつ同方向に平行にあるいは逆
平行に基板を同時にスキャンすることにより各目標部分
が照射される。一般に、投影システムは、倍率Ｍ（通常
Ｍ＜１）があるので、基板テーブルがスキャンされる速
度Ｖは、マスクテーブルがスキャンされる速度のＭ倍と
なる。ここで説明されているリソグラフィ装置の詳細な
情報は、ＰＣＴ特許出願ＷＯ97/33205から得られる。
路（ＩＣ）の製造に使用し得る。このような場合、マス
ク（レチクル）は、ＩＣの各層に対応する回路パターン
含むことができ、かつこのパターンは、放射線感知性材
料層（レジスト）で被覆された基板（シリコンウェフ
ァ）上の目標部分（一つ以上のダイを含む）に投影可能
である。一般に、一つの基板には、一回に一度で数回に
わたり順次マスクを介して照射された各目標部分の全ネ
ットワークを含む。リソグラフィ投影装置のある形式の
ものは、一気に各目標部分に全マスクパターンを露光さ
せることにより目標部分が照射される。このような装置
は、一般にウェファステッパと称されている。一般にス
テップ‐アンド‐スキャン装置と称する別の装置では、
所与の方向（スキャン方向）に投影ビーム下でマスクパ
ターンを逐次スキャンしつつ同方向に平行にあるいは逆
平行に基板を同時にスキャンすることにより各目標部分
が照射される。一般に、投影システムは、倍率Ｍ（通常
Ｍ＜１）があるので、基板テーブルがスキャンされる速
度Ｖは、マスクテーブルがスキャンされる速度のＭ倍と
なる。ここで説明されているリソグラフィ装置の詳細な
情報は、ＰＣＴ特許出願ＷＯ97/33205から得られる。
【０００４】一般に、この形式の装置は、一つの第１対
物(マスク)テーブルと一つの第２対物（基板）テーブル
とを含んでいる。しかしながら独立に可動の少なくとも
二つの基板テーブルを設けた機械もある。例えば、ＰＣ
Ｔ出願ＷＯ98/28665およびＷＯ98/40791に記載の多段装
置などである。このような多段装置の作動原理は、投影
システムの下に第１基板テーブルがあって該テーブル上
に配置した基板が露光可能の状態で、第２基板テーブル
が装填位置に行き、露光済み基板を降ろして新基板をピ
ックアップして、これに初期の度量的処理段階を施し、
ついで待機して前の基板の露光が完了すると同時に投影
システム下の露光位置へ新基板を送り込みできるように
構成し、これを繰り返すことにより生産率を高めて、製
造設備のコストの低減を図っている。
物(マスク)テーブルと一つの第２対物（基板）テーブル
とを含んでいる。しかしながら独立に可動の少なくとも
二つの基板テーブルを設けた機械もある。例えば、ＰＣ
Ｔ出願ＷＯ98/28665およびＷＯ98/40791に記載の多段装
置などである。このような多段装置の作動原理は、投影
システムの下に第１基板テーブルがあって該テーブル上
に配置した基板が露光可能の状態で、第２基板テーブル
が装填位置に行き、露光済み基板を降ろして新基板をピ
ックアップして、これに初期の度量的処理段階を施し、
ついで待機して前の基板の露光が完了すると同時に投影
システム下の露光位置へ新基板を送り込みできるように
構成し、これを繰り返すことにより生産率を高めて、製
造設備のコストの低減を図っている。
【０００５】以上の既知のリソグラフィ装置は、基板テ
ーブルの位置決め機構の駆動ユニットが２個の線形Ｙ−
モータを有し、各Ｙ−リニアモータは、Ｙ−方向に平行
に延在して位置決め機構のベースに固定されたステータ
と、ステータに沿って移動可能のアマチュア（Ｙ−スラ
イダ）と含む。上記ベースは、リソグラフィ装置のフレ
ームに固定されている。駆動ユニットは、さらにＸ−リ
ニアモータを有し、該Ｘ−リニアモータは、Ｘ−方向に
平行に延在するステータと、このステータに沿って移動
するアマチュア（Ｘ−スライダ）を有する。ステータ
は、各Ｙ−リニアモータのアマチュアにそれぞれ各端付
近で固定されたＸ−桁梁上に装着されている。よって配
置構成は、Ｈ−形であり、二つのＹモータが直立の柱と
なり、Ｘ−モータが横バーとなる。この構成をＨ駆動機
構すなわちガントリと称される。米国特許Ｎｏ．4，65
5，594は、油圧リニアモータ使用した構成を開示してい
るが、電力リニアモータも使用し得るとしている。
ーブルの位置決め機構の駆動ユニットが２個の線形Ｙ−
モータを有し、各Ｙ−リニアモータは、Ｙ−方向に平行
に延在して位置決め機構のベースに固定されたステータ
と、ステータに沿って移動可能のアマチュア（Ｙ−スラ
イダ）と含む。上記ベースは、リソグラフィ装置のフレ
ームに固定されている。駆動ユニットは、さらにＸ−リ
ニアモータを有し、該Ｘ−リニアモータは、Ｘ−方向に
平行に延在するステータと、このステータに沿って移動
するアマチュア（Ｘ−スライダ）を有する。ステータ
は、各Ｙ−リニアモータのアマチュアにそれぞれ各端付
近で固定されたＸ−桁梁上に装着されている。よって配
置構成は、Ｈ−形であり、二つのＹモータが直立の柱と
なり、Ｘ−モータが横バーとなる。この構成をＨ駆動機
構すなわちガントリと称される。米国特許Ｎｏ．4，65
5，594は、油圧リニアモータ使用した構成を開示してい
るが、電力リニアモータも使用し得るとしている。
【０００６】この場合の駆動対象は基板テーブルである
が、これには、いわゆるエアフートが設けられている。
エアフートは、ガスベアリングを有し、このガスベアリ
ングにより基板テーブルが指示されてＺ−方向に直角の
方向に延在するベースの案内面上を移動可能である。こ
のようなＨ−駆動機構が駆動対象のヨウ（Ｚ−軸周りの
回転）を積極的に制御できるようにするため、２個のＹ
−リニアモータを独立の駆動し、Ｘ−ビームは通常Ｙ−
モータのアマチュアにピボット（米国特許Ｎｏ.4，65
5，594では固定継手も使用し得るとしているが）で装着
される。しかしながら、この構成では、非常に高い負荷
がＸ−桁梁とＹ−スライダとの間のピボットに掛かる。
ピボットは、Ｘ−モータからサイドベアリングを介して
周りの構造体へのスラスト反作用ばかりでなく、Ｙ−モ
ータの動作力を伝達する。
が、これには、いわゆるエアフートが設けられている。
エアフートは、ガスベアリングを有し、このガスベアリ
ングにより基板テーブルが指示されてＺ−方向に直角の
方向に延在するベースの案内面上を移動可能である。こ
のようなＨ−駆動機構が駆動対象のヨウ（Ｚ−軸周りの
回転）を積極的に制御できるようにするため、２個のＹ
−リニアモータを独立の駆動し、Ｘ−ビームは通常Ｙ−
モータのアマチュアにピボット（米国特許Ｎｏ.4，65
5，594では固定継手も使用し得るとしているが）で装着
される。しかしながら、この構成では、非常に高い負荷
がＸ−桁梁とＹ−スライダとの間のピボットに掛かる。
ピボットは、Ｘ−モータからサイドベアリングを介して
周りの構造体へのスラスト反作用ばかりでなく、Ｙ−モ
ータの動作力を伝達する。
【０００７】この事実は、このピボットに通常使用され
ている弾性ヒンジにかなりの要求がかせられ、これはヨ
ウ運動範囲が大きい場合に著しくなる。さらにＸ−桁梁
上のピボットがＹ−モータの力線と必ずしも整合せずＹ
−スライダのサイドスラストベアリングがＸ−反作用力
およびＹ−アクチュエータ力により発生するモーメント
はもちろんピボットとＹ−力線のオフセットも吸収しな
くてはならなくなる。結果としての高負荷が既知の構成
では手間の掛かる高重量の設計を余儀なくされている。
ている弾性ヒンジにかなりの要求がかせられ、これはヨ
ウ運動範囲が大きい場合に著しくなる。さらにＸ−桁梁
上のピボットがＹ−モータの力線と必ずしも整合せずＹ
−スライダのサイドスラストベアリングがＸ−反作用力
およびＹ−アクチュエータ力により発生するモーメント
はもちろんピボットとＹ−力線のオフセットも吸収しな
くてはならなくなる。結果としての高負荷が既知の構成
では手間の掛かる高重量の設計を余儀なくされている。
【０００８】
【発明が解決しようとしている課題】本発明の目的は、
従来の位置決め装置の問題を解消あるいは緩和する改良
した位置決め装置を提供するもののである。
従来の位置決め装置の問題を解消あるいは緩和する改良
した位置決め装置を提供するもののである。
【０００９】
【課題を解決する手段】本発明によれば、放射線感光層
を設けた基板上にマスクのマスクパターンを結像するリ
ソグラフィ装置にして、このリソグラフィ装置が、放射
線投影ビームを供給する照射システムと、マスクを保持
する第１対物テーブルと、基板を保持する第２対物テー
ブルと、マスクの照射部分を前記基板の目標部分上に結
像する投影システムと、対物テーブルの少なくとも一つ
を一平面に位置付ける位置決めシステムと、を有し、位
置決めシステムが、第１と第２のスライダをそれそれ担
持するほぼ平行な第１と第２のサイドビームと、各サイ
ドビームの長手方向に第１と第２のスライダを移動させ
る第１と第２のモータ手段と、それぞれ第１と第２端の
近くで第１と第２のスライダに装着され、さらに第３の
スライダを担持し、第１と第２のスライダとともに一平
面内での並進方向と一平面に垂直な軸の周りの回転方向
とにおいて剛体である本体を構成するクロスビームと、
第３のスライダに一つの対物テーブルを保持する対物ホ
ルダを持たせてクロスビームの長手方向に第３のスライ
ダを移動させる第３モータ手段とを有するようになった
リソグラフィ装置において、第１のスライダに枢動可能
に装着され、第１平面内で前記第１サイドビームに垂直
にクロスビームと第１サイドビームとの間で力を伝達す
るスラスト軸受を設けたことを特徴とするリソグラフィ
投影装置が提供される。
を設けた基板上にマスクのマスクパターンを結像するリ
ソグラフィ装置にして、このリソグラフィ装置が、放射
線投影ビームを供給する照射システムと、マスクを保持
する第１対物テーブルと、基板を保持する第２対物テー
ブルと、マスクの照射部分を前記基板の目標部分上に結
像する投影システムと、対物テーブルの少なくとも一つ
を一平面に位置付ける位置決めシステムと、を有し、位
置決めシステムが、第１と第２のスライダをそれそれ担
持するほぼ平行な第１と第２のサイドビームと、各サイ
ドビームの長手方向に第１と第２のスライダを移動させ
る第１と第２のモータ手段と、それぞれ第１と第２端の
近くで第１と第２のスライダに装着され、さらに第３の
スライダを担持し、第１と第２のスライダとともに一平
面内での並進方向と一平面に垂直な軸の周りの回転方向
とにおいて剛体である本体を構成するクロスビームと、
第３のスライダに一つの対物テーブルを保持する対物ホ
ルダを持たせてクロスビームの長手方向に第３のスライ
ダを移動させる第３モータ手段とを有するようになった
リソグラフィ装置において、第１のスライダに枢動可能
に装着され、第１平面内で前記第１サイドビームに垂直
にクロスビームと第１サイドビームとの間で力を伝達す
るスラスト軸受を設けたことを特徴とするリソグラフィ
投影装置が提供される。
【００１０】クロスビーム（Ｘ−桁梁）と第１と第２の
Ｙ−スライダ可動対物テーブルの運動面（Ｘ−Ｙ平面）
に垂直な軸（Ｚ−軸）の周りの回転に対して剛的に、か
つ当該平面内で並進運動に剛的に取り付けるＸ−桁梁と
Ｙ−スライダがＸ−Ｙ平面において剛的な本体を構成す
る。これは、Ｙ−動作力とＸ−反作用力をＸ−ビームと
間で伝達可能のピボットをもうける必要がなくなる。Ｙ
−方向に何らの力を作用させずに、スライダとサイドビ
ームとの間に装着されたスラストベアリングがＸ−方向
（垂直方向）でサイドビームに力を伝達し、ベアリング
とピボットの構造を単純化する。Ｘ−力とＹ−力との間
に何らクロストークが生ずることなく、Ｘ−方向の力の
伝達でＹ−軸方向に力が発生することはない。
Ｙ−スライダ可動対物テーブルの運動面（Ｘ−Ｙ平面）
に垂直な軸（Ｚ−軸）の周りの回転に対して剛的に、か
つ当該平面内で並進運動に剛的に取り付けるＸ−桁梁と
Ｙ−スライダがＸ−Ｙ平面において剛的な本体を構成す
る。これは、Ｙ−動作力とＸ−反作用力をＸ−ビームと
間で伝達可能のピボットをもうける必要がなくなる。Ｙ
−方向に何らの力を作用させずに、スライダとサイドビ
ームとの間に装着されたスラストベアリングがＸ−方向
（垂直方向）でサイドビームに力を伝達し、ベアリング
とピボットの構造を単純化する。Ｘ−力とＹ−力との間
に何らクロストークが生ずることなく、Ｘ−方向の力の
伝達でＹ−軸方向に力が発生することはない。
【００１１】第１と第２の（Ｙ−）スライダは、ビーム
上に装着されたステータとスライダのアマチュアとを有
するリニアモータとしても良い。Ｙ−スライダの角度
（ヨウ）位置に関係なくほぼ一定の特性を与えるように
構成しても良い。たとえば、アマチュアのマグネットを
ヘリボンパターンで配置したり、ソフトウェアあるいは
ハードウェアでモータのヨウ依存特性を制御するように
する。ヨウセンサあるいはヨウレートセンサを設けるこ
とにより損傷保護機能が得られ、またＸ−桁梁のヨウレ
ートあるいはヨウが過上になるとモータへのを動力を遮
断する遮断機能も有する。
上に装着されたステータとスライダのアマチュアとを有
するリニアモータとしても良い。Ｙ−スライダの角度
（ヨウ）位置に関係なくほぼ一定の特性を与えるように
構成しても良い。たとえば、アマチュアのマグネットを
ヘリボンパターンで配置したり、ソフトウェアあるいは
ハードウェアでモータのヨウ依存特性を制御するように
する。ヨウセンサあるいはヨウレートセンサを設けるこ
とにより損傷保護機能が得られ、またＸ−桁梁のヨウレ
ートあるいはヨウが過上になるとモータへのを動力を遮
断する遮断機能も有する。
【００１２】さらに本発明の別の概念によれば、リソグ
ラフィ投影装置を使用してデバイスを製造する方法であ
って、このリソグラフィ投影装置は、放射線ビームを供
給する放射システムと、マスクを保持するマスクホルダ
が設けられた第１の可動対物テーブルと、基板を保持す
る基板ホルダが設けられた第２可動対物テーブルと、マ
スクの照射部分を基板の目標部分に結像する投影システ
ムとを有し、この方法は、パターンを有するマスクを第
１対物テーブルに設ける段階と、放射線感光層を設けた
基板を第２対物テーブルに設ける段階と、マスクの部分
を照射し、マスクの照射部分を基板の目標部分に結像さ
せる段階とを有する方法にして、照射および結像段階の
前にあるいはこの段階中に対物テーブルの一つを位置決
めするために使用される位置決め装置が、第１と第２の
スライダをそれそれ担持するほぼ平行な第１と第２のサ
イドビームと、各サイドビームの長手方向に第１と第２
のスライダを移動させる第１と第２のモータ手段と、そ
れぞれ第１と第２端の近くで第１と第２のスライダに装
着され、さらに第３のスライダを担持し、第１と第２の
スライダとともに一平面内での並進方向と一平面に垂直
な軸の周りの回転方向とにおいて剛体である本体を構成
するクロスビームと、第３のスライダに一つの対物テー
ブルを保持する対物ホルダを持たせてクロスビームの長
手方向に前記第３のスライダを移動させる第３モータ手
段とを有し、さらに位置決め装置が、第１のスライダに
枢動可能に装着され、第１平面内で前記第１サイドビー
ムに垂直にクロスビームと第１サイドビームとの間で力
を伝達するスラスト軸受を有していることを特徴とする
方法。
ラフィ投影装置を使用してデバイスを製造する方法であ
って、このリソグラフィ投影装置は、放射線ビームを供
給する放射システムと、マスクを保持するマスクホルダ
が設けられた第１の可動対物テーブルと、基板を保持す
る基板ホルダが設けられた第２可動対物テーブルと、マ
スクの照射部分を基板の目標部分に結像する投影システ
ムとを有し、この方法は、パターンを有するマスクを第
１対物テーブルに設ける段階と、放射線感光層を設けた
基板を第２対物テーブルに設ける段階と、マスクの部分
を照射し、マスクの照射部分を基板の目標部分に結像さ
せる段階とを有する方法にして、照射および結像段階の
前にあるいはこの段階中に対物テーブルの一つを位置決
めするために使用される位置決め装置が、第１と第２の
スライダをそれそれ担持するほぼ平行な第１と第２のサ
イドビームと、各サイドビームの長手方向に第１と第２
のスライダを移動させる第１と第２のモータ手段と、そ
れぞれ第１と第２端の近くで第１と第２のスライダに装
着され、さらに第３のスライダを担持し、第１と第２の
スライダとともに一平面内での並進方向と一平面に垂直
な軸の周りの回転方向とにおいて剛体である本体を構成
するクロスビームと、第３のスライダに一つの対物テー
ブルを保持する対物ホルダを持たせてクロスビームの長
手方向に前記第３のスライダを移動させる第３モータ手
段とを有し、さらに位置決め装置が、第１のスライダに
枢動可能に装着され、第１平面内で前記第１サイドビー
ムに垂直にクロスビームと第１サイドビームとの間で力
を伝達するスラスト軸受を有していることを特徴とする
方法。
【００１３】本発明によるリソグラフィ投影装置を使用
した製造方法は、マスクのパターンは、放射線感知性材
料（レジスト）の層で少なくとも部分的に被覆された基
板上に投影される。この投影段階の前に基板に対して、
プライミング、レジスト被覆、ソフトベークなど種々の
手順が踏まれる。露光後に基板は、露光後ベーク（ＰＥ
Ｂ）、現像、ハードベークならびに像表現の測定および
検査などのさらなる手順が踏まれる。この一連の手順
は、ＩＣなどのデバイスの各層をパターン化するための
基礎となるものである。このようなパターン化された層
は、エッチング、イオン注入（ドーピング）、金属被
覆、酸化、化学機械研磨などの種々の手順が踏まれ、こ
れら全てで各層が出来上がる。複数層が要される場合
は、これら全手順あるいはこれに類似の手順が各層毎に
繰り返して行われることになる。最終的にデバイスの配
列は、基板（ウェファ）上に得られる。これら装置は、
ダイシングやソウイングにより切り離して、それぞれ担
体に装着されてピンなどに接続するようにする。これら
手順は、1997年ＭｃＧｒａｗ Ｈｉｌｌ発行の書籍、Ｐ
ｅｔｅｒ ｖａｎ Ｚａｎｔ著“マイクロチップ製造、
半導体処理加工の実務ガイド“（ＩＳＢＮ0-07-067250-
4）に詳細に説明されている。
した製造方法は、マスクのパターンは、放射線感知性材
料（レジスト）の層で少なくとも部分的に被覆された基
板上に投影される。この投影段階の前に基板に対して、
プライミング、レジスト被覆、ソフトベークなど種々の
手順が踏まれる。露光後に基板は、露光後ベーク（ＰＥ
Ｂ）、現像、ハードベークならびに像表現の測定および
検査などのさらなる手順が踏まれる。この一連の手順
は、ＩＣなどのデバイスの各層をパターン化するための
基礎となるものである。このようなパターン化された層
は、エッチング、イオン注入（ドーピング）、金属被
覆、酸化、化学機械研磨などの種々の手順が踏まれ、こ
れら全てで各層が出来上がる。複数層が要される場合
は、これら全手順あるいはこれに類似の手順が各層毎に
繰り返して行われることになる。最終的にデバイスの配
列は、基板（ウェファ）上に得られる。これら装置は、
ダイシングやソウイングにより切り離して、それぞれ担
体に装着されてピンなどに接続するようにする。これら
手順は、1997年ＭｃＧｒａｗ Ｈｉｌｌ発行の書籍、Ｐ
ｅｔｅｒ ｖａｎ Ｚａｎｔ著“マイクロチップ製造、
半導体処理加工の実務ガイド“（ＩＳＢＮ0-07-067250-
4）に詳細に説明されている。
【００１４】本明細書では、本発明の装置がＩＣの製造
に使用するものとして具体的に説明しているが、本発明
の装置は、その他への別の応用も可能であり、集積光学
素子、磁区メモリ、液晶表示パネル、薄幕磁気ヘッドな
どのための案内検出パターンにも使用可能である。この
ような各種の応用に関して当業者であれば、“レチク
ル”、“ウェファ”ならびに“ダイ”なる語句が、“マ
スク”、“基板”ならびに“目標部分”あるいは“露光
部分”と取り得ることが容易に判断し得るものである。
本明細書では、投射ならびに投影ビームは、全ての種類
の電磁放射線、非限定的であるが紫外線（例えば、36
5、248、193、157あるいは127ｎｍの波長を有する）、
ＥＵＶ、Ｘ線などの粒子線束を包含するのものとして説
明する。本発明を以下に実施例の形で図面を参照しつつ
説明する。
に使用するものとして具体的に説明しているが、本発明
の装置は、その他への別の応用も可能であり、集積光学
素子、磁区メモリ、液晶表示パネル、薄幕磁気ヘッドな
どのための案内検出パターンにも使用可能である。この
ような各種の応用に関して当業者であれば、“レチク
ル”、“ウェファ”ならびに“ダイ”なる語句が、“マ
スク”、“基板”ならびに“目標部分”あるいは“露光
部分”と取り得ることが容易に判断し得るものである。
本明細書では、投射ならびに投影ビームは、全ての種類
の電磁放射線、非限定的であるが紫外線（例えば、36
5、248、193、157あるいは127ｎｍの波長を有する）、
ＥＵＶ、Ｘ線などの粒子線束を包含するのものとして説
明する。本発明を以下に実施例の形で図面を参照しつつ
説明する。
【００１５】［発明の実施の形態］本発明の好適実施例
を添付図を参照して説明する。実施例１ 図１は、本発明によるリソグラフィ投影装置を概略的に
示す図である。この装置は、投射ビームＰＢ（例えばUV
線あるいはＥＵＶ線）を供給する投射システムＬＡ、Ｉ
Ｌと、マスクＭＡ（例えばレチクル）を保持するための
マスクホルダ設けられ、このマスクを素子ＰＬに関して
正確に位置決めするための第１位置決め手段に結合され
た第１対物テーブルＭＴと、基板Ｗ（例えばレジストを
被覆されたシリコンウェファ）を保持する基板ホルダが
設けられ、この基板を素子ＰＬに関して正確に位置決め
するための第２位置決め手段に結合された第２対物テー
ブルＷＴと、マスクＭＡの照射部分を基板Ｗの目標部分
Ｃに投影する投影システム（レンズ）ＰＬ（例えば、屈
折あるいは屈折反射系、反射鏡群あるいはフィ−ルドリ
フレクタのアレイ）とを有する。ここで示している装置
は、透過型のもの（すなわち透過性のマスクを有するも
の）である。しかしながら、一般に反射型のものでも良
い。ここに示す例では、照射システムは、照射ビームを
発する光源ＬＡ（例えば、Ｈｇランプ、イクシマレー
ザ、レーザあるいは放電プラズマ源、ストレージリング
あるいはシンクロトロン中の電子ビーム経路の周りに設
けたアンジュレータまたは電子あるいはイオンビーム
源）を含む。このビームは、ビーム整形光学素子Ｅｘ、
インテグレータＩＮならびに集光器ＣＯなどの照射シス
テムＩＬに含まれる種々の光学素子をこれらに沿って通
過する。これによって得られるビームＢＬは、所望の形
で所望の強度分布が得られる。
を添付図を参照して説明する。実施例１ 図１は、本発明によるリソグラフィ投影装置を概略的に
示す図である。この装置は、投射ビームＰＢ（例えばUV
線あるいはＥＵＶ線）を供給する投射システムＬＡ、Ｉ
Ｌと、マスクＭＡ（例えばレチクル）を保持するための
マスクホルダ設けられ、このマスクを素子ＰＬに関して
正確に位置決めするための第１位置決め手段に結合され
た第１対物テーブルＭＴと、基板Ｗ（例えばレジストを
被覆されたシリコンウェファ）を保持する基板ホルダが
設けられ、この基板を素子ＰＬに関して正確に位置決め
するための第２位置決め手段に結合された第２対物テー
ブルＷＴと、マスクＭＡの照射部分を基板Ｗの目標部分
Ｃに投影する投影システム（レンズ）ＰＬ（例えば、屈
折あるいは屈折反射系、反射鏡群あるいはフィ−ルドリ
フレクタのアレイ）とを有する。ここで示している装置
は、透過型のもの（すなわち透過性のマスクを有するも
の）である。しかしながら、一般に反射型のものでも良
い。ここに示す例では、照射システムは、照射ビームを
発する光源ＬＡ（例えば、Ｈｇランプ、イクシマレー
ザ、レーザあるいは放電プラズマ源、ストレージリング
あるいはシンクロトロン中の電子ビーム経路の周りに設
けたアンジュレータまたは電子あるいはイオンビーム
源）を含む。このビームは、ビーム整形光学素子Ｅｘ、
インテグレータＩＮならびに集光器ＣＯなどの照射シス
テムＩＬに含まれる種々の光学素子をこれらに沿って通
過する。これによって得られるビームＢＬは、所望の形
で所望の強度分布が得られる。
【００１６】ビームＰＢは、マスクテーブルＭＴ上のマ
スクホルダに保持されているマスクＭＡを横切る。マス
クＭＡを通過後、ビームＰＢは、レンズＰＬを通過し、
これによりこれによりビームＰＢは、基板Ｗの所望の部
分Ｃに集光される。干渉計式の変位測定手段ＩＦが設け
てあるために、基板テーブルＷＴを第２位置決め手段に
より正確に移動させることができ、ビームＰＢの経路に
正確に異なる目標部分を位置付けることができる。同様
に、第１位置決め手段は、干渉計式の変位測定手段によ
り、マスク棚よりマスク取出し後にマスクＭＡをビーム
ＰＢの経路に関して正確に位置決め可能である。一般
に、対物テーブルＭＴ、ＷＴの移動は、図１には明示さ
れていないが、長いストロークモジュール（コース位置
決め）と短いストロークモジュール（微小位置決め）に
より達成される。
スクホルダに保持されているマスクＭＡを横切る。マス
クＭＡを通過後、ビームＰＢは、レンズＰＬを通過し、
これによりこれによりビームＰＢは、基板Ｗの所望の部
分Ｃに集光される。干渉計式の変位測定手段ＩＦが設け
てあるために、基板テーブルＷＴを第２位置決め手段に
より正確に移動させることができ、ビームＰＢの経路に
正確に異なる目標部分を位置付けることができる。同様
に、第１位置決め手段は、干渉計式の変位測定手段によ
り、マスク棚よりマスク取出し後にマスクＭＡをビーム
ＰＢの経路に関して正確に位置決め可能である。一般
に、対物テーブルＭＴ、ＷＴの移動は、図１には明示さ
れていないが、長いストロークモジュール（コース位置
決め）と短いストロークモジュール（微小位置決め）に
より達成される。
【００１７】図示の装置は、２つ異なるモードで使用で
きる。すなわち、 １．ステップモード：マスクテーブルＭＴをほぼ静止さ
せておいて、マスク全体像を一度に（すなわち一度の閃
光で）目標部分に投影する。基板テーブルＷＴは、ｘ軸
あるいはｙ軸方向にシフトされ、ビームＰＢにより異な
る目標部分Ｃが照射される。 ２．スキャンモード：所望の部分Ｃが単一閃光で露光さ
れないことを除き、同じシナリオが基本的に適用可能で
ある。代わりに、マスクテーブルＭＴは、所与の方向
（いわゆるスキャン方向で例えばＸ軸方向）に速度Ｖで
移動可能であり、これによりビームＰＢは、マスク像を
スキャンする。同時に基板テーブルＷＴは、速度Ｖ＝Ｍ
ｖで同方向あるいは反対方向に同時に移動される。ここ
でＭは、レンズＰＬの倍率（典型的には、Ｍ＝1/4ある
いは1/5）である。このようにして、比較的大きな目標
部分Ｃを、解像力と妥協を持たせることなく露光でき
る。
きる。すなわち、 １．ステップモード：マスクテーブルＭＴをほぼ静止さ
せておいて、マスク全体像を一度に（すなわち一度の閃
光で）目標部分に投影する。基板テーブルＷＴは、ｘ軸
あるいはｙ軸方向にシフトされ、ビームＰＢにより異な
る目標部分Ｃが照射される。 ２．スキャンモード：所望の部分Ｃが単一閃光で露光さ
れないことを除き、同じシナリオが基本的に適用可能で
ある。代わりに、マスクテーブルＭＴは、所与の方向
（いわゆるスキャン方向で例えばＸ軸方向）に速度Ｖで
移動可能であり、これによりビームＰＢは、マスク像を
スキャンする。同時に基板テーブルＷＴは、速度Ｖ＝Ｍ
ｖで同方向あるいは反対方向に同時に移動される。ここ
でＭは、レンズＰＬの倍率（典型的には、Ｍ＝1/4ある
いは1/5）である。このようにして、比較的大きな目標
部分Ｃを、解像力と妥協を持たせることなく露光でき
る。
【００１８】図２は、第１実施例のリソグラフィ装置の
ウェファステージを示す平面図である。ウェファＷは、
基板（ウェファ）テーブルＷＴに装着されており、基板
テーブルＷＴは、参照番号10で総称される粗位置決め機
構（長いストロークモジュール）により位置決めされ
る。粗位置決め機構は、ほぼＨ型形態であり、すなわ
ち、横梁は、Ｘ桁梁11で形成され、縦桁は、Ｙ桁梁12
ａ，12ｂで構成される。これら桁梁がこのように称され
ているのは、装置に対して定義される参照座標系の直交
するＸ−軸とＹ−軸とにそれぞれほぼ平行にされている
からである。
ウェファステージを示す平面図である。ウェファＷは、
基板（ウェファ）テーブルＷＴに装着されており、基板
テーブルＷＴは、参照番号10で総称される粗位置決め機
構（長いストロークモジュール）により位置決めされ
る。粗位置決め機構は、ほぼＨ型形態であり、すなわ
ち、横梁は、Ｘ桁梁11で形成され、縦桁は、Ｙ桁梁12
ａ，12ｂで構成される。これら桁梁がこのように称され
ているのは、装置に対して定義される参照座標系の直交
するＸ−軸とＹ−軸とにそれぞれほぼ平行にされている
からである。
【００１９】またウェファテーブルＷＴは、粗位置決め
機構の後段に連続する別の位置決め機構を有しており、
これによりあり得る６自由度のいずれかあるいは全てで
ウェファの位置を正確に制御可能である。このような精
巧位置決めシステムの動作は、本発明に具体的に関連す
るものでないので、その詳細な説明は、説明の簡潔化の
ために省略する。
機構の後段に連続する別の位置決め機構を有しており、
これによりあり得る６自由度のいずれかあるいは全てで
ウェファの位置を正確に制御可能である。このような精
巧位置決めシステムの動作は、本発明に具体的に関連す
るものでないので、その詳細な説明は、説明の簡潔化の
ために省略する。
【００２０】ウェファテーブルＷＴは、Ｘスライダ111
によりＸ桁梁11に支持されている。Ｘスライダ111は、
磁気トラック112に対して作用するリニアモータを含ん
でおり、ウェファテーブルＷＴをＸ桁梁11に沿って線形
変位させている。本発明の代替実施例においては、ウェ
ファテーブルＷＴは、Ｘスライダ111によりＸ，Ｙ，Ｚ
ｙ方向に単純に駆動され、エアフートにより架台あるい
はＸ桁梁11の案内面上に、Ｚ，ＲｘおよびＲｙ方向にそ
れぞれ支持されている。Ｘ桁梁11は、その両端付近で各
Ｙスライダ121ａ，121ｂに装着されている。各Ｙスライ
ダ121ａ，121ｂは、Ｘスライダ111と同様に磁気トラッ
ク122ａ，122ｂに作用するリニアモータを含み、該桁梁
をＹ−軸方向に沿って変位させる。
によりＸ桁梁11に支持されている。Ｘスライダ111は、
磁気トラック112に対して作用するリニアモータを含ん
でおり、ウェファテーブルＷＴをＸ桁梁11に沿って線形
変位させている。本発明の代替実施例においては、ウェ
ファテーブルＷＴは、Ｘスライダ111によりＸ，Ｙ，Ｚ
ｙ方向に単純に駆動され、エアフートにより架台あるい
はＸ桁梁11の案内面上に、Ｚ，ＲｘおよびＲｙ方向にそ
れぞれ支持されている。Ｘ桁梁11は、その両端付近で各
Ｙスライダ121ａ，121ｂに装着されている。各Ｙスライ
ダ121ａ，121ｂは、Ｘスライダ111と同様に磁気トラッ
ク122ａ，122ｂに作用するリニアモータを含み、該桁梁
をＹ−軸方向に沿って変位させる。
【００２１】Ｘ桁梁11の長手方向におけるＸスライダ11
1の変位およびＹ−軸方向のＸ桁梁の変位でウェファテ
ーブルＷＴがＸ−Ｙ平面に租で位置決めされる。Ｙスラ
イダ121ａ，121ｂをそれぞれ独立に制御することによ
り、ウェファテーブルＷＴのＺ−軸周り（ヨウ）の回転
位置決めをある範囲で可能とする。
1の変位およびＹ−軸方向のＸ桁梁の変位でウェファテ
ーブルＷＴがＸ−Ｙ平面に租で位置決めされる。Ｙスラ
イダ121ａ，121ｂをそれぞれ独立に制御することによ
り、ウェファテーブルＷＴのＺ−軸周り（ヨウ）の回転
位置決めをある範囲で可能とする。
【００２２】本発明のよれば、Ｘ桁梁は、少なくともＸ
−軸方向およびＹ−軸方向において、そしてＺ−軸、Rz
のまわりの回転に対して剛的にＹスライダに結合され、
Ｘ−Ｙ平面で剛性の本体を形成している。この構成によ
り、Ｘ桁ビーム11とＹスライダ121ａ、121ｂとの間でRz
ピボットの必要性をなくし、Ｙ−軸方向の動作力をＸ桁
梁に直接確実に伝達するようになっている。以下に説明
するように、Ｘ桁梁11とＹスライダ121ａ，121ｂとの結
合は、Ｚ−軸方向においても剛性を与え、かつ一側がRx
において剛性である。好ましくは、いずれの側もRyにお
いて剛的でないほうが良い。
−軸方向およびＹ−軸方向において、そしてＺ−軸、Rz
のまわりの回転に対して剛的にＹスライダに結合され、
Ｘ−Ｙ平面で剛性の本体を形成している。この構成によ
り、Ｘ桁ビーム11とＹスライダ121ａ、121ｂとの間でRz
ピボットの必要性をなくし、Ｙ−軸方向の動作力をＸ桁
梁に直接確実に伝達するようになっている。以下に説明
するように、Ｘ桁梁11とＹスライダ121ａ，121ｂとの結
合は、Ｚ−軸方向においても剛性を与え、かつ一側がRx
において剛性である。好ましくは、いずれの側もRyにお
いて剛的でないほうが良い。
【００２３】Ｘスライダ111は、箱形であり、Ｘ桁梁11
を取り囲んでいる。あるいは、Ｘ桁梁の頂部に被せた逆
Ｕ字形の形状としても良い。Ｘスライダ11は、対向パッ
ドエア（ガス）ベアリングにより支持されてほぼＸ桁梁
11の長手方向（名目上Ｘ−軸方向）に摩擦のない状態で
変位可能であるが、Ｘ桁梁11に関して抑制され、Ｙ−軸
およびＸ−軸方向にもヨウにも運動ができないようにな
っている。Ｘ桁梁11自体は、多セル中空梁であり少なく
とも3本の長手方向に延在するセルを有し、その中の真
中のセルは、非対称にＺ−軸方向にオフセットされ、Ｘ
−リニアモータの磁気トラック112あるいはコイル組立
体などの固定部を収容し、これによりＸリニアモータの
駆動力が、運動マスの重心近くに可能な限りに接近して
作用する。Ｘスライダ111およびＸ桁梁11は、技術セラ
ミック、すなわちAl2O3、SiＣ，SiSiC，CSiＣなどの材
料で製造できる。
を取り囲んでいる。あるいは、Ｘ桁梁の頂部に被せた逆
Ｕ字形の形状としても良い。Ｘスライダ11は、対向パッ
ドエア（ガス）ベアリングにより支持されてほぼＸ桁梁
11の長手方向（名目上Ｘ−軸方向）に摩擦のない状態で
変位可能であるが、Ｘ桁梁11に関して抑制され、Ｙ−軸
およびＸ−軸方向にもヨウにも運動ができないようにな
っている。Ｘ桁梁11自体は、多セル中空梁であり少なく
とも3本の長手方向に延在するセルを有し、その中の真
中のセルは、非対称にＺ−軸方向にオフセットされ、Ｘ
−リニアモータの磁気トラック112あるいはコイル組立
体などの固定部を収容し、これによりＸリニアモータの
駆動力が、運動マスの重心近くに可能な限りに接近して
作用する。Ｘスライダ111およびＸ桁梁11は、技術セラ
ミック、すなわちAl2O3、SiＣ，SiSiC，CSiＣなどの材
料で製造できる。
【００２４】公称Ｘ−軸方向の反作用力、すなわちＸス
ライダ111およびウェファテーブルＷＴがＸ−桁梁に沿
って変位することにより発生する反作用力のＸ−軸方向
成分は、Ｙ桁梁12ａに伝達される。これは、Ｙ−スライ
ダ121ａにピボット124aを介して接続されたサイドスラ
ストベアリング123ａにより得られ、Ｙ桁梁12ａの外縁
上に設けた垂直壁125ａに対して作用する。このサイド
スラストベアリング123ａは、かなり大きい磁気あるい
は負圧予負荷を有する片面静空力学スラストベアリング
を含んでいる。この負荷は、安全率を含めて位置決め機
構を使用することで予想し得る最大反作用力より充分に
大きい。この代わりに、壁125ａの両側に作用する両面
（対向パッド）エアベアリングも使用可能である。
ライダ111およびウェファテーブルＷＴがＸ−桁梁に沿
って変位することにより発生する反作用力のＸ−軸方向
成分は、Ｙ桁梁12ａに伝達される。これは、Ｙ−スライ
ダ121ａにピボット124aを介して接続されたサイドスラ
ストベアリング123ａにより得られ、Ｙ桁梁12ａの外縁
上に設けた垂直壁125ａに対して作用する。このサイド
スラストベアリング123ａは、かなり大きい磁気あるい
は負圧予負荷を有する片面静空力学スラストベアリング
を含んでいる。この負荷は、安全率を含めて位置決め機
構を使用することで予想し得る最大反作用力より充分に
大きい。この代わりに、壁125ａの両側に作用する両面
（対向パッド）エアベアリングも使用可能である。
【００２５】第２サイドベアリング123ｂは、Ｙスライ
ダ121ｂに設けられ、後述するエンコーダ読取ヘッド127
ｂを装着するものである。サイドベアリング123ｂは、
ピボット124ｂを介してＹスライダ121ｂに装着され、ま
たピボット124ｂは、クロスローラ軌道のような板ばね
構成又はリニアベアリングを含み、Ｘ−軸方向に運動の
自由度を与えている。これによりヨウ角度が増大するに
つれてＸ−軸方向のＸ桁梁11の有効長が低減し（いわゆ
る余弦短縮法）、サイドベアリング123ｂが壁125ａに確
実に接触維持される。
ダ121ｂに設けられ、後述するエンコーダ読取ヘッド127
ｂを装着するものである。サイドベアリング123ｂは、
ピボット124ｂを介してＹスライダ121ｂに装着され、ま
たピボット124ｂは、クロスローラ軌道のような板ばね
構成又はリニアベアリングを含み、Ｘ−軸方向に運動の
自由度を与えている。これによりヨウ角度が増大するに
つれてＸ−軸方向のＸ桁梁11の有効長が低減し（いわゆ
る余弦短縮法）、サイドベアリング123ｂが壁125ａに確
実に接触維持される。
【００２６】Ｘ桁梁11の一端とＹスライダ121とサイド
ベアリング123の側面図である図8ならびにこれら素子の
平面図である図9に図示のように、サイドベアリング123
は、ピボット124を介してＹスライダ121に装着されたベ
アリング31を担持するヨーク部材30を含むものである。
ヨーク部材30は、桁30ａ，30ｂを有し、この桁は、板30
ｃの上方角隅からピボット124まで水平に延在してい
る。板30ｃは、Ｙスライダ121とＹ桁梁12に装着された
壁125との間で垂直方向下方に延在し、壁125に作用する
ベアリング31を担持する。ベアリング31の中心線は、Ｘ
−桁梁11に沿うＸスライダ（図示せず）アマチュアによ
り発生されるＸ−反作用力と整合するように配置する。
ベアリング123の側面図である図8ならびにこれら素子の
平面図である図9に図示のように、サイドベアリング123
は、ピボット124を介してＹスライダ121に装着されたベ
アリング31を担持するヨーク部材30を含むものである。
ヨーク部材30は、桁30ａ，30ｂを有し、この桁は、板30
ｃの上方角隅からピボット124まで水平に延在してい
る。板30ｃは、Ｙスライダ121とＹ桁梁12に装着された
壁125との間で垂直方向下方に延在し、壁125に作用する
ベアリング31を担持する。ベアリング31の中心線は、Ｘ
−桁梁11に沿うＸスライダ（図示せず）アマチュアによ
り発生されるＸ−反作用力と整合するように配置する。
【００２７】Ｘ桁梁11とＹスライダ121ａ，121ｂとがＸ
−Ｙ平面で剛性体を形成している理由で、もし桁梁11が
Ｘ−軸に平行に変位してウェファテーブルＷＴのヨウ位
置決めをなさしめると、Ｙスライダ121ａ，121ｂのリニ
アモータは、磁気トラック122ａ，122ｂに相対的に同程
度回転する。もしＹモータが鉄製のアマチュアを有する
ものであり磁気トラックの磁石を単に斜に配置している
従来形式のものであれば、モータの一定の噛み込み力
は、ソフトウェアで補正可能である。また多層ローレン
ツ形式の無鉄心リニアモータを用いることができ、これ
によりヨウ角度でモータの性能を大きく変化させるよう
なことはない。その他、磁石をヘリボンパターンで配置
した磁気トラックを使用でき、これによれば、ヘリボン
の片側のモータの一定の噛み込み力は、多側の同噛み込
み力により打ち消すことができ、結果としてモータ装置
がヨウに対して不感となる。
−Ｙ平面で剛性体を形成している理由で、もし桁梁11が
Ｘ−軸に平行に変位してウェファテーブルＷＴのヨウ位
置決めをなさしめると、Ｙスライダ121ａ，121ｂのリニ
アモータは、磁気トラック122ａ，122ｂに相対的に同程
度回転する。もしＹモータが鉄製のアマチュアを有する
ものであり磁気トラックの磁石を単に斜に配置している
従来形式のものであれば、モータの一定の噛み込み力
は、ソフトウェアで補正可能である。また多層ローレン
ツ形式の無鉄心リニアモータを用いることができ、これ
によりヨウ角度でモータの性能を大きく変化させるよう
なことはない。その他、磁石をヘリボンパターンで配置
した磁気トラックを使用でき、これによれば、ヘリボン
の片側のモータの一定の噛み込み力は、多側の同噛み込
み力により打ち消すことができ、結果としてモータ装置
がヨウに対して不感となる。
【００２８】図４に図示のように、Ｘ桁梁11は、継手12
6ａ，126ｂによりＹスライダ121ａ，121ｂに結合され
る。継手126ａ，126ｂは、Ｘ桁梁11とＹスライダ121
ａ，121ｂとの間のロール（回転Ry）に対する運動の自
由度を与えてＹ桁梁12ａ，12ｂの上方ベアリング面にお
ける平行のずれを吸収している。このようなずれは、二
つの桁梁の高さの違いや非整合により生ずるものであ
る。必要自由度角度範囲は、制限があるが、弾性変形
（いわゆるクロスピボット）や通常の回転ベアリング
（ローラベアリングやボールベアリング）により提供で
きる。
6ａ，126ｂによりＹスライダ121ａ，121ｂに結合され
る。継手126ａ，126ｂは、Ｘ桁梁11とＹスライダ121
ａ，121ｂとの間のロール（回転Ry）に対する運動の自
由度を与えてＹ桁梁12ａ，12ｂの上方ベアリング面にお
ける平行のずれを吸収している。このようなずれは、二
つの桁梁の高さの違いや非整合により生ずるものであ
る。必要自由度角度範囲は、制限があるが、弾性変形
（いわゆるクロスピボット）や通常の回転ベアリング
（ローラベアリングやボールベアリング）により提供で
きる。
【００２９】継手126ａ，126ｂの一つ、本実施例では継
手126ａであるが、この継手は、Ｘ−軸方向に平行な軸
の周りの回転Rxに対して剛的であり、ピッチに対してＸ
桁梁を支持している。他方の継手、本実施例では126ｂ
であるが、この継手は、Ｘ桁梁11とＹスライダ121ｂと
の間のピッチ運動にかなりの自由度を与えている。これ
により、Ｘ−桁梁11のねじり力を回避する。さもない
と、このねじり力は、2個のＹ桁梁12ａ，12ｂの平行か
らのずれが原因して発生する。継手126ｂのRx自由度
は、単純ピボットや弾性その他の手段により得られ、こ
れにより2個のＹスライダ121ａ，121ｂは、ほぼ同じと
なり、エンコーダヘッド127ｂは、その線形格子128ｂに
平行に維持される。ピボットの代わりに、垂直ベアリン
グ装置が用いられ、このベアリング装置によりＹスライ
ダが、垂直方向に負荷容量を有するがピッチとロールに
対する剛性が無視できるサイド桁梁12ｂに支持される。
手126ａであるが、この継手は、Ｘ−軸方向に平行な軸
の周りの回転Rxに対して剛的であり、ピッチに対してＸ
桁梁を支持している。他方の継手、本実施例では126ｂ
であるが、この継手は、Ｘ桁梁11とＹスライダ121ｂと
の間のピッチ運動にかなりの自由度を与えている。これ
により、Ｘ−桁梁11のねじり力を回避する。さもない
と、このねじり力は、2個のＹ桁梁12ａ，12ｂの平行か
らのずれが原因して発生する。継手126ｂのRx自由度
は、単純ピボットや弾性その他の手段により得られ、こ
れにより2個のＹスライダ121ａ，121ｂは、ほぼ同じと
なり、エンコーダヘッド127ｂは、その線形格子128ｂに
平行に維持される。ピボットの代わりに、垂直ベアリン
グ装置が用いられ、このベアリング装置によりＹスライ
ダが、垂直方向に負荷容量を有するがピッチとロールに
対する剛性が無視できるサイド桁梁12ｂに支持される。
【００３０】Ｙスライダ121ａ，121ｂの位置を決定する
ために、増分エンコーダ127ａ，127ｂおよび線形格子12
7ａ，127ｂがＹ桁梁12ａ，12ｂに装着されている。増分
エンコーダ127ａ，127ｂは、サイドベアリング123ａ，1
23ｂに簡潔的に取り付けられて線形格子127ａ，127ｂに
関して方向性を維持している。あるいは、これらは、Ｙ
スライダ121ａ，121ｂに取り付け、Ｘ桁梁のヨウ運動で
生ずる余弦短縮をリニアベアリングあるいは板ばね装置
などのメカニズムを設けることにより補正する。
ために、増分エンコーダ127ａ，127ｂおよび線形格子12
7ａ，127ｂがＹ桁梁12ａ，12ｂに装着されている。増分
エンコーダ127ａ，127ｂは、サイドベアリング123ａ，1
23ｂに簡潔的に取り付けられて線形格子127ａ，127ｂに
関して方向性を維持している。あるいは、これらは、Ｙ
スライダ121ａ，121ｂに取り付け、Ｘ桁梁のヨウ運動で
生ずる余弦短縮をリニアベアリングあるいは板ばね装置
などのメカニズムを設けることにより補正する。
【００３１】モータの整流の目的で、モータの中心線に
沿ったＹスライダ12ａ，121ｂのＹ−軸方向の位置を知
ることが必要となる。サイドベアリング123ａ，123ｂに
装着したエンコーダ123ａ，127ｂで、中心線位置が、ピ
ボット124，124ｂを正確に中心線に位置付けることによ
り直接得られる。あるいは、中心線位置は、モータの中
心点とベアリングピボット点との間の距離を知ることに
よりハードウェアあるいはソフトウェア補間アルゴリズ
ムにより得られる。この後者の方法は、サイドボアリン
グ装置の物理的レイアウトをかなりのフレキシビリティ
を与えることができる。Ｘ−軸およびＹ−軸方向の衝撃
保護が簡単な弾性手段（予荷重螺旋あるいは円錐ばねな
ど）又は粘性手段（油圧ダンパなど）あるいはこれらの
組合せで提供される。
沿ったＹスライダ12ａ，121ｂのＹ−軸方向の位置を知
ることが必要となる。サイドベアリング123ａ，123ｂに
装着したエンコーダ123ａ，127ｂで、中心線位置が、ピ
ボット124，124ｂを正確に中心線に位置付けることによ
り直接得られる。あるいは、中心線位置は、モータの中
心点とベアリングピボット点との間の距離を知ることに
よりハードウェアあるいはソフトウェア補間アルゴリズ
ムにより得られる。この後者の方法は、サイドボアリン
グ装置の物理的レイアウトをかなりのフレキシビリティ
を与えることができる。Ｘ−軸およびＹ−軸方向の衝撃
保護が簡単な弾性手段（予荷重螺旋あるいは円錐ばねな
ど）又は粘性手段（油圧ダンパなど）あるいはこれらの
組合せで提供される。
【００３２】ヨウの衝撃保護は、位置決め機構全体に高
モーメント負荷が必要となり、Ｙスライダ121ａ，121ｂ
とＹ桁梁12ａ，12ｂの間の力学系が現実に接続のみ与え
るのであれば、この力学系で抑制される。Ｘ−軸方向の
ヨウ補正力が過剰となり、サイドベアリング123ａ，123
ｂがそのベアリング面から引き離されてしまうのを防止
するために、ヨウレートセンサ113が、Ｘ桁梁11、Ｘス
ライダ111あるいはウェファテーブルWT上に設けられて
いる。所定の安全制限値を越えるヨウレートが検出され
ると、ハード配線の保護回路が動作してすべてのモータ
の電源を切り、回転運動エネルギのさらなる増大を防止
する。モータの電源が切られる前に生じた回転エネルギ
は、Ｘ桁梁に設けてＹ桁梁12ａ，12ｂの側方に係合する
弾性あるいは粘性ダンパー114により衝撃を制御して吸
収することができる。あるいは、増分エンコーダ127
ａ，127ｂおよび線形格子128ａ，128ｂを用いてヨウな
らびにヨウレートを決定するようにしても良い。もしヨ
ウ、ヨウレートあるいはこの組み合わせが、所定安全制
限値を超える値で検出されると、全モータの電源が切ら
れ、回転エネルギがさらに増加するのを防止する。
モーメント負荷が必要となり、Ｙスライダ121ａ，121ｂ
とＹ桁梁12ａ，12ｂの間の力学系が現実に接続のみ与え
るのであれば、この力学系で抑制される。Ｘ−軸方向の
ヨウ補正力が過剰となり、サイドベアリング123ａ，123
ｂがそのベアリング面から引き離されてしまうのを防止
するために、ヨウレートセンサ113が、Ｘ桁梁11、Ｘス
ライダ111あるいはウェファテーブルWT上に設けられて
いる。所定の安全制限値を越えるヨウレートが検出され
ると、ハード配線の保護回路が動作してすべてのモータ
の電源を切り、回転運動エネルギのさらなる増大を防止
する。モータの電源が切られる前に生じた回転エネルギ
は、Ｘ桁梁に設けてＹ桁梁12ａ，12ｂの側方に係合する
弾性あるいは粘性ダンパー114により衝撃を制御して吸
収することができる。あるいは、増分エンコーダ127
ａ，127ｂおよび線形格子128ａ，128ｂを用いてヨウな
らびにヨウレートを決定するようにしても良い。もしヨ
ウ、ヨウレートあるいはこの組み合わせが、所定安全制
限値を超える値で検出されると、全モータの電源が切ら
れ、回転エネルギがさらに増加するのを防止する。
【００３３】実施例２ 図５から図７は、衝撃保護にさらなる装置を追加してあ
る本発明の第２実施例の一部を示している。装置の片側
を示しているが、その反対側も同様である。図示せず以
下に具体的に説明してない部分は、第１実施例と同様の
ものである。
る本発明の第２実施例の一部を示している。装置の片側
を示しているが、その反対側も同様である。図示せず以
下に具体的に説明してない部分は、第１実施例と同様の
ものである。
【００３４】図５および図６に示したように、衝撃バー
20がＸ桁梁11の接続部に隣接してＹスライダ121の下方
に設けられている。衝撃バー20は、Ｘ桁梁11のいずれか
の側でＹ−軸方向に延材し、各端で２つの衝撃ピン21を
担持している。衝撃ピン21は、衝撃バー20からＹ桁梁12
方向へ突出し、Ｙ−軸方向に横並びに配置されている。
その他の実施例において、これらは上下に対角方向に配
置される。
20がＸ桁梁11の接続部に隣接してＹスライダ121の下方
に設けられている。衝撃バー20は、Ｘ桁梁11のいずれか
の側でＹ−軸方向に延材し、各端で２つの衝撃ピン21を
担持している。衝撃ピン21は、衝撃バー20からＹ桁梁12
方向へ突出し、Ｙ−軸方向に横並びに配置されている。
その他の実施例において、これらは上下に対角方向に配
置される。
【００３５】図７は、2つの衝撃ピン21の拡大部分横断
面図である。各衝撃ピン21は、ほぼ円筒形状の頭部21a
と、この頭部21ａの基端の周りに設けたフランジ21b
と、頭部21aから同軸で延在するロッド部分21cで構成さ
る。円筒形孔22が衝撃バー20を貫通して延在し、各衝撃
ピン21を保持している。各孔22は、Ｘ−軸方向に延在
し、Ｙ桁梁12に隣接した部分が比較的小さな径で、Ｙ桁
梁12と反対側で片部22bを介して部分22cが比較的大径と
なっている。衝撃ピン21は、Ｙ桁梁12と反対側から孔22
に挿入され、頭部21aが部分21aを通ってＹ桁梁12に向か
って延在して、しかしフランジ21bが片部22bと係合する
ので孔22を完全に貫通するのを防止される。
面図である。各衝撃ピン21は、ほぼ円筒形状の頭部21a
と、この頭部21ａの基端の周りに設けたフランジ21b
と、頭部21aから同軸で延在するロッド部分21cで構成さ
る。円筒形孔22が衝撃バー20を貫通して延在し、各衝撃
ピン21を保持している。各孔22は、Ｘ−軸方向に延在
し、Ｙ桁梁12に隣接した部分が比較的小さな径で、Ｙ桁
梁12と反対側で片部22bを介して部分22cが比較的大径と
なっている。衝撃ピン21は、Ｙ桁梁12と反対側から孔22
に挿入され、頭部21aが部分21aを通ってＹ桁梁12に向か
って延在して、しかしフランジ21bが片部22bと係合する
ので孔22を完全に貫通するのを防止される。
【００３６】弾性部材12、すなわち、コイルばねがロッ
ド部分21ｃの周りに設けられており、孔22の端は、プラ
グ24により閉じられている。このプラグ24には中心孔24
ａがあり、この孔24ａを通してロッド21cが突出してい
る。弾性部材23がプラグ24に対して作用し、これにより
ピン21をＹ桁梁の方向へ偏寄させている。弾性部分23の
自由長および孔21の寸法は、衝撃ピンに所望の予荷重が
課されるように設けられている。
ド部分21ｃの周りに設けられており、孔22の端は、プラ
グ24により閉じられている。このプラグ24には中心孔24
ａがあり、この孔24ａを通してロッド21cが突出してい
る。弾性部材23がプラグ24に対して作用し、これにより
ピン21をＹ桁梁の方向へ偏寄させている。弾性部分23の
自由長および孔21の寸法は、衝撃ピンに所望の予荷重が
課されるように設けられている。
【００３７】衝撃バー20の寸法、衝撃ピン21の位置なら
びに頭部21aの突出長さは、Ｘ桁梁11のヨウが安全値あ
るいは許容値を超える場合にヨウ組立体、すなわちＸ桁
梁11、Ｙスライダ121およびその他これに装着の構成部
分が障害物に接触する前に、衝撃ピンがＹ桁梁の側部に
接触することとなる。衝撃ピン21は、Ｘ桁梁11の連続す
るヨウ運動により弾性部材23の弾性の抗して押し込ま
れ、これにより衝撃ピンはバッファ作用して、ヨウ組立
体に対するソフトランディングが可能となる。
びに頭部21aの突出長さは、Ｘ桁梁11のヨウが安全値あ
るいは許容値を超える場合にヨウ組立体、すなわちＸ桁
梁11、Ｙスライダ121およびその他これに装着の構成部
分が障害物に接触する前に、衝撃ピンがＹ桁梁の側部に
接触することとなる。衝撃ピン21は、Ｘ桁梁11の連続す
るヨウ運動により弾性部材23の弾性の抗して押し込ま
れ、これにより衝撃ピンはバッファ作用して、ヨウ組立
体に対するソフトランディングが可能となる。
【００３８】弾性部材23は、ほぼ純プラスチック製でも
良いし、可塑性あるいは摩擦がかなり大きな機能を有し
て反発を抑制するようにしても良い。粘性などのダンパ
などのダンパ作用を発する手段を含めるようにしても良
い。衝撃バー20の各端でのピンの相対位置ならびに長
さ、弾性部材23の弾性率、印加した予荷重の大きさなど
を変更しても良く、ピンを同時あるいは逐次Ｙ桁梁12に
接触するようにして、接触を通じて一様あるいは累進的
な抵抗をヨウに対して与えるようにしても良い。
良いし、可塑性あるいは摩擦がかなり大きな機能を有し
て反発を抑制するようにしても良い。粘性などのダンパ
などのダンパ作用を発する手段を含めるようにしても良
い。衝撃バー20の各端でのピンの相対位置ならびに長
さ、弾性部材23の弾性率、印加した予荷重の大きさなど
を変更しても良く、ピンを同時あるいは逐次Ｙ桁梁12に
接触するようにして、接触を通じて一様あるいは累進的
な抵抗をヨウに対して与えるようにしても良い。
【００３９】実施例３ 図10および図11は、本発明の第３実施例を示す。この実
施例は、第１実施例と第２実施例とは、サイドスライド
ベアリングの構成において異なっている。実施例３の片
側のみ図示されており、図示せぬ部分は、同様である
か、サイドベアリングを欠如させるか、上述の余弦短縮
を受容するＸ併進機構を含むようにしても良い。図10お
よび図11に図示していない部品で以下に具体的説明がな
い部品は、第1および第２実施例の部品と同様のものと
して良い。
施例は、第１実施例と第２実施例とは、サイドスライド
ベアリングの構成において異なっている。実施例３の片
側のみ図示されており、図示せぬ部分は、同様である
か、サイドベアリングを欠如させるか、上述の余弦短縮
を受容するＸ併進機構を含むようにしても良い。図10お
よび図11に図示していない部品で以下に具体的説明がな
い部品は、第1および第２実施例の部品と同様のものと
して良い。
【００４０】実施例３において、サイドベアリング123
は、板ばね構造150によりＹスライダ121に接続されてい
る。構造150内の板ばねは、ほぼ垂直でありＺ−軸方向
に剛的であり、また有効仮想ピボット点124’を構成す
るように角度がつけられている。有効仮想ピボット点12
4’は、Ｙモータ軌道122の中心線上になるように配置さ
れる。
は、板ばね構造150によりＹスライダ121に接続されてい
る。構造150内の板ばねは、ほぼ垂直でありＺ−軸方向
に剛的であり、また有効仮想ピボット点124’を構成す
るように角度がつけられている。有効仮想ピボット点12
4’は、Ｙモータ軌道122の中心線上になるように配置さ
れる。
【００４１】実施例４ 第４実施例は、以下の記載事項を除き第1から第3実施例
のいずれともほとんど同様であるが、図12から図14に図
示の衝撃防止機構200を有するものである。この衝撃防
止機構200は、過剰のヨウ運動の際にエネルギを吸収す
るトーションロッドを利用している。図12に図示のよう
に、第4実施例のＸ桁梁11は、Ｙ桁梁12から突出する結
合部材201を介してＹスライダ121に接続されている。架
台202がＹ桁梁12の下側で結合部材201から延在してＹ−
軸方向に伸びるトーションロッド204を支持している。
トーションロッド204は、各端にベアリング205を有し、
これらベアリング205は、トーションロッドに剛的に結
合されて、Ｙ桁梁12の下面に形成した溝26内に突入して
いる。Ｘ桁梁11のヨウ（Rz位置）が許容制限以内にあれ
ば、ベアリング205と溝206の側壁との間にクリアランス
が存在する。このクリアランスは、図13に図示してい
る。しかしながら、Ｘ桁梁11のヨウが過剰となると、ベ
アリング205は、図14に図示のように溝26の側壁と接触
する。Ｘ桁梁11のヨウ運動が継続すると、反作用力
Ｆ1，Ｆ2がベアリング205上に延在することとなる。反
作用力Ｆ1，Ｆ2が反対方向に作用するためにトーション
ロッド204にトルクが掛かる。よってトーションロッド2
04は、架台203、204に相対的に少なくと制限値までねじ
れてエネルギを吸収し、Ｘ桁梁11のRz運動に対向作用す
る。
のいずれともほとんど同様であるが、図12から図14に図
示の衝撃防止機構200を有するものである。この衝撃防
止機構200は、過剰のヨウ運動の際にエネルギを吸収す
るトーションロッドを利用している。図12に図示のよう
に、第4実施例のＸ桁梁11は、Ｙ桁梁12から突出する結
合部材201を介してＹスライダ121に接続されている。架
台202がＹ桁梁12の下側で結合部材201から延在してＹ−
軸方向に伸びるトーションロッド204を支持している。
トーションロッド204は、各端にベアリング205を有し、
これらベアリング205は、トーションロッドに剛的に結
合されて、Ｙ桁梁12の下面に形成した溝26内に突入して
いる。Ｘ桁梁11のヨウ（Rz位置）が許容制限以内にあれ
ば、ベアリング205と溝206の側壁との間にクリアランス
が存在する。このクリアランスは、図13に図示してい
る。しかしながら、Ｘ桁梁11のヨウが過剰となると、ベ
アリング205は、図14に図示のように溝26の側壁と接触
する。Ｘ桁梁11のヨウ運動が継続すると、反作用力
Ｆ1，Ｆ2がベアリング205上に延在することとなる。反
作用力Ｆ1，Ｆ2が反対方向に作用するためにトーション
ロッド204にトルクが掛かる。よってトーションロッド2
04は、架台203、204に相対的に少なくと制限値までねじ
れてエネルギを吸収し、Ｘ桁梁11のRz運動に対向作用す
る。
【００４２】図12から図14は、Ｘ桁梁11の一端に設けた
衝突防止機構200を図示するものである。質量と使用時
に発生し得るヨウレートにより、第２の同様な衝突防止
機構を他端に設けるようにしても良い。
衝突防止機構200を図示するものである。質量と使用時
に発生し得るヨウレートにより、第２の同様な衝突防止
機構を他端に設けるようにしても良い。
【００４３】本発明の種々の実施例において、運動中の
ボデイの重心、様々な駆動力の作用線ならびに種々の結
合のピボットポイントが、単一ＸＹ面に近接して、例え
ば±20mm以内に有るようにする。本発明の具体的実施例
につき説明してきたが、本発明は、上記説明した範囲外
でも実施できるものである。すなわち、上記説明は、本
発明を限定するものでなく、本発明は、リソグラフ装置
のマスクテーブルおよび基板テーブルのいずれか双方と
も位置決めするのに使用可能で有る。
ボデイの重心、様々な駆動力の作用線ならびに種々の結
合のピボットポイントが、単一ＸＹ面に近接して、例え
ば±20mm以内に有るようにする。本発明の具体的実施例
につき説明してきたが、本発明は、上記説明した範囲外
でも実施できるものである。すなわち、上記説明は、本
発明を限定するものでなく、本発明は、リソグラフ装置
のマスクテーブルおよび基板テーブルのいずれか双方と
も位置決めするのに使用可能で有る。
【図１】本発明の第1実施例のリソグラフィ投影装置を
示す図。
示す図。
【図２】図１に図示の装置の基板テーブルとドライブユ
ニットを含むウエファステージの平面図。
ニットを含むウエファステージの平面図。
【図３】図２のウエファステージのＸ桁梁の拡大側面
図。
図。
【図４】図２のウエファステージのＸ桁梁の拡大平面
図。
図。
【図５】本発明の第２実施例のウエファステージの一部
の平面図。
の平面図。
【図６】図５のウエファステージの一部の側面図。
【図７】図５のウエファステージの衝撃ピンの拡大部分
断面図
断面図
【図８】図２のウエファステージの一部の拡大側面図。
【図９】図８のウエファステージの一部の拡大平面図。
【図１０】本発明の第３実施例で使用されるベアリング
構成の平面図。
構成の平面図。
【図１１】図１０のベアリング構成の側面図。
【図１２】本発明の第４実施例のＸ桁梁の一端を示し、
衝突防止機構を図示する側面図
衝突防止機構を図示する側面図
【図１３】本発明の第４実施例のＸ桁梁の一端の通常時
の下面図
の下面図
【図１４】本発明の第４実施例のＸ桁梁の一端の異常時
の下面図
の下面図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｇ (72)発明者 セルジ フェリックス クレティエン ル シエン ウェツゼルス オランダ国 エインドホーヘン、デ トン ゲルレセストラート 42アー (72)発明者 ゲルジャン ペーター ベルドヒュイス オランダ国 ビンケル、ハイアシンテ 136 Ｆターム(参考） 2F078 CA02 CA08 5F031 CA02 CA07 HA02 HA52 HA53 JA01 JA02 JA06 JA32 KA06 KA07 KA08 LA03 LA04 LA08 MA27 5F046 CC01 CC02 CC03 CC05 CC06 CC18 DA08
Claims (16)
- 【請求項１】 放射線感光層を設けた基板上にマスクの
マスクパターンを結像するリソグラフィ装置にして、該
リソグラフィ装置が、 放射線投影ビームを供給する照射システムと、 マスクを保持する第１対物テーブルと、 基板を保持する第２対物テーブルと、 前記マスクの照射部分を前記基板の目標部分上に結像す
る投影システムと、 前記対物テーブルの少なくとも一つを一平面に位置付け
る位置決めシステムと、を有し、前記位置決めシステム
が、 第１と第２のスライダをそれそれ担持するほぼ平行な第
１と第２のサイドビームと、 前記各サイドビームの長手方向に前記第１と第２のスラ
イダを移動させる第１と第２のモータ手段と、 それぞれ第１と第２端の近くで前記第１と第２のスライ
ダに装着され、さらに第３のスライダを担持し、前記第
１と第２のスライダとともに前記一平面内での並進方向
と該一平面に垂直な軸の周りの回転方向とにおいて剛体
である本体を構成するクロスビームと、 前記第３のスライダに前記一つの対物テーブルを保持す
る対物ホルダを持たせて前記クロスビームの長手方向に
前記第３のスライダを移動させる第３モータ手段とを有
するようになったリソグラフィ装置において、 前記第１のスライダに枢動可能に装着され、前記第１平
面内で前記第１サイドビームに垂直に前記クロスビーム
と前記第１サイドビームとの間で力を伝達するスラスト
軸受を設けたことを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の装置において、さらに
前記第２のスライダに枢動可能に装着され、前記第１平
面内で前記第２サイドビームに垂直に前記クロスビーム
と前記第２サイドビームとの間で力を伝達するスラスト
軸受をさらに有し、該第２スラスト軸受が、クロスビー
ムの前記一平面に垂直な軸周りの回転で前記サイドビー
ムに垂直に前記クロスビームの長さを実質的に減少させ
得る手段を有しているリソグラフィ装置。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の装置におい
て、前記クロスビームは、継手により前記第１と第２の
スライダの少なくとも一つに装着され、前記平面と平行
な少なくとも一つの軸の周りに少なくとも多少の相対回
転が可能なようになっている装置。 - 【請求項４】 請求項１から３のいずれか一項に記載の
装置において、前記第１および第２モータ手段は、それ
ぞれ対応のサイドビームに装着されたステータと、それ
ぞれ対応のスライダに装着されたアーマチュアとを有す
るリニアモータを含むようになっている装置。 - 【請求項５】 クレーム４に記載の装置において、前記
リニアモータは、前記クロスビームの少なくとも許容移
動範囲内で前記スライダの角度位置とほぼ無関係な駆動
力を与えるようになっている装置。 - 【請求項６】 請求項５に記載の装置において、前記ス
テータは、ヘリボンパターンに配列された磁石を有する
磁気トラックを含むようになっている装置。 - 【請求項７】 請求項４に記載の装置において、前記リ
ニアモータを制御して前記第１と第２のスライダを目的
の位置まで駆動するための制御手段をさらに含み、該制
御手段は、該リニアモータに印加された駆動信号を変化
させて前記第１と第２のスライダの前記サイドビームに
相対的な角度位置を補正して所望の駆動力を得るように
なっている装置。 - 【請求項８】 請求項１から７のいずれか一項に記載の
装置において、さらに前記クロスビーム、前記第３スラ
イダあるいは前記対物ホルダに装着され、前記一平面に
垂直な軸の周りの回転を検出するための回転センサと、
該回転センサと同期して該回転センサにより検出された
回転速度が所定値を上回る場合に前記第１と第２のモー
タ手段への駆動力を遮断する遮断手段とをさらに含む装
置。 - 【請求項９】 請求項８に記載の装置において、前遮断
手段は、前記第１と第２のモータ手段に対する動力源に
ハードワイヤー接続されている装置。 - 【請求項１０】 請求項１から９のいずれか一項に記載
の装置において、前記第１と第２のスライダおよび前記
クロスビームの少なくとも一つ装着され、衝突時に前記
サイドビームの少なくとも一つに接触して前記クロスビ
ームの角度位置が許容範囲外となり、クロスビームのさ
らなる回転を抑制するための衝突保護手段をさらに有す
る装置。 - 【請求項１１】 請求項１０に記載の装置において、前
記衝突保護手段は、前記クロスビームに概して垂直であ
り、一端近くに弾性的に装着された少なくとも一つ突出
ピンを有する細長部材を含み、該ピンは、前記サイドビ
ームの一つに向かって突出し前記衝突時にこれと接触し
て前記クロスビームのさらなる回転に抗するようになっ
ている装置。 - 【請求項１２】 請求項１１に記載の装置において、前
記ピンは、前記さらなる回転中に弾性部材の偏寄力に抗
して前記細長部材へ押しこまれるように設けられている
装置。 - 【請求項１３】 請求項１０に記載の装置において、前
記衝突保護手段は、衝突時に前記サイドビームの一つに
設けた溝の対向壁に接触するようになった隔置された支
承を有する細長トルクロッドを含んでいる装置。 - 【請求項１４】 リソグラフィ投影装置を使用してデバ
イスを製造する方法にして、該リソグラフィ投影装置
は、 放射線ビームを供給する放射システムと、 マスクを保持するマスクホルダが設けられた第１の可動
対物テーブルと、 基板を保持する基板ホルダが設けられた第２可動対物テ
ーブルと、 前記マスクの照射部分を前記基板の目標部分に結像する
投影システムとを有し、前記方法は、 パターンを有するマスクを前記第１対物テーブルに設け
る段階と、 放射線感光層を設けた基板を前記第２対物テーブルに設
ける段階と、 マスクの部分を照射し、該マスクの照射部分を前記基板
の目標部分に結像させる段階とを有する方法にして、 前記照射および結像段階の前にあるいはこの段階中に前
記対物テーブルの一つを位置決めするために使用される
位置決め装置が、 第１と第２のスライダをそれぞれ担持するほぼ平行な第
１と第２のサイドビームと、 前記各サイドビームの長手方向に前記第１と第２のスラ
イダを移動させる第１と第２のモータ手段と、 それぞれ第１と第２端の近くで前記第１と第２のスライ
ダに装着され、さらに第３のスライダを担持し、前記第
１と第２のスライダとともに前記一平面内での並進方向
と該一平面に垂直な軸の周りの回転方向とにおいて剛体
である本体を構成するクロスビームと、 前記第３のスライダに前記一つの対物テーブルを保持す
る対物ホルダを持たせて前記クロスビームの長手方向に
前記第３のスライダを移動させる第３モータ手段とを有
し、さらに 前記位置決め装置が、前記第１のスライダに枢動可能に
装着され、前記第１平面内で前記第１サイドビームに垂
直に前記クロスビームと前記第１サイドビームとの間で
力を伝達するスラスト軸受を有していることを特徴とす
る方法。 - 【請求項１５】 請求項１４に記載の方法で製造される
装置。 - 【請求項１６】 可動の対物を一平面内で並進的および
回転的に位置決めする位置決め装置において、 第１と第２のスライダをそれぞれ担持するほぼ平行な第
１と第２のサイドビームと、 前記各サイドビームの長手方向に前記第１と第２のスラ
イダを移動させる第１と第２のモータ手段と、 それぞれ第１と第２端の近くで前記第１と第２のスライ
ダに装着され、さらに第３のスライダを担持し、前記第
１と第２のスライダとともに前記一平面内での並進方向
と該一平面に垂直な軸の周りの回転方向とにおいて剛体
である本体を構成するクロスビームと、 前記第３のスライダに前記一つの対物テーブルを保持す
る対物ホルダを持たせて前記クロスビームの長手方向に
前記第３のスライダを移動させる第３モータ手段と前記
第１のスライダに枢動可能に装着され、前記第１平面内
で前記第１サイドビームに垂直に前記クロスビームと前
記第１サイドビームとの間で力を伝達するスラスト軸受
とを有していることを位置決め装置。
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