KR101024319B1 - 겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치 - Google Patents
겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101024319B1 KR101024319B1 KR1020080095904A KR20080095904A KR101024319B1 KR 101024319 B1 KR101024319 B1 KR 101024319B1 KR 1020080095904 A KR1020080095904 A KR 1020080095904A KR 20080095904 A KR20080095904 A KR 20080095904A KR 101024319 B1 KR101024319 B1 KR 101024319B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- drive
- cross beam
- pair
- blocks
- unit
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
본 발명은 크로스 빔의 자세를 미세하게 제어 및 보정할 수 있는 겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 겐트리 장치는 평행하게 구비되는 한 쌍의 가이드 레일과; 상기 한 쌍의 가이드 레일에서 각각 활주되는 한 쌍의 구동블럭과; 양측이 각각 상기 한 쌍의 구동블럭 상에서 자유롭게 회전되도록 설치되어 상기 구동블럭과 함께 이송되고, 양측 중 어느 일측은 상기 구동블럭 상에서 자유롭게 활주되도록 구비되는 크로스 빔을 포함한다.
겐트리, 기판처리장치, 자세보정, 미세조정
Description
본 발명은 겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 크로스 빔의 자세를 미세하게 제어 및 보정할 수 있는 겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치에 관한 것이다.
일반적으로 겐트리(gantry) 장치는 반도체 제조용 웨이퍼(wafer) 및 액정표시패널(LCD)용 글라스 등의 정밀검사를 위한 스캐닝작업이나 표면 처리작업 등에 사용된다.
이러한 종래 겐트리 장치는 웨이퍼 또는 글라스 등을 검사하기 위한 스캐너 및 증착기와 같은 처리유닛이 장착된 헤드와, 헤드를 X축 및 Y축 방향으로 이송시키는 이송장치로 구성된다.
이송장치는 한 쌍이 나란히 구비되는 가이드 레일과 상기 가이드 레일에 직교되도록 설치되어 가이드 레일을 따라 활주되는 크로스 빔으로 구성된다. 이러한 이송장치는 원활한 직선운동과 정확한 작업을 위하여 가이드 레일과 크로스 빔의 직교도를 상당히 정밀하게 유지하여야 하기 때문에,가이드 레일에 설치되는 크로스 빔은 자세가 정밀하게 세팅된 상태에서 견고하게 조립된다.
하지만, 크로스 빔의 오작동 또는 사용자의 실수로 인한 스토퍼와의 층돌 등과 같은 사고 발생시 가이드 레일과 크로스 빔의 직교도가 변경되는 문제가 발생되고, 이런 경우 가이드 레일과 크로스 빔을 재조립하여 가이드 레일과 크로스 빔의 직교도를 보정하여야만 한다. 따라서, 크로스 빔의 직교도 보정작업에 상당한 시간이 소요되는 문제점이 있었다.
또한, 가이드 레일에 크로스 빔이 상당히 견고하게 경직된 상태로 조립되어 구조적으로 크로스 빔이 구속되어 있기 때문에 크로스 빔의 자세를 미세하게 조절하는 것은 불가능하였다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 가이드 레일상에서 모터의 구동 제어에 따라 활주되는 구동블럭 상에서 크로스 빔이 자유롭게 회전 및 활주되도록 하여 구동블럭의 소프트웨어적인 제어에 따라 크로스 빔의 미세 제어 및 직교도 보정을 달성할 수 있도록 하는 겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치를 제공한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 겐트리 장치는 평행하게 구비되는 한 쌍의 가이드 레일과; 상기 한 쌍의 가이드 레일에서 각각 활주되는 한 쌍의 구동블럭과; 양측이 각각 상기 한 쌍의 구동블럭 상에서 자유롭게 회전되도록 설치되어 상기 구동블럭과 함께 이송되고, 양측 중 어느 일측은 상기 구동블럭 상에서 자유롭게 활주되도록 구비되는 크로스 빔을 포함한다.
이때 상기 한 쌍의 구동블럭과 상기 크로스 빔의 연결부위에는 상기 크로스 빔이 상기 구동블럭 상에서 자유롭게 회전되도록 하는 한 쌍의 자유회전유닛이 설치되는 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 한 쌍의 자유회전유닛 중 적어도 어느 하나에는 상기 크로스 빔이 크로스 빔의 형성방향을 따라 자유롭게 활주되도록 하는 자유활주유닛이 설치되는 것을 특징으로 한다.
이때 상기 한 쌍의 자유회전유닛은 상기 크로스 빔 또는 구동블럭 중 선택되는 것에 구비되는 회전축과 상기 회전축이 자유롭게 회전되도록 구비되는 롤러 베어링인 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 자유활주유닛은 상기 자유회전유닛의 상면에 설치되는 보조 레일과 상기 보조 레일을 따라 자유롭게 활주되도록 상기 크로스 빔에 구비되는 가이드부인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 한 쌍의 구동블럭은 각각 구동을 위한 구동유닛이 구비되고, 상기 구동유닛의 구동은 각각 개별적으로 제어되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 기판처리장치는 처리물이 안착되는 스테이지와; 상기 스테이지 상에 평행하게 구비되는 한 쌍의 가이드 레일과; 상기 한 쌍의 가이드 레일에서 각각 활주되는 한 쌍의 구동블럭과; 양측이 각각 상기 한 쌍의 구동블럭에 지지되어 상기 구동블럭과 함께 이송되는 크로스 빔과; 상기 한 쌍의 구동블럭과 상기 크로스 빔의 연결부위에 설치되어 상기 크로스 빔이 상기 구동블럭 상에서 자유롭게 회전되도록 하는 한 쌍의 자유회전유닛과; 상기 한 쌍의 자유회전유닛 중 적어도 어느 하나에 설치되어 상기 크로스 빔이 크로스 빔의 형성방향을 따라 자유롭게 활주되도록 하는 자유활주유닛과; 상기 크로스 빔에 설치되어 상기 크로스 빔을 따라 활주되고, 상기 처리물을 처리하기 위한 처리유닛이 장착되는 헤드를 포함한다.
이때 상기 한 쌍의 자유회전유닛은 상기 크로스 빔 또는 구동블럭 중 선택되는 것에 구비되는 회전축과 상기 회전축이 자유롭게 회전되도록 구비되는 롤러 베어링인 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 자유활주유닛은 상기 자유회전유닛의 상면에 설치되는 보조 레일과 상기 보조 레일을 따라 자유롭게 활주되도록 상기 크로스 빔에 구비되는 가이드부인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 한 쌍의 구동블럭은 각각 구동을 위한 구동유닛이 구비되고, 상기 구동유닛의 구동은 각각 개별적으로 제어되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 겐트리 장치의 틸트 보정 방법은 한 쌍의 구동블럭에 각각 마련되는 구동유닛을 구동하여 크로스 빔의 원점 위치를 결정하는 단계와; 상기 구동유닛 상호간의 구동제어값 편차를 제어변수로 저장하여 크로스 빔의 원점 데이터를 결정하는 단계; 한 쌍의 구동블럭을 이동시켜 작업을 진행하면서 구동블럭의 구동유닛 상호간 구동제어값 편차를 상기 제어변수와 비교하여 크로스 빔의 자세를 모니터링 하는 단계와; 구동블럭의 구동유닛 상호간 구동제어값 편차가 상기 제어변수와 다른 경우에는 구동유닛의 구동을 각각 제어하여 구동유닛 상호간 구동제어값 편차를 제어변수와 동일하게 유지시켜서 크로스 빔의 자세를 보정하는 단계를 포함한다.
이때 상기 크로스 빔의 원점 위치를 결정하는 단계에서, 상기 크로스 빔의 원점 위치는 크로스 빔과 크로스 빔이 활주되는 가이드 레일이 수직으로 배치되는 위치인 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 크로스 빔의 자세를 보정하는 단계는, 한 쌍의 구동블럭에 구비되는 구동유닛 중 적어도 어느 하나를 로 작동하여 적어도 하나의 구동블럭을 개별적으로 활주시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 가이드 레일 상에 활주되는 구동블럭과 크로스 빔 사이에 자유회전유닛 및 자유활주유닛을 구비함에 따라 크로스 빔이 구동블럭 상에서 자유롭게 회전 및 활주되도록 하여 크로스 빔의 자세 유지 및 보정을 유연하게 구현할 수 있는 효과가 있다.
또한, 크로스 빔의 원점 위치에 따른 구동블럭의 모터 구동제어값을 제어변수로 저장하여 크로스 빔의 원점 데이터를 구축하고, 이에 따라 크로스 빔의 작업 중 구동블럭의 모터 구동제어값을 원점 데이터와 비교하여 소프트웨어적으로 크로스 빔의 자세를 유지 및 신속하게 보정할 수 있는 효과가 있다.
그리고, 가이드 레일 상에서 활주되는 한 쌍의 구동블럭을 각각 개별적으로 제어함에 따라 가이드 레일 상에서 크로스 빔의 자세를 미세하게 제어할 수 있는 효과가 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
도 1은 본 발명에 따른 겐트리 장치를 이용한 기판처리장치를 개략적으로 나타내는 사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 겐트리 장치를 이용한 기판처리장치를 개략적으로 나타내는 분해사시도이며, 도 3은 본 발명에 따른 겐트리 장치를 이용한 기판처리장치의 작동 상태를 보여주는 작동상태이다.
도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 겐트리 장치를 이용한 기판처리장치는 처리물(W)이 안착되는 스테이지(80)와; 상기 스테이지(80) 상에서 평행하게 구비되는 한 쌍의 가이드 레일(10a,10b)과; 상기 한 쌍의 가이드 레일(10a,10b)에서 각각 활주되는 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)과; 양측이 각각 상기 한 쌍의 구동블럭(20a,20b) 상에서 자유롭게 회전되도록 설치되어 상기 구동블럭(20a,20b)과 함께 이송되고, 양측 중 어느 일측은 상기 구동블럭(20a,20b) 상에서 자유롭게 활주되도록 구비되는 크로스 빔(30)을 포함한다.
스테이지(80)는 웨이퍼 또는 글라스와 같은 처리물(W)이 안착되는 공간 및 상기 가이드 레일(10a,10b)이 설치되는 공간을 제공한다. 상기 스테이지(80)는 평평하게 구비되는 것이 바람직하지만 처리물(W)의 형상 및 가이드 레일(10a,10b)의 형상에 대응하여 변경될 수 있다.
가이드 레일(10a,10b)은 상기 스테이지(80)의 상부에 상호 나란하게 이격되어 평행하게 한 쌍이 구비된다.
구동블럭(20a,20b)은 상기 가이드 레일(10a,10b)에 대응하여 한 쌍으로 마련된다. 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)은 한 쌍의 가이드 레일(10a,10b)에 안내되어 가 이드 레일(10a,10b)의 길이방향으로 따라 활주된다. 이때 상기 구동블럭(20a,20b)에는 각각 구동을 위한 구동유닛(미도시)이 구비되고, 구동유닛의 구동은 각각 개별적으로 제어된다. 상기 구동유닛은 예를 들어 직선운동을 발생하는 리니어 모터 및 볼스크류와 볼스크를 회전시키는 모터의 조합일 수 있다. 물론 이에 한정되지 않고, 상기 구동블럭(20a,20b)을 가이드 레일(10a,10b) 상에서 활주시키는 동작을 제어할 수 있다면 어떠한 방식이 적용되어도 무방하다.
크로스 빔(30)은 양측이 상기 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)에 각각 설치되어 상기 구동블럭(20a,20b)의 구동에 의해 상기 가이드 레일(10a,10b)을 따라 활주된다. 크로스 빔(30)은 대략 사각 단면의 긴 막대 형상으로 마련될 수 있으나, 이에 한정되지 않고 다양한 형상의 빔(beam) 타입으로 형성될 수 있다.
그리고, 상기 구동블럭(20a,20b)과 크로스 빔(30) 사이에는 크로스 빔(30)이 상기 구동블럭(20a,20b) 상에서 자유롭게 회전되도록 하는 자유회전유닛(40a,40b)이 구비되고, 크로스 빔(30)의 양측 중 어느 일측은 크로스 빔(30)이 상기 구동블럭(20a,20b) 상에서 크로스 빔(30)의 길이방향으로 자유롭게 활주되도록 자유활주유닛(50)이 구비된다.
자유회전유닛(40a,40b)은 상기 한 쌍의 구동블럭(20a,20b) 상면에 장착되는 한 쌍의 롤러 베어링(41a,41b)과, 상기 롤러 베어링(41a,41b)에 축연결 되어 롤러 베어링(41a,41b)에 의해 자유롭게 회전되는 한 쌍의 회전축(43a,43b)으로 이루어진다. 이때 자유회전유닛(40a,40b)의 회전은 한 쌍의 가이드 레일(10a,10b)이 배치되는 평면과 평행한 평면상에서 회전되는 것을 의미한다. 상기 한 쌍의 회전 축(43a,43b)은 각각 상기 크로스 빔(30)의 양측 하부에 일체로 장착되어 크로스 빔(30)이 상기 구동블럭(20a,20b) 상면에서 자유롭게 회전되도록 구비된다. 정확하게는 상기 한 쌍의 회전축(43a,43b) 중 어느 하나의 회전축(43b)은 상기 크로스 빔(30)의 하면에 일체로 장착되고, 다른 하나의 회전축(43a)는 상기 크로스 빔(30)에 구비되는 후술되는 자유활주유닛(50)에 일체로 장착되는 것이 바람직하다. 물론 상기 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)에 회전축(43a,43b)이 일체로 장착되고, 상기 크로스 빔(30)의 일측 하부와 타측의 하부에 구비되는 자유활주유닛(50)에 롤러 베어링(41a,41b)이 각각 장착되는 것도 가능하다. 자유회전유닛(40a,40b)의 구성은 제시된 실시예에 한정되지 않고, 상기 크로스 빔(30)이 상기 구동블럭(20a,20b) 상에서 동력에 의하지 않고 자유롭게 회전될 수 있다면 어떠한 구성으로 구현되어도 무방하다.
자유활주유닛(50)은 상기 자유회전유닛(40a,40b) 중의 어느 하나의 상면에 설치되는 보조 레일(51)과 상기 보조 레일(51)을 따라 자유롭게 활주되도록 상기 크로스 빔(30)에 일체로 구비되는 가이드부(53)로 이루어진다. 이때 전술된 바와 같이 상기 회전축(43a,43b) 중 자유활주유닛(50)에 일체로 장착되는 회전축(43a)은 상기 보조 레일(51)의 하부에 일체로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 보조 레일(51)은 상기 크로스 빔(30)에 구비되는 가이드부(53)가 동력에 의하지 않고 자유롭게 보조 레일(51)에서 활주될 수 있다면 어떠한 구성으로 구현되어도 무방하다. 예를 들어 상기 보조 레일(51)은 대략 상면에 소정의 홈(51a)을 길게 형성하고, 상기 가이드부(53)를 상기 소정의 홈(51a) 단면 형상과 대응되 는 단면 형상을 갖도록 형성하여 상기 가이드부(53)가 상기 보조 레일(51)에 안내되어 자유롭게 활주되도록 하거나, 상기 가이드부(53)를 LM 가이드로 구성할 수도 있을 것이다.
이렇게 자유회전유닛(40a,40b) 및 자유활주유닛(50)을 구성함에 따라 상기 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)이 가이드 레일(10a,10b)를 따라 활주되어 작업이 진행되던 도중 설비의 오작동 및 사용자의 제어실수로 인하여 가이드 레일(10a,10b)과 크로스 빔(30)의 직교도가 변경되는 경우, 크로스 빔(30)과 가이드 레일(10a,10b) 사이에서 자유회전유닛(40a,40b) 및 자유활주유닛(50)에 의해 크로스 빔(30)의 자세가 유연하게 변경되어 크로스 빔(30)의 기계적인 손상을 방지할 수 있다.
예를 들어 도 3에 도시된 바와 같이 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)을 구동시키는 구동유닛의 구동값이 설비의 오작동 및 사용자의 제어실수로 서로 다르게 제어되어 크로스 빔의 자세가 변경되는 경우, 크로스 빔(30)의 하부에 구비되는 회전축(43a,43b)이 롤러 베어링(41a,41b) 상에서 회전됨에 따라 크로스 빔(30)이 가이드 레일(10a,10b) 상에서 틀어진다. 이때 크로스 빔(30)의 일측에 구비되는 가이드부(53)가 보조 레일(51) 상에서 자유롭게 활주됨에 따라 가이드 레일(10a,10b) 상호 간의 이격거리와 크로스 빔(30)의 양측이 상기 가이드 레일(10a,10b)에 안착되는 부위 사이의 이격거리 편차를 보상해 준다.
그리고, 상기 크로스 빔(30)에는 상기 크로스 빔(30)을 따라 활주되는 헤드(60)가 설치된다. 상기 헤드(60)는 크로스 빔(30)의 길이 방향을 따라 활주 가능하도록 상기 구동블럭(20a,20b)과 마찬가지로 구동유닛(미도시)이 구비된다. 이렇 게 크로스 빔(30)을 따라 활주되는 헤드(60)에는 처리물(W)을 검사 또는 처리하기 위한 스캐너 및 증착기 등과 같은 처리유닛(70)이 장착된다. 상기 처리유닛(70)은 기판처리장치의 적용분야에 따라 기기가 적용될 수 있다.
상기와 같이 구성되는 겐트리 장치를 이용한 기판처리장치의 작동 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법을 설명하면 다음과 같다.
도 4는 본 발명에 따른 겐트리 장치의 틸트 보정 방법을 나타내는 순서도이다.
도면을 참조하면, 먼저, 크로스 빔(30)의 원점 위치 및 그에 따른 원점 데이터를 구축한다. 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)에 마련된 구동유닛(미도시)을 각각 구동시켜 크로스 빔(30)이 가이드 레일(10a,10b) 상에 정위치 되도록 한다. 여기서 원점 위치는 크로스 빔(30)이 가이드 레일(10a,10b) 상에서 올바르게 활주되면서 헤드(60)에서 수행하고자 하는 작업을 원활하게 진행할 수 있는 크로스 빔(30)의 자세를 말한다. 통상적으로 원점 위치는 크로스 빔(30)과 크로스 빔(30)이 활주되는 가이드 레일(10a,10b)이 수직으로 배치되는 위치이다.
이렇게 가이드 레일(10a,10b) 상에서 크로스 빔(30)의 원점 위치가 결정되면, 이때 각 구동블럭(20a,20b)에 구비되는 구동유닛의 구동제어값이 결정되는데, 결정된 상호간의 구동제어값 편차를 제어변수로 저장하여 크로스 빔(30)의 원점 데이터를 결정한다.
이렇게 크로스 빔(30)의 원점 데이터가 결정되었다면, 스테이지(80) 상에 처 리물(W)을 안착시키고, 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)을 서로 동일한 구동값으로 구동시켜 크로스 빔을 가이드 레일 상에서 활주시킨다. 이렇게 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)이 서로 동일한 구동값으로 구동되면 크로스 빔(30)은 가이드 레일(10a,10b)과 수직인 상태를 유지하면서 가이드 레일(10a,10b)을 따라 활주된다. 그리고, 이와 동시에 크로스 빔(30)에 장착된 헤드(60)는 크로스 빔(30)을 따라 활주되면서 헤드(60)에 장착된 스캐너 또는 증착기와 같은 처리유닛(70)을 이용하여 가이드 레일(10a,10b) 사이에 배치된 처리물(W)을 검사 또는 처리하게 된다.
정상 조업이 진행되는 동안에도 구동블럭(20a,20b) 상호간의 구동제어값 편차를 상기 제어변수와 비교하여 크로스 빔(30)의 자세를 모니터링 한다.
이렇게 작업을 정상적으로 진행하다가 설비의 오작동 및 사용자의 제어실수에 의해 구동블럭(20a,20b) 각각의 구동값이 서로 다르게 적용되는 경우에는 구동블럭(20a,20b)의 구동유닛 상호간 구동제어값 편차가 상기 제어변수와 달라진다.
그러면 한 쌍의 구동블럭(20a,20b)에 구비되는 구동유닛 중 적어도 어느 하나를 별개로 작동하여 적어도 하나의 구동블럭(20a,20b)을 개별적으로 활주시킴에 따라 구동유닛 상호간 구동제어값 편차를 제어변수와 동일하게 유지시켜서 크로스 빔(30)의 자세를 보정한다.
이때 하나의 구동블럭(20a,20b)이 활주되어 크로스 빔(30)의 자세를 보정하더라도 크로스 빔(30)의 양측이 자유회전유닛(40a,40b)에 의해 구동블럭(20a,20b)에서 자유롭게 회전되고, 자유활주유닛(50)에 의해 구동블럭(20a,20b) 상에서 활주됨에 따라 크로스 빔(30)의 자세변경이 유연하게 이루어져서 크로스 빔(30)의 기계 적인 손상을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명은 크로스 빔(30)의 자세를 원하는 위치, 예를 들어 가이드 레일(10a,10b)과 크로스 빔(30)이 수직인 상태로 유지하는 것에 한정되지 않고, 크로스 빔(30)의 양측을 각각 가이드 레일(10a,10b) 상에서 활주시키는 구동블럭(20a,20b)을 각각 개별적으로 제어하여 구동시킴에 따라 크로스 빔(30)의 자세를 사용자가 원하는 자세로 미세하게 조정할 수 있다. 따라서 크로스 빔(30)에 장착되는 헤드(60)의 작업위치를 작업범위 내에서 미세하게 조정할 수 있다.
본 발명을 첨부 도면과 전술된 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 그에 한정되지 않으며, 후술되는 특허청구범위에 의해 한정된다. 따라서, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 후술되는 특허청구범위의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 변형 및 수정할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 겐트리 장치를 이용한 기판처리장치를 개략적으로 나타내는 사시도이고,
도 2는 본 발명에 따른 겐트리 장치를 이용한 기판처리장치를 개략적으로 나타내는 분해사시도이며,
도 3은 본 발명에 따른 겐트리 장치를 이용한 기판처리장치의 작동 상태를 보여주는 작동상태이고,
도 4는 본 발명에 따른 겐트리 장치의 틸트 보정 방법을 나타내는 순서도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10a,10b: 가이드 레일 20a,20b: 구동블럭
30: 크로스 빔 40a,40b: 자유회전유닛
41a,41b: 롤러 베어링 43a,43b: 회전축
50: 자유활주유닛 51: 보조 레일
53: 가이드부 60: 헤드
Claims (13)
- 평행하게 구비되는 한 쌍의 가이드 레일과;상기 한 쌍의 가이드 레일에서 각각 활주되는 한 쌍의 구동블럭과;양측이 각각 상기 한 쌍의 구동블럭 상에서 자유롭게 회전되도록 설치되어 상기 구동블럭과 함께 이송되는 크로스 빔을 포함하고,상기 크로스 빔의 양측 중 어느 일측에는 상기 구동블럭 상에서 크로스 빔이 크로스 빔의 형성방향을 따라 자유롭게 활주되도록 하는 자유활주유닛이 설치되고,상기 자유활주유닛은 구동블럭의 상부에 설치되는 보조 레일과, 상기 보조 레일을 따라 자유롭게 활주되도록 상기 크로스 빔에 구비되는 가이드부를 포함하는 겐트리 장치.
- 청구항 1에 있어서,상기 한 쌍의 구동블럭과 상기 크로스 빔의 연결부위에는 상기 크로스 빔이 상기 구동블럭 상에서 자유롭게 회전되도록 하는 한 쌍의 자유회전유닛이 설치되는 것을 특징으로 하는 겐트리 장치.
- 삭제
- 청구항 2에 있어서,상기 한 쌍의 자유회전유닛은 상기 크로스 빔 또는 구동블럭 중 선택되는 것에 구비되는 회전축과 상기 회전축이 자유롭게 회전되도록 구비되는 롤러 베어링인 것을 특징으로 하는 겐트리 장치.
- 삭제
- 청구항 1에 있어서,상기 한 쌍의 구동블럭은 각각 구동을 위한 구동유닛이 구비되고,상기 구동유닛의 구동은 각각 개별적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 겐트리 장치.
- 처리물이 안착되는 스테이지와;상기 스테이지 상에 평행하게 구비되는 한 쌍의 가이드 레일과;상기 한 쌍의 가이드 레일에서 각각 활주되는 한 쌍의 구동블럭과;양측이 각각 상기 한 쌍의 구동블럭에 지지되어 상기 구동블럭과 함께 이송되는 크로스 빔과;상기 한 쌍의 구동블럭과 상기 크로스 빔의 연결부위에 설치되어 상기 크로스 빔이 상기 구동블럭 상에서 자유롭게 회전되도록 하는 한 쌍의 자유회전유닛과;상기 한 쌍의 자유회전유닛 중 적어도 어느 하나에 설치되어 상기 크로스 빔이 크로스 빔의 형성방향을 따라 자유롭게 활주되도록 하는 자유활주유닛과;상기 크로스 빔에 설치되어 상기 크로스 빔을 따라 활주되고, 상기 처리물을 처리하기 위한 처리유닛이 장착되는 헤드를 포함하고,상기 자유활주유닛은 상기 자유회전유닛의 상면에 설치되는 보조 레일과 상기 보조 레일을 따라 자유롭게 활주되도록 상기 크로스 빔에 구비되는 가이드부인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 7에 있어서,상기 한 쌍의 자유회전유닛은 상기 크로스 빔 또는 구동블럭 중 선택되는 것에 구비되는 회전축과 상기 회전축이 자유롭게 회전되도록 구비되는 롤러 베어링인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 삭제
- 청구항 7에 있어서,상기 한 쌍의 구동블럭은 각각 구동을 위한 구동유닛이 구비되고,상기 구동유닛의 구동은 각각 개별적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 한 쌍의 구동블럭에 각각 마련되는 구동유닛을 구동하여 크로스 빔의 원점 위치를 결정하는 단계와;상기 구동유닛 상호간의 구동제어값 편차를 제어변수로 저장하여 크로스 빔의 원점 데이터를 결정하는 단계;한 쌍의 구동블럭을 이동시켜 작업을 진행하면서 구동블럭의 구동유닛 상호간 구동제어값 편차를 상기 제어변수와 비교하여 크로스 빔의 자세를 모니터링 하는 단계와;구동블럭의 구동유닛 상호간 구동제어값 편차가 상기 제어변수와 다른 경우에는 구동유닛의 구동을 각각 제어하여 구동유닛 상호간 구동제어값 편차를 제어변수와 동일하게 유지시켜서 크로스 빔의 자세를 보정하는 단계를 포함하는 겐트리 장치의 틸트 보정 방법.
- 청구항 11에 있어서,상기 크로스 빔의 원점 위치를 결정하는 단계에서, 상기 크로스 빔의 원점 위치는 크로스 빔과 크로스 빔이 활주되는 가이드 레일이 수직으로 배치되는 위치인 것을 특징으로 하는 겐트리 장치의 틸트 보정 방법.
- 청구항 11에 있어서,상기 크로스 빔의 자세를 보정하는 단계는, 한 쌍의 구동블럭에 구비되는 구동유닛 중 적어도 어느 하나를 로 작동하여 적어도 하나의 구동블럭을 개별적으로 활주시키는 것을 특징으로 하는 겐트리 장치의 틸트 보정 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080095904A KR101024319B1 (ko) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080095904A KR101024319B1 (ko) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100036603A KR20100036603A (ko) | 2010-04-08 |
KR101024319B1 true KR101024319B1 (ko) | 2011-03-23 |
Family
ID=42214085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080095904A KR101024319B1 (ko) | 2008-09-30 | 2008-09-30 | 겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101024319B1 (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101055216B1 (ko) * | 2010-08-02 | 2011-08-08 | 김복인 | 중,대형장비용 지축 지지장치 |
KR101218772B1 (ko) * | 2010-11-29 | 2013-01-21 | 순환엔지니어링 주식회사 | 유연기구를 이용한 회전 오차 보상 스테이지 |
KR102298391B1 (ko) * | 2020-01-21 | 2021-09-06 | (주)브이에이디인스트루먼트 | 스테이지 장치 |
CN111940185A (zh) * | 2020-08-24 | 2020-11-17 | 宁波市嘉乐电器有限公司 | 一种自动喷涂装置、系统及方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010061993A (ko) * | 1999-12-01 | 2001-07-07 | 에이에스엠 리소그라피 비.브이. | 전사장치용 위치결정 시스템 |
KR100573771B1 (ko) * | 2004-06-25 | 2006-04-25 | 삼성전자주식회사 | 갠트리장치 |
-
2008
- 2008-09-30 KR KR1020080095904A patent/KR101024319B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010061993A (ko) * | 1999-12-01 | 2001-07-07 | 에이에스엠 리소그라피 비.브이. | 전사장치용 위치결정 시스템 |
KR100573771B1 (ko) * | 2004-06-25 | 2006-04-25 | 삼성전자주식회사 | 갠트리장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100036603A (ko) | 2010-04-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4525751B2 (ja) | アライメント装置およびアライメント装置の原点復帰方法、アライメント装置を備えた旋回テーブル、並進テーブル、機械、および機械制御システム | |
CN108656123B (zh) | 工业机器人 | |
KR101024319B1 (ko) | 겐트리 장치 및 겐트리 장치의 틸트 보정 방법과 이를 이용한 기판처리장치 | |
JP4656334B2 (ja) | アライメント装置 | |
KR101531721B1 (ko) | 산업용 로보트 | |
US10087014B2 (en) | Pallet conveying apparatus | |
JPWO2006137249A1 (ja) | ワーク搬送システム | |
JP2006065296A (ja) | ガントリー装置{gantryapparatus} | |
JP5541398B1 (ja) | テーブル装置、及び搬送装置 | |
JP4584766B2 (ja) | スキージの角度制御方法およびスクリーン印刷装置 | |
JP4826584B2 (ja) | 並進旋回2自由度ステージ装置およびこれを用いた3自由度ステージ装置 | |
JP2017222162A (ja) | スクリーン印刷装置及びスクリーン印刷方法 | |
JP6035063B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
KR102011061B1 (ko) | 반도체 슈라우드 링의 홀 가공기 | |
US20230083630A1 (en) | Working table for reel-to-reel process | |
JP2021019145A (ja) | ブレード間隔調整装置 | |
JP6478168B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
KR20110025702A (ko) | 잉크젯용 도포 헤드의 회전 조정 장치 | |
KR101535068B1 (ko) | 틀어짐을 보정하는 8축 이송로봇 | |
KR100786999B1 (ko) | 유리기판의 연마장치 및 연마방법 | |
JP2006237485A (ja) | アライメント装置 | |
KR102372887B1 (ko) | 회전 구동부를 구비한 매트리스 모서리 봉제장치 | |
JP2004153242A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2009135503A (ja) | ステージの昇降装置 | |
JP2024008958A (ja) | 基板搬送装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140317 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161214 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171218 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181211 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191210 Year of fee payment: 10 |