JP2004153242A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 副搬送機構11に姿勢変化が生じたことをレーザ変位計51で検出し、基板Wの受け渡し時に検出された姿勢変化量に応じて補正ユニット43によって副搬送機構11の位置を調整する。したがって、姿勢変化によって生じた位置ズレを補正でき、副搬送機構11と主搬送機構の間における受け渡し位置関係を正常に保つことができる。その結果、基板Wに擦過痕が生じることを防止して、品質高く基板Wを処理できる。
【選択図】 図6
Description
次に、上述した姿勢変化の検出に係る構成の他の実施例について説明する。
図8を参照する。なお、図8は、検出手段が内蔵された例を示す概略構成図である。
次に、図9を参照する。図9は、接触式検出手段を備えた例を示す概略構成図である。
次に、上述した駆動手段に係る構成の他の実施例について説明する。
図10を参照する。図10は、カムを備えた駆動手段の例を示す概略構成図である。
図11を参照する。図11は、カムを備えた駆動手段の例を示す概略構成図である。
図12を参照する。図12は、ゴニオステージを備えた駆動手段の例を示す概略構成図である。
5,7,9 … 洗浄処理部
5a,7a,9a … 第1処理槽
5b,7b,9b … 第2処理槽
11,13,15 … 副搬送機構(保持手段)
17 … 主搬送機構(搬送手段)
19 … 主柱
21a … 開口部(貫通口)
23 … 延出部材
25 … 垂下部材
29 … 支持部材
31 … 載置部材
33 … アクチュエータ(位置調整手段)
33a … 作動片
43 … 補正ユニット(補正手段)
45 … 主柱
47 … 取付部材
49 … 固定アーム
51 … レーザ変位計(検出手段)
53 … 基柱(剛性部材)
55 … 制御部
P … 片持ち支点
71 … 角加速度検出器(検出手段)
73 … 直線式エンコーダ(接触式検出手段)
81 … 位置調整機構(補正手段)
83 … 進退駆動部(進退駆動手段)
Claims (13)
- 基板に対して処理を施す基板処理装置において、
基板を収容して処理を施す処理槽と、
基板を保持しつつ、前記処理槽内の処理位置と、前記処理槽の上方の移載位置との間で移動する片持ち式に保持する保持手段と、
基板を支持して前記移載位置にある前記保持手段との間で基板を受け渡す搬送手段と、
前記保持手段の姿勢変化量を検出する検出手段と、
前記保持手段または前記搬送手段の位置を補正する補正手段とを備え、
前記保持手段と前記搬送手段との基板の受け渡しの際に、前記検出手段によって検出された前記保持手段の姿勢変化量に応じて前記補正手段により補正を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記補正手段は、
前記保持手段の片持ち支点周りに、前記保持手段を回動自在に支持する支持手段と、
片持ち支点周りに前記保持手段を揺動させる駆動手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記補正手段は、
前記保持手段の片持ち式の基端部に形成された貫通口と、
前記貫通口に挿通される剛性部材と、
前記保持手段の片持ち支点の移動方向とは逆方向に、前記剛性部材を用いて前記保持手段の位置を移動する位置調整手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記検出手段は、前記保持手段から離れた位置より検出を行うレーザ変位計または画像処理手段を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記検出手段は、前記保持手段の基端部側に内蔵されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項5に記載の基板処理装置において、
前記検出手段は、角加速度検出または歪み検出を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記検出手段は、前記保持手段に接触した状態で検出を行う接触式検出手段を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から7のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記補正手段は、基板非保持状態における前記保持手段の姿勢を基準として補正を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から8のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記補正手段は、前記保持手段が基板非保持状態と基板保持状態の間を移行する際に逐次補正を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2から9のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記補正手段は、前記支持手段を基板支持側に沿って進退させる進退駆動手段を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記駆動手段は、カムを備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記駆動手段は、圧電素子を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記支持手段は、ゴニオステージまたは球面座を備えていることを特徴とする基板処理装置。
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