JP4229779B2 - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4229779B2 JP4229779B2 JP2003300010A JP2003300010A JP4229779B2 JP 4229779 B2 JP4229779 B2 JP 4229779B2 JP 2003300010 A JP2003300010 A JP 2003300010A JP 2003300010 A JP2003300010 A JP 2003300010A JP 4229779 B2 JP4229779 B2 JP 4229779B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- holding
- processing apparatus
- substrate processing
- holding means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
Description
次に、上述した姿勢変化の検出に係る構成の他の実施例について説明する。
図8を参照する。なお、図8は、検出手段が内蔵された例を示す概略構成図である。
次に、図9を参照する。図9は、接触式検出手段を備えた例を示す概略構成図である。
次に、上述した駆動手段に係る構成の他の実施例について説明する。
図10を参照する。図10は、カムを備えた駆動手段の例を示す概略構成図である。
図11を参照する。図11は、圧電素子を備えた駆動手段の例を示す概略構成図である。
図12を参照する。図12は、ゴニオステージを備えた駆動手段の例を示す概略構成図である。
5,7,9 … 洗浄処理部
5a,7a,9a … 第1処理槽
5b,7b,9b … 第2処理槽
11,13,15 … 副搬送機構(保持手段)
17 … 主搬送機構(搬送手段)
19 … 主柱
21a … 開口部(貫通口)
23 … 延出部材
25 … 垂下部材
29 … 支持部材
31 … 載置部材
33 … アクチュエータ(位置調整手段)
33a … 作動片
43 … 補正ユニット(補正手段)
45 … 主柱
47 … 取付部材
49 … 固定アーム
51 … レーザ変位計(検出手段)
53 … 基柱(剛性部材)
55 … 制御部
P … 片持ち支点
71 … 角加速度検出器(検出手段)
73 … 直線式エンコーダ(接触式検出手段)
81 … 位置調整機構(補正手段)
83 … 進退駆動部(進退駆動手段)
Claims (9)
- 基板に対して処理を施す基板処理装置において、
基板を収容して処理を施す処理槽と、
中空部を有する主柱と、
前記主柱の上部に設けられ、前記中空部と連通した開口部を有する取付部材と、
前記取付部材に配設され、基板を保持しつつ、前記処理槽内の処理位置と、前記処理槽の上方の移載位置との間で移動する片持ち式に保持する保持手段と、
基板を支持して前記移載位置にある前記保持手段との間で基板を受け渡す搬送手段と、
前記保持手段の姿勢変化量を検出する検出手段と、
前記保持手段の位置を補正する補正手段と、を備え、
前記補正手段は、前記開口部に挿通される剛性部材と、
前記取付部材に埋設された位置調整手段と、を備え、
前記位置調整手段は、アクチュエータと、前記アクチュエータに接合され、前記開口部に進退可能に設けられた作動片と、を備え、
前記検出手段により検出された前記保持手段の姿勢変化量に応じて、前記アクチュエータの前記作動片を進退させることにより前記開口部に挿通された前記剛性部材が前記作動片の進退方向に押圧され、前記アクチュエータが移動することで、前記保持手段が上下動し、前記保持手段の姿勢が補正されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記位置調整手段は、前記作動片に接合する支持枠と、
前記支持枠に所定の間隔を空けて回転自在に設けられた一対のローラと、をさらに備え、
前記剛性部材は、前記一対のローラの間に挿通され、
前記検出手段により検出された前記保持手段の姿勢変化量に応じて、前記アクチュエータの前記作動片を進退させることにより、前記作動片と接合する前記支持枠が進退し、前記剛性部材がローラにより進退方向に押圧され、その反動で前記アクチュエータが移動することで、前記保持手段が上下動し、前記保持手段の姿勢が補正されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記位置調整手段は、前記作動片の進退可能方向に配設された一対のレールと、
前記一対のレールに取り付けられたリニアガイドと、をさらに備え、
前記リニアガイドには前記支持枠が取り付けられていることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に対して処理を施す基板処理装置において、
基板を収容して処理を施す処理槽と、
基板を保持しつつ、前記処理槽内の処理位置と、前記処理槽の上方の移載位置との間で移動する片持ち式に保持する保持手段と、
前記保持手段と接合する取付部材と、
前記取付部材を介して前記保持手段を支持する主柱と、
基板を支持して前記移載位置にある前記保持手段との間で基板を受け渡す搬送手段と、
前記保持手段の姿勢変化量を検出する検出手段と、
前記保持手段の位置を補正する補正手段と、を備え、
前記補正手段は、前記取付部材の内部において、前記保持手段と連結する支持手段と、前記取付部材の内部において、前記支持手段の支点を挟んで前記保持手段とは反対側に垂直方向に螺合したボールネジと、前記ボールネジを回転させる駆動手段と、を備え、
前記検出手段により検出された前記保持手段の姿勢変化量に応じて、前記駆動手段によりボールネジを回転させ、前記支点を中心に前記支持手段が上下動を行うことで、前記保持手段の姿勢が補正されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記検出手段は、前記保持手段に接触した状態で検出を行う接触式検出手段を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記検出手段は、前記保持手段の基端部側に内蔵されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置において、
前記検出手段は、角加速度検出または歪み検出を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から7のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記補正手段は、基板非保持状態における前記保持手段の姿勢を基準として補正を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から8のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記補正手段は、前記保持手段が基板非保持状態と基板保持状態の間を移行する際に逐次補正を行うことを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003300010A JP4229779B2 (ja) | 2002-10-10 | 2003-08-25 | 基板処理装置 |
US10/681,450 US7267128B2 (en) | 2002-10-10 | 2003-10-08 | Substrate treating apparatus |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002297408 | 2002-10-10 | ||
JP2003300010A JP4229779B2 (ja) | 2002-10-10 | 2003-08-25 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004153242A JP2004153242A (ja) | 2004-05-27 |
JP4229779B2 true JP4229779B2 (ja) | 2009-02-25 |
Family
ID=32072510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003300010A Expired - Fee Related JP4229779B2 (ja) | 2002-10-10 | 2003-08-25 | 基板処理装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7267128B2 (ja) |
JP (1) | JP4229779B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4526374B2 (ja) * | 2004-03-30 | 2010-08-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
CN109835715A (zh) * | 2019-02-02 | 2019-06-04 | 威海瑞翼德机械制造有限公司 | 一种玻璃基板搬送装置 |
CN112147849B (zh) * | 2019-06-28 | 2022-02-18 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种曝光装置、光刻设备及曝光方法 |
CN113560259B (zh) * | 2021-07-30 | 2022-07-05 | 西安广核阀门科技有限公司 | 一种阀门内部清洗装置及方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3559099B2 (ja) | 1995-06-09 | 2004-08-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US6259960B1 (en) * | 1996-11-01 | 2001-07-10 | Joel Ltd. | Part-inspecting system |
JP3970421B2 (ja) | 1998-03-31 | 2007-09-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US6198201B1 (en) * | 1998-06-03 | 2001-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Vibration wave apparatus |
US6258220B1 (en) * | 1998-11-30 | 2001-07-10 | Applied Materials, Inc. | Electro-chemical deposition system |
-
2003
- 2003-08-25 JP JP2003300010A patent/JP4229779B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-10-08 US US10/681,450 patent/US7267128B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7267128B2 (en) | 2007-09-11 |
JP2004153242A (ja) | 2004-05-27 |
US20040071531A1 (en) | 2004-04-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5128148B2 (ja) | 搬送装置 | |
CN108656123B (zh) | 工业机器人 | |
CN109037106B (zh) | 基板清洗装置 | |
KR19990021969A (ko) | 기판반송장치 및 그것을 이용한 열처리 시스템 | |
JPH09162257A (ja) | 薄型基板の搬送装置 | |
KR102605917B1 (ko) | 스크라이빙 장치 | |
JP2009168860A (ja) | 基板用ステージ装置 | |
US6837490B2 (en) | Paper feeding apparatus | |
JP4229779B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP3955576B2 (ja) | 液晶パネル自動把持装置及びその方法 | |
JP2006120861A (ja) | 傾き補正装置及びそれを備えた搬送ロボット | |
JP4372606B2 (ja) | 塗布膜形成装置 | |
KR102597834B1 (ko) | 산업용 로봇 | |
JP4388087B2 (ja) | ロール体搬送装置 | |
WO2010046975A1 (ja) | プリアライナー装置 | |
JP2019033220A (ja) | 基板搬送装置 | |
JPH11253869A (ja) | 塗布装置 | |
JP6116088B2 (ja) | エンドエフェクタ装置及び該エンドエフェクタ装置を用いた板状部材の位置決め方法 | |
KR20170115636A (ko) | 스크라이빙 장치 | |
JP6013212B2 (ja) | パターン形成装置 | |
CN103386823B (zh) | 图案形成装置 | |
TW202026683A (zh) | 導光板之對位校正應用方法及導光板之對位校正系統 | |
KR102309299B1 (ko) | 인쇄회로기판 반입/반출 기구 및 이를 포함하는 인쇄회로기판 반입/반출 장치 | |
JP7219106B2 (ja) | 基板搬送システムおよび基板搬送システムの制御方法 | |
WO2021124862A1 (ja) | 検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080527 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080717 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081202 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4229779 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111212 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111212 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111212 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111212 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121212 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121212 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121212 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131212 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |