KR20210001829A - 노광장치, 포토리소그래피 설비 및 노광방법 - Google Patents

노광장치, 포토리소그래피 설비 및 노광방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 노광장치, 포토리소그래피 설비 및 노광방법을 개시하였고, 노광장치는 노광유닛, 자재탑재 이동유닛, 자재 전송유닛, 제 1 위치결정 검측유닛, 제 2 위치결정 검측유닛 및 포즈/포지션 조정유닛을 포함한다. 자재탑재 이동유닛은 자재 전송유닛의 웨이팅 스테이션과 노광유닛의 노광 스테이션 사이에서 이동할 수 있고, 제 1 위치결정 검측유닛은 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 자재의 포즈/포지션을 검측하도록 배치되고; 제 2 위치결정 검측유닛은 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 노광 스테이션에 위치할 경우, 자재의 포즈/포지션을 검측하거나 체크하도록 배치되며; 포즈/포지션 조정유닛은 상기 제 1 위치결정 검측유닛 또는 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 검측결과에 따라, 자재의 위치와 자세를 조절하도록 배치된다. 본 발명의 실시예는 노광장치의 노광 정밀도를 향상시킬 수 있다.

Description

노광장치, 포토리소그래피 설비 및 노광방법{Exposure apparatus, photolithography equipment and exposure method}
본 발명은 반도체 가공설비 기술분야에 관한 것으로, 예를 들어, 노광장치, 포토리소그래피 설비 및 노광방법에 관한 것이다.
반도체 기술에서, 포토리소그래피 설비는 주로 집적회로(IC) 또는 기타 마이크로 소자의 제조에 사용되며, 포토리소그래피 설비를 통해 마스크 플레이트(Mask plate)의 패턴을 포토레지스트(Photoresist)가 도포된 자재(Materials)에 전사할 수 있다.
일반적으로 웨이퍼 스테이지(Wafer Stage)에 자재가 고정되고, 웨이퍼 스테이지는 자재를 이동시켜, 미리 설정된 경로에 따라 자재를 노광위치에 운송함으로써, 포토리소그래피 과정을 완성한다. 자재의 노광위치에서의 위치와 자세 정밀도를 확보하기 위해, 일반적으로 자재의 위치와 자세를 검측할 필요가 있으며, 검측한 결과에 따라 자재를 상응하게 조절한다.
관련 기술의 포토리소그래피 설비에서, 자재는 위치와 자세의 검측을 거친 후, 노광 스테이션(Exposure Station)으로 전송된다. 그러나 자재가 노광위치에 도착하려면 비교적 긴 행정이 필요하므로, 이 과정에서, 자재의 위치와 자세의 편향이 나타날 수 있어, 노광 정밀도가 낮아질 수 있다.
본 발명의 실시예에서 제공한 노광장치, 포토리소그래피 설비 및 노광방법은 노광 정밀도를 향상시킬 수 있다.
제 1 양상에 있어서, 본 발명의 실세예에서 제공한 노광장치는: 자재에 대해 노광을 진행하도록 배치된 노광유닛; 자재를 탑재하도록 배치된 자재탑재 이동유닛; 상기 자재탑재 이동유닛에 대한 자재의 로딩/언로딩 조작을 진행하도록 배치된 자재 전송유닛(여기서, 상기 자재탑재 이동유닛은 상기 자재 전송유닛의 웨이팅 스테이션(Waiting Station)과 노광유닛(Exposure unit)의 노광 스테이션 사이에서 이동할 수 있음); 상기 웨이팅 스테이션에 설치되고, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 자재의 위치와 자세를 검측하도록 배치된 제 1 위치결정 검측유닛; 상기 노광 스테이션에 설치되고, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 노광 스테이션에 위치할 경우, 자재의 위치와 자세를 검측하거나 체크하도록 배치된 제 2 위치결정 검측유닛; 상기 제 1 위치결정 검측유닛 또는 제 2 위치결정 검측유닛의 검측결과에 따라, 자재의 위치와 자세를 조절하도록 배치된 포즈/포지션 조정유닛을 포함한다.
일부 실시예에서, 상기 노광장치는 두개의 상기 자재탑재 이동유닛과 두개의 상기 자재 전송유닛을 포함하되, 상기 두개의 자재탑재 이동유닛은 각각 제 1 자재탑재 이동유닛과 제 2 자재탑재 이동유닛이고, 상기 두개의 자재 전송유닛은 각각 제 1 자재 전송유닛과 제 2 자재 전송유닛이며; 상기 제 1 자재탑재 이동유닛은 제 1 웨이팅 스테이션과 노광 스테이션 사이에서 이동하되, 상기 제 1 웨이팅 스테이션은 상기 제 1 자재 전송유닛의 웨이팅 스테이션일 수 있고; 상기 제 2 자재탑재 이동유닛은 제 2 웨이팅 스테이션과 노광 스테이션 사이에서 이동하되, 상기 제 2 웨이팅 스테이션은 상기 제 2 자재 전송유닛의 웨이팅 스테이션일 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 자재탑재 이동유닛은 이동플랫폼과 상기 이동플랫폼에 설치된 탑재플랫폼을 포함하고; 상기 이동플랫폼은 상기 탑재플랫폼을 상기 웨이팅 스테이션과 상기 노광 스테이션 사이에서 이동하게 가이드 하도록 배치되며; 상기 탑재플랫폼은 자재를 탑재하도록 배치된다.
일부 실시예에서, 상기 탑재플랫폼과 상기 이동플랫폼은 상기 포즈/포지션 조정유닛에 의해 연결되고, 상기 포즈/포지션 조정유닛은 상기 탑재플랫폼을 구동하여 자재의 위치와 자세를 조절하도록 배치된다.
일부 실시예에서, 상기 제 1 위치결정 검측유닛은 제 1 얼라인 검측기구와 제 1 레벨링 검측기구를 포함하되; 상기 제 1 얼라인 검측기구는 자재 상의 얼라인마크를 검측하여 자재의 현재 위치를 확정하도록 배치되고; 상기 제 1 레벨링 검측기구는 자재의 평면정보를 획득하여 자재의 현재 자세를 확정하도록 배치된다.
일부 실시예에서, 상기 제 1 얼라인 검측기구는 제 1 카메라를 포함하고; 상기 제 1 레벨링 검측기구는 복수개의 제 1 레이저센서를 포함한다.
일부 실시예에서, 상기 제 2 위치결정 검측유닛은 제 2 얼라인 검측기구와 제 2 레벨링 검측기구를 포함하되; 상기 제 2 얼라인 검측기구는 자재의 위치를 검측하거나 체크하도록 배치되고; 상기 제 2 레벨링 검측기구는 자재의 자세를 검측하거나 체크(Check)하도록 배치된다.
일부 실시예에서, 상기 제 2 얼라인 검측기구는 제 2 카메라를 포함하고; 상기 제 2 레벨링 검측기구는 복수개의 제 2 레이저센서를 포함한다.
일부 실시예에서, 상기 노광장치는 가이드기구를 더 포함하고, 상기 자재탑재 이동유닛은 상기 가이드기구를 따라 상기 웨이팅 스테이션과 상기 노광 스테이션 사이에서 이동할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 노광장치는 자재 저장유닛을 더 포함하고, 상기 자재 전송유닛은 상기 자재 저장유닛과 상기 자재탑재 이동유닛 사이에서 자재전송을 진행하도록 배치된다.
일부 실시예에서, 상기 노광장치는 상기 자재 전송유닛이 자재를 상기 자재탑재 이동유닛에 전송하는 과정에서, 자재의 위치와 자세를 프리얼라인하도록 배치되는 자재전송 프리얼라인 유닛을 더 포함한다.
일부 실시예에서, 상기 노광장치는 적어도 하나의 상기 자재탑재 이동유닛과 적어도 하나의 상기 자재 전송유닛을 포함하되, 상기 적어도 하나의 상기 자재탑재 이동유닛과 상기 적어도 하나의 상기 자재 전송유닛은 일일이 대응된다.
제 2 양상에 있어서, 본 발명의 실시예에서 제공한 포토리소그래피 설비는 본 발명의 제 1 양상에 기재된 노광장치를 포함한다.
제 3 양상에 있어서, 본 발명의 실시예에서 제공한 노광방법은 노광장치에 기반하고, 상기 노광장치는 노광유닛, 두개의 자재탑재 이동유닛, 상기 두개의 자재탑재 이동유닛에 일일이 대응되는 두개의 자재 전송유닛, 두개의 제 1 위치결정 검측유닛, 제 2 위치결정 유닛 및 포즈/포지션 조정유닛을 포함하며, 상기 자재탑재 이동유닛은 대응되는 상기 자재 전송유닛의 웨이팅 스테이션과 상기 노광유닛의 노광 스테이션 사이에서 이동할 수 있으며, 상기 노광방법은:
제 1 공정시간과 제 2 공정시간을 획득하는 단계(여기서, 상기 제 1 공정시간은 상기 자재 전송유닛이 자재를 대응되는 상기 자재탑재 이동유닛에 전송하는 시간, 상기 제 1 위치결정 검측유닛의 검측시간 및 상기 포즈/포지션 조정유닛의 조절시간의 총합이고, 상기 제 2 공정시간은 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 검측시간, 상기 포즈/포지션 조정유닛의 조정시간 및 상기 노광유닛의 노광시간의 총합); 상기 제 1 공정시간과 상기 제 2 공정시간에 기반하여 상기 제 1 위치결정 검측유닛과 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 동작상태를 설정하는 단계; 를 포함한다.
일부 실시예에서, 상기 제 1 공정시간과 상기 제 2 공정시간에 기반하여 상기 제 1 위치결정 검측유닛과 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 동작상태를 설정하는 상기 단계는:
상기 제 1 공정시간과 상기 제 2 공정시간이 같다는 판단결과에 기반하여, 상기 제 1 위치결정 검측유닛과 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 모두 동작상태에 처하도록 제어하여, 상기 자재탑재 이동유닛이 대응되는 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 대응되는 상기 제 1 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 검측하도록 제어하며, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 노광 스테이션에 위치할 경우, 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 체크하도록 제어하는 단계를 포함한다.
일부 실시예에서, 상기 제 1 공정시간과 상기 제 2 공정시간에 기반하여 상기 제 1 위치결정 검측유닛과 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 동작상태를 설정하는 상기 단계는:
상기 제 1 공정시간이 상기 제 2 공정시간보다 짧다는 판단결과에 기반하여, 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 비 동작상태에 놓이도록 제어하여, 상기 자재탑재 이동유닛이 대응되는 상기 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 대응되는 상기 제 1 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 검측하도록 제어하며, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 노광 스테이션에 위치할 경우, 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 체크하지 않도록 제어하는 단계;
상기 제 1 공정시간이 상기 제 2 공정시간보다 길다는 판단결과에 기반하여, 상기 제 1 위치결정 검측유닛이 비 동작상태에 놓이도록 제어하여, 상기 자재탑재 이동유닛이 대응되는 상기 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 대응되는 상기 제 1 위치결정 검측유닛이 자재의 포즈/포지션을 검측하지 않도록 제어하며, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 노광 스테이션에 위치할 경우, 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 자재의 포즈/포지션을 검측하도록 제어하는 단계; 를 포함한다.
본 발명의 실시예에서 제공한 노광장치에 있어서, 제 1 위치결정 검측유닛은 자재탑재 이동유닛이 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 자재의 포즈/포지션을 검측하고, 제 2 위치결정 검측유닛은 자재탑재 이동유닛이 노광 스테이션에 위치할 경우, 자재의 포즈/포지션을 검측하거나 체크함으로써, 노광 스테이션에서 자재에 대해 포즈/포지션 체크를 재차 진행하여, 자재의 포즈/포지션 정밀도를 향상시키고, 나아가 노광 정밀도를 향상시킨다.
다음은 도면과 실시예에 근거하여 본 발명을 보다 상세히 설명하도록 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에서 제공한 노광장치의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에서 제공한 다른 노광장치의 평면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에서 제공한 노광장치의 동작 흐름도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에서 제공한 노광방법의 흐름도이다.
이하에서는 도면을 결합하여 본 발명의 실시예의 기술방안을 보다 상세히 기술하도록 한다. 분명한 것은, 기술한 실시예는 본 발명의 일부 실시예일 뿐, 전부의 실세예가 아니다. 본 발명 중의 실시예에 기반하여 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 진보성 노동이 없이 획득한 모든 기타 실시예들은 모두 본 발명의 보호 범위에 속한다.
본 발명을 기술함에 있어서, 별도의 명확한 규정과 한정이 없는 한, 용어 "접속", "연결", "고정"을 광의적으로 이해해야 한다. 예를 들면, 고정적으로 연결되는 것일 수 있고, 탈착가능하게 연결되거나, 일체로 되는 것일 수도 있으며; 기계적으로 연결되는 것일 수 있고, 전기적으로 연결되는 것일 수도 있으며; 직접 접속되는 것일 수 있고, 중간 매질을 통해 간접적으로 접속되는 것일 수도 있으며, 두 소자 내부의 연통 또는 두 소자의 상호작용 관계일 수도 있다. 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 구체적인 상황에 따라 본 발명에서의 상기 용어의 구체적인 의미를 이해 할 수 있을 것이다.
본 발명에 있어서, 별도의 명확한 규정과 한정이 없는 한, 제 1 특징이 제 2 특징의 "위" 또는 "아래"에 있는 것은, 제 1 특징과 제 2 특징이 직접 접촉하는 것을 포함할 수 있고, 제 1 특징과 제 2 특징이 직접 접촉하는 것이 아닌, 이들 사이의 다른 특징을 통해 접촉하는 것을 포함할 수도 있다. 또한, 제 1 특징이 제 2 특징의 "위", "상방" 및 "상부"에 있다는 것은, 제 1 특징이 제 2 특징의 바로 위와 사선 윗방향에 있는 것을 포함하거나, 또는 제 1 특징의 수평높이가 제 2 특징보다 높다는 것만울 표시한다. 제 1 특징이 제 2 특징의 "아래", "하방" 및 "하부"에 있다는 것은, 제 1 특징이 제 2 특징의 바로 아래와 사선 아래방향에 있는 것을 포함하거나, 또는 제 1 특징의 수평높이가 제 2 특징보다 낮다는 것만을 표시한다.
본 발명의 실시예는 노광장치를 제공하고, 도 1은 본 발명의 실시예에서 제공한 노광장치의 평면도이며, 도 1에서 도시된 바와 같이, 해당 노광장치는 노광유닛(100), 자재탑재 이동유닛(200), 자재 전송유닛(300), 제 1 위치결정 검측유닛(400), 제 2 위치결정 검측유닛(500) 및 포즈/포지션 조정유닛을 포함한다.
노광유닛(100)은 마스크 스테이지(Mask Stage)와 노광광원을 포함할 수 있는데, 마스크 스테이지는 마스크 플레이트를 탑재하는데 사용되고, 노광유닛(100)은 자재에 대해 노광을 진행하여, 마스크 플레이트의 패턴을 자재에 전사하는데 사용되며, 예시적으로, 자재는 베이스 실리콘웨이퍼(base wafer)일 수 있다.
자재탑재 이동유닛(200)은 자재를 탑재하는데 사용된다.
자재 전송유닛(300)은 자재탑재 이동유닛(200)에 대한 자재의 로딩/언로딩 조작을 진행하여, 자재를 자재탑재 이동유닛에 로딩하거나 자재탑재 이동유닛(200)으로부터 언로딩한다. 예시적으로, 자재 전송유닛(300)은 척(Chuck) 또는 포크형의 매니퓰레이터(Manipulator)일 수 있다. 노광유닛(100)에는 노광 스테이션(1)이 설치되고, 자재 전송유닛(300)에는 웨이팅 스테이션(2)이 설치되며, 자재 전송유닛(300)과 자재탑재 이동유닛(200)이 자재 교체를 진행할 경우, 자재탑재 이동유닛(200)은 해당 웨이팅 스테이션(2)에 위치하고, 노광유닛(100)이 노광작업을 진행할 경우, 자재탑재 이동유닛(200)은 노광 스테이션(1)에 위치하며, 즉 자재탑재 이동유닛(200)은 자재 전송유닛(300)의 웨이팅 스테이션(1)과 노광유닛(100)의 노광 스테이션(2) 사이에서 이동할 수 있으므로, 자재 전송유닛(300)과 노광유닛(100) 사이에서 자재를 전송하게 된다.
제 1 위치결정 검측유닛(400)은, 웨이팅 스테이션(2)에 설치되어, 자재탑재 이동유닛(200)이 웨이팅 스테이션(2)에 위치할 경우, 자재의 위치 및 자세를 검측하는데 사용되고, 자재의 포즈/포지션은 자재의 위치와 자세(예를 들어, Rx, Ry, Rz방향의 편향 존재 여부)를 포함한다. 자재탑재 이동유닛(200)이 웨이팅 스테이션(2)에 위치하고 자재의 포즈/포지션과 제 1 기설정 포즈/포지션의 편차가 제 1 기설정 한계치를 초과할 경우, 포즈/포지션 조정유닛은 검측결과에 따라, 자재의 위치와 자세를 조절하여, 자재의 포즈/포지션과 제 1 기설정 포즈/포지션의 편차가 제 1 기설정 한계치를 충족하도록 한다.
제 2 위치결정 검측유닛(500)은, 노광 스테이션(1)에 설치되어, 자재탑재 이동유닛(200)이 노광 스테이션(1)에 위치할 경우, 자재의 포즈/포지션을 검측하거나 체크하는데 사용된다. 자재탑재 이동유닛(200)이 노광 스테이션(1)에 위치하고 자재의 포즈/포지션과 제 2 기설정 포즈/포지션의 편차가 제 2 기설정 한계치를 초과할 경우, 포즈/포지션 조정유닛은 검측결과에 따라, 자재의 위치와 자세를 조절하여, 자재의 포즈/포지션과 제 2 미리 설정 포즈/포지션의 편차가 제 2 기설정 한계치를 충족하도록 한다.
해당 노광장치의 동작 흐름은 아래와 같다:
자재탑재 이동유닛(200)은 웨이팅 스테이션(2)으로 이동하고, 자재 전송유닛(300)은 자재를 자재탑재 이동유닛(200)에 전송하며, 제 1 위치결정 검측유닛(400)은 자재에 대해 포즈/포지션 검측을 진행하고, 포즈/포지션 조정유닛은 검측결과에 따라 미리 설정된 요구를 충족하도록 자재의 포즈/포지션을 조절하며, 다음, 자재탑재 이동유닛(200)은 노광 스테이션(1)으로 이동하고, 제 2 위치결정 검측유닛(500)은 자재에 대해 포즈/포지션 체크를 진행하며, 포즈/포지션 조정유닛은 체크결과에 따라 노광 포즈/포지션 요구를 충족하도록 자재의 포즈/포지션을 조절한다. 다음, 노광유닛(100)은 자재에 대해 노광을 진행한다.
본 발명의 실시예에서 제공한 노광장치는, 웨이팅 스테이션에 제 1 위치결정 검측유닛이 설치되고, 노광 스테이션에는 제 2 위치결정 검측유닛이 설치됨으로써, 웨이팅 스테이션에서 자재에 대해 포즈/포지션 검측을 진행할 수 있고, 노광 스테이션에서 자재에 대해 포즈/포지션 체크를 재차 진행하여, 자재의 포즈/포지션 정밀도를 향상시키고, 나아가 노광 정밀도를 향상시킨다.
선택 가능하게, 상기 실시예에서, 서로 다른 노광 정밀도 요구에 따라, 제 1 위치결정 검측유닛(400)과 제 2 위치결정 검측유닛(500)의 동작 여부를 제어할 수 있다. 예시적으로, 노광 정밀도에 대한 요구가 비교적 낮을 경우, 제 1 위치결정 검측유닛(400)이 자재에 포즈/포지션 검측을 진행하고, 제 2 위치결정 검측유닛(500)이 자재에 포즈/포지션 체크를 진행하지 않도록 제어할 수 있고; 또는 제 1 위치결정 검측유닛(400)이 자재에 대해 포즈/포지션 검측을 진행하지 않고, 제 2 위치결정 검측유닛(500)이 자재에 대해 포즈/포지션 검측을 진행하도록 제어할 수 있다.
도 2는 본 발명의 실시예에서 제공한 다른 노광장치의 평면도이며. 도 2에 도시된 바와 같이, 해당 실시예에서, 노광장치는 두개의 자재탑재 이동유닛과 두개의 자재 전송유닛을 포함하되, 두개의 자재탑재 이동유닛은 각각 제 1 자재탑재 이동유닛과 제 2 자재탑재 이동유닛이고, 두개의 자재 전송유닛은 각각 제 1 자재 전송유닛과 제 2 자재 전송유닛이다.
제 1 자재탑재 이동유닛(210)은 제 1 자재 전송유닛(310)의 제 1 웨이팅 스테이션(21)과 노광 스테이션(1) 사이에서 이동할 수 있고, 제 1 웨이팅 스테이션(21)에는 제 1 위치결정 검측유닛(410)이 설치된다. 제 2 자재탑재 이동유닛(220)은 제 2 자재 전송유닛(320)의 제 2 웨이팅 스테이션(22)과 노광 스테이션(1) 사이에서 이동할 수 있고, 제 2 웨이팅 스테이션(22)에는 제 1 위치결정 검측유닛(420)이 설치된다.
예시적으로, 도 2에 도시된 바와 같이, 노광장치는 가이드기구(600)를 더 포함하되, 예시적으로, 가이드기구(600)는 가이드 레일(Guide Rail)일 수 있고, 제 1 자재탑재 이동유닛(210)은 가이드기구(600)를 따라 제 1 웨이팅 스테이션(21)과 노광 스테이션(1) 사이에서 이동할 수 있으며, 제 2 자재탑재 이동유닛(220)은 가이드기구(600)를 따라 제 2 웨이팅 스테이션(22)과 노광 스테이션(1) 사이에서 이동할 수 있다.
예시적으로, 도 2와 같이, 각 자재탑재 이동유닛은 이동플랫폼(201)과 탑재플랫폼(202)을 포함하되, 탑재플랫폼(202)은 이동플랫폼(201)에 설치된다. 탑재플랫폼(202)은 자재를 탑재하는데 사용되고, 이동플랫폼(201)은 가이드기구(600)를 따라 웨이팅 스테이션(2)과 노광 스테이션(1) 사이에서 이동하도록 탑재플랫폼(202)을 가이드해 준다.
탑재플랫폼(202)과 이동플랫폼(201)은 포즈/포지션 조정유닛에 의해 연결되고, 포즈/포지션 조정유닛은 탑재플랫폼(202)을 이동하도록 구동하여 자재의 위치와 자세를 조절한다. 예시적으로, 포즈/포지션 조정유닛은 X, Y방향 위치 미세조정 기구와 Rx, Ry, Rz편향기구를 포함함으로써, 자재에 대해 X, Y방향의 위치 미세조정과 Rx, Ry, Rz방향의 자세 조절을 진행할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 도 2와 같이, 제 1 위치결정 검측유닛(410, 420)은 모두 제 1 얼라인 검측기구(411)와 제 1 레벨링 검측기구(412)를 포함한다. 자재 상에는 다수개의 얼라인마크가 설치되고, 해당 얼라인마크는 그 전의 노광 공정에서 형성된 것일 수 있다. 제 1 얼라인 검측기구(411)는 자재 상의 얼라인마크를 검측하여 자재의 현재 위치를 확정하는데 사용되고, 예시적으로, 제 1 얼라인 검측기구(411)는 제 1 카메라를 포함하되, 구체적인 실시예에서 제 1 카메라는 CCD카메라(Charge Coupled Device Camera)일 수 있으며, 상기 제 1 카메라는 자재 상의 다수개의 얼라인마크를 촬영하여 자재의 위치를 확정하는데 사용된다. 제 1 레벨링 검측기구(412)는 자재의 평면정보를 획득하여 자재의 현재 자세를 확정하는데 사용되고, 예시적으로, 제 1 레벨링 검측기구(412)는 복수개의 제 1 레이저센서를 포함하며, 복수개의 제 1 레이저센서를 통해 자재 상의 복수개의 점으로부터 복수개의 제 1 레이저센서 까지의 거리를 각각 획득하여, 자재표면의 평면방정식을 피팅(Fitting)해 냄으로써, 자재의 Rx, Ry, Rz방향에서의 편향을 얻는다.
본 발명의 일 실시예에서, 도 2와 같이, 제 2 위치결정 검측유닛은 제 2 얼라인 검측기구(511)와 제 2 레벨링 검측기구(512)를 포함한다. 제 2 얼라인 검측기구(511)는 자재 상의 얼라인마크를 검측하여 자재의 위치를 검측하거나 체크하는데 사용되고, 예시적으로, 제 2 얼라인 검측기구(511)는 제 2 카메라를 포함하되, 구체적인 실시예에서 상기 제 2 카메라는 CCD카메라일 수 있다. 제 2 레벨링 검측기구(512)는 자재의 자세를 검측하거나 체크하는데 사용되고, 예시적으로, 제 2 레벨링 검측기구(512)는 복수개의 제 2 레이저센서를 포함하며, 복수개의 제 2 레이저센서를 통해 자재 상의 복수개의 점으로부터 복수개의 제 2 레이저센서 까지의 거리를 각각 획득하여, 자재표면의 평면방정식을 피팅해 내고, 이로써 자재의 Rx, Ry, Rz방향에서의 편향을 얻는다.
본 발명의 일 실시예에서, 도 2와 같이, 노광장치는 자재를 저장하기 위한 두개의 자재 저장유닛을 포함하되, 두개의 자재 저장유닛은 각각 제 1 자재 저장유닛(710)과 제 2 자재 저장유닛(720)이다. 제 1 자재 전송유닛(310)은 제 1 자재 저장유닛(710)과 제 1 자재탑재 이동유닛(210) 사이에서 진행되는 자재전송에 사용되고, 제 2 자재 전송유닛(320)은 제 2 자재 저장유닛(720)과 제 2 자재탑재 이동유닛(220) 사이에서 진행되는 자재전송에 사용된다.
본 발명의 일 실시예에서, 도 2와 같이, 노광장치는 두개의 자재전송 프리얼라인 유닛을 포함하되, 두개의 자재전송 프리얼라인 유닛은 각각 제 1 자재전송 프리얼라인 유닛(pre-alignment unit)(810)과 제 2 자재전송 프리얼라인 유닛(820)이며, 제 1 자재전송 프리얼라인 유닛(810)은, 제 1 자재 전송유닛(310)이 자재를 제 1 자재탑재 이동유닛(210)으로 전송하는 과정에서, 자재의 포즈/포지션을 프리얼라인하는데 사용되고, 제 2 자재전송 프리얼라인 유닛(820)은, 제 2 자재 전송유닛(320)이 자재를 제 2 자재탑재 이동유닛(220)으로 전송하는 과정에서, 자재의 포즈/포지션을 프리얼라인하는데 사용된다. 예시적으로, 자재전송 프리얼라인 유닛은 프리얼라인 플랫폼과 실린더 핀(Cylinder Pin)을 포함할 수 있고, 자재 가장자리에는 실린더 핀과 매칭되는 노치(notch)가 설치될 수 있으며, 실린더 핀은 노치와 맞닿아 접함으로써 자재에 대해 프리얼라인한다.
도 3은 본 발명의 실시예에서 제공한 노광장치의 동작 흐름도이고, 예시적으로, 도 2 에 도시된 노광장치의 동작 흐름은 도 3에 도시된 바와 같다.
단계(1)는 아래와 같은 단계를 포함한다.
단계(1.1): 제 1 자재 전송유닛(310)은 제 1 자재 저장유닛(710)에서 자재를 취출하여 제 1 자재전송 프리얼라인 유닛(810)에 놓아 프리얼라인을 진행한다.
단계(1.2): 프리얼라인을 거친 후, 제 1 자재 전송유닛(310)은 제 1 웨이팅 스테이션(21)에서 제 1 자재탑재 이동플랫폼(210)과 자재 교체를 진행하여, 자재를 제 1 자재탑재 이동플랫폼(210)에 전송한다.
단계(1.3): 제 1 위치결정 검측유닛(410)은 자재의 위치와 자세를 검측하고, 포즈/포지션 조정유닛은 제 1 위치결정 검측유닛(410)의 검측결과에 따라 미리 설정된 요구를 충족하도록 자재의 위치와 자세를 조절한다.
단계(2): 제 1 자재탑재 이동플랫폼(210)은 노광 스테이션(1)으로 이동하고, 제 2 위치결정 검측유닛(500)은 자재에 대해 포즈/포지션 체크를 진행하며, 포즈/포지션 조정유닛은 제 2 위치결정 검측유닛의 검측결과에 따라 노광 요구를 충족하도록 자재의 위치와 자세를 조절하고, 노광유닛(100)은 자재에 대해 노광을 진행한다. 이로써 웨이팅 스테이션(21)으로부터 노광 스테이션(1)에 도착하는 과정에서, 자재의 포즈/포지션의 편향이 발생하는 것을 방지하여, 노광 정밀도를 향상시킨다.
단계(3): 단계(3)은 단계(2)를 진행하는 동시에 진행되며, 아래와 같은 단계를 포함한다.
단계(3.1): 제 2 자재 전송유닛(320)은 제 2 자재 저장유닛(720)에서 자재를 취출하여 제 2 자재전송 프리얼라인 유닛(820)에 놓아 프리얼라인을 진행한다.
단계(3.2): 프리얼라인을 거친 후, 제 2 자재 전송유닛(320)은 제 2 웨이팅 스테이션(22)에서 제 2 자재탑재 이동플랫폼(220)과 자제 교체를 진행하여, 자재를 제 2 자재탑재 이동플랫폼(220)에 전송한다.
단계(3.3): 제 1 위치결정 검측유닛(420)은 자재의 위치와 자세를 검측하고, 포즈/포지션 조정유닛은 제 1 위치결정 검측유닛(420)의 검측결과에 따라 미리 설정된 요구를 충족하도록 자재의 위치와 자세를 조절한다.
단계(4): 제 1 자재탑재 이동플랫폼(210)은 노광 스테이션(1)에서 자재의 노광을 완성한 후, 제 1 웨이팅 스테이션(21)으로 되돌아간다. 동시에 제 2 자재탑재 이동플랫폼(220)은 노광 스테이션(1)으로 이동한다.
단계(5): 제 2 위치결정 검측유닛(500)은 자재에 대해 포즈/포지션 체크를 진행하고, 포즈/포지션 조정유닛은 제 2 위치결정 검측유닛(500)의 검측결과에 따라 노광 요구를 충족하도록 자재의 위치와 자세를 조절하며, 노광유닛(100)은 자재에 대해 노광을 진행한다.
단계(6): 단계(5)를 진행하는 동시에, 단계(1)를 진행한다.
단계(7): 제 2 자재탑재 이동플랫폼(220)은 노광 스테이션(1)에서 자재의 노광을 완성한 후, 웨이팅 스테이션(22)으로 되돌아간다. 동시에 제 1 자재탑재 이동플랫폼(220)은 노광 스테이션(1)으로 이동한다.
이와 같이 순환하게 되면, 하나의 자재탑재 이동플랫폼이 노광 스테이션(1)에 위치할 경우, 다른 하나의 자재탑재 이동플랫폼은 웨이팅 스테이션에 위치하게 되는데, 두개의 자재탑재 이동플랫폼이 번갈아 동작하게 되어, 노광유닛(100)이 시종 동작상태에 놓임으로써, 노광 정밀도를 향상시키는 동시에, 노광 효율을 향상시킨다.
일반적으로 서로 다른 자재에 대해, 노광유닛(100)의 노광공정 시간이 다르기 때문에, 노광 스테이션(1)의 동작리듬(제 2 공정시간, 즉 단계(2) 또는 단계(5)의 시간)과 웨이팅 스테이션(21 또는 22)의 동작리듬(제 1 공정시간, 즉 단계(1) 또는 단계(3)의 시간 길이)이 일치하지 않아, 노광장치가 정상적으로 동작하지 못하게 된다.
상기 문제점에 대하여, 본 발명의 실시예는 노광밥법을 더 제공하며, 해당 노광방법은 노광 스테이션(1)의 동작리듬과 웨이팅 스테이션의 동작리듬에 따라, 제 1 위치결정 검측유닛(400)과 제 2 위치결정 검측유닛(500)이 자재를 검측할 것인지를 제어하여, 노광 스테이션(1)의 동작리듬과 웨이팅 스테이션(21 또는 22)의 동작리듬이 일치되도록 한다. 해당 노광방법은 본 발명의 도 2에 도시된 노광장치에 기반한 것이고, 도 4는 본 발명의 실시예에서 제공한 노광방법의 흐름도이며, 도 4와 같이, 해당 노광장치는 아래와 같은 단계를 포함한다.
단계(S10): 제 1 공정시간과 제 2 공정시간을 획득한다.
제 1 공정시간과 제 2 공정시간을 미리 획득하되, 여기서 제 1 공정시간은 자재 전송유닛이 자재를 자재탑재 이동유닛으로 전송하는 시간, 제 1 위치결정 검측유닛의 검측시간 및 포즈/포지션 조정유닛의 조절시간의 총합이고, 제 2 공정시간은 제 2 위치결정 검측유닛의 검측시간, 포즈/포지션 조정유닛의 조절시간 및 노광유닛의 노광시간의 총합이다.
단계(S20): 제 1 공정시간과 제 2 공정시간에 기반하여 제 1 위치결정 검측유닛과 제 2 위치결정 검측유닛의 동작상태를 설정한다.
예시적으로, 단계(S20)는 아래와 같은 몇개의 경우를 포함한다.
제 1 공정시간과 제 2 공정시간이 같을 경우, 즉 노광 스테이션(1)의 동작리듬과 웨이팅 스테이션(21 또는 22)의 동작리듬이 같을 경우에는, 제 1 위치결정 검측유닛과 제 2 위치결정 검측유닛이 모두 동작상태에 놓이도록 제어하고, 자재탑재 이동유닛이 대응되는 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 대응되는 제 1 위치결정 검측유닛이 자재의 포즈/포지션을 검측하도록 제어하며, 자재탑재 이동유닛이 노광 스테이션에 위치할 경우, 제 2 위치결정 검측유닛이 자재의 포즈/포지션을 체크하도록 제어한다.
해당 방법에 대응되는 노광장치의 동작 흐름은 도 3에 도시된 바와 같으므로, 여기서 더 반복하여 서술하지 않는다.
제 1 공정시간이 제 2 공정시간보다 짧을 경우, 즉 노광 스테이션(1)의 동작리듬이 웨이팅 스테이션(21) 또는 웨이팅 스테이션(22)의 동작리듬보다 느리게 되면, 탑재 이동유닛이 대응되는 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 제 1 위치결정 검측유닛(410 또는 420)이 자재의 포즈/포지션을 검측하도록 제어하며, 자재탑재 이동유닛이 노광 스테이션(1)으로 이동하는 경우, 제 2 위치결정 검측유닛이 자재에 대해 포즈/포지션 체크를 진행하지 않도록 제어하거나, 제 2 얼라인 검측기구(511)가 자재 상의 일부 얼라인마크를 촬영하여 체크하도록 제어하여, 체크시간을 감소함으로써, 노광 스테이션(1)의 동작리듬과 웨이팅 스테이션(21, 22)의 동작리듬이 일치하도록 하며, 이로써 동시에 부동한 정밀도 요구에 적응할 수도 있다.
상기 제 1 공정시간이 제 2 공정시간보다 긴 경우, 즉 노광 스테이션(1)의 동작리듬이 웨이팅 스테이션(21) 또는 웨이팅 스테이션(22)의 동작리듬보다 빠르게 되면, 탑재 이동유닛이 대응되는 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 제 1 위치결정 검측유닛(410, 420)이 자재에 대해 포즈/포지션 검측을 진행하지 않도록 제어하며, 탑재 이동유닛이 노광 스테이션(1)으로 이동하는 경우, 제 2 위치결정 검측유닛이 자재에 대해 포즈/포지션 체크를 진행하도록 제어하여, 노광 스테이션(1)의 동작리듬과 웨이팅 스테이션(21, 22)의 동작리듬이 일치하도록 하며, 이로써 동시에 부동한 정밀도 요구에 적응할 수도 있다.
본 발명의 실시예는 포토리소그래피 설비를 더 제공하며, 해당 포토리소그래피 설비는, 본 발명의 상기 임의의 실시예에 기재된 노광장치를 포함하고, 노광유닛(100)이 자재를 노광하기 전에, 마스크 플레이트를 노광유닛(100)의 마스크 스테이지에 전송하고, 노광을 완성한 후, 마스크 플레이트를 마스크 스테이지에서 철수하기 위한 마스크 전달장치를 더 포함한다.
본문의 서술에 있어서, 이해해야 할 것은, 용어 "위", "아래", "오른쪽" 등 방위 또는 위치관계는 도면에 도시된 방위와 위치관계에 기반한 것이며, 서술하기 편리하고 조작을 간소화하기 위한 것일 뿐, 지정한 장치 또는 소자가 특정된 방위, 특정된 방위구조 및 조작을 반드시 갖도록 지시하거나 암시하는 것은 아니고, 본 발명을 한정 하는 것으로 이해해서는 아니될 것이다. 이외, 용어 "제 1", "제 2"는 서술함에 있어서 용어들을 구별하기 위한 것일 뿐, 특수한 의미는 없다.
본 명세서의 서술에 있어서, 참고용어 "일 실시예", "예시" 등의 서술은 해당 실시예 또는 예시에서 서술한 구체적인 특징, 구조, 재료 또는 특점을 결합하여 본 발명의 적어도 하나의 실시예 또는 예시에 포함되는 것을 의미한다. 본 명세서에서, 상기 용어에 대한 예시적인 서술은 반드시 동일한 실시예 또는 예시를 의미하는 것은 아니다.
이외, 이해해야 할 것은, 비록 본 명세서는 실시 형태에 따라 서술하였지만, 매 하나의 실시 형태가 하나의 독립적인 기술방안만을 포함하는 것은 아니며, 명세서의 이러한 서술 방식은 단지 명확하게 하기 위한 것이며, 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 명세서를 하나의 전체로, 각 실시예 중의 기술방안을 적절하게 조합하여, 본 분야 당업자가 이해할 수 있는 기타 실시 형태를 구현할 수 있을 것이다.

Claims (16)

  1. 자재에 대해 노광을 진행하도록 설치된 노광유닛;
    자재를 탑재하도록 배치된 자재탑재 이동유닛;
    상기 자재탑재 이동유닛에 대한 자재의 로딩/언로딩 조작을 진행하도록 배치된 자재 전송유닛-여기서, 상기 자재탑재 이동유닛은 상기 자재 전송유닛의 웨이팅 스테이션과 상기 노광유닛의 노광 스테이션 사이에서 이동함-;
    상기 웨이팅 스테이션에 설치되고, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 자재의 위치와 자세를 검측하도록 배치된 제 1 위치결정 검측유닛;
    상기 노광 스테이션에 설치되고, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 노광 스테이션에 위치할 경우, 자재의 위치와 자세를 검측하거나 체크하도록 배치된 제 2 위치결정 검측유닛;
    상기 제 1 위치결정 검측유닛 또는 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 검측결과에 따라, 자재의 위치와 자세를 조절하도록 배치된 포즈/포지션 조정유닛; 을 포함하는 노광장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 노광장치는, 두개의 상기 자재탑재 이동유닛과 두개의 상기 자재 전송유닛을 포함하되, 상기 두개의 자재탑재 이동유닛은 각각 제 1 자재탑재 이동유닛과 제 2 자재탑재 이동유닛이고, 상기 두개의 자재 전송유닛은 각각 제 1 자재 전송유닛과 제 2 자재 전송유닛이며;
    상기 제 1 자재탑재 이동유닛은 제 1 웨이팅 스테이션과 노광 스테이션 사이에서 이동하되, 상기 제 1 웨이팅 스테이션은 상기 제 1 자재 전송유닛의 웨이팅 스테이션이고;
    상기 제 2 자재탑재 이동유닛은 제 2 웨이팅 스테이션과 노광 스테이션 사이에서 이동하되, 상기 제 2 웨이팅 스테이션은 상기 제 2 자재 전송유닛의 웨이팅 스테이션인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 자재탑재 이동유닛은 이동플랫폼과 상기 이동플랫폼에 설치된 탑재플랫폼을 포함하고;
    상기 이동플랫폼은 상기 탑재플랫폼이 상기 웨이팅 스테이션과 상기 노광 스테이션 사이에서 이동하게 가이드하도록 배치되며;
    상기 탑재플랫폼은 자재를 탑재하도록 배치된 것을 특징으로 하는 노광장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 탑재플랫폼과 상기 이동플랫폼은 상기 포즈/포지션 조정유닛에 의해 연결되고, 상기 포즈/포지션 조정유닛은 상기 탑재플랫폼을 구동하여 자재의 위치와 자세를 조절하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 위치결정 검측유닛은 제 1 얼라인 검측기구와 제 1 레벨링 검측기구를 포함하고;
    상기 제 1 얼라인 검측기구는 자재의 얼라인마크를 검측하여 자재의 현재 위치를 확정하도록 배치되고;
    상기 제 1 레벨링 검측기구는 자재의 평면정보를 획득하여 자재의 현재 자세를 확정하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 얼라인 검측기구는 제 1 카메라를 포함하고;
    상기 제 1 레벨링 검측기구는 복수개의 제 1 레이저센서를 포함하는 노광장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 위치결정 검측유닛은 제 2 얼라인 검측기구와 제 2 레벨링 검측기구를 포함하고;
    상기 제 2 얼라인 검측기구는 자재의 위치를 검측하거나 체크하도록 배치되고;
    상기 제 2 레벨링 검측기구는 자재의 자세를 검측하거나 체크하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 얼라인 검측기구는 제 2 카메라를 포함하고;
    상기 제 2 레벨링 검측기구는 복수개의 제 2 레이저센서를 포함하는 노광장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    가이드기구를 더 포함하고,
    상기 자재탑재 이동유닛은 상기 가이드기구를 따라 상기 웨이팅 스테이션과 노광 스테이션 사이에서 이동하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    자재 저장유닛을 더 포함하고,
    상기 자재 전송유닛은 상기 자재 저장유닛과 상기 자재탑재 이동유닛 사이에서 자재전송을 진행하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 자재 전송유닛이 자재를 상기 자재탑재 이동유닛에 전송하는 과정에서, 자재의 위치와 자세를 프리얼라인하도록 배치되는 자재전송 프리얼라인 유닛을 더 포함하는 노광장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 노광장치는 적어도 하나의 상기 자재탑재 이동유닛과 적어도 하나의 상기 자재 전송유닛을 포함하되, 상기 적어도 하나의 상기 자재탑재 이동유닛과 상기 적어도 하나의 상기 자재 전송유닛은 일일이 대응되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 임의의 한 항에 따른 노광장치를 포함하는 포토리소그래피 설비.
  14. 노광방법에 있어서,
    상기 노광방법은 노광장치에 기반하되, 상기 노광장치는 노광유닛, 두개의 자재탑재 이동유닛, 상기 두개의 자재탑재 이동유닛에 일일이 대응되는 두개의 자재 전송유닛, 두개의 제 1 위치결정 검측유닛, 제 2 위치결정 유닛 및 포즈/포지션 조정유닛을 포함하며, 상기 자재탑재 이동유닛은 대응되는 상기 자재 전송유닛의 웨이팅 스테이션과 상기 노광유닛의 노광 스테이션 사이에서 이동하며,
    상기 노광방법은,
    제 1 공정시간과 제 2 공정시간을 획득하는 단계; 및
    상기 제 1 공정시간과 상기 제 2 공정시간에 기반하여 상기 제 1 위치결정 검측유닛과 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 동작상태를 설정하는 단계; 를 포함하되,
    여기서, 상기 제 1 공정시간은 상기 자재 전송유닛이 자재를 대응되는 상기 자재탑재 이동유닛에 전송하는 시간, 상기 제 1 위치결정 검측유닛의 검측시간 및 상기 포즈/포지션 조정유닛의 조정시간의 총합이고, 상기 제 2 공정시간은 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 검측시간, 상기 포즈/포지션 조정유닛의 조정시간 및 상기 노광유닛의 노광시간의 총합인 것을 특징으로 하는 노광방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 1 공정시간과 상기 제 2 공정시간에 기반하여 상기 제 1 위치결정 검측유닛과 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 동작상태를 설정하는 상기 단계는:
    상기 제 1 공정시간과 상기 제 2 공정시간이 같다는 판단결과에 기반하여, 상기 제 1 위치결정 검측유닛과 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 모두 동작상태에 처하도록 제어하여, 상기 자재탑재 이동유닛이 대응되는 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 대응되는 상기 제 1 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 검측하도록 제어하고, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 노광 스테이션에 위치할 경우, 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 체크하도록 제어하는 단계; 를 포함하는 노광방법.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 제 1 공정시간과 상기 제 2 공정시간에 기반하여 상기 제 1 위치결정 검측유닛과 상기 제 2 위치결정 검측유닛의 동작상태를 설정하는 상기 단계는:
    상기 제 1 공정시간이 상기 제 2 공정시간보다 짧다는 판단결과에 기반하여, 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 비 동작상태에 놓이도록 제어하여, 상기 자재탑재 이동유닛이 대응되는 상기 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 대응되는 상기 제 1 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 검측하도록 제어하고, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 노광 스테이션에 위치할 경우, 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 체크하지 않도록 제어하는 단계; 및
    상기 제 1 공정시간이 상기 제 2 공정시간보다 길다는 판단결과에 기반하여, 상기 제 1 위치결정 검측유닛이 비 동작상태에 놓이도록 제어하여, 상기 자재탑재 이동유닛이 대응되는 상기 웨이팅 스테이션에 위치할 경우, 대응되는 상기 제 1 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 체크하지 않도록 제어하며, 상기 자재탑재 이동유닛이 상기 노광 스테이션에 위치할 경우, 상기 제 2 위치결정 검측유닛이 자재의 위치와 자세를 검측하도록 제어하는 단계; 를 포함하는 노광방법.
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