JP2008172087A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】露光装置全体の軽量化及び小型化を図る。
【解決手段】レチクルステージRSTのY軸方向の移動に伴う反力を受ける固定子22Aと、ウエハステージWSTのY軸方向の移動に伴う反力を受けるY固定子25Y1とが連結棒27Aによって機械的に連結され、レチクルステージRSTのY軸方向の移動に伴う反力を受ける固定子22Bと、ウエハステージWSTのY軸方向の移動に伴う反力を受けるY固定子25Y2とが連結棒27Bによって機械的に連結されているので、固定子22Aに作用する反力をY固定子25Y1に作用する反力で相殺し、固定子22Bに作用する反力をY固定子25Y2に作用する反力で相殺することができる。これにより、従来のように、反力をキャンセルするための構造物(カウンタマス)の重量を大きくしたり、ストロークを大きく設定したりする必要がなくなる。
【選択図】図2
【解決手段】レチクルステージRSTのY軸方向の移動に伴う反力を受ける固定子22Aと、ウエハステージWSTのY軸方向の移動に伴う反力を受けるY固定子25Y1とが連結棒27Aによって機械的に連結され、レチクルステージRSTのY軸方向の移動に伴う反力を受ける固定子22Bと、ウエハステージWSTのY軸方向の移動に伴う反力を受けるY固定子25Y2とが連結棒27Bによって機械的に連結されているので、固定子22Aに作用する反力をY固定子25Y1に作用する反力で相殺し、固定子22Bに作用する反力をY固定子25Y2に作用する反力で相殺することができる。これにより、従来のように、反力をキャンセルするための構造物(カウンタマス)の重量を大きくしたり、ストロークを大きく設定したりする必要がなくなる。
【選択図】図2
Description
本発明は露光装置に係り、更に詳しくは、マスクと物体とを一軸方向に沿って同期移動して、前記マスクに形成されたパターンを前記物体に転写する露光装置に関する。
近年、半導体素子、液晶表示素子等を製造するリソグラフィ工程においては、マスク又はレチクル(以下、「レチクル」と総称する)とウエハ又はガラスプレート等の感光物体(以下、「ウエハ」と総称する)とを所定の走査方向(スキャン方向)に沿って同期移動しつつ、レチクルのパターンを投影光学系を介してウエハ上に転写する、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(いわゆるスキャニング・ステッパ)などが比較的多く用いられるようになってきた。
この種の走査型露光装置では、ウエハを駆動する駆動装置とレチクルを駆動する駆動装置とが必要となる。ウエハを駆動する駆動装置としては、リニアモータによって2次元面内で駆動されるウエハステージを含むウエハステージ装置が一般的に用いられている。このウエハステージ装置では、ウエハステージの移動による反力が生じ、該反力に起因する振動が露光精度を悪化させるおそれがある。そこで、最近では、ウエハステージ装置内にウエハステージの移動による反力を極力キャンセルする機構が通常設けられている。この反力キャンセル機構としては、運動量保存の法則を利用した、カウンタマス(カウンタウェイト)機構が比較的多く用いられている(例えば特許文献1及び特許文献2参照)。
また、レチクルの駆動装置としては、例えば、所定の走査方向に所定ストローク範囲で駆動されるレチクルステージを含むレチクルステージ装置が一般的に用いられている。このレチクルステージ装置においても、ウエハステージ装置と同様、レチクルステージの移動による反力が生じ、該反力に起因する振動が露光精度を悪化させるおそれがあるため、カウンタマス(カウンタウェイト)機構が設けられる場合がある(例えば特許文献3参照)。
しかるに、これらのカウンタマス機構では、ステージの質量と移動速度との積が、カウンタマスの質量と移動速度の積に一致するという原理(運動量保存の法則)を利用しているため、ステージとカウンタマスとの質量及び移動距離には一定の関係がある。すなわち、カウンタマスの移動ストロークを小さくするためにカウンタマスの質量、すなわち重量を大きくすると、ステージ装置全体が重量化してしまう一方、カウンタマスの質量(重量)を小さくすると、カウンタマスの移動ストロークを大きく設定する必要があるため、ステージ装置が大型化してしまう。
本発明は、上述した事情の下になされたものであり、マスクと物体とを一軸方向に沿って同期移動して、前記マスクに形成されたパターンを前記物体に転写する露光装置であって、前記マスクを保持して移動するマスクステージと;前記物体を保持して移動する物体ステージと;前記マスクステージの一軸方向の移動に伴う反力を受ける第1反力処理部と;前記第1反力処理部と機械的に連結され、前記物体ステージの一軸方向の移動に伴う反力を受ける第2反力処理部と;を備える露光装置である。
これによれば、マスクを保持して移動するマスクステージの一軸方向の移動に伴う反力を受ける第1反力処理部と、物体を保持して移動する物体ステージの一軸方向の移動に伴う反力を受ける第2反力処理部とが機械的に連結されているので、第1反力処理部に作用する反力の少なくとも一部を第2反力処理部に作用する反力で相殺することができる。これにより、反力処理部の重量を大きくしたり、反力処理部のストロークを大きく設定したりする必要がなくなるので、露光装置全体の軽量化及び小型化を図ることが可能となる。
以下、本発明の一実施形態を図1〜図4に基づいて説明する。
図1には、一実施形態に係る露光装置10の全体構成が概略的に示されている。この露光装置10は、レチクルRに形成された回路パターン(以下、「レチクルパターン」と略述する)の一部の像を投影ユニットPU内の投影光学系PO(図3参照)を介してウエハW上に投影しつつ、レチクルRとウエハWとを投影ユニットPUに対して1次元方向(Y軸方向)に相対走査することにより、レチクルパターンをウエハW上の複数のショット領域の各々にステップ・アンド・スキャン方式で転写するものである。
露光装置10は、EUV光(軟X線領域の光)ELを射出する光源装置12と、この光源装置12からのEUV光ELを所定の入射角でレチクルRのパターン面(図1における上面(+Z側の面))に入射させる照明光学系14と、レチクルRを保持するレチクルステージRSTと、前記レチクルRのパターン面で反射された照明光ELをウエハWの被露光面(図1における上面(+Z側の面))に投射する投影ユニットPUと、ウエハWが載置されるウエハステージWSTと、を含んでいる。本実施形態では、レチクルステージRST、投影ユニットPU、及びウエハステージWST等は、実際には、不図示の真空チャンバ内に収容されている。
前記光源装置12としては、一例として、レーザ励起プラズマ光源が用いられている。このレーザ励起プラズマ光源は、EUV光発生物質(ターゲット)に高輝度のレーザ光を照射することにより、そのターゲットが高温のプラズマ状態に励起され、該ターゲットが冷える際に放出するEUV光、紫外光、可視光、及び他の波長域の光を利用するものである。なお、本実施形態では、主に波長5〜20nm、例えば波長11nmのEUV光が露光ビームとして用いられるものとする。
前記照明光学系14は、集光ミラー及びコリメータミラーなどを含んで構成されるミラー系、反射型のオプティカル・インテグレータ(ホモジナイザ)としてのフライアイミラー等を含んでいる。照明光ELは、実際には、光源装置12から不図示のビームラインを介して照明光学系14内のミラー系を構成する集光ミラーに導かれている。
前記レチクルステージRSTは、例えば、一対のリニアモータRLM1,RLM2(図2参照)を含む磁気浮上型2次元リニアアクチュエータ(図2では、リニアモータRLM1、RLM2のみ図示している)によって、定盤BS上で浮上支持された状態で駆動される。
このうちの一方のリニアモータRLM1は、レチクルステージRSTの−X側の面に固定された可動子21Aと、該可動子21Aが係合する固定子22Aとを含んでおり、他方のリニアモータRLM2は、レチクルステージRSTの+X側の面に固定された可動子21Bと、該可動子21Bが係合する固定子22Bとを含んでいる。これらリニアモータRLM1,RLM2は、例えば、可動子21A,21Bが複数の永久磁石を含む磁極ユニットから成り、固定子22A,22Bが複数の電機子コイルを含む電機子ユニットから成る、ムービングマグネット型のリニアモータである。これらリニアモータRLM1,RLM2の発生する駆動力によって、レチクルステージRSTは、Y軸方向に所定ストロークで駆動されるとともに、X軸方向及びθz方向(Z軸回りの回転方向)にも微小量駆動されるようになっている。また、このレチクルステージRSTは、不図示の駆動機構が複数箇所で発生する磁気浮上力の調整によってZ軸方向及びXY面に対する傾斜方向(X軸回りの回転方向であるθx方向及びY軸回りの回転方向であるθy方向)にも微小量だけ駆動可能に構成されている。
ここで、リニアモータRLM1,RLM2を構成する固定子22A,22Bは、不図示の磁気浮上機構により、ベースBS上で浮上支持されており、レチクルステージRSTのY軸方向の移動による反力が作用するようになっている。
レチクルステージRSTの上面側には、不図示の静電チャック方式(又はメカチャック方式)のレチクルホルダが設けられ、該レチクルホルダによってレチクルRが保持されている。このレチクルRとしては、照明光ELが波長11nmのEUV光であることと対応して反射型レチクルが用いられている。このレチクルRは、そのパターン面が上面となる状態でレチクルホルダによって保持されている。このレチクルRは、シリコンウエハ、石英、低膨張ガラスなどの薄い板から成り、その+Z側の表面(パターン面)には、EUV光を反射する反射膜が形成されている。この反射膜は、モリブデンMoとベリリウムBeの膜が交互に約5.5nmの周期で、約50ペア積層された多層膜である。この多層膜は波長11nmのEUV光に対して約70%の反射率を有する。
レチクルRのパターン面に形成された多層膜の上には、吸収層として例えばニッケルNi又はアルミニウムAlが一面に塗布され、その吸収層にパターンニングが施されて回路パターンが形成されている。
レチクルRの吸収層が残っている部分に当たった照明光(EUV光)ELはその吸収層によって吸収され、吸収層の抜けた部分(吸収層が除去された部分)の反射膜に当たった照明光ELはその反射膜によって反射され、結果として回路パターンの情報を含んだ照明光ELがレチクルRのパターン面からの反射光として投影ユニットPUへ向かう。
レチクルステージRST(レチクルR)のステージ移動面内での位置(XY面内の位置)は、レチクルステージRSTに設けられた(又は形成された)反射面にレーザビームを投射する不図示のレチクルレーザ干渉計(以下、「レチクル干渉計」という)によって、例えば0.5〜1nm程度の分解能で常時検出される。また、レチクルRのZ軸方向の位置及びXY面に対する傾斜(θx、θy方向の回転量)は、レチクルRのパターン面に対し斜め方向(Z軸方向に対して所定角度傾斜した方向)から複数の結像光束を照射する送光系と、レチクルRのパターン面で反射された各結像光束の反射光束を個別に受光する複数の受光素子を有する受光系とから構成される斜入射方式の多点焦点位置検出系から成るレチクルフォーカスセンサによって計測(検出)されている。このレチクルフォーカスセンサと同様の構成の多点焦点位置検出系は、例えば特開平6−283403号公報(対応米国特許第5,448,332号)等に詳細に開示されている。
レチクル干渉計及びレチクルフォーカスセンサの計測値は、不図示の制御装置に供給され、該制御装置によってそれらレチクル干渉計及びレチクルフォーカスセンサの計測値に基づいてリニアモータRLM1,RLM2等を介してレチクルステージRSTが駆動されることで、レチクルRの6次元方向の位置及び姿勢制御が行われるようになっている。
前記投影ユニットPUは、鏡筒15と、該鏡筒15の内部に図3に示されるような所定の位置関係で配置された、第1ミラーM1、第2ミラーM2、第3ミラーM3から成る投影光学系POとを備えている。第1ミラーM1と第3ミラーM3は凹面鏡であり、第2ミラーM2は凸面鏡から成る。この投影光学系POは、開口数(N.A.)が例えば0.1で、投影倍率が1/4倍に設定されている。
このようにして構成された投影ユニットPUによると、照明光学系14及びレチクルRを介して入射した照明光ELが、第1ミラーM1、第2ミラーM2、第3ミラーM3の反射面に順に到達し、それら反射面で順次反射された後、ウエハW上に投射される。これによりレチクルパターンの縮小像がウエハW上に形成される。
前記ウエハステージWSTは、例えば図2に示されるXリニアモータWLX及びYリニアモータWLY1,WLY2を含むウエハステージ駆動部(磁気浮上型2次元リニアアクチュエータ)によって、定盤BS上で浮上支持された状態で、駆動される。
前記XリニアモータWLXは、図2に示されるように、ウエハステージWSTの一部に設けられたX可動子24Xと、該X可動子24Xが係合するX軸方向を長手方向とするX固定子25Xとを含んでいる。このうちのX可動子24Xは、複数の永久磁石を含む磁極ユニットを有し、X固定子25Xは、複数の電機子コイルを含む電機子ユニットを有している。すなわち、XリニアモータWLXは、ムービングマグネット型のリニアモータであり、このXリニアモータWLXの発生する駆動力によって、ウエハステージWSTが、X軸方向に所定ストロークで駆動される。
前記一方のYリニアモータWLY1は、ムービングマグネット型のリニアモータであり、図2に示されるように、Y可動子24Y1と、該Y可動子24Y1が係合するY固定子25Y1とを含んでいる。Y可動子24Y1は、リニアモータWLY1を斜視図にて示す図4から分かるように、内部に+X方向から見て矩形の貫通孔29が形成された筐体を含んでいる。この筐体の上面及び下面には、複数の永久磁石を有する不図示の磁極ユニットが設けられている。
Y固定子25Y1は、Y可動子24Y1の上側(+Z側)に配置されたY軸方向を長手方向とし、その内部に複数の電機子コイルを有する電機子ユニット47Aと、Y可動子24Y1の下側(−Z側)に配置されたY軸方向を長手方向とし、その内部に複数の電機子コイルを有する電機子ユニット47Bと、これら電機子ユニット47A,47Bを図4の位置関係で保持する保持部材28A,28Bとを含んでいる。
このY固定子25Y1は、ベースBS上で不図示の磁気浮上機構により浮上支持されており、Y固定子25Y1の−Y側の端部と、レチクルステージRSTを駆動するリニアモータRLM1の固定子22Aの+Y側の端部との間は、図2に示されるように、連結棒27Aにより機械的に連結されている。
他方のYリニアモータWLY2も、ムービングマグネット型のリニアモータであり、上記YリニアモータWLY1と同様の構成を有している。すなわち、YリニアモータWLY2は、上述したY可動子24Y1と同様、貫通孔39(図2参照)が形成された筐体を含むY可動子24Y2と、該Y可動子24Y2が係合する上述したY固定子25Y1と同様のY固定子25Y2とを含んでいる。また、Y固定子25Y2は、ベースBS上で不図示の磁気浮上機構により浮上支持されており、Y固定子25Y2の−Y側の端部と、レチクルステージRSTを駆動するリニアモータRLM2の固定子22Bの+Y側の端部とが、連結棒27Bにより機械的に連結されている。
これらYリニアモータWLY1、WLY2のうち、Y可動子24Y1の貫通孔29には、前述したXリニアモータWLXのX固定子25Xの一端(−X側の端部)が挿入され、Y可動子24Y2の貫通孔39には、X固定子25Xの他端(+X側の端部)が挿入されている。X固定子25XとY可動子24Y1との間には、両者間を非接触に維持するとともに、両者のY軸方向及びZ軸方向の位置関係を一定に維持する、不図示の磁気軸受が設けられている。また、同様に、X固定子25XとY可動子24Y2との間にも、両者間を非接触に維持するとともに、両者のY軸方向及びZ軸方向の位置関係を一定に維持する、不図示の磁気軸受が設けられている。したがって、YリニアモータWLY1、WLY2のそれぞれが発生する駆動力によって、X可動子25Xは、Y軸方向に所定ストロークで駆動され、これとともに、ウエハステージWSTもY軸方向に所定ストロークで駆動されるようになっている。
一方、上記磁気軸受は、X固定子25XとY固定子24Y1,24Y2との間のX軸方向に関する位置関係については、拘束していないため、ウエハステージWSTがX軸方向に移動した場合には、その移動による反力を受けて、X固定子25XがウエハステージWSTとは反対方向に移動する。これにより、ウエハステージWSTとX固定子25Xとを含む構造体の重心のX軸方向に関する位置は、常に一定に維持される。
図1に戻り、ウエハステージWSTの上面には、静電チャック方式の不図示のウエハホルダが載置され、該ウエハホルダによってウエハWが吸着保持されている。なお、本実施形態では、ウエハステージWSTとして、X可動子24Xを有するウエハステージ本体と、該ウエハステージ本体上で、Z軸方向、θx、θy方向に微小駆動可能に支持されるウエハテーブルとを含む構成を採用しており、この構成により、ウエハWを6自由度方向に移動させることが可能となっている。
ウエハステージWSTの位置は、外部に配置された不図示のウエハレーザ干渉計(以下、「ウエハ干渉計」という)により、例えば、0.5〜1nm程度の分解能で常時検出されている。このウエハ干渉計により、ウエハステージWSTのX、Y位置のほか、回転(ヨーイング(Z軸回りの回転であるθz回転)、ピッチング(X軸回りの回転であるθx回転)、ローリング(Y軸回りの回転であるθy回転))も計測可能となっている。また、投影ユニットPUの近傍には、不図示のウエハフォーカスセンサが設けられている。このウエハフォーカスセンサとしては、投影光学系の光軸に対して所定角度傾斜した方向から被検面(ウエハWの表面)に複数の結像光束を照射する照射系と、各結像光束の被検面からの反射光を個別に受光する複数の受光素子を有する受光系とを備えた、前述のレチクルフォーカスセンサと同様の構成の多点焦点位置検出系が用いられている。このウエハフォーカスセンサによって、投影ユニットPUの鏡筒15を基準とするウエハW表面のZ軸方向の位置及び傾斜量が計測されている。
本実施形態では、ウエハ干渉計及びウエハフォーカスセンサの計測値は、不図示の制御装置に供給され、該制御装置によってウエハステージ駆動部が制御され、ウエハステージWSTの6次元方向の位置及び姿勢制御が行われるようになっている。
本実施形態の露光装置では、ウエハステージWST、XリニアモータWLX、及びY可動子24Y1,24Y2を含む構造体(Y軸方向に一体的に移動する構造体(ウエハWも含む))の重量(Mwとする)と、レチクルステージRST及び可動子21A,21Bを含む構造体(Y軸方向に一体的に移動する構造体(レチクルRも含む))の重量(Mrとする)の比(Mr/Mw)が、投影光学系POの投影倍率(本実施形態では、1/4)とほぼ同一となるように設定されている。すなわち、
Mw=4・Mr …(1)
の関係が成立している。
Mw=4・Mr …(1)
の関係が成立している。
本実施形態の露光装置では、通常のスキャニング・ステッパと同様に、レチクルアライメント、不図示のアライメント系のベースライン計測、並びにEGA(エンハンスト・グローバル・アライメント)方式のウエハアライメント等の所定の準備作業が行われた後、以下のようにしてステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。
まず、ウエハWのXY位置が、ウエハW上の最初のショット領域(ファースト・ショット)の露光のための走査開始位置(加速開始位置)となるように、ウエハステージWSTが移動される。同時に、レチクルRの位置が走査開始位置となるように、レチクルステージRSTが移動される。そして、レチクル干渉計によって計測されたレチクルRの位置情報、及びウエハ干渉計によって計測されたウエハWの位置情報に基づき、レチクルR(レチクルステージRST)とウエハW(ウエハステージWST)とをY軸方向に沿って、逆向きに同期移動させることにより、走査露光が行なわれる。
このようにして、最初のショット領域に対するレチクルパターンの転写が終了すると、ウエハステージWSTが非走査方向(X軸方向)に1ショット領域分だけステッピングされた後、次のショット領域に対する走査露光が行なわれる。このようにして、ショット間ステッピング動作と走査露光とが順次繰り返され、ウエハW上の複数のショット領域にレチクルRのパターンが転写される。
この場合、走査露光中におけるウエハステージWSTの走査方向(Y軸方向)に関する速度Vwは、レチクルステージRSTの走査方向(Y軸方向)に関する速度Vrの投影倍率倍(本実施形態では1/4倍)に設定されている。また、走査露光を開始する前のウエハステージWSTの加速度(又は走査露光終了後のウエハステージWSTの減速度)Awは、走査露光を開始する前のレチクルステージRSTの加速度(又は走査露光終了後のレチクルステージRSTの減速度)Arの投影倍率倍(本実施形態では1/4倍、ただし逆向きの加速度である)に設定されている。すなわち、
Aw=−Ar/4 …(2)
の関係が成立している。
Aw=−Ar/4 …(2)
の関係が成立している。
また、走査露光中において、レチクルステージRSTがY軸方向へ移動することにより発生する反力Frは、
Fr=Mr・Ar …(3)
であるため、固定子22A、22Bのそれぞれに作用する反力は、
Fr/2=Mr・Ar/2 …(3)’
となる。
Fr=Mr・Ar …(3)
であるため、固定子22A、22Bのそれぞれに作用する反力は、
Fr/2=Mr・Ar/2 …(3)’
となる。
また、走査露光中において、ウエハステージWSTがY軸方向へ移動することにより発生する反力Fwは、
Fw=Mw・Aw …(4)
であるため、固定子25Y1、25Y2のそれぞれに作用する反力は、
Fw/2=Mw・Aw/2 …(4)’
となる。
Fw=Mw・Aw …(4)
であるため、固定子25Y1、25Y2のそれぞれに作用する反力は、
Fw/2=Mw・Aw/2 …(4)’
となる。
ここで、固定子25Y1、25Y2のそれぞれに作用する反力は、式(4)’及び式(1),(2),(3)’より、
Fw/2=Mw・Aw/2=(Mr/4)・(4・(−Ar))/2
=−Mr・Ar/2=−Fr/2 …(5)
と、表すことができる。
Fw/2=Mw・Aw/2=(Mr/4)・(4・(−Ar))/2
=−Mr・Ar/2=−Fr/2 …(5)
と、表すことができる。
このように、反力(Fw/2)と反力(Fr/2)とは大きさが同一で、その方向が逆向きとなっているので、本実施形態のように、固定子22AとY固定子25Y1を連結棒27Aで連結するとともに、固定子22BとY固定子25Y2を連結棒27Bで連結することにより、各ステージの移動により発生する反力を完全に相殺することができる。
また、前述のように、ウエハステージWSTがX軸方向へ移動しても、ウエハステージWST、XリニアモータWLX、及びY可動子24Y1,24Y2を含む構造体(Y軸方向に一体的に移動する構造体)の重心が変化しないため、ウエハステージWSTのX位置にかかわらず、Y固定子25Y1,25Y2それぞれに作用する反力は常に一定である。これにより、ウエハステージWSTのX位置が変更された場合にも、特別な制御を行うことなく、反力を相殺することができる。
以上、説明したように、本実施形態によると、レチクルステージRSTのY軸方向の移動に伴う反力を受ける固定子22Aと、ウエハステージWSTのY軸方向の移動に伴う反力を受けるY固定子25Y1とが連結棒27Aによって機械的に連結され、レチクルステージRSTのY軸方向の移動に伴う反力を受ける固定子22Bと、ウエハステージWSTのY軸方向の移動に伴う反力を受けるY固定子25Y2とが連結棒27Bによって機械的に連結されているので、固定子22Aに作用する反力をY固定子25Y1に作用する反力で相殺し、固定子22Bに作用する反力をY固定子25Y2に作用する反力で相殺することができる。これにより、従来のように、反力をキャンセルするための構造物(カウンタマス)の重量を大きくしたり、ストロークを大きく設定したりする必要がなくなるので、露光装置10全体の軽量化及び小型化を図ることが可能となる。
特に、本実施形態では、レチクルステージRSTの質量とウエハステージWSTの質量の比が、投影光学系POの投影倍率と同一に設定されるとともに、レチクルステージRSTとウエハステージWSTとの加速度比が投影光学系POの投影倍率の逆数と同一(ただし方向は逆)に設定されていることから、両ステージの移動による反力を完全に相殺することができる。これにより、両ステージの移動によって露光装置に振動が生じるのを回避することができる。
また、本実施形態では、投影光学系POが奇数枚のミラーを有しているため、ウエハWの上面(+Z側の面)を被露光面とし、かつ、レチクルRの上面(+Z側の面)をパターン面とすることができる。これにより、偶数枚のミラーを有する投影光学系を用いる場合のように、レチクルがレチクルステージの下面側で保持される構成とはならないので、レチクルの落下の危険性を回避することができる。また、レチクルステージをウエハステージと同一面上に配置することができるので、従来の構成と比較して露光装置の小型化を図ることが可能である。
なお、上記実施形態では、固定子22A,22Bと、Y固定子25Y1,25Y2をベースBS上で浮上させることとしたが、これに限らず、上記実施形態のように、ほぼ完全に反力を相殺できる場合には、各固定子をベースBS上に直接載置することとしても良い。
なお、上記実施形態では、奇数枚のミラーを有する投影光学系として、3枚のミラーを有する投影光学系を例にとって説明したが、これに限られるものではなく、例えば、図5に示されるように、5枚のミラーを有する投影光学系PO’を採用することも可能である。
この投影光学系PO’は、図5の上から順に、平面鏡から成る第1ミラーM1と、凹面鏡から成る第3ミラーM3と、凸面鏡から成る第2ミラーM2と、凹面鏡から成る第5ミラーM5と、平面鏡から成る第4ミラーM4と、を含んでいる。
この投影光学系PO’を用いた場合、上記実施形態と異なり、レチクルRとウエハWとが同一平面上に位置しなくなるため、図6に示されるように、レチクルステージRSTをY軸方向に駆動するリニアモータの固定子22B(又は22A)と、ウエハステージWSTをY軸方向に駆動するYリニアモータの固定子25Y2(又は25Y1)とを、連結機構40を用いて連結することとする。この連結機構40は、上記実施形態の連結棒27A,27Bと同様の連結棒27C,27Dと、これら連結棒27C,27Dの間に設けられる連結板30とを含んでおり、機能的には、上記実施形態の連結棒27A,27Bと同様となっている。
このような構成を採用することにより、上記実施形態と同様、ウエハステージWSTとレチクルステージRSTの移動により生じる反力の少なくとも一部を相殺することが可能である。
なお、上記実施形態では、固定子25Y1(25Y2)と固定子22A(22B)との間を連結棒27A,27Bにより連結することとしたが、これに限らず、その他の部材により連結することとしても良いし、固定子25Y1(25Y2)と固定子22A(22B)とを直接連結することとしても良い。また、レチクルステージRSTのリニアモータの固定子とウエハステージWSTのリニアモータの固定子を共通の固定子にすることとしても良い。
なお、上記実施形態では、リニアモータの固定子間を機械的に連結する場合について説明したが、これに限らず、リニアモータの固定子以外に、各ステージの移動によって生じる反力を受けるカウンタマスが設けられている場合には、それらカウンタマス同士を機械的に連結することとしても良い。
また、上記実施形態では、レチクルステージRSTを駆動する駆動機構と、ウエハステージWSTを駆動する駆動機構がリニアモータである場合について説明したが、これに限らず、その他の駆動機構、例えばボールネジなどを採用しても良い。
なお、上記実施形態では、露光光として波長11nmのEUV光を用いる場合について説明したが、これに限らず、露光光として波長13nmのEUV光を用いても良い。この場合には、波長13nmのEUV光に対して約70%の反射率を確保するため、各ミラーの反射膜としてモリブデンMoとケイ素Siを交互に積層した多層膜を用いる必要がある。
また、上記実施形態では、露光光源としてレーザ励起プラズマ光源を用いるものとしたが、これに限らず、SOR、ベータトロン光源、ディスチャージド光源、X線レーザなどのいずれを用いても良い。
また、レチクルステージRSTのY軸方向の移動に伴う反力を受ける反力処理部と、ウエハステージWSTのY軸方向の移動に伴う反力を受ける反力処理部とを連結するという観点からは、投影光学系POが奇数枚のミラーを有していなくても良い。すなわち、偶数枚のミラーを有する構成を採用しても良い。また、上記実施形態では、露光光としてEUV光を用いる場合について説明したが、光源に波長100〜160nmのVUV光源、例えばAr2レーザ(波長126nm)を用いることもできる。また、投影光学系としては、レンズのみから成る屈折系の投影光学系、レンズを一部に含む反射屈折系の投影光学系のいずれであっても良い。
なお、国際公開第2004/53955号パンフレットに開示される液浸露光装置に本発明を適用することも可能である。
なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体(エネルギビームが照射される露光対象の物体)はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写形成する液晶用の露光装置や、有機EL、薄型磁気ヘッド、撮像素子(CCD等)、マイクロマシン及びDNAチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。
なお、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、上記各実施形態の露光装置を用いて、レチクルに形成されたパターンをウエハ等の物体上に転写するリソグラフィステップ、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて、物体上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスの生産性を向上することが可能である。
以上説明したように、本発明の露光装置は、マスクと物体とを一軸方向に沿って同期移動して、マスクに形成されたパターンを前記物体に転写するのに適している。
10…露光装置、22A,22B…固定子(第1反力処理部、マスク駆動装置の一部)、25X…X固定子(第1移動体)、25Y1,25Y2…Y固定子(第2反力処理部、物体駆動装置の一部)、M1〜M3…ミラー(反射光学素子)、PO…投影光学系、R…レチクル(マスク)、RLM…リニアモータ、RST…レチクルステージ(マスクステージ)、W…ウエハ(物体)、WLY1,WLY2…Yリニアモータ(リニアモータ)、WST…ウエハステージ(第2移動体)。
Claims (11)
- マスクと物体とを一軸方向に沿って同期移動して、前記マスクに形成されたパターンを前記物体に転写する露光装置であって、
前記マスクを保持して移動するマスクステージと;
前記物体を保持して移動する物体ステージと;
前記マスクステージの一軸方向の移動に伴う反力を受ける第1反力処理部と;
前記第1反力処理部と機械的に連結され、前記物体ステージの一軸方向の移動に伴う反力を受ける第2反力処理部と;を備える露光装置。 - 前記第1反力処理部は、前記マスクステージを駆動するマスク駆動装置の一部であり、
前記第2反力処理部は、前記物体ステージを駆動する物体駆動装置の一部であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記マスク駆動装置及び前記物体駆動装置は、リニアモータであり、
前記第1反力処理部と前記第2反力処理部とは、前記各リニアモータの固定子であることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。 - 前記マスクのパターンを前記物体上に投影する投影光学系を更に備え、
前記マスクステージの質量mと前記物体ステージの質量Mの比(m/M)が、前記投影光学系の投影倍率とほぼ同一に設定されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記投影光学系は、奇数枚の反射光学素子を有する投影光学系を更に備える請求項4に記載の露光装置。
- 前記転写の際には、前記マスクステージと前記物体ステージとは、前記一軸方向の逆向きに駆動されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記マスクステージと前記物体ステージとは、同一平面上で、前記一軸方向に沿って移動することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記マスクステージは、前記マスクを鉛直方向下側から保持し、
前記物体ステージは、前記物体を鉛直方向下側から保持することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記物体ステージは、前記一軸方向に移動される第1移動体と、前記物体を保持し、前記第1移動体に対して前記一軸に交差する他軸方向に移動する第2移動体と、を有することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2移動体が前記他軸方向へ移動する際、前記物体ステージ全体の重心の他軸方向に関する位置がほぼ一定であることを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
- 前記第2移動体の前記他軸方向への移動の反力を受けて、前記第1移動体が前記第2移動体とは逆方向に移動することを特徴とする請求項10に記載の露光装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2014216591A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-17 | 新電元工業株式会社 | トランス、このトランスを備えた電源装置、および、このトランスを備えたステージ装置 |
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2007
- 2007-01-12 JP JP2007004819A patent/JP2008172087A/ja active Pending
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