JP2002015944A - セラミックコンデンサ - Google Patents
セラミックコンデンサInfo
- Publication number
- JP2002015944A JP2002015944A JP2000198463A JP2000198463A JP2002015944A JP 2002015944 A JP2002015944 A JP 2002015944A JP 2000198463 A JP2000198463 A JP 2000198463A JP 2000198463 A JP2000198463 A JP 2000198463A JP 2002015944 A JP2002015944 A JP 2002015944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- external electrode
- ceramic capacitor
- conductive resin
- resin adhesive
- wiring board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
Abstract
て配線基板に実装することのでき、かつ焼き付け時の誘
電体層と外部電極中の金属の収縮率に差によるクラック
を有効に防止できるセラミックコンデンサを提供する。 【解決手段】内部に内部電極を形成した誘電体ブロック
の端面に外部電極を形成してなるセラミックコンデンサ
において、前記外部電極が導電性樹脂接着剤を介して配
線基板に接着されるものであり、前記外部電極のヤング
率が0.1〜20.0N/m2の材料を用いることを特
徴とするセラミックコンデンサである。
Description
デンサ内部に内部電極を形成した誘電体ブロックの端面
に外部電極を形成してなるセラミックコンデンサに関す
るものである。
ある積層セラミックコンデンサは、図3に積層セラミッ
クコンデンサ1の断面図として示すように、チタン酸バ
リウムなどの誘電体からなるセラミック焼結体のコンデ
ンサ本体2で構成され、このコンデンサ本体2の内部に
はセラミック層(誘電体層)を介して、Ag又はAg-Pd合
金などの貴金属材料あるいはNiなどの卑金属材料からな
る内部電極3,4が一方の端面と他方の端面とに交互に
導出するように配設されている。そして、一方の電位の
内部電極3は外部電極5に、他方の電位の内部電極4は
外部電極6にそれぞれ電気的に導通接続されている。
層から構成されている。すなわち、コンデンサ本体2の
表面にAgまたはAg-Pd合金、あるいは、CuまたはCu合金
からなる導体ペーストを塗布し、そして、焼き付けるこ
とで形成された下地層7があり、この下地層7の表面に
半田喰われが生じ難い材料からなるニッケルメッキから
なる中間層8が形成され、さらに中間層8の上にスズ
(Sn)または半田(Sn-Pb合金)からなる表面層9が形
成されている。このように外部電極を三層構造とするの
は、内部電極との電気的接続を確実にすると同時に、配
線基板に半田付けにより実装する際の半田耐熱性及び半
田ヌレを向上させるためである。
や、フラックスの洗浄剤として使われていたフロン系の
洗浄剤での大気汚染などが問題視されてきた。そこで、
半田付けにとって代わる、電気機器・部品アッセンブリ
ー用の接合剤として導電性樹脂接着剤が用いられてきて
いる。該導電性樹脂接着剤を用いて、コンデンサなどの
電子素子を配線基板上に実装する面実装型電子素子の実
装方法は、配線基板上に導電性樹脂接着剤を塗布する工
程と、上記基板上に任意の面実装型電子素子を搭載する
工程と、上記電子素子と基板を接合する為に導電性樹脂
接着剤を硬化する工程とからなる。上記、導電性樹脂接
着剤は、Ag、Cuなどの金属粉末がエポキシ樹脂等の熱硬
化性樹脂中に分散されたものであり、熱硬化によって固
化される。
ラミックコンデンサを上記の導電性樹脂接着剤で実装し
た場合、外部電極の最外層がSn、Sn/Pbメッキであるこ
とから導電性樹脂接着剤とのヌレ性が悪く、基板との固
着強度が低く、温度サイクル等の急激な熱変化を受けた
場合、外部電極と導電性樹脂接着剤との界面で剥離し、
積層セラミックコンデンサが機能しなくなることがあっ
た。また、高温環境中で放置した場合、NiメッキとSn又
はSn/Pbメッキが拡散し、脆弱な層を形成し、極端な強
度劣化が生じることがあった。このため、従来から導電
性樹脂接着剤で実装する場合には、外部電極材質として
銀パラジウムが用いられていた。しかしながら、パラジ
ウムの価格の高騰により、製造コストが上がり、製品単
価が高く、客先の要求コストに応じることができなかっ
た。
部電極中の金属の収縮率に差があることから、コンデン
サ本体の角からコンデンサ本体の表面に向かってクラッ
クが生じることがあった。ここで、外部電極のヤング率
が大きい(かたい)と、焼き付け時に応力を吸収するこ
とができないため、このクラックが特に著しく発生する
という問題点があった。
ことなく安価に高い信頼性をもって配線基板に実装する
ことのできるセラミックコンデンサを提供することにあ
る。
け時の誘電体層と外部電極中の金属の収縮率に差による
クラックを有効に防止できるセラミックコンデンサを提
供することである。
に、本発明のセラミックコンデンサは、内部電極を有す
る誘電体ブロックの端面に外部電極を形成してなるセラ
ミックコンデンサにおいて、前記外部電極のヤング率が
0.1〜20.0N/m2であることを特徴とする。
m2未満であると、外部電極の焼き付け前や、焼き付け
後の特性測定・実装時等に外部電極が変形した際に、元
に戻らなくなるという問題点があり、20.0N/m2
を超えると、焼き付け時に応力を吸収することができな
いため、誘電体層と外部電極中の金属の収縮率に差があ
ることにより、コンデンサ本体の角から表面に向かって
クラックが生じるという問題点があることによる。
デンサをプリント配線基板に実装する際に、導電性樹脂
接着剤自体が弾性を有し、かつ、外部電極も0.1〜2
0.0N/m2としているのでコンデンサ本体に加わる
応力を効果的に吸収することができる。これによって破
損や、接続強度の劣化などを引き起こすことがなく、信
頼性の高い実装構造とすることができる。
体とする外部電極とするのが好ましい。外部電極の表面
に従来のNiメッキとSn又はSn/Pbメッキメッキ層が形成
されたセラミックコンデンサを、導電性樹脂接着剤によ
りプリント配線基板に実装した場合に比べて、接続が強
固で、過酷な温度変化や応力が加わっても剥離すること
がない。外部電極表面の導電樹脂層と導電性樹脂接着剤
とのなじみがよいことと、導電性樹脂接着剤が外部電極
表面の表面凹凸に食い込んで強固な接続ができるものと
考えられる。
を含まず、またプリント配線基板への実装においてもは
んだを使うことがないため、鉛公害を引き起こすことが
ない。また実装に際して導電性樹脂接着剤を塗布し、加
熱硬化させるだけなので、簡単な工程でありながら、接
続固定の強固な信頼性の高い電子機器の製造を可能にす
る。
クス洗浄が不要になり、作業環境が改善され、またフロ
ンなどによる環境破壊を防止することが可能になる。ま
た、内部電極はニッケルを主成分とする金属成分であ
り、かつ、外部電極はニッケル、銅、鉄、コバルト、ク
ロム、銀の少なくとも1又は2以上の合金を主成分とす
る金属成分からなることを特徴とする。これにより、導
電性樹脂接着剤との密着性に優れ、かつ、内部電極との
接合性が上がり、信頼性にも優れたものとなる。また、
貴金属を含まない材料であるため、製造コストが低くな
る。
き付け若しくはメッキにより被覆することを特徴とす
る。この場合、外部電極の導通抵抗が小さくなり、湿中
負荷試験などの信頼性にも優れたものとなるからであ
る。
ンサを図面に基づいて詳説する。図1は本発明のセラミ
ックコンデンサの一例である積層セラミックコンデンサ
1の断面構造を示す。
は、セラミック基体であるコンデンサ本体2と、コンデ
ンサ本体(セラミック基体)2の一対の端部に形成され
た外部電極5、6とから構成されている。この外部電極
5、6は不図示であるが、プリント配線基板の電極に導
電性接着剤を介して接続可能に形成されている。
電性樹脂接着剤は、耐マイグレーション性を考慮して、
銀25、パラジウム75の合金粉末を含み、エポキシ系
ないしフェノール系の加熱硬化型の接着剤である。
どの誘電体材料からなる誘電体セラミック層と、ニッケ
ル、銅、鉄、コバルト、クロム、銀の少なくとも1つま
たは2つ以上の合金を主成分とする平面形状が矩形状の
内部電極3、4が互に対向しあうように配置されてい
る。
一端に延出され、外部電極5に接続されている。また、
内部電極4はコンデンサ本体2の他端に延出され、外部
電極6に接続されている。
誘電体セラミック層となるセラミックグリーンシートの
所定の領域に、内部電極3となる金属粉末を含有する導
電ペーストをスクリーン印刷で多数個形成する。また、
誘電体セラミック層となるセラミックグリーンシートの
所定の領域に、内部電極4となる金属粉末を含有する導
電ペーストをスクリーン印刷で多数個形成する。
部電極3、4が互いに対向し、且つ内部電極3、4が互
いに異なる端面に延出するように所定の積層枚数重ねた
後、切断して個別のチップ部材とし、所定の雰囲気、温
度、時間を加えて焼成する。
面には、内部電極3、4が露出している。
端部に、ニッケル、銅、鉄、コバルト、クロム、銀の少
なくとも1つまたは2つ以上の合金を主成分とする焼き
付け導体膜から成り、プリント配線基板の電極パッドに
導電性樹脂接着剤を介して接合される。
いことから、焼き付け導体膜は銅−ニッケル合金である
ことが望ましい。また、湿中負荷等の信頼性試験におけ
る絶縁抵抗低下をふせぐために、外部電極の表面に金、
銀、パラジウム、ロジウムのなかの1つでメッキ層を形
成することが望ましい。特に、焼き付け導体膜に形成し
やすく、導電性樹脂接着剤との濡れ性が良いことから、
金メッキ層が望ましい。さらに、メッキ厚みが0.00
5〜5.0μmであることが望ましいが、コストの点か
ら、0.005〜1.0μmであることがさらに望まし
い。
て、コンデンサ本体2の両端部に、銅、銅−ニッケル合
金、ニッケルを主材としてガラスフリットを含む導電ペ
ーストを5〜20μmの厚みで塗布し、乾燥後焼き付け
して下地層7を形成する。
1.2ミリの2012型チップコンデンサとする。
に、表面層9を、電解メッキ法で金、銀、パラジウム、
ロジウムメッキ層を2〜3μmの膜厚で形成する。電解
メッキに際しては円筒型あるいは多角筒型のバレルと呼
ばれるメッキ容器を用いる。メッキ容器にはメディアと
呼ばれる多数の鋼球及び積層セラミックコンデンサを投
入し、上記鋼球により電気的に接続しながらメッキ膜を
析出させる。
と、比較のために作成された比較試料を用いて評価試験
を行った。その結果を表1に示す。試料No.1〜3
は、下地層7として銅、銅−ニッケル合金又はニッケル
を主材としたものである。試料No.4〜7は、下地層
7として銅−ニッケル合金を主材とし、表面層9がそれ
ぞれ、金、銀、パラジウム、ロジウムメッキした試料で
ある。
定の厚みに削ってクラックの確認を行い、クラックが発
生しなかった条件については、さらに導通抵抗の測定を
行った。また、それぞれの外部電極ペーストについて、
ヤング率の測定を行った。
超音波が反射してくるまでの速度を測定することにより
算出した。すなわち、外部電極ペーストをペレット上に
載せ、焼き付け時と同じ処理をすることにより、ベース
樹脂と有機溶剤を除き、ガラスフリット及び金属成分の
みからなる、セラミックコンデンサの外部電極と同一組
成である試料を作製し、この試料について測定を行っ
た。
50個を研磨し、金属顕微鏡で観察することにより確認
した。
の対向する主面側にそれぞれテスターを当て、1.5V
/10mAの電流を流した場合の抵抗値を測定した。ま
た、65℃/95%の条件に試料を96Hr放置した場
合について調べた。試料数は、各10個とした。
2、4〜7は、外部電極のヤング率が0.1〜20.0
(N/m2)、外部電極中の金属成分のヤング率が1.
0〜21.0(N/m2)の範囲にあり、クラックは発
生しなかった。これに対し、試料No.3は、外部電極
のヤング率が20.5(N/m2)、外部電極中の金属
成分のヤング率が22.0(N/m2)となり、クラッ
クが100%発生した。
特性の導通抵抗を1Ω未満にすることができた。
5%の条件に96Hr放置後の導通抵抗を1mΩ未満に
することができた。すなわち、金、銀、パラジウム、ロ
ジウムメッキが効果的に絶縁抵抗の低下を抑えるものと
考えられる。
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内
で種々の変更や改良等は何ら差し支えない。例えば、セ
ラミックコンデンサとして、積層セラミックコンデンサ
で説明を行ったが、その他、チップ抵抗器などにも適用
できる。
ば、外部電極のヤング率が0.1〜20.0N/m2で
あるため、外部電極が変形した際に、元に戻らなくなる
という問題点を解決でき、かつ外部電極の焼き付け時に
誘電体層と外部電極中の金属の収縮率の差による応力が
発生しても、外部電極の部分で応力を吸収でき、クラッ
クを有効に防止できる。
ンサをプリント配線基板に実装するため、導電性樹脂接
着剤自体が弾性を有し、それに接着する外部電極もヤン
グ率が0.1〜20.0N/m2であるためにコンデン
サ本体に加わる応力を効果的に吸収することができる。
これによって破損や、接続強度の劣化などを引き起こす
ことがなく、信頼性の高い実装構造とすることができ
る。
脂接着剤を用いるため、はんだ即ち鉛無しで実装でき、
鉛公害を防止できる。さらに、はんだリフロー工程がな
くなるため、そのフラックスを洗浄する必要がなく、工
程が簡素化されるとともに、洗浄溶剤による大気汚染な
どの公害を防止することができる。
向断面図である。
を示す厚み方向断面図である。
断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 内部電極を有する誘電体ブロックの端面
に外部電極を形成してなるセラミックコンデンサにおい
て、前記外部電極のヤング率が0.1〜20.0N/m
2であることを特徴とするセラミックコンデンサ。 - 【請求項2】 前記外部電極の表面に金、銀、パラジウ
ム、ロジウムのなかの少なくとも1つでメッキ層を形成
したことを特徴とする請求項1記載のセラミックコンデ
ンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000198463A JP2002015944A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | セラミックコンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000198463A JP2002015944A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | セラミックコンデンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002015944A true JP2002015944A (ja) | 2002-01-18 |
Family
ID=18696626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000198463A Ceased JP2002015944A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | セラミックコンデンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002015944A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002324720A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品 |
JP2011014698A (ja) * | 2009-07-01 | 2011-01-20 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品 |
JP2015029008A (ja) * | 2013-07-30 | 2015-02-12 | Tdk株式会社 | チップ型電子部品 |
WO2016042884A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 株式会社村田製作所 | チップ型セラミック半導体電子部品 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6451609A (en) * | 1987-08-24 | 1989-02-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Leadless chip component |
JPH02232914A (ja) * | 1989-03-07 | 1990-09-14 | Kyocera Corp | チップ状コンデンサ |
JPH03230508A (ja) * | 1990-02-06 | 1991-10-14 | Toshiba Corp | チップ型セラミック電子部品及びその製造方法 |
JPH053132A (ja) * | 1991-06-25 | 1993-01-08 | Mitsubishi Materials Corp | チツプ型積層セラミツクスコンデンサ |
JPH05283273A (ja) * | 1992-04-02 | 1993-10-29 | Toshiba Corp | 積層セラミックコンデンサ |
-
2000
- 2000-06-30 JP JP2000198463A patent/JP2002015944A/ja not_active Ceased
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6451609A (en) * | 1987-08-24 | 1989-02-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Leadless chip component |
JPH02232914A (ja) * | 1989-03-07 | 1990-09-14 | Kyocera Corp | チップ状コンデンサ |
JPH03230508A (ja) * | 1990-02-06 | 1991-10-14 | Toshiba Corp | チップ型セラミック電子部品及びその製造方法 |
JPH053132A (ja) * | 1991-06-25 | 1993-01-08 | Mitsubishi Materials Corp | チツプ型積層セラミツクスコンデンサ |
JPH05283273A (ja) * | 1992-04-02 | 1993-10-29 | Toshiba Corp | 積層セラミックコンデンサ |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002324720A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品 |
JP4691818B2 (ja) * | 2001-04-24 | 2011-06-01 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミック電子部品 |
JP2011014698A (ja) * | 2009-07-01 | 2011-01-20 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品 |
JP2015029008A (ja) * | 2013-07-30 | 2015-02-12 | Tdk株式会社 | チップ型電子部品 |
WO2016042884A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 株式会社村田製作所 | チップ型セラミック半導体電子部品 |
CN107077970A (zh) * | 2014-09-19 | 2017-08-18 | 株式会社村田制作所 | 芯片型陶瓷半导体电子部件 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3376971B2 (ja) | セラミック電子部品 | |
JP3376970B2 (ja) | セラミック電子部品 | |
JP4423707B2 (ja) | 積層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP6011574B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JP2017191929A (ja) | 積層型キャパシター及びその製造方法 | |
JPH11162771A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JP2015062215A (ja) | セラミック電子部品 | |
JPS63107087A (ja) | 混成集積回路基板 | |
JP3760770B2 (ja) | 積層セラミック電子部品及びその製造方法 | |
JP3363369B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JPH08107039A (ja) | セラミック電子部品 | |
JP4803451B2 (ja) | 電子部品及びその実装構造 | |
EP1134757B1 (en) | Ceramic electronic component having lead terminal | |
JP6777065B2 (ja) | 積層電子部品 | |
JP2000138131A (ja) | チップ型電子部品 | |
JP2002015944A (ja) | セラミックコンデンサ | |
JPH08203771A (ja) | セラミック電子部品 | |
JP6777066B2 (ja) | 積層電子部品 | |
JP2006332284A (ja) | 電子部品および電子部品の製造方法 | |
JP2003109838A (ja) | セラミック電子部品 | |
JPH07201636A (ja) | 積層電子部品及びその製造方法 | |
JP2000138130A (ja) | チップ型電子部品 | |
JP2000299243A (ja) | 積層チップ型電子部品 | |
JP4715000B2 (ja) | チップ型電子部品の製造方法 | |
JP2001237137A (ja) | 積層コンデンサ及びそのための外部電極導体ペースト |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070516 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100105 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100629 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100708 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100803 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20101221 |