JP2002015833A - スパークプラグ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 釉薬層中のＰｂ量を減少させても、その下側
に形成されるマーキング層を安定的に呈色させることが
できるスパークプラグを提供する。 【解決手段】 スパークプラグの絶縁体２に釉薬層２ｄ
が形成され、その釉薬層２ｄの下側にマーキング層２ｍ
が形成される。釉薬層２ｄは、例えばＺｎの含有量がＺ
ｎＯ換算にて１〜２５ｍｏｌ％であり、Ｐｂ成分の含有
量がＰｂＯ換算にて５ｍｏｌ％以下、例えば１ｍｏｌ％
以下とされる。一方、マーキング層２ｍは、釉薬層２ｄ
を介して透視される色調が、ＪＩＳ：Ｚ８７２１に規定
された明度において３以下であり、かつ彩度において３
以下となるか、又は明度において４以下であり、かつ彩
度において２以下となるように、含有される金属元素成
分の種別及び含有量が調整されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はスパークプラグに関
する。

【０００２】

【従来の技術】自動車エンジン等の内燃機関の点火用に
使用されるスパークプラグは、一般に、接地電極が取り
付けられる主体金具の内側に、アルミナ系セラミック等
で構成された絶縁体が配置され、その絶縁体の内側に中
心電極が配置された構造を有する。絶縁体は主体金具の
後方側開口部から軸方向に突出し、その突出部の内側に
端子金具が配置され、これがガラスシール工程により形
成される導電性ガラスシール層や抵抗体等を介して中心
電極と接続される。そして、その端子金具を介して高圧
を印加することにより、接地電極と中心電極との間に形
成されたギャップに火花放電が生ずることとなる。

【０００３】ところが、プラグ温度が高くなったり、周
囲の湿度が上昇したりするなどの条件が重なると、高圧
印加してもギャップに飛火せず、絶縁体突出部の表面を
回り込む形で端子金具と主体金具との間で放電する、い
わゆるフラッシュオーバ現象が生じることがある。その
ため、一般に使用されているほとんどのスパークプラグ
においては、主にこのフラッシュオーバ現象防止のため
に絶縁体表面に釉薬層が形成されている。他方、釉薬層
は、絶縁体表面を平滑化して汚染を防止したり、化学的
あるいは機械的強度を高めたりするといった役割も果た
す。

【０００４】スパークプラグ用のアルミナ系絶縁体の場
合、従来は、ケイ酸塩ガラスに比較的多量のＰｂＯを配
合して軟化点を低下させた鉛ケイ酸塩ガラス系の釉薬が
使用されてきたが、環境保護に対する関心が地球規模で
高まりつつある近年では、Ｐｂを含有する釉薬は次第に
敬遠されるようになってきている。例えばスパークプラ
グが多量に使用される自動車業界においては、廃棄スパ
ークプラグによる環境への影響を考慮して、Ｐｂ含有釉
薬を使用したスパークプラグの使用は将来全廃しようと
の検討も進められている。そして、そのようなＰｂ含有
釉薬の代替品として、例えば特開平１１−４３３５１号
公報あるいは特開平１１−１０６２３４号公報に、硼珪
酸ガラスやアルカリ硼珪酸ガラス系の無鉛釉薬が提案さ
れている。

【０００５】ところで、スパークプラグの絶縁体の表面
には通常、メーカー名やロゴマークあるいは品番など、
文字や記号その他の画像からなるマーキングが形成され
る。このマーキングは、顔料を配合したインクにより釉
薬層非形成の絶縁体表面に印刷され、その後、釉薬を塗
布して釉焼することにより形成されることが多い。この
場合、マーキング層は透明化した釉薬層を介して透視さ
れる。マーキング層は、例えばスパークプラグの品種や
形式を識別しやすくするため、色彩をそれら品種や形式
毎に変えて形成されることも多い。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、釉薬層の下
側に上記のようなマーキング層を形成する場合、マーキ
ング層中の顔料を構成する呈色金属酸化物が、釉焼時に
おいて釉薬層中の成分とはある程度不可避的に反応を起
こす。ここで、釉薬層を従来のＰｂ含有型のものを使用
した場合、呈色金属酸化物の本来の色調が維持されやす
く、望みの色彩を安定的に得ることができていた。とこ
ろが、本発明者らの検討によると、無鉛釉薬のように釉
薬中のＰｂ成分の含有量が低く抑えられた釉薬を使用し
た場合、マーキング層の色彩を望みの色調に安定的に調
整することが困難になることがわかった。

【０００７】本発明の課題は、釉薬層中のＰｂ量を減少
させても、その下側に形成されるマーキング層を安定的
に呈色させることができるスパークプラグを提供するこ
とにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段及び作用・効果】上記の課
題を解決するために、本発明のスパークプラグの第一の
構成は、絶縁体の表面に形成されるマーキング層と、そ
のマーキング層を透視可能な状態で被う釉薬層とを有
し、該釉薬層を構成する釉薬は、Ｐｂ成分の含有量がＰ
ｂＯ換算にて５ｍｏｌ％以下とされ、かつ釉薬層を介し
て透視される当該マーキング層の色調が、ＪＩＳ：Ｚ８
７２１に規定された明度において３以下であり、かつ彩
度において３以下となるか、又は明度において４以下で
あり、かつ彩度において２以下となるように、マーキン
グ層に含有される金属元素成分の種別及び含有量が調整
されていることを特徴とする。

【０００９】マーキング層を特に黒色に呈色させたい場
合、マーキング層は、白色光による反射光にて観察を行
ったときに、特定の波長域の光による突出した反射がな
く、かつ全体の反射光レベルが低くなるように、可視光
スペクトルの各波長域においてまんべんなく光の吸収を
生ずることが重要である。しかしながら、黒色釉薬層中
のＰｂ含有量が、ＰｂＯ換算にて５ｍｏｌ％以下になる
と、釉焼時に釉薬層中のＰｂ以外の成分がマーキング層
中の金属酸化物と反応して、その反応を起こした金属酸
化物による特定波長の光吸収のレベルが変化したり、あ
るいは光吸収の波長がシフトしたりすることにより、黒
色を呈するための光吸収のバランスが崩れ、結果として
マーキング層が黒からは逸脱した望まざる色調を呈しや
すくなる。このような状況では、例えばマーキングの色
彩にてスパークプラグの品種や形式を識別しようとする
場合には、その識別が困難となる場合がある。また、別
の現実的な問題としては、マーキング層の色調変化が、
購買者側では「使い慣れたマーキング色の理由なき変
更」に映じ、その抵抗感から必ずしもスムーズに製品が
受け入れられない、といった不具合も生じうる。

【００１０】そこで、本発明においては、Ｐｂ含有量が
５ｍｏｌ％以下である釉薬層を介して透視されるマーキ
ング層の色調が、ＪＩＳ：Ｚ８７２１に規定された明度
において３以下であり、かつ彩度において３以下となる
か、又は明度に４以下であり、かつ彩度において２以下
となるように、マーキング層に含有される金属元素成分
の種別及び含有量を調整することで、上記のようにＰｂ
含有量の低い釉薬層を使用した場合でも、下側に形成さ
れるマーキング層の外観色を黒色として安定的に認識す
ることができる。

【００１１】本明細書においては、明度及び彩度の測定
方法については、ＪＩＳ：Ｚ８７２２「色の測定方法」
において、「４．分光測色方法」の「４．３反射物体の
測定方法」に規定された方法を用いるものとする。ただ
し、簡略な方法として、ＪＩＳ：Ｚ８７２１に準拠して
作成された標準色票との目視比較により、明度及び彩度
を知ることもできる。

【００１２】マーキング層に含有される金属元素成分の
種別及び含有量の調整は、例えば、次のような思想に基
づいて行うことができる。マーキング層において呈色に
寄与するのは、主に、電子遷移による光吸収を起こしや
すい各種の遷移金属カチオン（以下、呈色金属成分とい
う）であり、マーキング層の最終的な色調は、概略的に
は、個々の金属カチオンに由来する光吸収の重ねあわせ
として観測される反射光スペクトル、換言すれば、含有
される個々の呈色金属成分に由来した色の混合状態とし
て視認されると考えられる。ところで、釉薬層のＰｂ成
分含有量が減少した場合、本発明者らが検討した結果、
Ｃｒなどの特定の呈色金属成分は、Ｐｂ含有量の減少し
た釉薬層との反応により、呈する色に変化を生じやすい
ことがわかった（以下、易変色性金属成分という）。こ
の場合、易変色性金属成分の量が過剰であると、その易
変色性金属成分による変化後の色相の色みが強くなっ
て、マーキング層全体としては黒からの色調の逸脱が強
くなることにつながる。そこで、釉薬層中のＰｂ成分含
有量を削減するに伴い、そのような易変色性金属成分の
含有量を相対的に減ずれば、易変色性金属成分による色
調変化の影響を和らげることができる。他方、釉薬層中
のＰｂ含有量削減によってもたらされる、易変色性金属
成分の変化後の色相がおおむねどのようなものであるか
が判明していれば、その色相と色相環上での隔たりが大
きい（例えば補色系となる）色相を呈する呈色金属成分
を、黒色化調整成分として配合することにより、マーキ
ング層全体としての色調を黒に近づけることが可能とな
る。

【００１３】なお、上記のような思想に基づいてマーキ
ング層の組成調整を行う場合、以下の点に留意する必要
がある。すなわち、同一の遷移金属カチオンであっても
価電子状態によって光吸収のスペクトルには差異を生
じ、例えば、周囲に配置したイオンから受ける相互作用
や、釉焼の温度あるいは雰囲気等により、遷移金属カチ
オンの価電子状態が変化して呈する色は種々に変化する
ことがある。このような現象は、光吸収の主体となる遷
移金属カチオンの周囲に配置するのが、他の遷移金属カ
チオンである場合はもちろん、ＡｌやＺｎなどの典型金
属のカチオンであっても生じうる。なお、後者のような
典型金属のカチオンは、しばしば色調調整や安定化な
ど、呈色補助成分として機能する。

【００１４】マーキング層の色調を「黒」として識別で
きるようにするためには、マーキング層の彩度の測定値
が、絶対値として３以下になっていることが必要であ
る。彩度が３を超えると、明度に関係なくマーキング層
は外観上、明らかに色みがついている印象がぬぐいきれ
なくなり、黒とは異質のものとなってしまうからであ
る。また、明度が４を超えると、仮に彩度が非常に小さ
かったとしても色調が灰色系に近くなり、黒とは異質の
外観を呈し始める。なお、明度が３以下の範囲であれ
ば、彩度が３程度までは実質的にほぼ黒として識別され
うるが、明度が３を超えると、明るくなる分だけ肉眼に
は色みを感じやすくなるので、明度３〜４の範囲に対し
ては彩度を２以下に留める必要がある。

【００１５】なお、彩度がゼロでない有限の値を示すと
いうことは、光学的な意味での純粋な「黒」が必ずしも
実現していることを意味しない。しかしながら、相当注
意しない限り、黒から逸脱した色調を呈していることが
確認できないような場合、マーキングの色調による品種
の識別が不能になったり、購買者側が抱いている色調イ
メージからの逸脱が過度に生じたりすることは考えにく
い。従って、本発明の目的においては、上記のような明
度及び彩度の範囲に属する色調は実質的に「黒」である
とみなすことができる。

【００１６】なお、マーキングの色調がどのように見え
るかは、明度や彩度の絶対値にのみ依存するのではな
く、背景色によっても見かけの色調が相対的に影響を受
ける場合がある。例えば、下地となる絶縁体を白色のア
ルミナ系セラミックにて形成し、釉薬もほぼ無色透明に
近い仕上がりの場合は、マーキングの背景も白色を呈す
る形となる。このような場合、マーキング層の色調に黒
から隔たった色みの成分が混ざっていると、白色の背景
色との対比でそれが目立ちやすくなる。例えば、背景色
が白色系の場合、マーキング層明度及び彩度は前述の範
囲でもよいが、「黒」としての識別性を高めるために
は、明度及び彩度をともに２以下とすることが望まし
い。なお、背景色が白色系であるとは、本明細書では、
彩度が１以下、明度が９以上であることを意味する。

【００１７】Ｐｂ含有量の少ない釉薬層は、釉焼時の流
動性を確保するためにＺｎ成分を含有させることがあ
る。マーキング層中の呈色金属成分にはＺｎ成分との反
応により呈する色に変化を生じやすいものが多いから、
釉薬層がこのようなＺｎ成分を含有している場合に、本
発明の効果が一層発揮されやすくなる。釉薬層中のＺｎ
成分の含有量は、例えばＺｎＯに酸化物換算した値にて
１〜２５ｍｏｌ％の範囲で選択することができる。Ｚｎ
成分含有量が１ｍｏｌ％未満になると、釉薬層の熱膨張
係数が大きくなりすぎ、釉薬層に貫入等の欠陥が生じや
すくなる場合がある。また、Ｚｎ成分は釉薬の軟化点を
低下させる作用も有するので、これが不足すれば釉焼が
困難となる場合がある。他方、Ｚｎ成分の含有量が２５
ｍｏｌ％を超えると、失透により釉薬層に白濁等を生じ
やすくなる場合がある。後者の場合、下地にマーキング
層の視認が困難となったり、あるいはマーキング層の見
かけの色調が灰色に近くなって黒から逸脱しやすくなっ
たりする問題がある。

【００１８】次に、マーキング層を黒に呈色させたい場
合、含有される金属元素成分としてＦｅ、Ｃｒ、Ｃｏ及
びＭｎの１種又は２種以上を選択することが望ましい。
このうち特に、ＦｅとＭｎとは単独でも黒に近い色調を
発することができ、黒色系呈色金属成分のベースとして
有効に使用することができる。ＦｅとＭｎとは一方のみ
を用いてもよいし、両者を併用するようにしてもよい。

【００１９】他方、ＦｅやＭｎを単独で使用するだけで
は、釉薬組成によっては、茶色（色相としては赤が混ざ
るということ）系等への色調の変化を生じたり、色むら
を生じたりするなど、均一で安定した黒の色調を実現す
ることが困難なこともある。特にＭｎを使用した場合
は、赤系の色合いが混ざりやすい傾向が高く、マーキン
グ層全体の色調は茶色系のものとなりやすい。この場
合、Ｃｒ成分及びＣｏ成分の一方又は双方を黒色化調整
成分として配合することにより、得られるマーキング層
の色調を黒に調整しやすくなる。この効果は、特に、Ｆ
ｅ成分とＣｒ成分とを組み合わせた場合に効果が大き
い。例えば、Ｆｅ成分の色調が赤系の成分を含んで発色
しようとした場合、Ｃｒ成分は緑系に発色する傾向が強
いので、後者が黒色化調整成分として働いて黒系の色を
実現しやすくなることが、現象論的に推測できる。

【００２０】ただし、Ｃｒ成分は、Ｐｂの含有率が小さ
い釉薬組成を使用した場合に色調が変化しやすく、特に
Ｚｎを含有した釉薬を使用すると、茶色系の赤を含んだ
色調を呈しやすくなる。従って、そのＣｒ成分に由来す
る赤系の色調を抑制するために、マーキング層は、Ｆｅ
成分をＦｅ_２Ｏ_３に酸化物換算した値にて３０〜６０質
量％と、Ｃｒ成分をＣｒ_２Ｏ_３に酸化物換算した値にて
１０〜４０質量％とを含有するものとして構成すること
が、マーキング層の色調として安定で均一な黒を実現す
る上で望ましい。

【００２１】また、本発明のスパークプラグの第二の構
成は、絶縁体の表面に形成されるマーキング層と、その
マーキング層を透視可能な状態で被う釉薬層とを有し、
該釉薬層は、Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯに酸化物換算し
た値にて５ｍｏｌ％以下とされ、かつ、Ｚｎ成分を、Ｚ
ｎＯに酸化物換算した値にて１〜２５ｍｏｌ％含有する
とともに、マーキング層は、Ｆｅ成分をＦｅ_２Ｏ_３に酸
化物換算した値にて３０〜６０質量％と、Ｃｒ成分をＣ
ｒ_２Ｏ_３に酸化物換算した値にて１０〜４０質量％とを
含有することを特徴とする。

【００２２】Ｆｅ成分の上記含有量が３０質量％未満に
なると、マーキング層を濃い黒色に呈色させることが困
難になる場合がある。他方、６０質量％を超えると黒色
調整成分の含有しろが小さくなり、安定で均一な黒が得
にくくなる場合がある。Ｆｅの代わりにＭｎを使用する
場合も傾向は略同じであり、Ｍｎを単独で、あるいはＦ
ｅと併用して使用する場合は、その合計含有量を３０〜
６０質量％とするのがよい。また、Ｃｒ成分の含有量が
１０質量％未満になると、Ｃｒ成分の黒色調整成分とし
ての効果が不十分となり、安定で均一な黒が得にくくな
る場合がある。他方、Ｃｒ成分の含有量が４０質量％を
超えると、マーキング層全体の色調が黒色から逸脱する
こと（例えば赤系の色が混ざって茶色っぽくなる）、ひ
いては明度及び彩度が前述の範囲から外れやすくなる場
合がある。マーキング層は、より望ましくは、Ｃｒ成分
をＣｒ_２Ｏ_３に酸化物換算した値にて１０〜２５質量％
含有しているのがよい。

【００２３】マーキング層は、Ｃｏ成分をＣｏＯに酸化
物換算した値にて１０〜４０質量％含有させることがで
きる。Ｃｏ成分も、赤色からの色相の隔たりの大きい青
色系の色を呈しやすい傾向があり、黒色系呈色金属成分
としてＦｅやＭｎを使用した場合等において、赤色系の
色が混ざりやすくなる状況下では、黒色化調整成分とし
て有効に機能する。ただし、Ｃｏ成分の上記含有量が１
０質量％未満では効果が不十分となる場合があり、マー
キング層全体の色調が却って黒色から逸脱しやすくなる
場合がある。

【００２４】また、Ｃｒ成分とＺｎ成分との反応等によ
り、前述のような赤系の色みを呈しやすい場合には、Ｃ
ｏ成分を添加して青系の色を補うことにより、マーキン
グ層全体の色調をより黒に近づけることも可能である。
この場合、Ｃｒ成分とＣｏ成分とが合計にて１０〜４０
質量％含有されていることが望ましい。

【００２５】マーキング層は、さらにＮｉ成分をＮｉ_２
Ｏ_３に酸化物換算した値にて０．５〜１５質量％含有さ
せることができる。Ｎｉ成分も黒色化調整成分として有
効に機能し、例えば釉薬層にＺｎが含有される場合に
は、該Ｚｎとの反応により青色系の呈色効果を示すの
で、Ｃｏと同様の色調調整効果が期待できる。ただし、
Ｎｉ成分の上記含有量が０．５質量％未満では効果が不
十分となる場合があり、１５質量％を超えると、マーキ
ング層全体の色調が却って黒色から逸脱しやすくなる場
合がある。

【００２６】また、マーキング層は、Ａｌ成分及びＢａ
成分の少なくとも一方を、Ａｌ成分はＡｌ_２Ｏ_３に、Ｂ
ａ成分はＢａＯにそれぞれ酸化物換算した値にて、合計
で０．５〜１５質量％含有させることができる。これら
成分は、マーキング層に含有する他の呈色金属成分の発
色を促進する効果を有する。ただし、その含有量が０．
５質量％未満では効果に乏しく、１５質量％を超えて含
有させることは、それ以上の効果の増大が期待できない
ばかりか、呈色金属成分の全含有量が相対的に減少し
て、マーキング層が十分な濃さに呈色しにくくなること
もありうる。

【００２７】なお、マーキング層には、上記以外にも、
色調調整や発色促進あるいは色の均質化と安定化等を目
的として、Ｖ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎａ、Ｍｇ、
Ｓｉ、Ｋ、Ｃａの１種又は２種以上を、ＶはＶ_２Ｏ
_３に、ＳｎはＳｎＯ_２に、ＺｎはＺｎＯに、ＴｉはＴｉ
Ｏ_２に、ＺｒはＺｒＯ_２に、ＮａはＮａ_２Ｏに、Ｍｇは
ＭｇＯに、ＳｉはＳｉＯ_２に、ＫはＫ_２Ｏに、ＣａはＣ
ａＯにそれぞれ酸化物換算した値にて、合計で５重量％
の範囲内で含有させることが可能である。

【００２８】マーキング層の厚さは、１〜１０μｍとす
るのがよい。マーキング層の厚さが１μｍ未満では、下
地の色が透けて現れやすくなる結果、マーキング層の色
調が黒から逸脱しやすくなる問題を生ずる。他方、１０
μｍを超えると、絶縁体表面にマーキング層に起因した
凹凸が目立つようになり、外観が損なわれる問題を生ず
る。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に示すいくつかの実施例を参照して説明する。図１は、
本発明の第一の構成に係るスパークプラグの一実施例を
示す。該スパークプラグ１００は、筒状の主体金具１、
先端部２１が突出するようにその主体金具１の内側に嵌
め込まれた絶縁体２、先端に形成された発火部３１を突
出させた状態で絶縁体２の内側に設けられた中心電極
３、及び主体金具１に一端が溶接等により結合されると
ともに他端側が側方に曲げ返されて、その側面が中心電
極３の先端部と対向するように配置された接地電極４等
を備えている。また、接地電極４には上記発火部３１に
対向する発火部３２が形成されており、それら発火部３
１と、対向する発火部３２との間の隙間が火花放電ギャ
ップｇとされている。

【００３０】主体金具１は、低炭素鋼等の金属により円
筒状に形成されており、スパークプラグ１００のハウジ
ングを構成するとともに、その外周面には、プラグ１０
０を図示しないエンジンブロックに取り付けるためのね
じ部７が形成されている。なお、１ｅは、主体金具１を
取り付ける際に、スパナやレンチ等の工具を係合させる
工具係合部であり、六角状の軸断面形状を有している。

【００３１】また、絶縁体２の軸方向には貫通孔６が形
成されており、その一方の端部側に端子金具１３が固定
され、同じく他方の端部側に中心電極３が固定されてい
る。また、該貫通孔６内において端子金具１３と中心電
極３との間に抵抗体１５が配置されている。この抵抗体
１５の両端部は、導電性ガラスシール層１６，１７を介
して中心電極３と端子金具１３とにそれぞれ電気的に接
続されている。これら抵抗体１５と導電性ガラスシール
層１６，１７とが焼結導電材料部を構成している。な
お、抵抗体１５は、ガラス粉末と導電材料粉末（及び必
要に応じてガラス以外のセラミック粉末）との混合粉末
を原料とし、後述のガラスシール工程においてこれを加
熱・プレスすることにより得られる抵抗体組成物で構成
される。なお、抵抗体１５を省略して、一層の導電性ガ
ラスシール層により端子金具１３と中心電極３とを一体
化した構成としてもよい。

【００３２】絶縁体２は、内部に自身の軸方向に沿って
中心電極３を嵌め込むための貫通孔６を有し、全体が以
下の絶縁材料により構成されている。すなわち、該絶縁
材料はアルミナを主体に構成され、Ａｌ成分を、Ａｌ_２
Ｏ_３に換算した値にて８５〜９８質量％（望ましくは９
０〜９８質量％）含有するアルミナ系セラミック焼結体
として構成される。

【００３３】Ａｌ以外の成分の具体的な組成としては下
記のようなものを例示できる。 Ｓｉ成分：ＳｉＯ_２換算値で１．５０〜５．００質量
％； Ｃａ成分：ＣａＯ換算値で１．２０〜４．００質量％； Ｍｇ成分：ＭｇＯ換算値で０．０５〜０．１７質量％； Ｂａ成分：ＢａＯ換算値で０．１５〜０．５０質量％； Ｂ成分：Ｂ_２Ｏ_３換算値で０．１５〜０．５０質量％。

【００３４】図２は、絶縁体２のみを取り出して示すも
のである。絶縁体２の軸方向中間には、周方向外向きに
突出する突出部２ｅが例えばフランジ状に形成されてい
る。そして、絶縁体２には、中心電極３（図１）の先端
に向かう側を前方側として、該突出部２ｅよりも後方側
がこれよりも細径に形成された本体部２ｂとされてい
る。一方、突出部２ｅの前方側にはこれよりも細径の第
一軸部２ｇと、その第一軸部２ｇよりもさらに細径の第
二軸部２ｉがこの順序で形成されている。なお、本体部
２ｂの外周面後端部にはコルゲーション部２ｃが形成さ
れている。また、第一軸部２ｇの外周面は略円筒状とさ
れ、第二軸部２ｉの外周面は先端に向かうほど縮径する
略円錐面状とされている。

【００３５】図１に戻り、中心電極３の軸断面径は抵抗
体１５の軸断面径よりも小さく設定されている。そし
て、絶縁体２の貫通孔６は、中心電極３を挿通させる略
円筒状の第一部分６ａと、その第一部分６ａの後方側
（図面上方側）においてこれよりも大径に形成される略
円筒状の第二部分６ｂとを有する。端子金具１３と抵抗
体１５とは第二部分６ｂ内に収容され、中心電極３は第
一部分６ａ内に挿通される。中心電極３の後端部には、
その外周面から外向きに突出して電極固定用凸部３ｃが
形成されている。そして、上記貫通孔６の第一部分６ａ
と第二部分６ｂとは、第一軸部２ｇ内において互いに接
続しており、その接続位置には、中心電極３の電極固定
用凸部３ｃを受けるための凸部受け面６ｃがテーパ面あ
るいはアール面状に形成されている。

【００３６】また、第一軸部２ｇと第二軸部２ｉとの接
続部２ｈの外周面は段付面とされ、これが主体金具１の
内面に形成された主体金具側係合部としての凸条部１ｃ
とリング状の板パッキン６３を介して係合することによ
り、軸方向の抜止めがなされている。他方、主体金具１
の後方側開口部内面と、絶縁体２の外面との間には、フ
ランジ状の突出部２ｅの後方側周縁と係合するリング状
の線パッキン６２が配置され、そのさらに後方側にはタ
ルク等の充填層６１を介してリング状の線パッキン６０
が配置されている。そして、絶縁体２を主体金具１に向
けて前方側に押し込み、その状態で主体金具１の開口縁
をパッキン６０に向けて内側に加締めることにより加締
め部１ｄが形成され、主体金具１が絶縁体２に対して固
定されている。

【００３７】次に、図２に示すように、絶縁体２の表
面、具体的にはコルゲーション部２ｃを含む本体部２ｂ
の外周面と、第一軸部２ｇの外周面とに釉薬層２ｄが形
成されている。なお、図１に示すように、本体部２ｂに
形成された釉薬層２ｄは、その軸方向前方側が主体金具
１の内側に所定長入り込む形で形成される一方、後方側
は本体部２ｂの後端縁位置まで延びている。

【００３８】釉薬層２ｄは、例えばＺｎの含有量がＺｎ
Ｏ換算にて１〜２５ｍｏｌ％であり、Ｐｂ成分の含有量
がＰｂＯ換算にて５ｍｏｌ％以下、例えば１ｍｏｌ％以
下とされる。一方、本体部２ｂにおいて絶縁体２の表面
にはマーキング層２ｍが形成されている。マーキング層
２ｍは、釉薬層２ｄにより透視可能な状態で覆われてい
る。該マーキング層２ｍは、「課題を解決するための手
段及び作用・効果」の欄にて説明したような、金属成分
をカチオンとする酸化物を主体に構成され、釉薬層２ｄ
を介して透視される当該マーキング層２ｍの色調が、Ｊ
ＩＳ：Ｚ８７２１に規定された明度において３以下であ
り、かつ彩度において３以下となるか、又は明度におい
て４以下であり、かつ彩度において２以下となるよう
に、含有される金属元素成分の種別及び含有量が調整さ
れている。具体的には、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ａｌ
あるいはＢａ等の成分を、前述の組成範囲にて含有する
ものであり、その厚さは１〜１０μｍ程度である。

【００３９】一方、釉薬層２ｄは、例えばＳｉＯ_２に酸
化物換算した値にて５〜６０ｍｏｌ％のＳｉ成分と、Ｂ
_２Ｏ_３に酸化物換算した値にて３〜５０ｍｏｌ％のＢ成
分とからなる第一成分を３５〜８０ｍｏｌ％と、Ｚｎ成
分とアルカリ土類金属成分Ｒ（ただし、ＲはＣａ、Ｓ
ｒ、Ｂａから選ばれる１種又は２種以上）との少なくと
もいずれかからなる第二成分とを、ＺｎはＺｎОに、Ｒ
は組成式ＲОに酸化物換算した値にて合計で５〜６０ｍ
ｏｌ％とを含有するとともに、それら第一成分と第二成
分との合計含有量が６５〜９８ｍｏｌ％であり、また、
アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ_２Ｏ、ＫはＫ
_２Ｏ、ＬｉはＬｉ_２Ｏに酸化物換算した値にて、それら
の１種又は２種以上を合計で２〜１５ｍｏｌ％の範囲に
て含有するものを使用することができる。釉薬層２ｄの
形成厚さは、例えば７〜１５０μｍ、望ましくは１０〜
５０μｍ程度である。特に、絶縁体本体部２ｂの基端部
（主体金具１から後方に突出している部分の、コルゲー
ション部２ｃが付与されていない円筒状の外周面を呈す
る部分）外周面における釉薬層２ｄの厚さｔ1（平均
値）は７〜５０μｍである。

【００４０】釉薬層２ｄ中のＳｉ成分含有量が５ｍｏｌ
％未満では、釉薬のガラス化が困難となり、均一な釉薬
層２ｄの形成が不能となる。他方、該Ｓｉ成分含有量が
６０ｍｏｌ％を超えると、釉薬の線膨張係数が小さくな
り過ぎ、釉薬層２ｄに亀裂や釉飛び等の欠陥が生じやす
くなる。また、釉薬の軟化点が過度に上昇する結果、釉
焼時の流動性が低下して釉溶け不良などを招きやすくな
る。また、これを解決するために釉焼温度を上昇させよ
うとすると、釉薬層２ｄとマーキング層２ｍとの反応が
活発化して、マーキング層２ｍを所望の黒色とすること
が困難となる場合がある。

【００４１】また、Ｂ成分含有量は、Ｂ_２Ｏ_３に酸化物
換算した重量にて３〜５０ｍｏｌ％に設定される。該Ｂ
成分含有量が３ｍｏｌ％未満になると、釉薬の軟化点が
上昇し、釉焼が困難あるいは不能となる。また、これを
解決するために釉焼温度を上昇させようとすると、釉薬
層２ｄとマーキング層２ｍとの反応が活発化して、マー
キング層２ｍを所望の黒色とすることが困難となる場合
がある。他方、Ｂ成分含有量が５０ｍｏｌ％を超える
と、釉薬層２ｄを形成するための釉薬スラリーの安定性
が不十分となるほか、釉薬層２ｄの失透や絶縁性の低下
あるいは下地との線膨張係数不適合といった問題が引き
起こされる場合がある。

【００４２】Ｚｎ成分及び／又はアルカリ土類金属成分
Ｒからなる第二成分の合計含有量が５ｍｏｌ％未満で
は、釉薬の軟化点が上昇し、所期の温度での釉焼が不能
となる場合がある。また、釉薬層２ｄの絶縁性が不十分
となり、耐フラッシュオーバ性が損なわれる場合があ
る。他方、第二成分の合計含有量が６０ｍｏｌ％を超え
ると、釉薬の軟化点が上昇し、所期の温度での釉焼が不
能となる場合がある。また、釉薬の線膨張係数が大きく
なり過ぎ、釉薬層２ｄに貫入（クレージング）等の欠陥
が生じやすくなる場合がある。なお、第一成分と第二成
分との合計含有量に関しては、これらの合計含有量が９
８ｍｏｌ％を超えると釉薬の軟化点が上昇し、釉焼が不
能となる場合がある。また、６０ｍｏｌ％未満では、絶
縁性と軟化点及び線膨張係数の調整とを両立させること
が困難となる。なお、該合計含有量は、望ましくは７０
〜９５ｍｏｌ％となっているのがよい。釉薬中のアルカ
リ金属成分は釉薬の軟化点を低下させる作用を有する。
その含有量が２ｍｏｌ％未満になると釉薬の軟化点が上
昇し、釉焼が不能となる場合がある。また、１５ｍｏｌ
％を超えると、釉薬の絶縁性が低下し、耐フラッシュオ
ーバー性が損なわれる場合がある。アルカリ金属成分の
含有量は、望ましくは３〜１０ｍｏｌ％とするのがよ
い。

【００４３】なお、アルカリ金属成分に関しては１種類
のアルカリ金属成分を単独添加するのではなく、Ｎａ、
Ｋ、Ｌｉから選ばれる２種類を共添加することが釉薬層
２ｄの絶縁性低下抑制に有効である。その結果、絶縁性
をそれほど低下させずにアルカリ金属成分の含有量を増
大させることができ、結果として耐フラッシュオーバ性
の確保及び釉焼温度の低温化という２つの目的を同時に
達成することが可能となる。なお、アルカリ金属成分の
共添加による導電性抑制の効果が損なわれない範囲で、
第三成分以降の他のアルカリ金属成分を配合することも
可能である。

【００４４】ここで、絶縁体２上に形成されたマーキン
グ層２ｍ及び釉薬層２ｄの各成分の含有量は、例えばＥ
ＰＭＡ（電子プローブ微小分析）やＸＰＳ（Ｘ線光電子
分光）等の公知の微小分析方法を用いて同定できる。例
えばＥＰＭＡを用いる場合、特性Ｘ線の測定には、波長
分散方式とエネルギー分散方式のいずれを用いてもよ
い。また、絶縁体２から釉薬層２ｄを剥離し、これを化
学分析あるいはガス分析することにより組成同定する方
法もある。

【００４５】釉薬層２ｄの軟化点は、例えば７００℃以
下の範囲で調整するのがよい。軟化点が７００℃を超え
ると、釉薬層２ｄとマーキング層２ｍとの反応が進みや
すくなり、マーキング層２ｍのにじみや色調変化を生じ
やすくなる。なお、釉薬の軟化点は、例えば釉薬層２ｄ
を絶縁体２から剥離して加熱しながら示差熱分析を行
い、屈状点を表す最初の吸熱ピークの次に現れるピーク
（すなわち第２番目に発生する吸熱ピーク）の温度をも
って該軟化点とする。また、絶縁体２表面に形成された
釉薬層２ｄの軟化点については、釉薬層２ｄ中の各成分
の含有量をそれぞれ分析して酸化物換算した組成を算出
し、この組成とほぼ等しくなるように、各被酸化元素成
分の酸化物原料を配合・溶解後、急冷してガラス試料を
得、そのガラス試料の軟化点をもって当該形成された釉
薬層２ｄの軟化点を推定することもできる。

【００４６】次に、接地電極４及び中心電極３の本体部
３ａはＮｉ合金等で構成されており、Ｉｒ、Ｐｔ及びＲ
ｈの１種又は２種以上を主成分とする貴金属合金を主体
に構成される発火部３１，３２が、溶接接合等により形
成されている。また、中心電極３の本体部３ａの内部に
は、放熱促進のためにＣｕあるいはＣｕ合金等で構成さ
れた芯材３ｂが埋設されている。なお、発火部３１及び
対向する発火部３２は少なくとも一方を省略する構成と
してもよい。

【００４７】上記スパークプラグ１００は、例えば下記
のような方法で製造される。まず、絶縁体２であるが、
これは原料粉末として、アルミナ粉末と、Ｓｉ成分、Ｃ
ａ成分、Ｍｇ成分、Ｂａ成分及びＢ成分の各成分源粉末
を、焼成後に酸化物換算にて前述の組成となる所定の比
率で配合し、所定量の結合剤（例えばＰＶＡ）と水とを
添加・混合して成形用素地スラリーを作る。なお、各成
分源粉末は、例えばＳｉ成分はＳｉＯ_２粉末、Ｃａ成分
はＣａＣＯ_３粉末、Ｍｇ成分はＭｇＯ粉末、Ｂａ成分が
ＢａＣＯ_３あるいはＢａＳＯ_４、Ｂ成分がＨ_３ＢＯ_３粉
末の形で配合できる。なお、Ｈ_３ＢＯ_３は溶液の形で配
合してもよい。

【００４８】成形用素地スラリーは、スプレードライ法
等により噴霧乾燥されて成形用素地造粒物とされる。そ
して、成形用素地造粒物をラバープレス成形することに
より、絶縁体の原形となるプレス成形体を作る。成形体
は、さらに外面側をグラインダ切削等により加工して、
図２に示す絶縁体２に対応した外形形状に仕上げられ、
次いで温度１４００〜１６００℃で焼成されて絶縁体２
となる。

【００４９】次に、図３に示すように、絶縁体２の本体
部２ｂの外周面に、マーキング層形成のための印刷層２
ｍ’を形成する。印刷のためのインクとしては、顔料な
ど、呈色金属成分を含む原料酸化物粉末を、溶媒と有機
結合剤あるいは粘性調整剤等と配合したものを使用でき
る。このインクを用いて、釉薬層２ｄを形成前の絶縁体
２の表面に所望のパターンに印刷する。なお、使用する
原料酸化物粉末粒子の平均粒径は、例えば０．３〜２．
０μｍの範囲で調整するのがよい。平均粒径が０．３μ
ｍ未満では釉薬層２ｄへの顔料成分の拡散が生じやすく
なり、色のにじみ等の原因ともなりうる。他方、２μｍ
以上ではインクの粘性が高くなりすぎ、印刷層２ｍの塗
布厚さにむら等が生じやすくなる。

【００５０】次に、釉薬スラリーの調製を以下のように
して行う。まず、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｎ、Ｂａ、及びアルカリ
金属成分（Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ）等の各成分源となる成分源
粉末（例えば、Ｓｉ成分はＳｉＯ_２粉末、Ｂ成分はＨ_３
ＢＯ_３粉末、ＺｎはＺｎＯ粉末、Ｂａ成分はＢａＣＯ_３
あるいはＢａＳＯ_４粉末、ＮａはＮａ_２ＣＯ_３粉末、Ｋ
はＫ_２ＣＯ_３粉末、ＬｉはＬｉ_２ＣＯ_３粉末）を、所定
の組成が得られるように配合して混合する。次いで、そ
の混合物を１０００〜１５００℃に加熱して溶融させ、
その溶融物を水中に投じて急冷・ガラス化し、さらに粉
砕することにより釉薬フリットを作る。そして、この釉
薬フリットにカオリン、蛙目粘土等の粘土鉱物と有機バ
インダーとを適量配合し、さらに水を加えて混合するこ
とにより釉薬スラリーを得る。

【００５１】そして、図４に示すように、この釉薬スラ
リーＳを噴霧ノズルＮから絶縁体２の必要な表面に噴霧
・塗布することにより、釉薬粉末堆積層としての釉薬ス
ラリー塗布層２ｄ’を形成し、これを乾燥する。なお、
先に形成してある印刷層２ｍは釉薬スラリー塗布層２
ｄ’に覆われる。

【００５２】次に、この釉薬スラリー塗布層２ｄ’を形
成した絶縁体２への、中心電極３と端子金具１３との組
付け、及び抵抗体１５と導電性ガラスシール層１６，１
７との形成工程の概略は以下の通りである。まず、図５
（ａ）に示すように、絶縁体２の貫通孔６に対し、その
第一部分６ａに中心電極３を挿入した後、（ｂ）に示す
ように導電性ガラス粉末Ｈを充填する。そして、（ｃ）
に示すように、貫通孔６内に押さえ棒２８を挿入して充
填した粉末Ｈを予備圧縮し、第一の導電性ガラス粉末層
２６を形成する。次いで抵抗体組成物の原料粉末を充填
して同様に予備圧縮し、さらに導電性ガラス粉末を充填
して予備圧縮を行うことにより、図５（ｄ）に示すよう
に、中心電極３側（下側）から貫通孔６内には、第一の
導電性ガラス粉末層２６、抵抗体組成物粉末層２５及び
第二の導電性ガラス粉末層２７が積層された状態とな
る。

【００５３】そして、図６（ａ）に示すように、貫通孔
６に端子金具１３を上方から配置した組立体ＰＡを形成
する。この状態で加熱炉に挿入してガラス軟化点以上で
ある８００〜９５０℃の所定温度に加熱し、その後、端
子金具１３を貫通孔６内へ中心電極３と反対側から軸方
向に圧入して積層状態の各層２５〜２７を軸方向にプレ
スする。これにより、同図（ｂ）に示すように、各層は
圧縮・焼結されてそれぞれ導電性ガラスシール層１６、
抵抗体１５及び導電性ガラスシール層１７となる（以
上、ガラスシール工程）。

【００５４】ここで、釉薬スラリー塗布層２ｄ’に含ま
れる釉薬フリットの軟化点を６００〜７００℃としてお
けば、釉薬スラリー塗布層２ｄ’を、上記ガラスシール
工程における加熱により同時に釉焼して釉薬層２ｄとす
ることができる。また、ガラスシール工程の加熱温度と
して８００〜９５０℃の比較的低い温度を採用すること
で、中心電極３や端子金具１３の表面への酸化も生じに
くくなる。そして、釉薬スラリー塗布層２ｄ’の釉焼に
伴い、印刷層２ｍ’（図３）も焼結されてマーキング層
２ｍ（図２）となる。なお、印刷層２ｍ’中の溶媒や有
機成分は、釉焼時に蒸発あるいは燃焼して除去される。
釉薬スラリー塗布層２ｄ’は釉焼に伴い溶融して透明な
ガラス状の釉薬層２ｄとなり、下側のマーキング層２ｍ
が透視可能な状態となる。マーキング層２ｍの組成を前
述のように調整することで、Ｐｂ成分の含有量が低く、
亜鉛成分の比較的高い釉薬層２ｄとの間の反応が抑制さ
れ、マーキング層２ｍの外観色を黒色として安定的に認
識することができる。

【００５５】こうしてガラスシール工程が完了した組立
体ＰＡには、主体金具１や接地電極４等が組み付けられ
て、図１に示すスパークプラグ１００が完成する。スパ
ークプラグ１００は、そのねじ部７においてエンジンブ
ロックに取り付けられ、燃焼室に供給される混合気への
着火源として使用される。

【００５６】

【実験例】本発明の効果を確認するために、以下の実験
を行なった。 （実験例１）絶縁体２を次のようにして作製した。ま
ず、原料粉末として、アルミナ粉末（アルミナ９５質量
％、Ｎａ含有量（Ｎａ_２Ｏ換算値）０．１質量％、平均
粒径３．０μｍ）に対し、ＳｉＯ_２（純度９９．５％、
平均粒径１．５μｍ）、ＣａＣＯ_３（純度９９．９％、
平均粒径２．０μｍ）、ＭｇＯ（純度９９．５％、平均
粒径２μｍ）、ＢａＣＯ_３（純度９９．５％、平均粒径
１．５μｍ）、Ｈ_３ＢＯ _３（純度９９．０％、平均粒径
１．５μｍ）、ＺｎＯ（純度９９．５％、平均粒径２．
０μｍ）を所定比率にて配合するとともに、この配合し
た粉末総量を１００質量部として、親水性バインダとし
てのＰＶＡを３質量部と、水１０３質量部とを加えて湿
式混合することにより、成形用素地スラリーを作製し
た。

【００５７】次いで、これら組成の異なるスラリーをそ
れぞれスプレードライ法により乾燥して、球状の成形用
素地造粒物を調製した。なお、造粒物は、ふるいにより
粒径５０〜１００μｍに整粒している。そして、この造
粒物をラバープレス法により圧力５０ＭＰａにて成形
し、その成形体の外周面にグラインダ研削を施して所定
の絶縁体形状に加工するとともに、温度１５５０℃で焼
成することにより絶縁体２を得た。なお、蛍光Ｘ線分析
により、絶縁体２は下記の組成を有していることがわか
った： Ａｌ成分：Ａｌ_２Ｏ_３換算値で９４．９質量％； Ｓｉ成分：ＳｉＯ_２換算値で２．４質量％； Ｃａ成分：ＣａＯ換算値で１．９質量％； Ｍｇ成分：ＭｇＯに換算値で０．１質量％； Ｂａ成分：ＢａＯに換算値で０．４質量％； Ｂ成分：Ｂ_２Ｏ_３換算値で０．３質量％。

【００５８】次に、釉薬スラリーを次のようにして調製
した。まず、原料としてＳｉＯ_２（純度９９．５％）、
Ａｌ_２Ｏ_３粉末（純度９９．５％）、Ｈ_３ＢＯ_３粉末
（純度９８．５％）、Ｎａ_２ＣＯ_３粉末（純度９９．５
％）、Ｋ_２ＣＯ_３粉末（純度９９％）、Ｌｉ_２ＣＯ_３粉
末（純度９９％）、ＢａＳＯ_４粉末（純度９９．５
％）、ＳｒＣＯ_３粉末（純度９９％）、ＺｎＯ粉末（純
度９９．５％）、ＭｏО_３粉末（純度９９％）、ＣａＯ
粉末（純度９９．５％）、ＴｉＯ_２粉末（純度９９．０
％）、ＺｒＯ_２粉末（純度９９．５％）、ＭｇＯ粉末
（純度９９．５％）、ＰｂＯ粉末（純度９９％）を各種
比率で配合し、その混合物を１０００〜１５００℃に加
熱して溶融させ、その溶融物を水中に投じて急冷・ガラ
ス化し、さらにアルミナ製ポットミルにより粒径５０μ
ｍ以下に粉砕することにより釉薬フリットを作製した。
そして、この釉薬フリット１００質量部に対し粘土鉱物
としてのニュージーランドカオリンを３質量部、及び有
機バインダーとしてのＰＶＡを２質量部配合し、さらに
水を１００質量部加えて混合することにより、２種類の
釉薬スラリーを得た。なお、塊状に凝固させた釉薬試料
を用いて釉薬の化学組成を分析した。その分析結果は、
以下の通りであった： （釉薬組成１） ＳｉО_２：２８．５ｍｏｌ％ Ｂ_２О_３：２８．５ｍｏｌ％ ＺｎＯ：１５．８ｍｏｌ％ ＢａＯ：５．５ｍｏｌ％ Ｎａ_２Ｏ：２．２ｍｏｌ％ Ｋ_２Ｏ：５．４ｍｏｌ％ Ｌｉ_２Ｏ：３．０ｍｏｌ％ Ａｌ_２О_３：２．４ｍｏｌ％ ＭｏО_３：０．５ｍｏｌ％ ＺｒＯ_２：１．２ｍｏｌ％ ＭｇＯ：１．１ｍｏｌ％ ＴｉＯ_２：０．７ｍｏｌ％ ＣａＯ：３．３ｍｏｌ％

【００５９】（釉薬組成２） ＳｉО_２：２９．５ｍｏｌ％ Ｂ_２О_３：３０．１ｍｏｌ％ ＺｎＯ：１３ｍｏｌ％ ＢａＯ：３ｍｏｌ％ ＳｒＯ：２．２ｍｏｌ％ Ｎａ_２Ｏ：１．４ｍｏｌ％ Ｋ_２Ｏ：５．１ｍｏｌ％ Ｌｉ_２Ｏ：３．０ｍｏｌ％ Ａｌ_２О_３：１．５ｍｏｌ％ ＭｏО_３：０．５ｍｏｌ％ ＺｒＯ_２：１．２ｍｏｌ％ ＭｇＯ：３．３ｍｏｌ％ ＰｂＯ：６．２ｍｏｌ％

【００６０】次に、マーキング層形成用の各種組成のイ
ンクを、以下のようにして調製した。すなわち、表１の
各組成となるように酸化物原料を配合し、５００〜１０
００℃にて仮焼した後、トロンメルミルにて平均粒径１
μｍ以下となるように粉砕する。そして、その粉砕した
粉末に適量のワニスとアルキド樹脂とを加えて混合し、
ロールミルにて混練することにより、インクを得る。

【００６１】上記のインクを用いて、絶縁体２の表面に
印刷層２ｍ’を厚さ２μｍにて形成して乾燥した後、釉
薬スラリー（釉薬組成１）を、図４のように噴霧ノズル
より絶縁体２の表面に噴霧後、乾燥して釉薬スラリー塗
布層２ｄ’を形成した。なお、乾燥後の釉薬の塗布厚さ
は１００μｍ程度である。この絶縁体２を用いて、図１
に示すスパークプラグ１００を各種作成した。ただし、
ねじ部７の外径は１４ｍｍとした。また、抵抗体１５の
原料粉末としてはＢ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−ＢａＯ−Ｌｉ_２
Ｏ系ガラス、ＺｒＯ_２粉末、カーボンブラック粉末、Ｔ
ｉＯ_２粉末、金属Ａｌ粉末を、導電性ガラスシール層１
６，１７の原料粉末としてはＢ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−Ｎａ
_２Ｏ系ガラス、Ｃｕ粉末、Ｆｅ粉末、Ｆｅ−Ｂ粉末をそ
れぞれ用い、ガラスシール時の加熱温度、すなわち釉焼
温度は９００℃にて行った。

【００６２】そして、釉焼後の釉薬層２ｄを介して透視
されるマーキング層２ｍの色調を目視確認するととも
に、白色光源を用いた拡大鏡観察により、ＪＩＳ：Ｚ８
７２１に準拠して作成された標準色票と目視比較して、
その明度及び彩度を測定した。そして、色調確認の終了
した試験品に対し、絶縁体２の表面に形成された釉薬層
２ｄの各組成をＥＰＭＡ分析により測定した。さらに、
断面のＥＰＭＡ分析により、マーキング層の組成分析を
行った。以上の結果を表１に示す（組成は、酸化物換算
にて示している）。

【００６３】

【表１】

【００６４】このように、釉薬層がＰｂ成分をほとんど
含まず、かつＺｎ成分の含有量が比較的高いにもかかわ
らず、マーキング層の組成を調整する事により、該マー
キング層の明度及び彩度がともに３以下の、黒系の色調
が安定的に実現されていることがわかる。なお、マーキ
ング層が赤褐色となった番号３のインクに関しては、Ｐ
ｂを含有する釉薬組成２の釉薬スラリーを用いて同様の
実験を行ったところ、結果は明度３、彩度２であり、問
題のない黒色を呈した。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のスパークプラグの一例を示す全体正面
断面図。

【図２】絶縁体の外観を釉薬層とともに示す正面図。

【図３】印刷層の形成工程の説明図。

【図４】釉薬スラリー塗布層の形成工程の説明図。

【図５】ガラスシール工程の説明図。

【図６】図５に続く説明図。

【符号の説明】

１ 主体金具 ２ 絶縁体 ２ｄ 釉薬層 ２ｍ マーキング層 ３ 中心電極 ４ 接地電極

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 絶縁体の表面に形成されるマーキング層
   と、 そのマーキング層を透視可能な状態で被う釉薬層とを有
   し、 該釉薬層は、Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて５ｍｏ
   ｌ％以下とされ、かつ、前記釉薬層を介して透視される
   当該マーキング層の色調が、ＪＩＳ：Ｚ８７２１に規定
   された明度において３以下であり、かつ彩度において３
   以下となるか、又は明度において４以下であり、かつ彩
   度において２以下となるように、マーキング層に含有さ
   れる金属元素成分の種別及び含有量が調整されているこ
   とを特徴とするスパークプラグ。
2. 【請求項２】 前記釉薬層はＺｎ成分を含有する請求項
   １記載のスパークプラグ。
3. 【請求項３】 前記釉薬層はＺｎ成分を、ＺｎＯに酸化
   物換算した値にて１〜２５ｍｏｌ％含有する請求項２記
   載のスパークプラグ。
4. 【請求項４】 前記マーキング層は、金属元素成分とし
   てＦｅ、Ｃｒ、Ｃｏ及びＭｎの１種又は２種以上を含有
   する請求項１ないし３のいずれかに記載のスパークプラ
   グ。
5. 【請求項５】 前記マーキング層は、金属元素成分とし
   てＦｅ及びＭｎの少なくとも一方と、Ｃｒ及びＣｏの少
   なくとも一方とを含有する請求項４記載のスパークプラ
   グ。
6. 【請求項６】 前記マーキング層は、金属元素成分とし
   てＦｅとＣｒとを含有する請求項５記載のスパークプラ
   グ。
7. 【請求項７】 前記マーキング層は、Ｆｅ成分をＦｅ_２
   Ｏ_３に酸化物換算した値にて３０〜６０質量％と、Ｃｒ
   成分をＣｒ_２Ｏ_３に酸化物換算した値にて１０〜４０質
   量％とを含有する請求項６記載のスパークプラグ。
8. 【請求項８】 絶縁体の表面に形成されるマーキング層
   と、 そのマーキング層を透視可能な状態で被う釉薬層とを有
   し、 該釉薬層は、Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯに酸化物換算し
   た値にて５ｍｏｌ％以下とされ、かつ、Ｚｎ成分を、Ｚ
   ｎＯに酸化物換算した値にて１〜２５ｍｏｌ％含有する
   とともに、 前記マーキング層は、Ｆｅ成分をＦｅ_２Ｏ_３に酸化物換
   算した値にて３０〜６０質量％と、Ｃｒ成分をＣｒ_２Ｏ
   _３に酸化物換算した値にて１０〜４０質量％とを含有す
   ることを特徴とするスパークプラグ。
9. 【請求項９】 前記マーキング層は、Ｃｒ成分をＣｒ_２
   Ｏ_３に酸化物換算した値にて１０〜２５質量％含有する
   請求項７又は８に記載のスパークプラグ。
10. 【請求項１０】 前記マーキング層は、Ｃｏ成分をＣｏ
    Ｏに酸化物換算した値にて１０〜４０質量％含有する請
    求項４ないし９記載のスパークプラグ。
11. 【請求項１１】 前記マーキング層は、Ｎｉ成分をＮｉ
    _２Ｏ_３に酸化物換算した値にて０．５〜１５質量％含有
    する請求項４ないし１０記載のスパークプラグ。
12. 【請求項１２】 前記マーキング層は、Ａｌ成分及びＢ
    ａ成分の少なくとも一方を、Ａｌ成分はＡｌ_２Ｏ_３に、
    Ｂａ成分はＢａＯにそれぞれ酸化物換算した値にて、合
    計で０．５〜１５質量％含有する請求項４ないし１１の
    いずれかに記載のスパークプラグ。