JP2001515465A - 除草剤としての１，３―オキサジン―４オン誘導体、その製造方法及び製造用中間体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 式（Ｉ）［式中、Ｗは−ＮＲ⁶を表し；Ｒ¹はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ、ニトロ及びフェノキシから選択される同じか異なる１〜３つの基により任意に置換されたチオフェンを表し；Ｒ²は水素、低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、低級アルケニル、低級ハロアルケニル、アルコキシアルケニル、−ＣＨＯ、−ＣＯＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＨ₂ＮＯ₂を表すか、又は−Ｓ（Ｏ）_mＲ⁷及び−ＯＣＯＲ⁷から選択される基により置換された低級アルキルを表し；Ｒ³はハロゲン、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ、ニトロ、−ＯＨ、フェノキシ、−ＮＲ⁸Ｒ⁹及び−ＳＦ₅から選択される同じか異なる１〜５つの基により任意に置換されたフェニルを表すか；又は、任意に、低級アルキル、低級ハロアルキル又は同じか異なる１個以上のハロゲン原子により置換された３〜６個の炭素原子を含むシクロアルキル基を表し；Ｒ⁴とＲ⁵は独立して低級アルキルを表す］の１，３−オキサジン−４−オン；及びその除草剤としての使用。

Description

【発明の詳細な説明】除草剤としての１，３−オキサジン−４オン誘導体、その製造方法及び製造用中 間体 本発明は、新規の１，３−オキサジン−４−オン誘導体、その製造方法及び製 造用中間体、それらを含む組成物及び除草剤としてのそれらの使用に関する。 本発明によれば、式（Ｉ）： ［式中、 Ｗは−ＮＲ⁶を表し； Ｒ¹はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコ キシ、低級ハロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ 、ニトロ及びフェノキシから選択される同じか異なる１〜３つの基により任意に 置換されたチオフェンを表し； Ｒ²は水素、低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、低級ア ルケニル、低級ハロアルケニル、アルコキシアルケニル、−ＣＨＯ、−ＣＯＲ⁷ 、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＨ₂ＮＯ₂、及び置換低級アルキル（該低級アルキルは、−Ｓ （Ｏ）_mＲ⁷及び−ＯＣＯＲ⁷から選択される基により置換されている）を表し； Ｒ³はハロゲン、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハ ロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ、ニトロ、− ＯＨ、フェノキシ、−ＮＲ⁸Ｒ⁹及び−ＳＦ₅から選択される同じか異なる１〜５ つの基により任意に置換されたフェニルを表すか；又は 低級アルキル、低級ハロアルキル又は同じか異なる１個以上のハロゲン原子に より任意に置換された３〜６個の炭素原子を含むシクロアルキル基を表し； Ｒ⁴とＲ⁵は独立して低級アルキルを表し； Ｒ⁶は水素を表し； Ｒ⁷は低級アルキル又は低級ハロアルキルを表し； Ｒ⁸とＲ⁹は独立して水素又はＲ⁷を表し；及び ｍとｎは独立して０、１又は２を表す］ の１，３−オキサジン−４−オン誘導体又はその農業的に許容可能な塩が提供さ れ、これらは価値ある特性を有する。 置換基によっては、本発明の化合物は光学異性及び又は立体異性を示すことが 認められるであろう。全てのかかる形態は本発明に包含されるものである。 用語「農業的に許容可能な塩」はそのカチオン又はアニオンが農業又は園芸的 用途に対して当業技術において周知で許容される塩を意味するものとする。好ま しくはこれらの塩は水溶性である。適切な塩基との塩はアルカリ金属（例えばナ トリウムとカリウム）、アルカリ土類金属（例えばカルシウムとマグネシウム） 、アンモニウム及びアミン（例えばジエタノールアミン、トリエタノールアミン 、オクチルアミン、モルホリン及びジオクチルメチルアミン）塩である。適切な 酸添加による塩（例えばアミノ基を含む式（Ｉ）の化合物で形成される）は、無 機酸との塩（例えば塩酸塩、硫酸塩、燐酸塩及び硝酸塩）及び有機酸（例えば酢 酸）との塩を含む。 本明細書の記述において、次の用語は全般的に次の通り定義される： 「低級アルキル」は１〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐 鎖のアルキル基を意味する。 「低級ハロアルキル」は１個以上のハロゲンにより置換された１〜６個の炭素原 子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキル基を意味する。 「低級アルコキシ」は１〜６個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルコキシ 基を意味する。 「低級ハロアルコキシ」は１個以上のハロゲンにより置換された１〜６個の炭素 原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基を意味する。 「ハロゲン」は弗素、塩素、臭素又は沃素を意味する。 「低級アルケニル」は２〜６個の炭素原子を有するアルケニル基を意味する。 「低級ハロアルケニル」は１個以上のハロゲンにより置換された２〜６個の炭素 原子を有するアルケニル基を意味する。 「アルコキシアルキル」は低級アルコキシ基により置換された低級アルキル基を 意味する。 「アルコキシアルケニル」は低級アルコキシ基により置換された低級アルケニル 基を意味する。 本発明の化合物はそれらの特性の或る観点において、例えば イネ科雑草種Alopecurus myosuroides、Avena fatua（カラスムギ）及びEchinoc hloa crus-galli （イヌビエ）の防除とコムギにおけるそれらの選択性において 、既知化合物を越える利点を示す。 上記式（Ｉ）の好ましい化合物は、式（Ｉ）において、 Ｒ¹はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコ キシ、低級ハロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ 、ニトロ及びフェノキシから選択される同じか異なる１〜３つの基により任意に 置換されたチオフェンを表し； Ｒ²は水素、低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、低級ア ルケニル、低級ハロアルケニル、アルコキシアルケニル、−ＣＨＯ、−ＣＯＲ⁷ 及び−ＣＯ₂Ｒ⁷を表し； Ｒ³はハロゲン、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハ ロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ、ニトロ、− ＯＨ、フェノキシ及び−ＮＲ⁸Ｒ⁹から選択される同じか異なる１〜５つの基によ り任意に置換されたフェニルを表すか；又は 低級アルキル、低級ハロアルキル又は同じか異なる１個以上 のハロゲン原子により任意に置換された３〜６個の炭素原子を含むシクロアルキ ル基を表し； Ｒ⁴とＲ⁵は独立して低級アルキルを表し； Ｗは−ＮＲ⁶を表し； Ｒ⁶は水素を表し； Ｒ⁷は低級アルキル又は低級ハロアルキルを表し； Ｒ⁸とＲ⁹は独立して水素又はＲ⁷を表し；及び ｎは０、１又は２を表す化合物を包含する。 上記式（Ｉ）において、Ｒ¹は無置換のチオフェンを表す化合物が好ましい。 上記式（Ｉ）において、Ｒ⁴とＲ⁵はそれぞれメチルを表す化合物が特に好まし い。 特に好ましい上記式（Ｉ）の化合物は式（Ｉ）において、Ｒ²は低級アルキル 、最も好ましくはメチルである化合物である。 式（Ｉ）において、Ｒ³は３−単置換、３，５−二置換又は２，５−二置換で あるフェニルを表す化合物が好ましい（３，５−二置換又は２，５−二置換は特 に好ましい）。 式（Ｉ）において、Ｒ³は１個以上のハロゲン原子により任意に置換された１ 〜３個の炭素原子を有する直鎖若しくは分岐 鎖のアルキル基又はハロゲンから選択される同じか又は異なる１〜３つの基によ り任意に置換されたフェニルを表す化合物が好ましい。 式（Ｉ）において、Ｒ³は、ハロゲン（特に塩素又は弗素）、Ｃ₁〜₃アルキル （特にメチル）及びＣ₁〜₃ハロアルキル（特に−ＣＦ₃）から選択される同じか 又は異なる１〜２つの基により置換されたフェニルを表す化合物が特に好ましい 。 好ましいクラスの式（Ｉ）の化合物は式（Ｉ）において、 Ｒ²はメチル、ハロゲン化メチル又はメトキシメチルを表し； Ｒ³はハロゲン、直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭素原 子を有するアルキル基、直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭 素原子を有するアルコキシ基、又は−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷から選択される同じか又は異 なる１〜３つの基により任意に置換されたフェニルを表すか；又は シクロブチルを表し； Ｒ⁴とＲ⁵はそれぞれメチルを表し；及び Ｒ⁷は直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭素原子を有する アルキル基を表す化合物である。 特に好ましいクラスの式（Ｉ）の化合物は式（Ｉ）において、 Ｒ¹はハロゲン、直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭素原 子を有するアルキル基、直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭 素原子を有するアルコキシ基、又は−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷から選択される同じか異なる １〜２つの基により任意に置換されたチオフェンを表し； Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれメチルを表し； Ｒ³はハロゲン及び任意にハロゲン化されたメチルから選択される同じか又は 異なる１〜２つの基により任意に置換されたフェニルを表すか；又はシクロブチ ルを表し；及び Ｒ⁷は直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭素原子を有する アルキル基を表す化合物である。 更に特に好ましいクラスの式（Ｉ）の化合物は式（Ｉ）において、 Ｒ¹はチオフェンを表し； Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれメチルを表し；及び Ｒ³はハロゲン及び任意にハロゲン化されたメチルから選択される同じか又は 異なる１又は２つの基により任意に置換されたフェニルを表すか；又はシクロブ チルを表す化合物である。 更に特に好ましいクラスの式（Ｉ）の化合物は式（Ｉ）において、 Ｒ¹は低級アルキル、低級アルコキシ又はハロゲンにより任意に置換されたチ オフェンを表し； Ｒ²はメチル又はエチルを表し； Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれメチルを表し；及び Ｒ³はハロゲン、任意にハロゲン化されたメチル、ニトロ又は−ＳＦ₅から選択 される同じか又は異なる１、２又は３つの基により任意に置換されたフェニルを 表すか；又はシクロブチル若しくはシクロプロピルを表す化合物である。 他の好ましいクラスの上記式（Ｉ）の化合物は、 Ｒ¹は２−チエニル；３−チエニル；３−メトキシ−２−チエニル；５−メチ ル−２−チエニル又は５−クロロ−２−チエニルを表すこと； Ｒ²はメチル、エチル又はフルオロメチルを表すこと Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれメチルを表すこと；及び Ｒ³はシクロプロピル；シクロブチル；３，５−ジフルオロフェニル；３，５ −ジクロロフェニル；２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル；２−フ ルオロ−５−メチルフェニル；３−クロロフェニル；２，５−ジフルオロフェニ ル；３−トリフルオロメチルフェニル；５−クロロ−２−メチルフェニ ル；３−ペンタフルオロスルファニルフェニル；２−クロロ−３，５−ジフルオ ロフェニル；３，４，５−トリフルオロフェニル；２−クロロ−５−フルオロフ ェニル；５−クロロ−２−フルオロフェニル又は５−クロロ−３−フルオロフェ ニルを表すこと の特徴の１つ以上を有する化合物である。 式（Ｉ）の特に重要な化合物は次の化合物を含む： １． Ｎ−（３，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３− イル］−２−メチルプロパンアミド； ２． Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メ チル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド； ３． Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２， ３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３ −オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ４． Ｎ−（２−フルオロ−５−メチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ −６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ５． Ｎ−（３−クロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル− ４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］− ２−メチルプロパンアミド； ６． Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３− イル］−２−メチルプロパンアミド； ７． Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ− ６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン− ３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ８． Ｎ−（３−クロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル− ４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］− ２−メチルプロパンアミド； ９． Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２， ３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３ −オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １０． Ｎ−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ− ５−（３−メトキシ−２−チエニル）−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３ −オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １１． Ｎ−（シクロブチル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オ キソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メ チルプロパンアミド； １９． Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ− ５−（３−メトキシ−２−チエニル）−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３ −オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ２０． Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−５− （３−メトキシ−２−チエニル）−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オ キサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ４０． Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２， ３−ジヒドロ−６−メチル−５−（５−メチル−２−チエニル）−４−オキソ− ４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ４１． Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− メチル−５−（５−メチル−２−チエニル）−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキ サジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ４２． Ｎ−（３−クロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル− ５−（５−メチル−２−チエニル）−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン− ３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ４７． Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３− イル］−２−メチルプロパンアミド； ４８． Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メ チル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド； ４９． Ｎ−（３，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３− イル］−２−メチルプロパンアミド； ５０． Ｎ−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ− ６−メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン− ３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ５３． Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２− チエニル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキ サジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ５４． Ｎ−（３−クロロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２−チエニル ）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン− ３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ５５． Ｎ−（３，５−ジクロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２−チエ ニル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジ ン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ５６． Ｎ−（３，５−ジフルオロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２− チエニル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキ サジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； ５７． Ｎ−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−［５−（５−クロロ− ２−チエニル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３− オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １３６． Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２ ，３−ジヒドロ−６−メチル−５−（５−メチル−２−チエニル）−４−オキソ −４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １３７． Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ −６−エチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １３８． Ｎ−（３−クロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−エチル −４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］ −２−メチルプロパンアミド； １３９． Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６ −エチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３ −イル］−２−メチルプロパンアミド； １４０． Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２ ，３−ジヒドロ−６−エチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１， ３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １４１． Ｎ−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ −６−エチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １４２． Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− エチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３− イル］−２−メチルプロパンアミド； １４３． Ｎ−（３，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６ −エチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３ −イル］−２−メチルプロパンアミド； １４４． Ｎ−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２ −チエニル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オ キサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １４５． Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［５ −（５−クロロ−２−チエニル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ −４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １４６． Ｎ−（３−ペンタフルオロスルファニルフェニル）−２−［２，３− ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オ キサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １４７． Ｎ−（２−クロロ−３，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３− ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オ キサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １４８． Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２ ，３−ジヒドロ−５−（３−メトキシ−２−チエニル）−６−メチル−４−オキ ソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １４９． Ｎ−（３，４，５−トリフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒド ロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジ ン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １５０． Ｎ−（２−メチル−５−ニトロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ −６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １５１． Ｎ−（シクロプロピル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４ −オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２ −メチルプロパンアミド； １５２． Ｎ−（２−クロロ−５−フルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒド ロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジ ン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １５３． Ｎ−（３−クロロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２， ３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３ −オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド； １５４． Ｎ−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６ −メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３ −イル］−２−メチルプロパンアミド； １５５． Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２ ，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１， ３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド；及び １５６． Ｎ−（２−クロロ−５−フルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒド ロ−６−メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジ ン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド。 式（Ｉ）（式中、Ｒ⁴及びＲ⁵がメチルを表し、Ｗが−ＮＨ−を表す）の次の化 合物は本発明の部分を形成する。 次の表においてＭｅはメチルを、ｃＢｕはシクロブチルを、ｃＰｒはシクロプ ロピルを、Ｐｈはフェニルを、そしてＥｔはエチルを意味する。表中で添字でな いところでも、適切な場合は添字であると理解される（例えばＣＦ３はＣＦ₃を 意味すると理解される）。 上記式（Ｉ）の化合物は周知の方法（すなわちこれまでに使用された又は文献 に記載の方法）の応用又は適用により調製することができる。 次のプロセスの記述において、反応順序は変更してもよく、所定化合物を得る ために適切な保護基が必要とされる場合もある。 本発明の特徴に従い、式（Ｉ）の化合物（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及 びＷは上に定義されたごとくである）は一般式（II）： （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は上に定義されたごとくである）の化合物 と式（III） Ｒ⁶ＮＨ−Ｒ³ （III） （式中、Ｒ³及びＲ⁶は上に定義されたごとくである）のアミンとの反応により 調製することができる。反応は通常、塩基（例えばトリエチルアミンのごとき第 三級アミン）の存在下で、 ジクロロメタンのごとき不活性溶媒中で、０℃から溶媒還流温度の間の温度で行 われる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくである）の化合物は又、式（IV）： （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及ひＲ⁵は上に定義されたごとくである）の化合物と上記 式（III）（式中、Ｒ³は上に定義されたごとくであり、Ｒ⁶は水素である）のア ミンとの反応により調製することができる。反応はカップリング剤（例えばＮ， Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣＩ））の存在下で、任意に塩基 （例えば４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ））の存在下で、ジクロロメタ ンのごとき不活性溶媒中で、０〜６０℃の温度で行われる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）の化合物（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及 びＷは上に定義されたごとくである）は又、 上記式（IV）のカルボン酸と式ＰｈＯ₂Ｃ−ＮＨＲ³（式中、Ｒ³は上に定義され たごとくである）との反応により調製することができる。反応は通常、塩基好ま しくは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデク−７−エンの存在下で、 不活性溶媒（例えば１，４−ジオキサン）中で、２０〜1００℃の温度で行われ る。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくである）の化合物は又、上記式（Ｖ）： （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は上に定義されたごとくであり、ＴＭＳはトリメ チルシリルを意味する）のトリメチルシリルエステルと式ＮＨ₂Ｒ³（式中、Ｒ³ は上に定義されたごとくである）のアミンとの反応により調製することができる 。反応は通常、触媒量のチタン（IV）塩、好ましくは塩化チタン（IV）とトリフ ルオロメタンスルホン酸銀（Ｉ）の反応からｉｎ ｓｉｔｕで調製されるチタン（IV）塩の存在下で、無水物、好ましくは４−トリ フルオロメチル安息香酸無水物の存在下で、不活性溶媒（例えばジクロロメタン ）中で、０〜６０℃の温度で行われる。この方法は弱求核アミンに対して有用で あり、ミヤシタら（M.Miyashita，I.Shirna and T.Mukaiyama，Chem．Letters(1 993)，1053-1054）により記載されている。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²は任意にハロゲン又は低級アルコキシにより置 換された低級アルケニルを表し、式中でアルケニル基の二重結合は１，３−オキ サジン−４−オン環に最も近い２個の炭素原子の間に位置している）の化合物は 、式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＨＯ，又は−ＣＯＲ⁷であり、式中、Ｒ⁷は上に定 義されたごとくである）の対応する化合物とホスホラン、典型的には式Ｐｈ₃Ｐ⁺ −ＣＨＲ¹⁰Ｒ¹¹−Ｘ^-（式中、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表し、Ｒ¹⁰は水素、ア ルコキシ、又は１〜４個の炭素原子を有する任意にハロゲン又はアルコキシによ り置換されたアルキルを表し、Ｒ¹¹は水素又は１〜４個の炭素原子を有する任意 にハロゲンにより置換されたアルキルを表し、但しアルキル基Ｒ⁷、Ｒ¹⁰及びＲ^{1 1} の複合アルキル基の全炭素数は４を超えないと規定される）のホスホニウム塩と の反応により生成するホスホランとの反応により調製することができる。反応は 通常、強い塩基（例えばｎ−ブチルリチウム）の存在下で、不活性溶媒（例えば テトラヒドロフラン）中で、０℃から還流温度の間の温度で実施され、反応は不 活性雰囲気下で進められる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²はクロロメチル、ブロモメチル又はヨードメチ ルを表す）の化合物は、式（Ｉ）（式中、Ｒ²はメチルである）の対応する化合 物と塩素化、臭素化又は沃素化剤、好ましく適切なＮ−ハロスクシンイミド（例 えばＮ−ブロモスクシンイミド）との反応を、不活性溶媒（例えば四塩化炭素） 中で、任意にラジカル開始剤（例えばアゾビス−イソブチロニトリル）の存在で 又はタングステン光源の照射により、周囲温度から溶媒還流温度の間で行うこと により調製することができる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）［式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²は−ＣＦ₂Ｒ^12a（式中、Ｒ^12aはＣ₁〜Ｃ₅アルキ ル又はハロアルキル である）である］の化合物は、式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＯＲ^12aである）の対 応する化合物とジエチルアミノ硫黄トリフルオリドとの反応を、不活性溶媒（例 えばジクロロメタン）中、０〜６０℃の温度で行うことにより調製することがで きる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²は沃素により置換された低級アルキルである） の化合物は、式（Ｉ）（式中、Ｒ²はメチルである）の対応する化合物（Ｒ²中の 沃素原子は臭素又は塩素で置き換えられている）の沃素化により調製することか できる。このトランスハロゲン化反応は通常、沃化ナトリウム又は沃化カリウム を使い、不活性溶媒、好ましくはアセトン中で、周囲温度から溶媒還流温度の間 の温度で行われる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＳＲ⁷基により置換され た低級アルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷及びＷは上に定義されたご とくである）の化合物は、式（Ｉ）（式中、−ＳＲ⁷基は脱離基、好ましくは塩 素又は臭素により置換された）の対応する化合物と式Ｒ⁷ＳＨのチオール又はＲ⁷ ＳＭ（Ｍはリチウム又はナトリウムを表す）のアル カリ金属塩との反応により調製することができる。反応は通常、不活性溶媒（例 えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）中で、０〜６０℃の温度で実施される。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²は−ＳＣＦ₃により置換された低級アルキル基を 表す）の化合物は、式（Ｉ）（式中、−ＳＣＦ₃基は−ＳＣＮにより置き換えら れている）の対応する化合物とトリフルオロメチルトリメチルシランとの反応を ラングロアら（B.R.Langlois et al.，Tetrahedron Letters，Volume 38(1)，pa ge 65-68(1997)）記載の方法に従って行い調製することができる。反応は通常、 触媒、好ましくはテトラブチルアンモニウムフルオライドの存在で、不活性溶媒 （例えばテトラヒドロフラン）中で、−２０〜２０℃の温度で実施される。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²は−ＯＣ（Ｏ）Ｒ⁷（Ｒ⁷は上に定義されたごと くである）により置換された低級アルキル基を表す）の化合物は、式（Ｉ）（式 中、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ⁷は脱離基により置き換えられている）の対応 する化合物と式Ｒ⁷−ＣＯ₂ ^-Ｍ₁ ⁺（Ｍ₁はナトリウム又はカリウムを表す）の塩と の反応により調製することができる。脱離基は好ましくは塩素又は臭素である。 反応は典型的には、不活性溶媒好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で、 周囲温度〜１２０’℃の温度で実施される。 式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＯＲ⁷により置換された低級アルキル基を表し、Ｒ¹ 、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷及びＷは上に定義されたごとくである）の化合物は、式（ Ｉ）（式中、−ＯＲ⁷はヒドロキシ基により置き換えられた）の対応する化合物 と式Ｒ⁷ＯＨのアルコールとの反応を、トリアルキルホスフィン（例えばトリ− ｎ−ブチルホスフィン及び１，１’−（アゾジカルボニル）ピペリジン）の存在 で、不活性溶媒（例えばトルエン）中、２０℃から還流温度の間の温度で行うこ とにより調製することができる。一般的方法はファルク（J．R．Falck，Tetrahe dron Letters 35，5997(1994)）により記載されている。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＨＦＲ⁷であり、Ｒ¹ 、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷及びＷは上に定義されたごとくである）の化合物は、式（ Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＨ（ＯＨ）Ｒ⁷である）の対応する化合物とジエチルアミ ノ硫黄トリフル オライドとの反応を、不活性溶媒（例えばジクロロメタン）中で、０〜６０℃の 温度で行うことにより調製することができる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²はフルオロメチル基を表す）の化合物は、式（ Ｉ）（式中、Ｒ²はヒドロキシメチル基で置き換えられている）の対応する化合 物と、最も好ましくはジエチルアミノ硫黄トリフルオライドによる弗素化を、不 活性溶媒（例えばジクロロメタン）中で、０〜６０℃の温度で行うことにより調 製することができる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²はジフルオロメチル基を表す）の化合物は、式 （Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＨＯである）の対応する化合物を、最も好ましくはジ エチルアミノ硫黄トリフルオライドによる弗素化により、不活性溶媒（例えばジ クロロメタン）中で、０〜６０℃の温度で行うことにより調製することができる 。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²はアルコキシアルキルを表す）の化合物は、式 （Ｉ）（式中、Ｒ²はヒ ドロキシアルキルにより置き換えられている）の対応する化合物を、アルキルヨ ージドとの反応を、酸化銀（Ｉ）の存在下で、不活性溶媒（例えばアセトニトリ ル）中で、周囲温度〜還流温度で行うことにより調製することができる。一般的 方法は文献（J．Org．Chem．40，206(1975)）に記載されている。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²は−ＣＨＯ基を表す）の化合物は、式（Ｉ）（ 式中、Ｒ²はヒドロキシメチルで置き換えられている）の対応する化合物の酸化 を、例えばピリジニウムクロロクロメートを使い、ジクロロメタン中、０℃〜還 流温度で行うことにより調製することができる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＯＲ⁷基を表し、Ｒ¹ 、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷及びＷは上に定義されたごとくである）の化合物は、式（ Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＨ（ＯＨ）Ｒ⁷で置き換えられている）の対応する化合物 の酸化を、例えばピリジニウムクロロクロメートを使い、ジクロロメタン中、０ ℃〜還流温度で行うことにより調製することができる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＯ₂ Ｒ⁷基を表し、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷及びＷは上に定義されたごとくである） の化合物は、式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＯ₂Ｈで置き換えられている）の対応す る化合物のエステル化により調製することができる。反応は、好ましくは式Ｒ⁷ ＯＨのアルコールとジエチルアゾジカルボキシレートを使い、不活性溶媒（例え ばエーテル）中、０℃〜溶媒還流温度の温度で実施される。代替法として、上の 転化は、式（Ｉ）（Ｒ²は−ＣＯ₂Ｈにより置き換えられている）の対応する化合 物の例えばオキサリルクロライドを使う塩素化を、不活性溶媒（例えばジクロメ タン又は１，２−ジクロロエタン）中で、任意にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド のごとき触媒の存在で、２０℃〜混合物還流温度の温度で行って対応する酸タロ ライドを得て、これを次に式Ｒ⁷ＯＨのアルコールと不活性溶媒（例えばテトラ ヒドロフラン）中で、０℃〜溶媒還流温度の温度で反応させることにより実施す ることができる。 本発明の更なる特徴に従い、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上 に定義されたごとくであり、Ｒ²は−ＣＨ₂ＮＯ₂を表す）の化合物は、Ｒ²がブロ モメチル又はヨードメチルである対応する化合物の亜硝酸アルカリ金属、好まし くは 亜硝酸ナトリウム又は硝酸銀との反応を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又はジ メチルスルホキシドのごとき溶媒中で、−２０〜５０℃の温度で行うことにより 調製することができる。 本発明の更なる特徴に従い、ｍ及び／又はｎが１又は２である化合物は通常、 ｍ及び／又はｎが０か１である対応する化合物の硫黄原子の酸化により調製され る。硫黄原子の酸化は通常、例えば３−ジクロロ過安息香酸を使い、ジクロロメ タンのごとき不活性溶媒中で−４０℃〜室温で実施される。 式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＨ（ＯＨ）Ｒ⁷により置き換えられ、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵、Ｒ⁷及びＷは上に定義されたごとくである）の中間物は、式（Ｉ）（式 中、Ｒ²は−ＣＨＯを表す）の対応する化合物と式Ｒ⁷Ｍｇ−Ｘ¹（式中、Ｘ¹は臭 素又は沃素を表す）のグリニャール（Grinard）試薬との反応により調製するこ とができる。反応は不活性溶媒（例えばエーテル又はテトラヒドロフラン）中で ２０〜６０℃の温度で行うことができる。 式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上に定義されたごとくであり、 Ｒ²は−ＳＣＮにより置換された低級アルキル基により置き換えられている）の 中間物は、式（Ｉ）（式 中、−ＳＣＮは脱離基好ましくは塩素、臭素又は沃素のごときハロゲンにより置 き換えられている）の対応する化合物とアルカリ金属チオシアネート又はアンモ ニウムチオシアネートとの反応により調製することができる。反応は通常、エタ ノール又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのごとき溶媒中で０〜６０℃の温度で 行われる。 式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上に定義されたごとくであり、 Ｒ²は−ＣＯ₂Ｈにより置き換えられている）の中間物は、式（Ｉ）（式中、Ｒ² は−ＣＨＯを表す）の対応する化合物の酸化により調製することができ、この酸 化はラロック（R．C．Larock，Comprehensive Organic Transfomaions p.838） が報じる方法により、例えばピリジニウムジクロメートとの反応をＮ，Ｎ−ジメ チルホルムアミド中で０〜６０℃の温度で行うことにより達成することができる 。 式（II）の酸クロライドは上記式（IV）の酸と塩素化剤（例えばオキサリルク ロライド又はトリフェニルホスフィンと四塩化炭素の混合物）との反応により調 製することができる。オキサリルクロライドとの反応は不活性溶媒（例えばジク ロロメタン）中で、任意には触媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ ド）の存在下で、０〜５０℃の温度で行われる。トリフェニルホスフィンと四塩 化炭素との反応は、不活性溶媒（例えばトルエン又は過剰の四塩化炭素）中で２ ０〜１２０℃の温度で行われる。 式（IV）のカルボン酸は、式（VI）： （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは上に定義されたごとくであり、Ｒ^8aはアル キル基、好ましくはメチル又はエチルを表す）のエステルの加水分解により調製 することができる。反応は、塩基（例えば水酸化ナトリウム又はカリウム）の存 在下で、不活性溶媒（例えばアルコール水溶液）中で０℃〜溶媒還流温度の温度 で行われる。 式（IV）のカルボン酸は、又、式（VII）： （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵及ひＷは上に定義されたごとくであり、Ｂｚはベン ジルである）のベンジルエステルと臭化アルミニウム及びアニソールとの反応を 、ニトロメタンの存在下で不活性溶媒（例えばジクロロメタン）中で０℃〜５０ ℃で行うことにより調製することもできる。 式（IV）のカルボン酸は、又、式（VII）のベンジルエステルから接触水素化 により調製することができる。反応は常圧又は高圧で、不活性溶媒（例えばエタ ノール）中で、好ましくは室温で、適切な触媒（例えば５％パラジウム又は活性 炭）の存在下で行うことができる。 式（II）、（IV）、（Ｖ）、（VI）、及び（VII）の化合物は新規であり、本 発明の更なる特徴を構成する。 式（VI）又は（VII）のエステルは式（VIII）： （Ｒ¹及びＲ²は上に定義されたごとくである）の化合物と式ＣＨ₂＝ＮＣ（Ｒ⁴） （Ｒ⁵）ＣＯ₂Ｒ^8a又は式ＣＨ₂＝ＮＣ（Ｒ⁴） （Ｒ⁵）ＣＯ₂Ｂｚ（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ^8a及びＢｚは上に定義されたごとくであ る）のイミンとの反応により調製することができる。反応は通常、溶媒の存在下 又は不在下で、９０〜２００℃又は溶媒沸点で行われる。溶媒をもし使用すると きは溶媒は不活性（例えばキシレン）であり、生成アセトンは好ましくは蒸留で 除去される。 式（VI）又は（VII）のエステルは又、式（IX）： Ｒ²Ｃ（Ｏ）−ＣＨ（Ｒ¹）−ＣＯ₂Ｒ¹² （IX） ［Ｒ¹及びＲ²は上に定義されたごとくであり、Ｒ¹²はアルキル基（好ましくはメ チル又はエチル）を表す］の化合物と式ＣＨ₂＝ＮＣ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）ＣＯ₂Ｒ^8a又 は式ＣＨ₂＝ＮＣ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）ＣＯ₂Ｂｚ（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ^8a及びＢｚは上 に定義されたごとくである）のそれぞれのイミンとの反応によって調製すること ができる。反応は上記式（VIII）の化合物から式（VI）又は（VII）の化合物の 調製に使われたのと同様の条件で、好ましくは反応で生成するアルコールＲ¹²Ｏ Ｈを除去して行われる。 式（Ｉ）（式中、Ｒ²はヒドロキシメチル基で置き換えられている）の中間物 アルコールは、式（Ｉ）（式中、Ｒ²は− ＣＨ₂ＯＣＯＲ¹³基（Ｒ¹³は低級アルキル好ましくはメチルを表す）で置き換え られている）の対応するエステルの加水分解により調製することができる。反応 は通常、塩基（例えば炭酸カルシウム）を使い、アルコール水溶液中で０〜５０ ℃で行われる。 式ＣＨ₂＝ＮＣ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）ＣＯ₂Ｒ^8a又は式ＣＨ₂＝ＮＣ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）Ｃ Ｏ₂Ｂｚのイミンは式Ｈ₂Ｎ−Ｃ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）ＣＯ₂Ｒ^8a又は式Ｈ₂Ｎ−Ｃ（Ｒ⁴ ）（Ｒ⁵）ＣＯ₂Ｂｚ（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ^8a及びＢｚは上に定義されたごとくで ある）のアミノ酸エステルとホルムアルデヒドとの反応を好ましくは水溶液とし て室温〜６０℃の温度で行うことにより調製することができる。 式(III)、（VIII）及び（IX）の化合物は周知であるか又は周知の方法（例え ば国際特許公開ＷＯ９３／１５０６４を参照）で調製することができる。式（Ｉ ）の化合物は、周知の方法で調製することができる塩に転化することが可能であ る。 次の非限定的な実施例が本発明を説明する。 実施例１ オキサリルクロライド（０．１７ｍｌ）とそれに続いてＮ， Ｎ−ジメチルホルムアミド（２滴）を２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４ −オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２ −メチルプロパン酸（０．５１ｇ）のジクロロメタン中の攪拌溶液に周囲温度で 加えた。２０分後、溶液を蒸発させ、ジクロロメタンに再溶解した。３，５−ジ フルオロアニリン（０．３２ｇ）の溶液を０℃で加え、攪拌を０℃で１０分間維 持し、そしてトリエチルアミン（０．５６ｍｌ）を加えた。混合物を室温で２時 間攪拌し、その後、順に塩酸（２Ｍ）、炭酸ナトリウム溶液（１Ｍ）及びブライ ンで洗浄し、乾燥し（硫酸マグネシウム）、蒸発させた。残留物をカラムクロマ トグラフィーによりシクロヘキサン／酢酸エチルにより溶離して精製し、Ｎ−（ ３，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オ キソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メ チルプロパンアミド（化合物１、０．２ｇ）、融点１７８〜１７９℃を得た。 同様なやり方で進行することにより、次の化合物を調製した。 Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル− ４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１， ３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物２）、融点１ ５６〜１５８℃； Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジ ヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキ サジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物３）、融点１１３．５ 〜１１５．５℃； Ｎ−（２−フルオロ−５−メチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３− イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物４）、融点１４４．５〜１４６℃； Ｎ−（３−クロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オ キソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メ チルプロパンアミド（化合物５）、融点１２５〜１２６．５℃； Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル −４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］ −２−メチルプロパンアミド（化合物６）、融点９５〜９６．５℃； Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３− ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オ キサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物７）、融点１４９． ７〜１５２．７℃； Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メ チル−５−（５−メチル−２−チエニル）−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサ ジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物４０） Ｎ−（３−クロロメチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル− ５−（５−メチル−２−チエニル）−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン− ３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物４２） Ｎ−（２，５−ジフロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル− ５−（５−メチル−２−チエニル）−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン− ３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物４１） Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジ ヒドロ−６−メチル−５−（５−メチル−２−チエニル）−４−オキソ−４Ｈ− １，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１３６） Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−エ チル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１３７） Ｎ−（３−クロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−エチル−４−オ キソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メ チルプロパンアミド（化合物１３８） Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−エチル −４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］ −２−メチルプロパンアミド（化合物１３９） Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジ ヒドロ−６−エチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキ サジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１４０） Ｎ−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−エ チル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１４１） Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−［２，３−ジヒド ロ−６−エチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジ ン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１４２） Ｎ−（３，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−エチル −４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］ −２−メチルプロパンアミド（化合物１４３） Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２−チエニ ル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物５３） Ｎ−（３，５−ジフルオロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２−チエニ ル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロ パンアミド（化合物５６） Ｎ−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２−チエニ ル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１４４） Ｎ−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２−チ エニル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサ ジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物５７） Ｎ−（３−クロロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２−チエニル）−２ ，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド（化合物５４） Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−［５−（５−クロロ−２−チエニル ）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン− ３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物５５） Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［５−（５− クロロ−２−チエニル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ− １，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１４５） Ｎ−（３−ペンタフルオロスルファニルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ −６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１４６） Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒ ドロ−５−（３−メトキシ−２−チエニル）−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ− １，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物２０） Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−５−（ ３−メトキシ−２−チエニル）−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキ サジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１９） Ｎ−（２−クロロ−３，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ −６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１４７） Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジ ヒドロ−５−（３−メトキシ−２−チエニル）−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ −１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１４８） Ｎ−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−５−（ ２−チエニル）−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１０） Ｎ−（３，４，５−トリフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３− イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１４９） Ｎ−（２−メチル−５−ニトロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メ チル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１５０） Ｎ−（シクロプロピル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ −５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチル プロパンアミド（化合物１５１） Ｎ−（シクロブチル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ− ５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプ ロパンアミド（化合物１１） Ｎ−（２−クロロ−５−フルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３− イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１５２） Ｎ−（３−クロロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジヒ ドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサ ジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１５３） Ｎ−（３，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル −４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］ −２−メチルプロパンアミド（化合物４９） Ｎ−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル −４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］ −２−メチルプロパンアミド（化合物１５４） Ｎ−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メ チル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド（化合物５０） Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル− ４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］− ２−メチルプロパンアミド（化 合物４８） Ｎ−（２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジ ヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキ サジン−３−イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１５５） 及び Ｎ−（２−クロロ−５−フルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６− メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３− イル］−２−メチルプロパンアミド（化合物１５６）， 同様なやり方で、しかし、トリフェニルホスフィンと四塩化炭素のジクロロメ タン中の混合物を使い適切な酸クロライドを調製して進行することにより、次の 化合物を調製した； Ｎ−（３−クロロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オ キソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メ チルプロパンアミド（化合物８）、 融点６８〜６９．５℃； Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メ チル−４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イ ル］−２−メチルプロパンアミド（化合物９）、融点５５から５９℃；及び Ｎ−（２，５−ジフルオロフェニル）−２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル −４−オキソ−５−（３−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］ −２−メチルプロパンアミド（化合物４７） 参考例１ 水酸化ナトリウム（１．９１ｇ）の水（４０ｍｌ）中の溶液を、２−［２，３ −ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３− オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸エチル（７．３７ｇ）のエタノ ール中の攪拌溶液に室温で加えた。その後、混合物を４０℃で３時間過熱し、蒸 発した。残留物にエーテルを加え、塩酸（２Ｍ）で酸性化し、抽出した（酢酸エ チル）。有機相を乾燥し（硫酸マグネシウム）、 蒸発して２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（２−チエニ ル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸（４．０ ｇ）をピンク色の固体、融点１４９〜１５０℃として得た。 同様なやり方で進行することにより、次の化合物を得た： ２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）− ４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸、融点１５５〜 １５９℃（エタノールとジオキサンの混合物を溶媒として使用）； ２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−（５−メチル−２−チエニル）−４− オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸 ２−［２，３−ジヒドロ−６−エチル−４−オキソ−５−（２ーチエニル）− ４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸 及び ２−［２，３−ジヒドロ−５−（３−メトキシ−２−チエニル）−６−メチル −４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸 参考例２ ２−（トリブチルスタンニル）チオフェン（１１．２ｇ）、２−［２，３−ジ ヒドロ−５−ヨード−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３ −イル］−２−メチルプロパン酸エチル（１０．０ｇ）及びビス（トリフェニル ホスフィン）パラジウム（II）クロライド（１．０２ｇ）の混合物をテトラヒド ロフラン中で５０℃で４８時間加熱した。塩化リチウム（６．８３ｇ）を加え、 加熱を５０℃で更に３時間続けた。混合物を水中に注ぎ、エーテルで抽出した。 抽出物を洗浄（ブライン）し、カラムクロマトグラフィーによりシクロヘキサン ／酢酸エチルにより溶離して精製して２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４ −オキソ−５−（２−チエニル）−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２ −メチルプロパン酸エチル（７．３７ｇ）を白色固体、融点１１３℃として得た 。 同様なやり方で進行することにより、次の化合物を得た： ２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−５−（５−メチル−２−チエニル）− ４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸エ チル 及び ２−［２，３−ジヒドロ−５−（３−メトキシ−２−チエニル）−６−メチル −４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸 エチル 同様なやり方で、しかし、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II） クロライドをパラジウム（II）クロライドとトリフェニルホスフィンの混合物に 置き換え塩化リチウムを省略して進行することにより、次の化合物も調製した： ２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−５−（３−チエニル）− ４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸エチル、融点９ ５〜９８℃。 参考例３ ２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１， ３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸エチル（９５．７ｇ）とＮ −ヨードスクシンイミド（１１５ｇ）の酢酸中の混合物を４０℃で５時間攪拌し 、その後、夜通し室温で放置した。溶媒を蒸発し、残留物にエーテルを加え、そ の溶液を順にブライン、炭酸ナトリウム溶液（２Ｍ）及びブラインにより洗浄液 が中性になるまで洗浄した。この溶液を乾燥し（硫酸マグネシウム）、蒸発し、 残留物をエタノールから再結晶して２−［２，３−ジヒドロ−５−ヨード−６− メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロ パン酸エチル（４６ｇ）を黄色固体、融点８３〜８５℃として得た。 参考例４ ２，２，６−トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオキシン−４−オン（２０．０ｇ ）と２−（Ｎ−メチレンアミノ）−２−メチルプロパン酸エチル（２４．２ｇ） の混合物をトルエン中で溶媒を蒸留しながら還流下で加熱した。蒸留で失われる 分を置き換えるために等量の新しいトルエンを加え、蒸留を続けた。溶液を冷却 し、蒸発して、２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１， ３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸エチル（３９ｇ）を得た。 参考例５ ２−アミノ−２−メチルプロパン酸（１６５ｇ）のエタノール中の攪拌懸濁液 を０℃で塩化水素ガスで飽和した。混合物を還流で４時間加熱し、溶媒を減圧下 で蒸発して、２−アミノ−２−メチルプロパン酸エチル塩酸塩を白色固体として 得た。炭酸ナトリウム（１００ｇ）をこの固体の水中の懸濁液にゆっくりと加え 、次に４０％ホルムアルデヒド溶液（１５０ｇ）を加え、懸濁液を３時間攪拌し た。この混合物をエーテルで抽出し、有機溶液を水で洗浄し、乾燥し（硫酸マグ ネシウム）、溶媒を減圧下で蒸発して、２−（Ｎ−メチレンアミノ）−２−メチ ルプロパン酸エチル（１３７．８ｇ）を平衡なその三量体、１，３，５−トリ（ １−エトキシカルボニル−１−メチルエチル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリ アジンと共に、無色の油として得た。IR（液膜）2908(s)，1725(vs)，1250(s)， 1140(vs)。 参考例６ リチウムヘキサメチルジシルアジド（１０．６ｍｌ、テトラヒドロフラン中の ＩＭ溶液）を３５分間にわたり、２−［２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オ キソ−５−（２−チエニル） −４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸エチル（３． ２２ｇ）のテトラヒドロフラン中の攪拌溶液に、−７０℃より低い温度で窒素下 で加えた。この条件下で６時間後にヨードメタン（２ｍｌ）を加え、溶液を５０ 分間攪拌した後、２０℃に加温した。水を６０時間後に加え、そのエーテル抽出 物を洗浄（チオ硫酸ナトリウム溶液）し、乾燥し（硫酸マグネシウム）、蒸発し て２−［２，３−ジヒドロ−６−エチル−４−オキソ−５−（２−チエニル）− ４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸エチル（４．０ ｇ）を得た。 参考例７ ２−［５−（５−クロロ−２−チエニル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル− ４−オキソ−５−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン 酸ｔｅｒｔ−ブチル（１．２４ｇ）とトリフルオロ酢酸の混合物を５０℃で２３ 時間、攪拌し、２０℃で４時間静置した。追加のトリフルオロ酢酸を加えた。２ ．５時間後、６０℃で混合物を蒸留して２−［５−（５−クロロ−２−チエニル ）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オ キソ−５−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸（１ ．２ｇ）を得た。 参考例８ ２−［２，３−ジヒドロ−５−ヨード−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１， ３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプロパン酸ｔｅｒｔ−ブチル（７．３ １ｇ）、５−クロロチエニルボロン酸（３．４２ｇ）、テトラキス（トリフェニ ルホスフィン）パラジウム（０）（２．２ｇ）及び重炭酸ソーダ（１．６１ｇ） の混合物をジメトキシエタン中で攪拌し還流で窒素下で１８時間加熱した。冷却 した混合物を希釈（２Ｍ塩酸）し、抽出（エーテル）し、抽出物を乾燥し（硫酸 マグネシウム）、蒸発し、カラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上で酢酸 エチル／イソヘキサンで溶離して精製し、２−［５−（５−クロロ−２−チエニ ル）−２，３−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン −３−イル］−２−メチルプロパン酸ｔｅｒｔ−ブチル（２．７７ｇ）を得た。 参考例９ ２−（Ｎ−メチレンアミノ）−２−メチルプロパン酸ｔｅｒｔ−ブチル（３． ５３ｇ）と５−ヨード−２，２，６−トリメチル−１，３−ジオキシン−４−オ ン（４．９ｇ）の溶液を、ディーン・スタルク（Dean and Stark）の装置を使っ て、トルエン中で還流でトルエンを蒸留しながら１時間加熱した。蒸発させた溶 液をジクロロメタン中に溶解し、洗浄（チオ硫酸ナトリウムと２Ｍ塩酸）し、乾 燥し（硫酸マグネシウム）、蒸発して２−［２，３−ジヒドロ−５−ヨード−６ −メチル−４−オキソ−４Ｈ−１，３−オキサジン−３−イル］−２−メチルプ ロパン酸ｔｅｒｔ−ブチル（７．０ｇ）を得た。 参考例１０ ｎ−ブチルリチウム（３３．５ｍｌ、ヘキサン中の２．５Ｍ溶液）を−１０℃ で３−メトキシチオフェン（９．５ｇ）のエーテル中の攪拌溶液に加えた。１時 間後、混合物を−７０℃に冷却し、夜通し攪拌した。トリブチル錫クロライド（ ２６．１ｍｌ）を−７０℃で加え、混合物を２０℃に加温した。水と酢酸エチル を加え、有機相を洗浄（ブライン）し、乾燥し（硫酸 マグネシウム）、蒸発した。蒸留により、２−トリブチルスタンニル−３−メト キシチオフェン（２２．６ｇ）を得た。沸点１１５〜１２２℃（０．３ｍｍＨｇ において）。 本発明の更なる特徴によれば、式（Ｉ）の１，３−オキサジン−４−オンの１ つ以上の誘導体又はその農業的に許容可能な塩と、好ましくはその中に均質に分 散された一つ以上の相容性の農業的に許容可能な希釈剤又はキャリヤー及び／又 は界面活性剤［即ち、当業において除草剤組成に使用するに適していると一般に 認められており、式（Ｉ）の化合物と相容性のある希釈剤又はキャリヤー及び／ 又は界面活性剤］を含む除草剤としての使用に適切な組成物が提供される。用語 「均質に分散された」は式（Ｉ）の化合物が他の成分中に溶解している組成物を 含む。用語「除草剤組成物」は除草剤としてそのまま使用できる組成物のみでな く、使用前に希釈しなければならない濃厚物を含む広い意味で使用されている。 好ましくは、その組成物は１つ以上の式（Ｉ）の化合物を０．０５〜９０重量％ 含む。 この除草剤組成物は、希釈剤またはキャリアー及び界面油性（例えば、湿潤、 分散、乳化）剤の両方を含んでいてもよい。本発明の除草剤組成物に存在するこ とができる界面油性剤は、 イオン性又は非イオン性であってよく、例えばスルホリシノレエート、第四級ア ンモニウム誘導体、酸化エチレンとアルキル及びポリアリールフェノール、例え ばノニル−またはオクチル−フェノールとの縮合物に基づく製品、または酸化エ チレンとの縮合による遊離ヒドロキシ基のエーテル化によって可溶化した無水ソ ルビトールのカルボン酸エステル、硫酸エステル及びスルホン酸のアルカリ及び アルカリ土類金属塩、例えばジノニル−及びジオクチル−ナトリウムスルホスク シネート、及び高分子量スルホン酸誘導体のアルカリ及びアルカリ土類金属塩、 例えばリグノスルホン酸ナトリウムもしくはカルシウム及びアルキルベンゼンス ルホン酸ナトリウムもしくはカルシウムである。 適切には、本発明による除草剤組成物は、最大10重量％まで、例えば0．05重 量％〜10重量％の界面活性剤を含むことができるが、所望であれば、本発明の除 草剤組成物は、それよりも高い割合で界面活性剤を含むことができ、例えば液体 乳化性懸濁濃厚物においては最大15％まで、及び液体水溶性濃厚物においては最 大25重量％まで含むことができる。 適切な固体希釈剤又はキヤリヤーの例は、珪酸アルミニウム、 微小二酸化珪素、タルク、白亜、焼成マグネシア、珪藻土、燐酸三カルシウム、 コルク粉、吸着剤カーボンブラック、カオリン及びベントナイトのような粘土で ある。固体組成物（粉剤、顆粒剤または水和粉剤の形態をとることができる）は 、好ましくは、式（Ｉ）の化合物を固体希釈剤と共に粉砕することによって、ま たは固体希釈剤またはキヤリヤーに揮発性溶媒中の式（Ｉ）の化合物の溶液を含 浸させ、溶媒を蒸発させ、必要であれば、粉剤を得るためにその生成物を粉砕す ることによって製造される。顆粒剤は、式（Ｉ）の化合物（適切な溶媒、好まし くは揮発性溶媒に溶解させる）を、顆粒形態の固体希釈剤またはキヤリヤーに吸 着させ、必要であれば、溶媒を蒸発させることによって、または上記のごとく得 られた粉末形態の組成物を顆粒化することによって製造することができる。固体 除草剤組成物、特に水和粉剤及び顆粒剤は、湿潤剤又は分散剤（例えば、上記の 種類のもの）を含んでいてもよく、これらは固体である場合には、希釈剤または キヤリヤーとしても機能する。 本発明の液体組成物は水性、有機性または水性−有機性の溶液、懸濁液及び乳 化液の形態をとることができ、界面活性剤を含むことができる。液体組成物に配 合するのに適している液体 希釈剤は、水、グリコール、グリコールエーテル、テトラヒドロフルフリルアル コール、アセトフェノン、シクロヘキサノン、イソホロン、Ｎ−アルキルピロリ ドン、トルエン、キシレン、鉱油、動物及び植物油、エステル化植物油及び石油 の軽質芳香族及びナフテン系留分（及びこれらの希釈剤の混合物）である。液体 組成物に存在することができる界面活性剤は、イオン性または非イオン性（例え ば上記の種類のもの）であってよく、液体である場合には希釈剤又はキヤリヤー として機能する。 濃厚物の形態の粉末、分散性顆粒及び液体組成物は、水又は他の適切な希釈剤 で希釈することができ、例えば、特に希釈剤又はキヤリヤーが油である液体濃厚 物の場合には、鉱油または植物油で希釈することができ、そのまま使用できる組 成物が得られる。 所望であれば、式（Ｉ）の化合物の液体組成物は、乳化剤中に又は活性物質と 相容性の乳化剤を含む溶媒中に溶解させた活性物質を含む自己乳化性濃厚物の形 態で使用することができ、そのような濃厚物は単に水に加えるだけですぐに使用 可能な組成物を生成する。 希釈剤又はキヤリヤーが油である液体濃厚物は、さらに希釈 することなく静電噴霧技術を用いて使用することができる。 本発明の除草剤組成物は又、所望であれば、通常の助剤、例えば、接着剤、保 護コロイド、増粘剤、浸透剤、展開剤、安定剤、金属イオン封鎖剤、固化防止剤 、着色剤、及び腐蝕抑制剤を含むことができる。これらの助剤は又、キヤリヤー 又は希釈剤として機能することもできる。 特に記載のない限り、下記の百分率は重量によるものである。本発明による好 ましい除草剤組成物は： １つ以上の式（Ｉ）の化合物を１０〜７０％、界面活性剤を２〜１０％、増粘 剤を０．１〜５％、及び水を１５〜８７．９％含む水性懸濁濃厚物； １つ以上の式（Ｉ）の化合物を１０〜９０％、界面活性剤を２〜１０％、及び 固体希釈剤又はキヤリヤーを８〜８８％含む水和剤； １つ以上の式（Ｉ）の化合物を１〜７５％、例えば５０〜７５％、界面活性剤 を２〜１０％、及び水溶性バインダーを１〜２０％、例えば５〜１５％含む水分 散性顆粒； １つ以上の式（Ｉ）の化合物を１０〜７０％、界面活性剤を５〜１５％、増粘 剤を０．１から５％及び有機溶媒を１０〜 ８４．９％含む液体乳化性懸濁濃厚物； １つ以上の式（Ｉ）の化合物を１〜９０％、例えば２〜１０％、界面活性剤を ０．５〜７％、例えば０．５〜２％、及び粒状キヤリヤーを３〜９８．５％、例 えば８８〜９７．５％含む顆粒； １つ以上の式（Ｉ）の化合物を０．０５〜９０％、好ましくは１〜６０％、界 面油性剤を０．０１〜１０％、好ましくは１〜１０％、及び有機溶媒を９．９９ 〜９９．９４％、好ましくは３９〜９８．９９％含む乳化性濃厚物（乳剤）。 本発明の除草剤組成物は又、式Ｉの化合物と共に、好ましくは均質に分散して 、１つ以上の他の農薬として活性ある化合物、及び、所望であれば、１つ以上の 相容性の農薬的に許容可能な希釈剤又はキヤリヤー、界面油性剤及びこれまでに 記載した通常の助剤を含むことができる。 本発明の除草剤組成物に含めることができるか、又は共に使用することができ るその他の農薬として活性ある化合物の例は、例えば防除する雑草の種類の範囲 を拡大させる除草剤、例えば、アラクロール［２−クロロ−２，６’−ジエチル −Ｎ−（メトキシ−メチル）−アセトアニリド］、アトラジン［２−クロロ−４ −エチルアミノ−６−イソプロピルアミノ−１，３，５−ト リアジン］、ブロモキシニル［３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリ ル］，クロルトルロン［Ｎ’−（３−クロロ−４−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ− ジメチル尿素］、シアナジン［２−クロロ−４−（１−シアノ−１−メチルエチ ルアミノ）−６−エチルアミノ−１，３，５−トリアジン］、２，４−Ｄ［２， ４−ジクロロフェノキシ−酢酸］、ジカンバ［３，６−ジクロロ−２−メトキシ 安息香酸］、ジフェンゾコート［１，２−ジメチル−３，５−ジフェニル−ビラ ゾリウム塩］、フラムプロプメチル［メチルＮ−２−（Ｎ−ベンゾイル−３−ク ロロ−４−フルオロアニリノ）−プロピオネート］、フルオメツロン［Ｎ’−（ ３−トリフルオロメチルフェニル）−Ｎ,Ｎ−ジメチル尿素］、イソプロツロン ［Ｎ’−（４−イソプロピルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル尿素］、ジクロホッ プ｛（ＲＳ）−２−［４−２，４−ジクロロフェノキシ）フェノキシ］プロピオ ン酸｝、フェノキサプロップ及びフェノキサプロップ−Ｐ｛２−［４−（６−ク ロロ−１，３−ベンゾキサゾール−２−イルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸 ｝、ジフルフェニカン｛Ｎ−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−［３−（ト リフルオロメチル）フェノキシ］−３−ピリジンカルボキサミド｝、トラルコキ シジン｛２ −［１−（エトキシイミノ）プロピル］−３−ヒドロキシ−５−メシチルシクロ ヘキサ−２−エノン｝、クロジナホップ｛２−［４−（５−クロロ−３−フルオ ロ−２−ピリジルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸｝、スルコトリオン［２− （２−クロロ−４−メチルスルホニルベンゾイル）シクロヘキサン−１，３−ジ オン］、フルルタモン｛５−メチルアミノ−２−フェニル−４−［３−（トリフ ルオロメチル）フェニル］−３（２Ｈ）−フラノン｝、アクロニフェン（２−ク ロロ−６−ニトロ−３−フェノキシアニリン）、及びスルホニル尿素類（例えば ニコスルフロン）； 殺虫剤、例えば合成ピレスロイド、例えばペルメスリン及びシペルメスリン； 及び 殺菌剤、例えばカーバメート類、例えばメチルＮ−（１−ブチル−カルバモイ ル−ベンゾイミダゾール−２−イル）カーバメート、及びトリアゾール類、例え ば１−（４−クロロ−フェノキシ）−３，３−ジメチル−１−（１，２，４−ト リアゾール−１−イル）−ブタン−２−オンを含む。 本発明の除草剤組成物に含むことができるか又はそれと共に使用することがで きる農薬として活性ある化合物及びその他の 生物学的に活性ある物質は、例えば、これまでに記載されて酸であるものは、所 望であれば、通常の誘導体の形態、例えばアルカリ金属及びアミン塩及びエステ ルで用いることができる。 本発明の更なる特徴に従い、上記誘導体又は式（Ｉ）の誘導体又は上述の除草 剤組成のための容器内に、少なくとも式（Ｉ）の１,３−オキサジン−４−オン 誘導体の１つ又は、好ましい、これまでに記載した除草剤組成、及び好ましくは 使用前に希釈する必要のある除草剤濃厚物（少なくとも式（Ｉ）の１，３−オキ サジン−４−オン誘導体の１つを含む）を容れる製作物の構造、及び物理的に上 述容器に取り付けられて容器内の上述誘導体又は式（Ｉ）の誘導体又は除草剤組 成の雑草の抑制のための使用法を説明した指示を提供する。これらの容器は通常 、環境温度で固体である化学物質及び特に濃厚物の形態の除草剤組成物の貯蔵用 に汎用される形式のもので、例えば内部がラッカー塗装された金属及びプラスチ ック材料の缶及びドラム、ボトル又はガラス及びプラスチック材料であり、又、 容器の内容物が固体、例えば顆粒の除草剤組成物であれば、例えばカードボード 、プラスチック材料及び金属製の箱、又は袋である。容器は通常、少なくとも１ エーカーの土地の雑草成長を抑制処理す るのに十分なＮ−置換ピラゾール誘導体又は除草剤組成物の量を容れるのに十分 な容量を有するが、汎用の取扱法に便利な寸法を超えないであろう。指示は物理 的に容器に取り付けられ、例えば直接容器上に又は取り付けたラベル又はタグ上 に印刷されるであろう。指示は通常、雑草成長の抑制に施用されるべき容器内容 物の量（もし必要あれば希釈後の量）をヘクタール当たりの活性化合物０．５ｇ 〜５０００ｇの間の施用割合で、これまでに記載したやり方で及び目的のために 示すであろう。 次の実施例は本発明による除草剤組成物を説明する。これらの実施例に現れる 商標は：Ａｒｙｌａｎ ＣＡ、Ｓｙｎｐｅｒｏｎｉｃ、Ｓｏｌｖｅｓｓｏ、Ａｒ ｙｌａｎ ＳＸ８５、Ａｒｋｏｐｏｎ Ｔ、Ｓｏｐｒｏｐｏｎ Ｔ３６、Ｔｉｘ ｏｓｉｌ ３８、Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＦＬ、Ｅｔｈｙｌａｎ ＢＣＰ、Ａｔｔ ａｇｅｌ、Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌである。 実施例Ｃ１ 乳化性濃厚物（乳剤）を下記のものから作成する： 活性成分（化合物１） ２０％ｗ／ｖ Ｎ−メチルピロリジン（ＮＭＰ） ２５％ｗ／ｖ ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム （ＣａＤＤＢＳ）（Ａｒｙｌａｎ ＣＡ） ４％ｗ／ｖ ノニルフェノールエチレンオキシドプロピレンオキシド縮合物（ＮＰＥＯＰＯ） （Ｓｙｎｐｅｒｏｎｉｃ ＮＰＥ １８００） ６％ｗ／ｖ 芳香族系溶媒（Ｓｏｌｖｅｓｓｏ） １００容量％になるまで ＮＭＰ、活性成分（化合物１）、ＣａＤＤＢＳ、ＮＰＥＯＰＯ及び９０％の芳 香族系溶媒を透明な溶液が作成されるまで攪拌し、その後、芳香族系溶媒により 容積を調整して作成する。 実施例Ｃ２ 水和剤は下記のものから作成する： 活性成分（化合物１） ５０％ｗ／ｗ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム （Ａｒｙｌａｎ ＳＸ８５） ３％ｗ／ｗ ナトリウムメチルオレオイルタウレート （Ａｒｋｏｐｏｎ Ｔ） ５％ｗ／ｗ ポリオキシカルボン酸ナトリウム （Ｓｏｐｒｏｐｏｎ Ｔ３６） １％ｗ／ｗ 微粉砕二酸化珪素 （Ｔｉｘｏｓｉｌ ３８） ３％ｗ／ｗ チャイナクレー ３８％ｗ／ｗ 上記成分を一緒に混合し、エアジェットミル中で混合物を粉砕して作成する。 実施例Ｃ３ 懸濁濃厚物（フロアブル剤）は下記のものから作成する： 活性成分（化合物１） ５０％ｗ／ｖ 凍結防止剤（プロピレングリコール） ５％ｗ／ｖ エトキシル化トリスチリルフェノールホスフェート （Ｓｏｐｒｏｐｈｏｒ ＦＬ） ０．５％ｗ／ｖ ノニルフェノール ９モル エトキシレート （Ｅｔｈｙｌａｎ ＢＣＰ） ０．５％ｗ／ｖ ポリカルボン酸ナトリウム（Ｓｏｐｒｏｐｏｎ Ｔ３６） ０．２％ｗ／ｖ アタクレー（Ａｔｔａｇｅｌ） １．５％ｗ／ｖ 消泡剤（Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ ＡＦ４２６Ｒ） ０．００３％ｗ／ｖ 水 １００容量％になるまで 上記成分を一緒に攪拌し、ビーズミル中で粉砕して作成する。 実施例Ｃ４ 水分散性顆粒は下記のものから作成する： 活性成分（化合物１） ５０％ｗ／ｗ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム （Ａｒｙｌａｎ ＳＸ８５） ３％ｗ／ｗ ナトリウムメチルオレオイルタウレート （Ａｒｋｏｐｏｎ Ｔ） ５％ｗ／ｗ ポリカルボン酸ナトリウム （Ｓｏｐｒｏｐｏｎ Ｔ３６） １％ｗ／ｗ バインダ−（リグノスルホン酸ナトリウム） ８％ｗ／ｗ チャイナクレー ３０％ｗ／ｗ 微粉砕二酸化珪素（Ｔｉｘｏｓｉｌ ３８） ３％ｗ／ｗ 上記成分を一緒に混合し、エアジェットミル中で混合物を粉砕し、水を添加し て適切な造粒設備（例えば流動床乾燥器）で造粒し、乾燥する。任意に、活性成 分をそれ自身又はいくつかの又は全ての他成分と混合して粉砕する。 同様な組成物を、実施例Ｃ１〜Ｃ４のそれぞれの化合物１を式（Ｉ）の他の化 合物に置き換えて調製することができる。 本発明の特徴により、所要場所での雑草の成長（即ち、望ましくない植生）を 抑制する方法が提供される。その方法は、除草に有効な量の少なくとも１つの式 （Ｉ）の１，３−オキサジン−４−オン誘導体又はその農業的に許容可能な塩を 、その場 所に施用することから成る。この目的のために、１，３−オキサジン−４−オン 誘導体は通常、下記に例示するような、除草剤組成物の形態で（即ち、除草剤組 成物に使用するのに適した相容性の希釈剤又はキヤリヤー及び／又は界面活性剤 と共に）使用される。 式（Ｉ）の化合物は、発生前および／又は発生後の施用によって、双子葉（即 ち、広葉）及び単子葉（例えば、イネ科）雑草に対して除草活性を示す。 「発生前の施用」という語は、土壌の表面より上に雑草が発生する前に、雑草 の種子又は実生が存在する土壌に施用することを意味する。「発生後の施用」と いう語は、土壌の表面より上に発生した雑草の茎葉部又は露出部分に施用するこ とを意味する。例えば、式（Ｉ）の化合物は下記のものの成長を抑制するために 使用することかできる： 広葉雑草、例えば、イチビ（Abutilon theophrasti）、アオビユ（Amaranthus retroflexus ）、コセンダングサ（Bidens pilosa）、シロザ（Chenopodium alb um ）、ヤエムグラ（Galium aparine）、サツマイモ亜種（Ipomoea spp.）、例え ば、マルバアサガオ(Ipomoea purpurea）、セスバニア エキサルタ タ（Sesbania exaltata）、カラシ（Sinapis arvensis）、イヌホオズキ（Solan um nigrum ）及びオナモミ（Xanthium strumarium）、及び イネ科雑草、例えばアロペキュラス ミオサロイデス（Alopeccurus myosuroi des ）、カラスムギ（Avena fatua）、メヒシバ（Digitaria sanguinalis）、イ ヌビエ（Echinochloa crus-galli）、オヒシバ（Eleusine indica）及びエノコ ロ属（Setaria spp）、例えば、アキノエノコログサ（Setaria faberii）又はエ ノコログサ（Setaria viridis）、及び カヤツリグサ科、例えば、シベラス エスカレンタス（Cyperus esculentus） 。 式（Ｉ）の化合物は特に発生前除草剤としてイネ科雑草、特にイヌビエ（Echi nochloa crus-galli ）の防除用に好ましい。 式（Ｉ）の化合物の施用量は、雑草の種類、使用される組成物、施用時間、気 候及び土壌条件及び（農作物栽培地区において雑草の成長を抑制するために使用 される場合は）農作物の種類によって異なる。農作物栽培地区に施用する場合、 施用量は、農作物に実質的な永久的被害を与えずに雑草の成長を抑制するのに十 分な量でなければならない。一般に、これらの要因を考 慮に入れると、１ヘクタール当たり活性物質１ｇ〜１０００ｇの施用量が良い結 果をもたらす。しかし、雑草の抑制に関して遭遇する特別な問題に依存して、こ れよりも高いか又は低い施用量も使用できると理解されたい。 式（Ｉ）の化合物は、雑草の成長を選択的に抑制するために、例えば上記の種 類の雑草の成長を抑制するために、発生前又は発生後に指向的又は非指向的に適 用することによって使用することができ、例えば、農作物、例えば、穀類、例え ば、小麦、大麦、オート麦、トウモロコシ及びイネ、大豆、ノハラ及びツルナシ インゲン、エンドウ、アルファルフア、綿花、ラツカセイ、亜麻、タマネギ、ニ ンジン、キャベツ、菜種油、ヒマワリ、テンサイを栽培するために及び永久牧草 地又は種蒔をした牧草地に使用されているか又は使用されることになっている地 域の雑草蔓延場所に、農作物の種子をまく前か後に、又は農作物の発現の前又は 後に、指向的又は非指向的に噴霧することによって使用することができる。作物 、例えば上記の作物の栽培に使用されているか又は使用されることになっている 場所に蔓延している雑草を選択的に抑制するためには、１ヘクタール当たり活性 物質１０ｇ〜５００ｇ、好ましくは２５ｇ〜２５０ｇの施 用量が特に適している。 本発明の化合物は、Alopeccurus myosuroides、Poa annua及びApera spica-ve nti のごとき小型の種子生成イネ科雑草種の防除に特に有用である。 式Ｉの化合物は又、果樹園及びその他の木が繁る区域、例えば、森林、林及び 公園、及び農園、例えば、サトウキビ、ギネアアブラヤシおよぴゴム農園におい て、発生前又は発生後に施用することによって、雑草、特に、上記に示した雑草 の成長を抑制するために使用することができる。このような目的には、指向的又 は非指向的方法（例えば、指向的又は非指向的噴霧）によって、雑草に又は雑草 が発現することが予想される土壌に、植え付け又は植林の前か後に、１ヘクター ル当たり活性物質５０ｇ〜５０００ｇ、好ましくは５０ｇ〜２０００ｇ、最も好 ましくは１００ｇ〜１０００ｇの施用量で施用される。 式（Ｉ）の化合物は又、農作物栽培地区ではないが、雑草の抑制が望まれる場 所において、雑草、特に上記に示した雑草の成長を抑制するために使用すること ができる。 そのような非作物栽培地区の例には、飛行場の離着陸場、工業用地、鉄道、路 辺、川辺、灌漑及びその他の水路、低木地及 び休閑地又は未耕作地、特に火災危険を減少させるために雑草の成長を抑制する ことが望まれる地区が含まれる。全体的な除草効果が望まれることが多いそのよ うな目的に使用される場合には、活性物質は通常、上記のような作物栽培地域に 使用されるよりも多い投与量で施用される。正確な施用量は、取り扱われる草木 の種類及び求められる効果に依存する。 発生前又は発生後（好ましくは発現前）に、指向的又は非指向的方法（例えば 、指向的又は非指向的噴霧）により、１ヘクタール当たり活性物質５０ｇ〜５０ ００ｇ、好ましくは５０ｇ〜２０００ｇ、最も好ましくは１００ｇ〜１０００ｇ の施用量で施用することかこの目的に特に適している。 発生前の施用によって雑草の成長を抑制するために使用する場合、式（Ｉ）の 化合物は、雑草が発生することが予想される土壌に混入させることができる。式 Ｉの化合物が発生後の施用、即ち発生した雑草の茎葉部又は露出部分への施用に よって、雑草の成長を抑制するために使用する場合、式Ｉの化合物は通常、土壌 と接触し、その土壌においてその後発生する雑草を発生前に抑制し得ることが認 められる。 特に長期の雑草抑制が必要である場合、式（Ｉ）の化合物の施用を必要であれ ば繰り返し行ってもよい。 本発明の化合物を、下記手順による除草剤の施用に使用した。除草剤化合物の使用法： 試験法 Ａ ａ） 概略 植物を処理するために使用される化合物の適切な量をアセトンに溶解して、１ ヘクタール当たり試験化合物最大１０００ｇ（ｇ／ｈａ）の施用率に相当する溶 液を得た。これらの溶液を、標準の実験室用除草剤噴藤器を用いて施用し、１ヘ クタール当たり噴藤液体２９０リットルに相当する量を散布した。 ｂ） 雑草抑制：発生前 種子を７０ｍｍ正方、７５ｍｍの深さのプラスチツクの鉢の非殺菌土壌中に蒔 いた。１つの鉢当たりの種子の量は以下の通りであった：雑草の種類 １鉢当たりの およその種子の数 １）広葉雑草 イチビ １０ アオビュ ２０ ヤエムグラ １０ マルバアサガオ １０ カラシ １５ オナモミオナモミ ２ ２）イネ科雑草 アロベキュラス・ミオサロイデス １５ カラスムギ １０ イヌビエ １５ エノコログサ ２０ ３）カヤツリグサ科 シベラス・エスカレンタス ３農作物 １）広葉 綿 ３ 大豆 ３ ２）イネ科 トウモロコシ ２ イネ ６ 小麦 ６ 本発明の化合物を、（ａ）に記載の種子を含む土壌表面に施用した。各農作物 及び各雑草の１つの鉢を、非噴霧対照標準及びアセトン単独噴霧対照標準による 各処理に割り当てた。 処理後、鉢を温室内の毛管マットに載せ、上から潅水した。作物の被害度を、 噴霧後２０−２４日に視覚的に評価した。結果を、農作物又は雑草に対する成長 減少又は被害の百分率で、対照標準鉢の植物と比較して、表した。 ｃ） 雑草抑制：発生後 雑草及び農作物（苗段階で移植し噴霧１週間前に鉢に移したアオビユを除き） を７５ｍｍ深さ、７０ｍｍ正方の鉢に容れたジョン・インス（John innes）鉢植 用堆肥中に直接、種を蒔いた。その後、植物は、植物を処理するために使用する 化合物の噴霧ができるようになるまで温室で育てた。１鉢当たりの植物の数は以 下の通りであった： １）広葉雑草 雑草種 １鉢当たり植物数 成長段階 イチビ ３ １〜２葉 アオビュ ４ １〜２葉 ヤエムグラ ３ 第一輪生 マルバアサガオ ３ １〜２葉 カラシ ４ ２葉 オナモミ １ ２〜３葉 ２）イネ科雑草 雑草種 １鉢当たり植物数 成長段階 アロベキュラス・ミオサロイデス ８〜１２ １〜２葉 カラスムギ １２〜１８ １〜２葉 イヌビエ ４ ２〜３葉 エノコログサ １５〜２５ １〜２葉 ３）カヤツリグサ科 雑草種 １鉢当たり植物数 成長段階 シベラス・エスカレンタス ３ ３葉農作物 １）広葉 農作物 １鉢当たり植物数 成長段階 綿 ２ １葉 大豆 ２ ２葉 ２）イネ科 農作物 １鉢当たり植物数 成長段階 トウモロコシ ２ ２〜３葉 イネ ４ ２〜３葉 小麦 ５ ２〜３葉 植物を処理するために使用される化合物を、（ａ）に記載のように植物に施用 した。各農作物及び各雑草の１つの鉢を、非噴霧対照標準及びアセトン単独噴霧 対照標準による各処理に割り当てた。 処理後、鉢を温室内の毛管マットに載せ、２４時間に１回、上から潅水し、そ の後制御した地下灌漑によって水を与えた。作物被害及び雑草抑制を、噴霧後２ ０〜２４日に視覚的に評価した。結果を、作物又は雑草に対する成長減少又は被 害の百分率で、対照標準鉢の植物と比較して表した。試験法 Ｂ 温室内の水田出芽後施用 １７０ｃｍ²プラスチック鉢に水田土壌を満たし、これに適切な量の水と化学 肥料を加え、混練して水田の状態に変換した。 温室内で予め２枚葉の段階に成長させた水稲植物（変種：コシヒカリ）を各鉢 に移植した（１鉢当たり２苗）。その後、各鉢に予め定めた量のタイヌビエ（Ec hinochloa oryzicola ）、コナギ（Monochoria vaginalis）、アゼナ（Lindernia procumbens ）及びホタルイ（Scirpus juncoides）の種子をそれぞれ蒔き、水を ３ｃｍ深さまで加えた。 温室内でタイヌビエが１．５葉の段階に到達するまで植物が成長した後に、１ ００％アセトン中で実施例に記載した化合物を使い活性成分を７５、３００及び １２００ｇ／ｈａに相当する量を含有するように、溶液を調製した。溶液をピペ ットで滴下して施用した。 化学物質を施用して２１日後、各雑草に与える除草効果及び水稲植物に与える 植物毒性を視覚的に評価し、結果を農作物又は雑草の成長減少又は被害の百分率 で対照標準鉢の植物と比較して表した。 試験法Ａにおいて発生前及び発生後に１０００ｇ／ｈａ又はそれ以下で施用し たとき、化合物１〜８、１０、１１、１９、２０、４０〜４２、４８〜５０、５ ３、５４、５６及び１３６〜１５６は雑草種の１つ以上の成長に少なくとも９０ ％の減少を与えた。 試験法Ａにおいて発生前及び発生後に施用したとき、２５０ｇ／ｈａ又はそれ 以下で化合物５７は雑草種の１つ以上の成長に少なくとも８０％の減少を与えた 。 雑草に対して毒性を示す施用水準で、これらの化合物は少なくとも１つの農作 物種について選択的であった。 試験法Ｂにおいて１２００ｇ／ｈａ又はそれ以下で施用したとき、本発明の化 合物１〜４、６〜１１、１９、２０、４０〜４２、４７〜５０、５３〜５７、１ ３６〜１４０、１４３〜１５６は上に挙げた雑草種の１つ以上の成長に少なくと も９０％の減少を与えた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＵ，ＢＡ，ＢＢ ，ＢＧ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ， ＨＵ，ＩＬ，ＪＰ，ＫＰ，ＫＲ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，Ｌ Ｔ，ＬＶ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ ，ＲＯ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ， ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ (72)発明者 ホワイト，キヤスリーン・ジヤクリーン イギリス国、エセツクス・シー・エム・ ５・０・エイチ・ダブリユ、オンガー、フ アイフイールド・ロード、ローヌ―プーラ ン・アグリカルチヤー・リミテツド（番地 なし)

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 式（Ｉ）： ［式中、 Ｗは−ＮＲ⁶を表し； Ｒ¹はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコ キシ、低級ハロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ 、ニトロ及びフェノキシから選択される同じか異なる１〜３つの基により任意に 置換されたチオフェンを表し； Ｒ²は水素、低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、低級ア ルケニル、低級ハロアルケニル、アルコキシアルケニル、−ＣＨＯ、−ＣＯＲ⁷ 、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＨ₂ＮＯ₂を表すか、又は−Ｓ（Ｏ）_mＲ⁷及び−ＯＣＯＲ⁷か ら選択される基により置換された低級アルキルを表し； Ｒ³はハロゲン、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハ ロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ、ニトロ、− ＯＨ、フェノキシ、−ＮＲ⁸Ｒ⁹及び−ＳＦ₅から選択される同じか異なる１〜５ つの基により任意に置換されたフェニルを表すか；又は 任意に、低級アルキル、低級ハロアルキル又は同じか異なる１個以上のハロゲ ン原子により置換された３〜６個の炭素原子を含むシクロアルキル基を表し； Ｒ⁴とＲ⁵は独立して低級アルキルを表し； Ｒ⁶は水素を表し； Ｒ⁷は低級アルキル又は低級ハロアルキルを表し； Ｒ⁸とＲ⁹は独立して水素又はＲ⁷を表し；及び ｍとｎは独立して０、１又は２を表す］ の１，３−オキサジン−４−オン誘導体又はその農業的に許容可能な塩。 ２． 式（Ｉ）において、 Ｒ¹はハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコ キシ、低級ハロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ 、ニトロ及びフェノキシから 選択される同じか異なる１〜３つの基により任意に置換されたチオフェンを表し ； Ｒ²は水素、低級アルキル、低級ハロアルキル、アルコキシアルキル、低級ア ルケニル、低級ハロアルケニル、アルコキシアルケニル、−ＣＨＯ、−ＣＯＲ⁷ 及び−ＣＯ₂Ｒ⁷を表し； Ｒ³はハロゲン、低級アルキル、低級ハロアルキル、低級アルコキシ、低級ハ ロアルコキシ、−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷、−ＣＯ₂Ｒ⁷、−ＣＯＲ⁷、シアノ、ニトロ、− ＯＨ、フェノキシ及び−ＮＲ⁸Ｒ⁹から選択される同じか異なる１〜５つの基によ り任意に置換されたフェニルを表すか；又は 任意に、低級アルキル、低級ハロアルキル又は同じか異なる１個以上のハロゲ ン原子により置換された３〜６個の炭素原子を含むシクロアルキル基を表し； Ｒ⁴とＲ⁵は独立して低級アルキルを表し； Ｗは−ＮＲ⁶を表し； Ｒ⁶は水素を表し； Ｒ⁷は低級アルキル又は低級ハロアルキルを表し； Ｒ⁸とＲ⁹は独立して水素又はＲ⁷を表し；及び ｎは０、１又は２を表す請求項１に記載の化合物。 ３． 式（Ｉ）において、Ｒ¹は無置換のチオフェンを表す請求項１又は２に記 載の化合物。 ４． 式（Ｉ）において、Ｒ⁴とＲ⁵はそれぞれメチルを表す請求項１、２又は３ に記載の化合物。 ５． 式（Ｉ）において、Ｒ²は低級アルキルを表す請求項１〜４のいずれか１ 項に記載の化合物。 ６． 式（Ｉ）において、Ｒ²はメチルを表す請求項５に記載の化合物。 ７． 式（Ｉ）において、Ｒ³は１個以上のハロゲン原子により任意に置換され た１〜３個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキル基及びハロゲンから選 択される同じか又は異なる１〜３つの基により任意に置換されたフェニルを表す 請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。 ８． 式（Ｉ）において、 Ｒ²はメチル、ハロゲン化メチル又はメトキシメチルを表し； Ｒ³はハロゲン、直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭素原 子を有するアルキル基、直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭 素原子を有するアルコキシ基、又は−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷から選択される同じか又は異 なる１ 〜３つの基により任意に置換されたフェニルを表すか；又は シクロブチルを表し； Ｒ⁴とＲ⁵はそれぞれメチルを表し；及び Ｒ⁷は直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭素原子を有する アルキル基を表す請求項１又は２に記載の化合物。 ９． 式（Ｉ）において、 Ｒ¹はハロゲン、直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭素原 子を有するアルキル基、直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭 素原子を有するアルコキシ基、又は−Ｓ（Ｏ）_nＲ⁷から選択される同じか異なる １又は２つの基により任意に置換されたチオフェンを表し； Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれメチルを表し； Ｒ³はハロゲン及び任意にハロゲン化されたメチルから選択される同じか又は 異なる１又は２つの基により任意に置換されたフェニルを表すか；又は シクロブチルを表し；及び Ｒ⁷は直鎖又は分岐鎖の任意にハロゲン化された１〜４個の炭素原子を有する アルキル基を表す請求項１又は２に記載の化 合物。 １０． 式（Ｉ）において、 Ｒ¹は無置換のチオフェンを表し； Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれメチルを表し；及び Ｒ³はハロゲン、任意にハロゲン化されたメチルから選択される同じか又は異 なる１又は２つの基により任意に置換されたフェニルを表すか；又はシクロブチ ルを表す請求項１又は２に記載の化合物。 １１． 式（Ｉ）において、 Ｒ¹は低級アルキル、低級アルコキシ又はハロゲンにより任意に置換されたチ オフェンを表し； Ｒ²はメチル又はエチルを表し； Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれメチルを表し；及び Ｒ³はハロゲン、任意にハロゲン化されたメチル、ニトロ又は−ＳＦ₅から選択 される同じか又は異なる１、２又は３つの基により任意に置換されたフェニルを 表すか；又は シクロブチル若しくはシクロプロピルを表す請求項１に記載の化合物。 １２． 式（Ｉ）において、以下の、 Ｒ¹は２−チエニル、３−チエニル、３−メトキシ−２−チエニル、５−メチ ル−２−チエニル又は５−クロロ−２−チエニルを表すこと； Ｒ²はメチル、エチル又はフルオロメチルを表すこと； Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれメチルを表すこと；及び Ｒ³はシクロプロピル、シクロブチル、３，５−ジフルオロフェニル、３，５ −ジクロロフェニル、２−フルオロ−５−トリフルオロメチルフェニル、２−フ ルオロ−５−メチルフェニル、３−クロロフェニル、２，５−ジフルオロフェニ ル、３−トリフルオロメチルフェニル、５−クロロ−２−メチルフェニル、３− ペンタフルオロスルファニルフェニル、２−クロロ−３，５−ジフルオロフェニ ル、３，４，５−トリフルオロフェニル、２−クロロ−５−フルオロフェニル、 ５−クロロ−２−フルオロフェニル又は５−クロロ−３−フルオロフェニルを表 すこと； の特徴の１つ以上を有する請求項１に記載の化合物。 １３． 請求項１〜１２のいずれかに記載の１，３−オキサジン−４−オン誘導 体又はその農業的に許容可能な塩の有効な量、ならびに農業的に許容可能な希釈 剤またはキャリアー及び／又 は界面油性剤を含む除草剤組成物。 １４． ある場所に請求項１〜１２のいずれかに記載した１，３−オキサジン− ４−オン誘導体又はその農業的に許容可能な塩の有効な量を施用することを含ん でなる該場所の雑草防除方法。 １５． 当該場所が農作物栽培のために使用されているか又は使用されることに なっており、１，３−オキサジン−４−オン誘導体が０．００１〜１．０ｋｇ／ ｈａの施用割合で施用される請求項１４に記載の方法。 １６． 請求項１に定義された式（Ｉ）の１，３−オキサジン−４−オンの誘導 体の製造方法であって、 （ａ） 式（II）： （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は請求項１に定義されたごとくである）の化合 物と式(III) Ｒ⁶ＮＨ−Ｒ³ （III） （式中、Ｒ³及びＲ⁶は請求項１に定義されたごとくである）のアミンとの反応 ； （ｂ） 式（IV）：（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は請求項１に定義されたごとくである）の化合物 と上記式（III）（式中、Ｒ³及びＲ⁶は請求項１に定義されたごとくである）の アミンとのカップリング剤の存在下での反応； （ｃ） 式（IV）（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は請求項１に定義されたごと くである）の化合物と式ＰｈＯ₂Ｃ−ＮＨＲ³（式中、Ｒ³は請求項１に定義され たごとくである）のフェニルカーバメートとの反応； （ｄ） 式（Ｖ）： （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は請求項１に定義されたごとくであり、ＴＭＳは トリメチルシリルを意味する）の化合物と式ＮＨ₂Ｒ³（式中、Ｒ³は請求項１に 定義されたごとくである）のアミンとの反応； （ｅ） Ｒ²がクロロメチル、ブロモメチル又はヨードメチルを表す場合、式 （Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義されたごとくであり 、Ｒ²はメチルを表す）の対応する化合物の塩素化、臭素化又は沃素化； （ｆ） Ｒ²がフルオロメチル基を表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義されたごとくであり、Ｒ²はヒドロキシメチル基で 置き換えられている）の対応する化合物の弗素化； （ｇ） Ｒ²がジフルオロメチル基を表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、 Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義されたごとくであり、Ｒ²は−ＣＨＯである） の対応する化合物の弗素化； （ｈ） Ｒ²がアルコキシアルキルを表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、 Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義されたごとくであり、Ｒ²はヒドロキシアルキ ルにより置き換えられている）の化合物のアルキル化； （ｉ） Ｒ²が−ＣＨＯ基を表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵ 及びＷは請求項１に定義されたごとくであり、Ｒ²はヒドロキシメチルで置き換 えられている）の対応する化合物の酸化； （ｊ） Ｒ²が−ＣＯＲ⁷基を表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵ 及びＷは請求項１に定義されたごとくであり、Ｒ²は−ＣＨ（ＯＨ）Ｒ⁷で置き換 えられている）の化合物の酸化； （ｋ） Ｒ²が−ＣＯ₂Ｒ⁷基を表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵ 及びＷは請求項１に定義されたごとくあり、Ｒ²は−ＣＯ₂Ｈで置き換えられて いる）の化合物のエステル化； （ｌ） Ｒ²がハロゲン又はアルコキシにより任意に置換されたアルケニルを 表し、アルケニル基の二重結合が１，３−オキサジン−４−オン環に最も近い２ 個の炭素原子の間に位置している場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ²は−ＣＨＯ又は− ＣＯＲ⁷を表し、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁷及びＷは請求項１に定義されたごとく である）の化合物とホスホランとの反応； （ｍ） ｍ及び／又はｎが１又は２である場合、式（Ｉ）（式 中、ｍ及び／又はｎはＯか１である）の対応する化合物の酸化； （ｎ） Ｒ²が−ＣＦ₂Ｒ^12aであって、Ｒ^12aがＣ₁〜Ｃ₅アルキル又はハロアル キルを表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義 されたごとくであり、Ｒ²は−ＣＯＲ^12aを表す）の対応する化合物の弗素化； （ｏ） Ｒ²か沃素により置換された低級アルキルである場合、式（Ｉ）（式 中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義されたごとくであり、Ｒ²の沃 素は臭素又は塩素で置き換えられている）の対応する化合物の沃素化； （ｐ） Ｒ²が−ＳＲ⁷基により置き換えられた低級アルキル基を表す場合、式 （Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義されたごとくであり 、−ＳＲ⁷基は脱離基、好ましくは塩素又は臭素により置き換えられている）の 対応する化合物のチオアルキル化： （ｑ） Ｒ²が−ＳＣＦ₃により置換された低級アルキル基を表す場合、式（Ｉ ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義されたごとくであり、− ＳＣＦ₃基は−ＳＣＮ基により置き換えられている）の対応する化合物のトリフ ルオロメチル化； （ｒ） Ｒ²が−ＯＣ（Ｏ）Ｒ⁷（式中、Ｒ⁷は請求項１に定義されたごとくで ある）により置換された低級アルキル基を表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³ 、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義されたごとくであり、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ⁷は脱 離基により置き換えられている）の対応する化合物と式Ｒ⁷−ＣＯ₂ ^-Ｍ₁ ⁺（式中 、Ｍ₁はナトリウム又はカリウムを表す）の塩との反応； （ｓ） Ｒ²が−ＣＨＦＲ⁷（式中、Ｒ⁷は請求項１に定義されたごとくである ）を表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＷは請求項１に定義さ れたごとくであり、Ｒ²は−ＣＨ（ＯＨ）Ｒ⁷である）の対応する化合物の弗素化 ； （ｔ） Ｒ²が−ＣＨ₂ＮＯ₂を表す場合、式（Ｉ）（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵ 及びＷは請求項１に定義されたごとくであり、Ｒ²がブロモメチル又はヨードメ チルである）の対応する化合物と亜硝酸アルカリ金属又は亜硝酸銀との反応； からなり、任意に、その後、この様にして得た式（Ｉ）の化合物を対応する農業 的に許容可能な塩に転化する方法。 １７． 式（II）、式（IV）、式（Ｖ）、式（VI）又は式（VII）（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は請求項１に定義されたごとくであり、Ｒ^8aはア ルキル基であり、ＴＭＳはトリメチルシリルを意味し、及びＢｚはベンジルであ る）の化合物。