JPH0789815A - 新規除草剤 - Google Patents
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- JPH0789815A JPH0789815A JP6161306A JP16130694A JPH0789815A JP H0789815 A JPH0789815 A JP H0789815A JP 6161306 A JP6161306 A JP 6161306A JP 16130694 A JP16130694 A JP 16130694A JP H0789815 A JPH0789815 A JP H0789815A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D471/04—Ortho-condensed systems
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
- A01N43/90—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having two or more relevant hetero rings, condensed among themselves or with a common carbocyclic ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/06—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 除草剤としての活性を有する新規ピリド
[2,3−d]ピリダジン−5−オン及びピリド[2,
3−d]ピリダジン−5−チオン誘導体、その製造方法
及び該誘導体を含有する組成物を提供する。 【構成】 除草剤としての活性を有する式(I): 〔例えば、8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシ
フエニル)−6−(4−フルオロフエニル)ピリド
〔2,3−d〕ピリダジン−5−オン〕の化合物又は農
業的に許容可能なその塩。
[2,3−d]ピリダジン−5−オン及びピリド[2,
3−d]ピリダジン−5−チオン誘導体、その製造方法
及び該誘導体を含有する組成物を提供する。 【構成】 除草剤としての活性を有する式(I): 〔例えば、8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシ
フエニル)−6−(4−フルオロフエニル)ピリド
〔2,3−d〕ピリダジン−5−オン〕の化合物又は農
業的に許容可能なその塩。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規ピリド[2,3−
d]ピリダジン−5−オン及びピリド[2,3−d]ピ
リダジン−5−チオン誘導体、その製造方法、該誘導体
を含有する組成物並びに除草剤としてのその使用に係
る。
d]ピリダジン−5−オン及びピリド[2,3−d]ピ
リダジン−5−チオン誘導体、その製造方法、該誘導体
を含有する組成物並びに除草剤としてのその使用に係
る。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】WO−
A−93/07146は医薬活性を有する所定のピリド
ピリダジノンを開示しており、特に所定の8−(3,4
−メチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−d]ピ
リダジン−5−オンを挙げている。しかしながら、これ
らの化合物が農薬活性を有するという示唆はこの文献中
には見いだされない。
A−93/07146は医薬活性を有する所定のピリド
ピリダジノンを開示しており、特に所定の8−(3,4
−メチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−d]ピ
リダジン−5−オンを挙げている。しかしながら、これ
らの化合物が農薬活性を有するという示唆はこの文献中
には見いだされない。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明は式(I):
【0004】
【化6】
【0005】[式中、R及びR1は同一でも異なっても
よく、各々水素原子;1個以上のハロゲン原子により任
意に置換された炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝
鎖アルキル、アルケニルもしくはアルキニル基;−(−
CR3R4)n−(フェニル)−(R5)q基;−(−CR3
R4)nHet基;−(CR3R4)n−Ar基(式中、A
rは1個以上のR5基により任意に置換されたフェニル
又はピリジルを表し、環の隣接位置上の2個の置換基は
これらの基が結合している2個の原子と共に、(好まし
くは酸素、硫黄及び窒素から選択され、硫黄原子が存在
する場合には−SO−又は−SO2−基の形態であり得
る)1個以上のヘテロ原子を任意に含む(任意に不飽和
の)脂環式5〜7員環又は芳香族環を形成し、脂環式又
は芳香族環は同一でも異なってもよい1個以上のR51基
により任意に置換される)を表し;但しR及びR1基の
少なくとも一方は−(−CR3R4)n−Arを表し;R2
はR5基;又は同一でも異なってもよい1〜5個のR5基
により任意に置換されたフェニルを表し;Xは酸素又は
硫黄を表し;mは0又は1〜3の整数を表し、m>1の
とき、R2は同一でも異なってもよく;R3及びR4は同
一でも異なってもよく、各々水素原子又は1個以上のハ
ロゲン原子により任意に置換された炭素原子数4個まで
の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表し;R5はハロゲ
ン原子;1個以上のハロゲン原子により任意に置換され
た炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル、
アルケニルもしくはアルキニル基;又はシアノ、ニト
ロ、−CO2R6、−S(O)pR6、−NR3R4、−CO
R6、−S(O)pR7、−CO2R7、−OR7、−CON
R3R4、OSO2R7、−OSO2R8、−OCH2R7、−
N(R3)COR8、−N(R3)SO2R8、−N(R3)
SO2R7、−SO2NR3R4、−Si(R8)3及び−O
R6から選択される基を表し;nは0、1又は2を表
し、nが2であるとき、−(−CR3R4)−基は同一で
も異なってもよく;qは0又は1〜5の整数を表し、q
>1であるとき、R5基は同一でも異なってもよく;R
51はR5と同義であるか又は=O、=Sもしくは−O
(−CR61R62−)r−O−基を表し;Hetは環内に
3〜5個の炭素原子を含み且つ環内に窒素、硫黄及び酸
素から選択される1〜3個のヘテロ原子を含み、同一で
も異なってもよい1個以上のR5基により任意に置換さ
れた5又は6員環複素環(例えばピリジル、ピリミジ
ル、チエニル又はピラゾリル)を表し;R6は水素原子
又は1個以上のハロゲン原子により任意に置換された炭
素原子数6個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表
し;pは0、1又は2を表し;rは1又は2を表し、r
が2であるとき、−(−CR61R62)−基は同一でも異
なってもよく;R7はハロゲン、ニトロ、シアノ、R6及
び−OR6から選択される同一でも異なってもよい1〜
5個の基により任意に置換されたフェニルを表し;R8
は1個以上のハロゲン原子により任意に置換された炭素
原子6個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し;R61
及びR62は同一でも異なってもよく、各々水素原子、ハ
ロゲン原子又は1個以上のハロゲン原子により任意に置
換された炭素原子数4個までの直鎖もしくは分枝鎖アル
キル基を表す]のピリド[2,3−d]ピリダジン−5
−オン及びピリド[2,3−d]ピリダジン−5−チオ
ン誘導体並びに農業的に許容可能なその塩を提供する。
よく、各々水素原子;1個以上のハロゲン原子により任
意に置換された炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝
鎖アルキル、アルケニルもしくはアルキニル基;−(−
CR3R4)n−(フェニル)−(R5)q基;−(−CR3
R4)nHet基;−(CR3R4)n−Ar基(式中、A
rは1個以上のR5基により任意に置換されたフェニル
又はピリジルを表し、環の隣接位置上の2個の置換基は
これらの基が結合している2個の原子と共に、(好まし
くは酸素、硫黄及び窒素から選択され、硫黄原子が存在
する場合には−SO−又は−SO2−基の形態であり得
る)1個以上のヘテロ原子を任意に含む(任意に不飽和
の)脂環式5〜7員環又は芳香族環を形成し、脂環式又
は芳香族環は同一でも異なってもよい1個以上のR51基
により任意に置換される)を表し;但しR及びR1基の
少なくとも一方は−(−CR3R4)n−Arを表し;R2
はR5基;又は同一でも異なってもよい1〜5個のR5基
により任意に置換されたフェニルを表し;Xは酸素又は
硫黄を表し;mは0又は1〜3の整数を表し、m>1の
とき、R2は同一でも異なってもよく;R3及びR4は同
一でも異なってもよく、各々水素原子又は1個以上のハ
ロゲン原子により任意に置換された炭素原子数4個まで
の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表し;R5はハロゲ
ン原子;1個以上のハロゲン原子により任意に置換され
た炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル、
アルケニルもしくはアルキニル基;又はシアノ、ニト
ロ、−CO2R6、−S(O)pR6、−NR3R4、−CO
R6、−S(O)pR7、−CO2R7、−OR7、−CON
R3R4、OSO2R7、−OSO2R8、−OCH2R7、−
N(R3)COR8、−N(R3)SO2R8、−N(R3)
SO2R7、−SO2NR3R4、−Si(R8)3及び−O
R6から選択される基を表し;nは0、1又は2を表
し、nが2であるとき、−(−CR3R4)−基は同一で
も異なってもよく;qは0又は1〜5の整数を表し、q
>1であるとき、R5基は同一でも異なってもよく;R
51はR5と同義であるか又は=O、=Sもしくは−O
(−CR61R62−)r−O−基を表し;Hetは環内に
3〜5個の炭素原子を含み且つ環内に窒素、硫黄及び酸
素から選択される1〜3個のヘテロ原子を含み、同一で
も異なってもよい1個以上のR5基により任意に置換さ
れた5又は6員環複素環(例えばピリジル、ピリミジ
ル、チエニル又はピラゾリル)を表し;R6は水素原子
又は1個以上のハロゲン原子により任意に置換された炭
素原子数6個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表
し;pは0、1又は2を表し;rは1又は2を表し、r
が2であるとき、−(−CR61R62)−基は同一でも異
なってもよく;R7はハロゲン、ニトロ、シアノ、R6及
び−OR6から選択される同一でも異なってもよい1〜
5個の基により任意に置換されたフェニルを表し;R8
は1個以上のハロゲン原子により任意に置換された炭素
原子6個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し;R61
及びR62は同一でも異なってもよく、各々水素原子、ハ
ロゲン原子又は1個以上のハロゲン原子により任意に置
換された炭素原子数4個までの直鎖もしくは分枝鎖アル
キル基を表す]のピリド[2,3−d]ピリダジン−5
−オン及びピリド[2,3−d]ピリダジン−5−チオ
ン誘導体並びに農業的に許容可能なその塩を提供する。
【0006】Xが酸素を表し且つR1が水素を表す化合
物はエノール互変異性体として存在し得る。更に、置換
基R、R1、R2、R3、R4、R5、R51、R6、R61、R
62及びR8の選択次第で化合物が光学及び/又は立体異
性体となる場合もある。このような全形態は本発明に含
まれる。
物はエノール互変異性体として存在し得る。更に、置換
基R、R1、R2、R3、R4、R5、R51、R6、R61、R
62及びR8の選択次第で化合物が光学及び/又は立体異
性体となる場合もある。このような全形態は本発明に含
まれる。
【0007】「農業的に許容可能な塩」なる用語は、そ
のカチオン又はアニオンが農業又は園芸用の塩を形成す
るために当業者に公知且つ許容される塩を意味する。好
ましくは、塩は水溶性である。式Iの酸性化合物(例え
ばカルボキシ基を含む化合物)と塩基により形成される
適切な塩としては、アルカリ金属(例えばナトリウム及
びカリウム)塩、アルカリ土類金属(例えばカルシウム
及びマグネシウム)塩及びアンモニウム(例えばジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、オクチルアミ
ン、ジオクチルアミン及びモルホリン)塩を挙げること
ができる。
のカチオン又はアニオンが農業又は園芸用の塩を形成す
るために当業者に公知且つ許容される塩を意味する。好
ましくは、塩は水溶性である。式Iの酸性化合物(例え
ばカルボキシ基を含む化合物)と塩基により形成される
適切な塩としては、アルカリ金属(例えばナトリウム及
びカリウム)塩、アルカリ土類金属(例えばカルシウム
及びマグネシウム)塩及びアンモニウム(例えばジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、オクチルアミ
ン、ジオクチルアミン及びモルホリン)塩を挙げること
ができる。
【0008】例えばアミノ基を含む式Iの化合物により
形成される適切な酸付加塩としては、無機酸との塩(例
えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩及び硝酸塩)及び有機酸
(例えば酢酸)との塩が挙げられる。
形成される適切な酸付加塩としては、無機酸との塩(例
えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩及び硝酸塩)及び有機酸
(例えば酢酸)との塩が挙げられる。
【0009】明細書中で式Iの化合物という場合、この
用語は状況が許す範囲での塩も包含するものと理解され
たい。
用語は状況が許す範囲での塩も包含するものと理解され
たい。
【0010】Ar基が任意に置換されたフェニル又はピ
リジルを表し、環の隣接位置上の2個の置換基が環内に
1個以上のヘテロ原子を含む(任意に不飽和の)脂環式
5〜7員環又は芳香族環を形成するとき、一般に1〜3
個のヘテロ原子が存在する。Ar基の例としては、任意
に置換されたメチレンジオキシベンゼン、2−メルカプ
トベンズイミダゾール、2−ヒドロキシベンズイミダゾ
ール、2,3−ジヒドロベンゾフラン、1,3,−ベン
ゾキサチアゾール、1,2−ベンゾキサチアゾール、
(3H)−1,2−ベンズイソチアゾール−1,1−ジ
オキシド、1,2,5−ベンゾチアジアゾール−1,1
−ジオキシド、インドリン、ベンゾフロキサン及び2,
3−ジヒドロベンゾ[b]チオフェンが挙げられる。
リジルを表し、環の隣接位置上の2個の置換基が環内に
1個以上のヘテロ原子を含む(任意に不飽和の)脂環式
5〜7員環又は芳香族環を形成するとき、一般に1〜3
個のヘテロ原子が存在する。Ar基の例としては、任意
に置換されたメチレンジオキシベンゼン、2−メルカプ
トベンズイミダゾール、2−ヒドロキシベンズイミダゾ
ール、2,3−ジヒドロベンゾフラン、1,3,−ベン
ゾキサチアゾール、1,2−ベンゾキサチアゾール、
(3H)−1,2−ベンズイソチアゾール−1,1−ジ
オキシド、1,2,5−ベンゾチアジアゾール−1,1
−ジオキシド、インドリン、ベンゾフロキサン及び2,
3−ジヒドロベンゾ[b]チオフェンが挙げられる。
【0011】更に、Arが1又は2個のR5基により任
意に置換されたピリジルを表すとき、脂環式5〜7員環
又は芳香族環を形成するピリジル環の隣接原子上の2個
の置換基はピリジル環の2個の炭素原子又は1個の炭素
原子と1個の窒素原子に結合し得る。
意に置換されたピリジルを表すとき、脂環式5〜7員環
又は芳香族環を形成するピリジル環の隣接原子上の2個
の置換基はピリジル環の2個の炭素原子又は1個の炭素
原子と1個の窒素原子に結合し得る。
【0012】これらの化合物の多数が新規であり、従っ
て本発明は、Xが酸素であり、mが0であり且つRが
3,4−メチレンジオキシフェニルを表すとき、R1が
水素、フェニル、ベンジル、エチル及び4−ピリジルメ
チルから構成される群から選択されないことを条件とす
る上記式(I)の化合物を提供する。
て本発明は、Xが酸素であり、mが0であり且つRが
3,4−メチレンジオキシフェニルを表すとき、R1が
水素、フェニル、ベンジル、エチル及び4−ピリジルメ
チルから構成される群から選択されないことを条件とす
る上記式(I)の化合物を提供する。
【0013】式(I)の化合物の好適類はその除草特性
により、Rが−(−CR3R4)n−Ar基(式中、Ar
は1〜3個のR5基により任意に置換されたフェニルを
表し、環の2,3又は3,4位の2個の置換基がこれら
の基と結合している2個の原子と共に、酸素、硫黄及び
窒素から選択される1又は2個のヘテロ原子を含む(任
意に不飽和の)5もしくは6員環脂環式環又は芳香族環
(例えばベンゾチアゾール、ベンゾキサゾール、メチレ
ンジオキシベンゼン、ベンズイミダゾール、インドール
又はインダゾール)を形成し、脂環式又は芳香族環が同
一でも異なってもよい1個以上のR51基により任意に置
換される)を表し;R1が同一でも異なってもよい1〜
5個のR5基により任意に置換されたフェニルを表し;
R2がハロゲン原子;1個以上のハロゲン原子により任
意に置換された炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝
鎖アルキル、アルケニルもしくはアルキニル基;シア
ノ、ニトロ、−CO2R6、−S(O)pR6、−NR
3R4、−COR6及び−OR6から選択される基を表し;
nが0を表し;R51がハロゲン原子;1個以上のハロゲ
ン原子により任意に置換された炭素原子数6個までの直
鎖もしくは分枝鎖アルキル基;シアノ、ニトロ、−CO
2R6、−S(O)pR6、−NR3R4、−COR6、−S
(O)pR7、−CO2R7、−OR7、−CONR3R4、
−OSO2R7及び−OR6から選択される基を表し;X
が酸素を表す化合物である。
により、Rが−(−CR3R4)n−Ar基(式中、Ar
は1〜3個のR5基により任意に置換されたフェニルを
表し、環の2,3又は3,4位の2個の置換基がこれら
の基と結合している2個の原子と共に、酸素、硫黄及び
窒素から選択される1又は2個のヘテロ原子を含む(任
意に不飽和の)5もしくは6員環脂環式環又は芳香族環
(例えばベンゾチアゾール、ベンゾキサゾール、メチレ
ンジオキシベンゼン、ベンズイミダゾール、インドール
又はインダゾール)を形成し、脂環式又は芳香族環が同
一でも異なってもよい1個以上のR51基により任意に置
換される)を表し;R1が同一でも異なってもよい1〜
5個のR5基により任意に置換されたフェニルを表し;
R2がハロゲン原子;1個以上のハロゲン原子により任
意に置換された炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝
鎖アルキル、アルケニルもしくはアルキニル基;シア
ノ、ニトロ、−CO2R6、−S(O)pR6、−NR
3R4、−COR6及び−OR6から選択される基を表し;
nが0を表し;R51がハロゲン原子;1個以上のハロゲ
ン原子により任意に置換された炭素原子数6個までの直
鎖もしくは分枝鎖アルキル基;シアノ、ニトロ、−CO
2R6、−S(O)pR6、−NR3R4、−COR6、−S
(O)pR7、−CO2R7、−OR7、−CONR3R4、
−OSO2R7及び−OR6から選択される基を表し;X
が酸素を表す化合物である。
【0014】mが1であるとき、好ましくはR2はピリ
ジル環の3位を占める。
ジル環の3位を占める。
【0015】式(I)の化合物の特に好適な類はその除
草特性により、Rが同一でも異なってもよい(好ましく
は同一の)1又は2個(好ましくは2個)のR51基によ
り任意に置換されたメチレン基を含む2,3−メチレン
ジオキシフェニルを表し、;Rが3及び/又は4位をR
5により任意に置換されたフェニルを表し;R2がハロゲ
ン原子;1個以上のハロゲン原子により任意に置換され
た炭素原子数4個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基
(例えばメチル);又は−S(O)pR6、−NR3R4及
び−OR6から選択される基を表し;R51がハロゲン原
子(好ましくはフッ素);又は1個以上のハロゲン原子
により任意に置換された炭素原子数4個までの直鎖もし
くは分枝鎖アルキル基を表し;R5がハロゲン原子(好
ましくはフッ素又は塩素);1個以上のハロゲン原子に
より任意に置換された4個までの炭素原子を含む直鎖も
しくは分枝鎖アルキル基;又はシアノ基を表し;mが
0、1又は2を表し;Xが酸素を表す化合物である。
草特性により、Rが同一でも異なってもよい(好ましく
は同一の)1又は2個(好ましくは2個)のR51基によ
り任意に置換されたメチレン基を含む2,3−メチレン
ジオキシフェニルを表し、;Rが3及び/又は4位をR
5により任意に置換されたフェニルを表し;R2がハロゲ
ン原子;1個以上のハロゲン原子により任意に置換され
た炭素原子数4個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基
(例えばメチル);又は−S(O)pR6、−NR3R4及
び−OR6から選択される基を表し;R51がハロゲン原
子(好ましくはフッ素);又は1個以上のハロゲン原子
により任意に置換された炭素原子数4個までの直鎖もし
くは分枝鎖アルキル基を表し;R5がハロゲン原子(好
ましくはフッ素又は塩素);1個以上のハロゲン原子に
より任意に置換された4個までの炭素原子を含む直鎖も
しくは分枝鎖アルキル基;又はシアノ基を表し;mが
0、1又は2を表し;Xが酸素を表す化合物である。
【0016】式(I)の化合物の別の特に好適な類は、
R及びR1が同一でも異なってもよく、各々3及び/又
は4位をR5により置換されたフェニル;2個のフッ素
原子により任意に置換されたメチレン基を含む2,3−
又は3,4−メチレンジオキシフェニルを表し、但し、
R及びR1の少なくとも一方は2個のフッ素原子により
任意に置換されたメチレン基を含む2,3−又は3,4
−メチレンジオキシフェニルであり;R2がハロゲン原
子を表し;R5がハロゲン原子、トリフルオロメチル又
はシアノを表し;mが0又は1を表し;Xが酸素を表す
化合物である。
R及びR1が同一でも異なってもよく、各々3及び/又
は4位をR5により置換されたフェニル;2個のフッ素
原子により任意に置換されたメチレン基を含む2,3−
又は3,4−メチレンジオキシフェニルを表し、但し、
R及びR1の少なくとも一方は2個のフッ素原子により
任意に置換されたメチレン基を含む2,3−又は3,4
−メチレンジオキシフェニルであり;R2がハロゲン原
子を表し;R5がハロゲン原子、トリフルオロメチル又
はシアノを表し;mが0又は1を表し;Xが酸素を表す
化合物である。
【0017】式(I)の特に重要な化合物を以下に挙げ
る。
る。
【0018】1. 8−(2,3−ジフルオロメチレン
ジオキシフェニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピ
リド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 2. 6−(4−クロロフェニル)−8−(2,3−ジ
フルオロメチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−
d]ピリダジン−5−オン; 3. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェ
ニル)−6−(4−トリフルオロメチルフェニル)ピリ
ド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 4. 8−(3,4−ジフルオロメチレンジオキシフェ
ニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピリド[2,3
−d]ピリダジン−5−オン; 5. 6−(4−フルオロフェニル)−8−(2,3−
メチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−d]ピリ
ダジン−5−オン; 6. 6−(3,4−ジフルオロメチレンジオキシフェ
ニル)−8−(3−トリフルオロメチルフェニル)ピリ
ド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 7. 3−クロロ−8−(2,3−ジフルオロメチレン
ジオキシフェニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピ
リド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 8. 3−クロロ−8−(2,3−ジフルオロメチレン
ジオキシフェニル)−6−(4−トリフルオロメチルフ
ェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 9. 6−(3−シアノ−4−フルオロフェニル)−8
−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)ピ
リド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 10. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフ
ェニル)−6−(4−フルオロ−3−トリフルオロメチ
ルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オ
ン; 11. 6−(4−シアノフェニル)−8−(2,3−
ジフルオロメチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3
−d]ピリダジン−5−オン; 12. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフ
ェニル)−6−(3,4−ジフルオロフェニル)ピリド
[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 13. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフ
ェニル)−3−フルオロ−6−(4−フルオロフェニ
ル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 14. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフ
ェニル)−3−フルオロ−6−(4−トリフルオロメチ
ルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オ
ン。
ジオキシフェニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピ
リド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 2. 6−(4−クロロフェニル)−8−(2,3−ジ
フルオロメチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−
d]ピリダジン−5−オン; 3. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェ
ニル)−6−(4−トリフルオロメチルフェニル)ピリ
ド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 4. 8−(3,4−ジフルオロメチレンジオキシフェ
ニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピリド[2,3
−d]ピリダジン−5−オン; 5. 6−(4−フルオロフェニル)−8−(2,3−
メチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−d]ピリ
ダジン−5−オン; 6. 6−(3,4−ジフルオロメチレンジオキシフェ
ニル)−8−(3−トリフルオロメチルフェニル)ピリ
ド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 7. 3−クロロ−8−(2,3−ジフルオロメチレン
ジオキシフェニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピ
リド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 8. 3−クロロ−8−(2,3−ジフルオロメチレン
ジオキシフェニル)−6−(4−トリフルオロメチルフ
ェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 9. 6−(3−シアノ−4−フルオロフェニル)−8
−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)ピ
リド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 10. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフ
ェニル)−6−(4−フルオロ−3−トリフルオロメチ
ルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オ
ン; 11. 6−(4−シアノフェニル)−8−(2,3−
ジフルオロメチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3
−d]ピリダジン−5−オン; 12. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフ
ェニル)−6−(3,4−ジフルオロフェニル)ピリド
[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 13. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフ
ェニル)−3−フルオロ−6−(4−フルオロフェニ
ル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン; 14. 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフ
ェニル)−3−フルオロ−6−(4−トリフルオロメチ
ルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オ
ン。
【0019】これらの化合物を以下に引用する際には番
号1〜14を使用する。
号1〜14を使用する。
【0020】式Iの化合物は例えば以下に記載するよう
な公知方法(即ち従来使用されているか又は文献中に記
載されている方法)を適用又は適応させることにより製
造することができる。
な公知方法(即ち従来使用されているか又は文献中に記
載されている方法)を適用又は適応させることにより製
造することができる。
【0021】以下の記載において式中の記号を特に定義
しない場合には、明細書中の各記号の最初の定義に従
い、「上記と同義」であると理解されたい。
しない場合には、明細書中の各記号の最初の定義に従
い、「上記と同義」であると理解されたい。
【0022】以下の製法の説明において工程は順序を変
えて実施してもよく、所望の化合物に達するために適切
な保護基が必要な場合もあると理解されたい。
えて実施してもよく、所望の化合物に達するために適切
な保護基が必要な場合もあると理解されたい。
【0023】本発明の特徴によると、Xが酸素を表す式
Iの化合物は式II:
Iの化合物は式II:
【0024】
【化7】
【0025】(式中、R、R2及びmは上記と同義であ
り、Lは離脱基である)の化合物を式III: R1−NHNH2 (III) (式中、R1は上記と同義である)のヒドラジン又はそ
の塩と反応させることにより製造することができる。一
般にLは−OH、炭素原子数4個までの直鎖もしくは分
枝鎖アルコキシ(例えばエトキシ)、又はハロゲン(例
えば塩素)である。反応は一般にトルエン又はエタノー
ルのような溶剤中で実施される。式IIIのヒドラジン
を塩(例えば塩酸塩)の形態で使用する場合には、反応
は一般にトリエチルアミン又は炭酸カリウムのような塩
基又は酸受容体の存在下で実施される。反応は一般に室
温から混合物の還流温度で、好ましくは混合物から水を
共沸留去しながら実施される。式IIの化合物の多数が
新規であり、それ自体本発明の別の特徴を構成する。
り、Lは離脱基である)の化合物を式III: R1−NHNH2 (III) (式中、R1は上記と同義である)のヒドラジン又はそ
の塩と反応させることにより製造することができる。一
般にLは−OH、炭素原子数4個までの直鎖もしくは分
枝鎖アルコキシ(例えばエトキシ)、又はハロゲン(例
えば塩素)である。反応は一般にトルエン又はエタノー
ルのような溶剤中で実施される。式IIIのヒドラジン
を塩(例えば塩酸塩)の形態で使用する場合には、反応
は一般にトリエチルアミン又は炭酸カリウムのような塩
基又は酸受容体の存在下で実施される。反応は一般に室
温から混合物の還流温度で、好ましくは混合物から水を
共沸留去しながら実施される。式IIの化合物の多数が
新規であり、それ自体本発明の別の特徴を構成する。
【0026】本発明の別の特徴によると、Xが酸素を表
す式Iの化合物は、式IIa:
す式Iの化合物は、式IIa:
【0027】
【化8】
【0028】(式中、R、R1、R2、m及びLは上記と
同義である)の化合物の環化により製造することができ
る。反応は一般にトリエチルアミン又は炭酸カリウムの
ような塩基又は酸受容体の存在下、任意に触媒(例えば
p−トルエンスンホン酸)の存在下、メタノール又はエ
タノールのようなアルコール溶剤中で実施される。反応
は一般に室温から混合物の還流温度で、好ましくは混合
物から水を共沸留去しながら実施される。
同義である)の化合物の環化により製造することができ
る。反応は一般にトリエチルアミン又は炭酸カリウムの
ような塩基又は酸受容体の存在下、任意に触媒(例えば
p−トルエンスンホン酸)の存在下、メタノール又はエ
タノールのようなアルコール溶剤中で実施される。反応
は一般に室温から混合物の還流温度で、好ましくは混合
物から水を共沸留去しながら実施される。
【0029】式IIaの化合物の多数が新規であり、そ
れ自体本発明の別の特徴を構成する。
れ自体本発明の別の特徴を構成する。
【0030】本発明の別の特徴によると、Xが硫黄を表
す式Iの化合物は、Xが酸素を表す式Iの対応する化合
物をチオ化試薬と反応させ、カルボニル基をチオカルボ
ニル基に変換することにより製造することができる。適
切なチオ化試薬としては、Lawesson試薬即ち
[2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジ
チア−2,4−ジホスフェタン−2,4−ジスルフィ
ド]及び5硫化リンを挙げることができる。反応は一般
に適切な溶剤(例えばトルエン)中で50℃から混合物
の還流温度で実施される。
す式Iの化合物は、Xが酸素を表す式Iの対応する化合
物をチオ化試薬と反応させ、カルボニル基をチオカルボ
ニル基に変換することにより製造することができる。適
切なチオ化試薬としては、Lawesson試薬即ち
[2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジ
チア−2,4−ジホスフェタン−2,4−ジスルフィ
ド]及び5硫化リンを挙げることができる。反応は一般
に適切な溶剤(例えばトルエン)中で50℃から混合物
の還流温度で実施される。
【0031】式Iの化合物の製造における中間体は公知
方法の適用又は適応により製造することができる。
方法の適用又は適応により製造することができる。
【0032】LがOH又は炭素原子数4個までの直鎖も
しくは分枝鎖アルコキシである式IIの化合物は、式I
V:
しくは分枝鎖アルコキシである式IIの化合物は、式I
V:
【0033】
【化9】
【0034】(式中、R、R2及びmは上記と同義であ
る)の化合物を酸化し、シアノメチレン基をカルボニル
基に変換することにより製造することができる。反応は
無水溶剤(例えばジメチルスルホキシド、テトラヒドロ
フラン(THF)、1,4−ジオキサン又はアセトニト
リル)中、塩基(例えばリチウムジイソプロピルアミ
ド、炭酸カリウム又は水素化ナトリウム)の存在下、−
72℃から混合物の還流温度で実施される。一般に、使
用されるオキシダントは空気又は酸素である。
る)の化合物を酸化し、シアノメチレン基をカルボニル
基に変換することにより製造することができる。反応は
無水溶剤(例えばジメチルスルホキシド、テトラヒドロ
フラン(THF)、1,4−ジオキサン又はアセトニト
リル)中、塩基(例えばリチウムジイソプロピルアミ
ド、炭酸カリウム又は水素化ナトリウム)の存在下、−
72℃から混合物の還流温度で実施される。一般に、使
用されるオキシダントは空気又は酸素である。
【0035】あるいは、反応は第4級アンモニウム塩
(例えばトリエチルベンジルアンモニウムクロリド)の
存在下、有機溶剤(例えばトルエン又はジクロロメタ
ン)と塩基(例えば水酸化ナトリウム)の水溶液からな
る2相系中で実施され得る。一般に使用されるオキシダ
ントは空気又は酸素である。反応は一般に室温から混合
物の還流温度で実施される。
(例えばトリエチルベンジルアンモニウムクロリド)の
存在下、有機溶剤(例えばトルエン又はジクロロメタ
ン)と塩基(例えば水酸化ナトリウム)の水溶液からな
る2相系中で実施され得る。一般に使用されるオキシダ
ントは空気又は酸素である。反応は一般に室温から混合
物の還流温度で実施される。
【0036】Lが炭素原子数4個までの直鎖又は分枝鎖
アルコキシであり且つRが水素である式IIの化合物は
更に、例えばQueguinerら, Bull.So
c.Chim.Fr., 1969, 3678により
記載されているように、RがOHにより置換された式I
Iの対応するピリジンジカルボキシレートを還元するこ
とにより製造することもできる。
アルコキシであり且つRが水素である式IIの化合物は
更に、例えばQueguinerら, Bull.So
c.Chim.Fr., 1969, 3678により
記載されているように、RがOHにより置換された式I
Iの対応するピリジンジカルボキシレートを還元するこ
とにより製造することもできる。
【0037】Lが炭素原子数4個までの直鎖もしくは分
枝鎖アルコキシ又はハロゲンである式IIの化合物は、
公知方法の適用又は適応によりLが−OHを表す式II
の対応するカルボン酸から製造することができる。
枝鎖アルコキシ又はハロゲンである式IIの化合物は、
公知方法の適用又は適応によりLが−OHを表す式II
の対応するカルボン酸から製造することができる。
【0038】Lがヒドロキシである式IIaの化合物
は、R、R2及びmが上記と同義である式IIの化合物
をR1が上記と同義である式IIIの化合物と反応させ
ることにより製造することができる。反応は一般にエタ
ノール又はメタノールのような溶剤中で実施される。反
応は一般に周囲温度から溶剤の還流温度で実施される。
は、R、R2及びmが上記と同義である式IIの化合物
をR1が上記と同義である式IIIの化合物と反応させ
ることにより製造することができる。反応は一般にエタ
ノール又はメタノールのような溶剤中で実施される。反
応は一般に周囲温度から溶剤の還流温度で実施される。
【0039】Lがヒドロキシ以外のものである式IIa
の化合物は、ルイス酸(好ましくは4塩化チタン)の存
在下でR、R2及びmが上記と同義である式IIの化合
物をR1が上記と同義である式IIIの化合物と反応さ
せることにより製造することができる。反応は一般にヘ
キサン又はトルエンのような溶剤中で−20℃から混合
物の還流温度で実施される。この反応はLが炭素原子数
4個までの直鎖又は分枝鎖アルコキシである式IIaの
化合物を製造するのに特に有用であり、一般方法は文献
(例えばJ.Organic Chem. 1967,
Volume32, p3246)に記載されてい
る。
の化合物は、ルイス酸(好ましくは4塩化チタン)の存
在下でR、R2及びmが上記と同義である式IIの化合
物をR1が上記と同義である式IIIの化合物と反応さ
せることにより製造することができる。反応は一般にヘ
キサン又はトルエンのような溶剤中で−20℃から混合
物の還流温度で実施される。この反応はLが炭素原子数
4個までの直鎖又は分枝鎖アルコキシである式IIaの
化合物を製造するのに特に有用であり、一般方法は文献
(例えばJ.Organic Chem. 1967,
Volume32, p3246)に記載されてい
る。
【0040】式IIIの所定の化合物は、式R1NH2の
化合物のジアゾ化及び還元により製造することができ
る。ジアゾ化は典型的には亜硝酸ナトリウム及び塩酸又
は硫酸及び酢酸を使用して実施される。反応温度は一般
に0〜80℃である。還元剤は例えば塩化錫(II)で
あり、溶剤は塩酸である。
化合物のジアゾ化及び還元により製造することができ
る。ジアゾ化は典型的には亜硝酸ナトリウム及び塩酸又
は硫酸及び酢酸を使用して実施される。反応温度は一般
に0〜80℃である。還元剤は例えば塩化錫(II)で
あり、溶剤は塩酸である。
【0041】式IIIの化合物はヒドラジン水和物を式
R1−Y4(式中、例えばR1が電子求引基(例えばトリ
フルオロメチル)により活性化されるピリジン又は芳香
族環を表すとき、Y4は塩素又はフッ素である)の適切
な化合物と反応させることにより製造することもでき
る。反応は溶剤(例えばエトキシエタノール)中で60
℃から溶剤の還流温度で実施される。
R1−Y4(式中、例えばR1が電子求引基(例えばトリ
フルオロメチル)により活性化されるピリジン又は芳香
族環を表すとき、Y4は塩素又はフッ素である)の適切
な化合物と反応させることにより製造することもでき
る。反応は溶剤(例えばエトキシエタノール)中で60
℃から溶剤の還流温度で実施される。
【0042】Lが炭素原子数4個までの直鎖もしくは分
枝鎖アルコキシ又は好ましくは−OHである式IVの化
合物は、式V:
枝鎖アルコキシ又は好ましくは−OHである式IVの化
合物は、式V:
【0043】
【化10】
【0044】(式中、R2及びmは上記と同義であり、
Yは離脱基、例えばハロゲンである)のニコチン酸誘導
体と式VI: RCH2CN (VI) (式中、Rは上記と同義である)のニトリルの反応によ
り製造することができる。反応は溶剤(例えばトルエ
ン、1,4−ジオキサン又はTHF)中、塩基(例えば
水素化ナトリウム、ナトリウムアミド又はアルカリ金属
アルコキシド)の存在下、0℃から溶剤の還流温度で実
施される。反応は任意に相間移動触媒(例えばトリス
[2−(2−メトキシエトキシ)エチル]アミン(通称
TDA−1))の存在下で実施され得る。
Yは離脱基、例えばハロゲンである)のニコチン酸誘導
体と式VI: RCH2CN (VI) (式中、Rは上記と同義である)のニトリルの反応によ
り製造することができる。反応は溶剤(例えばトルエ
ン、1,4−ジオキサン又はTHF)中、塩基(例えば
水素化ナトリウム、ナトリウムアミド又はアルカリ金属
アルコキシド)の存在下、0℃から溶剤の還流温度で実
施される。反応は任意に相間移動触媒(例えばトリス
[2−(2−メトキシエトキシ)エチル]アミン(通称
TDA−1))の存在下で実施され得る。
【0045】Lが−OH又は炭素原子数4個までの直鎖
もしくは分枝鎖アルコキシであり且つRが1個以上のハ
ロゲン原子により任意に置換された炭素原子数6個まで
の直鎖もしくは分枝鎖アルキル、アルケニルもしくはア
ルキニル基、又は−[CR3R4]n−(フェニル)−
(R5)q、−[CR3R4]n−Ar及び−[CR3R4]n
−Het(式中、nは1又は2である)から選択される
基である式IVの化合物は、式VII:
もしくは分枝鎖アルコキシであり且つRが1個以上のハ
ロゲン原子により任意に置換された炭素原子数6個まで
の直鎖もしくは分枝鎖アルキル、アルケニルもしくはア
ルキニル基、又は−[CR3R4]n−(フェニル)−
(R5)q、−[CR3R4]n−Ar及び−[CR3R4]n
−Het(式中、nは1又は2である)から選択される
基である式IVの化合物は、式VII:
【0046】
【化11】
【0047】(式中、R2及びmは上記と同義であり、
Lは−OH又は炭素原子数4個までの直鎖もしくは分枝
鎖アルコキシである)の2−シアノメチルニコチン酸誘
導体を式VIII: R−Z (VIII) [式中、Rは1個以上のハロゲン原子により任意に置換
された炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキ
ル、アルケニルもしくはアルキニル基、又は−[CR3
R4]n−(フェニル)−(R5)q、−[CR3R4]n−
Ar及び−[CR3R4]n−Het(式中、nは1又は
2である)から選択される基であり、Zは離脱基、例え
ばハロゲン又はトシルである]の化合物と反応させるこ
とにより製造することができる。Rが1個以上のハロゲ
ン基により任意に置換された炭素原子数6個までの直鎖
もしくは分枝鎖アルキル、アルケニル又はアルキニル基
であるとき、Zは不飽和炭素原子に結合していない。反
応は塩基の存在下で実施され、化学文献に広く記載され
ている(例えばMasuyamaら, Chem.Le
tt., 1977, 1439参照)。
Lは−OH又は炭素原子数4個までの直鎖もしくは分枝
鎖アルコキシである)の2−シアノメチルニコチン酸誘
導体を式VIII: R−Z (VIII) [式中、Rは1個以上のハロゲン原子により任意に置換
された炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキ
ル、アルケニルもしくはアルキニル基、又は−[CR3
R4]n−(フェニル)−(R5)q、−[CR3R4]n−
Ar及び−[CR3R4]n−Het(式中、nは1又は
2である)から選択される基であり、Zは離脱基、例え
ばハロゲン又はトシルである]の化合物と反応させるこ
とにより製造することができる。Rが1個以上のハロゲ
ン基により任意に置換された炭素原子数6個までの直鎖
もしくは分枝鎖アルキル、アルケニル又はアルキニル基
であるとき、Zは不飽和炭素原子に結合していない。反
応は塩基の存在下で実施され、化学文献に広く記載され
ている(例えばMasuyamaら, Chem.Le
tt., 1977, 1439参照)。
【0048】式VIの化合物は式IX: RCH2Y1 (IX) (式中、Rは上記と同義であり、Y1は離脱基、例えば
塩素又は臭素である)の化合物のシアン化により製造す
ることができる。好ましくは、シアン化物源はシアン化
ナトリウムであり、反応は一般に溶剤(例えば水性エタ
ノール)の存在下で実施される。反応温度は室温から溶
剤混合物の還流温度である。
塩素又は臭素である)の化合物のシアン化により製造す
ることができる。好ましくは、シアン化物源はシアン化
ナトリウムであり、反応は一般に溶剤(例えば水性エタ
ノール)の存在下で実施される。反応温度は室温から溶
剤混合物の還流温度である。
【0049】Y1がハロゲンである式(IX)の化合物
は、式RCH2OHの化合物のハロゲン化により製造す
ることができる。ハロゲン源は例えば3臭化リンであ
る。反応は0℃から溶剤の還流温度で溶剤(例えばジエ
チルエーテル)中で実施される。
は、式RCH2OHの化合物のハロゲン化により製造す
ることができる。ハロゲン源は例えば3臭化リンであ
る。反応は0℃から溶剤の還流温度で溶剤(例えばジエ
チルエーテル)中で実施される。
【0050】Y1が塩素又は臭素である式(IX)の化
合物は、溶剤(例えば4塩化炭素又はクロロホルム)
中、適切なハロゲン源(例えばN−クロロ又はN−ブロ
モスクシンイミド)の存在下、室温から溶剤の還流温度
で公知方法により式RCH3の化合物のハロゲン化によ
り製造することもできる。反応は好ましくはラジカル重
合開始剤(例えば過酸化ベンゾイル)の存在下で実施さ
れる。
合物は、溶剤(例えば4塩化炭素又はクロロホルム)
中、適切なハロゲン源(例えばN−クロロ又はN−ブロ
モスクシンイミド)の存在下、室温から溶剤の還流温度
で公知方法により式RCH3の化合物のハロゲン化によ
り製造することもできる。反応は好ましくはラジカル重
合開始剤(例えば過酸化ベンゾイル)の存在下で実施さ
れる。
【0051】式RCH2OHの化合物は、式RC(O)
Y2(式中、R2は水素、OH又はアルコキシである)の
化合物の還元により製造することができる。適切な還元
剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ア
ルミニウムリチウム及び水素化アルミニウムジイソブチ
ルを挙げることができ、溶剤は例えばエタノール、ジエ
チルエーテル又はテトラヒドロフランである。反応温度
は一般に0℃から溶剤の還流温度である。
Y2(式中、R2は水素、OH又はアルコキシである)の
化合物の還元により製造することができる。適切な還元
剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ア
ルミニウムリチウム及び水素化アルミニウムジイソブチ
ルを挙げることができ、溶剤は例えばエタノール、ジエ
チルエーテル又はテトラヒドロフランである。反応温度
は一般に0℃から溶剤の還流温度である。
【0052】式RCH2OH及びRC(O)Y2の化合物
は式RHの適切な化合物のリチオ化後、パラホルムアル
デヒド、ジメチルホルムアミド又は二酸化炭素と縮合す
ることにより製造することができる。反応は溶剤(例え
ばジエチルエーテル又はTHF)中で実施され、リチオ
化剤は例えばテトラメチレンジアミンの存在下のリチウ
ムジイソプロピルアミドである。この反応は文献、例え
ばヨーロッパ特許第333658号又はG Jones
ら, J.Chem.Soc.Perkin1, 19
82, 967に記載されている。
は式RHの適切な化合物のリチオ化後、パラホルムアル
デヒド、ジメチルホルムアミド又は二酸化炭素と縮合す
ることにより製造することができる。反応は溶剤(例え
ばジエチルエーテル又はTHF)中で実施され、リチオ
化剤は例えばテトラメチレンジアミンの存在下のリチウ
ムジイソプロピルアミドである。この反応は文献、例え
ばヨーロッパ特許第333658号又はG Jones
ら, J.Chem.Soc.Perkin1, 19
82, 967に記載されている。
【0053】式RCH2OH及びRC(O)Y2の化合物
は、式RBrの化合物上でリチウム−ハロゲン交換反応
後、パラホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド又は
二酸化炭素と縮合することにより製造することもでき
る。反応は例えばn−ブチルリチウムのようなリチウム
試薬とジエチルエーテル又はTHFのような溶剤を使用
して実施される。反応は一般に−80〜0℃で実施され
る。
は、式RBrの化合物上でリチウム−ハロゲン交換反応
後、パラホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド又は
二酸化炭素と縮合することにより製造することもでき
る。反応は例えばn−ブチルリチウムのようなリチウム
試薬とジエチルエーテル又はTHFのような溶剤を使用
して実施される。反応は一般に−80〜0℃で実施され
る。
【0054】式RBrの化合物は、適切な溶剤(例えば
4塩化炭素)中で例えば臭素及び鉄粉末を使用して0℃
から溶剤の還流温度で式RHの適切な化合物を臭素化す
ることにより製造することができる。
4塩化炭素)中で例えば臭素及び鉄粉末を使用して0℃
から溶剤の還流温度で式RHの適切な化合物を臭素化す
ることにより製造することができる。
【0055】式R1NH2の化合物は、例えば塩酸中の塩
化錫(II)を使用して0〜60℃の温度で式R1NO2
の化合物を還元することにより製造することができる。
化錫(II)を使用して0〜60℃の温度で式R1NO2
の化合物を還元することにより製造することができる。
【0056】式R1NO2の化合物は、例えば硝酸と硫酸
の混合物を使用して周囲温度から100℃の温度で式R
1Hの適切な化合物をニトロ化することにより製造する
ことができる。この反応は文献、例えばヨーロッパ特許
第537519号に記載されている。
の混合物を使用して周囲温度から100℃の温度で式R
1Hの適切な化合物をニトロ化することにより製造する
ことができる。この反応は文献、例えばヨーロッパ特許
第537519号に記載されている。
【0057】式R1NH2の化合物は、溶剤(例えばアセ
トニトリル)中でヨードトリメチルシランを使用して周
囲温度で式R1NHC(O)Y3(式中、Y3はアルキル
(好ましくはt−ブチル)である)の化合物を開裂する
ことにより製造することもできる。
トニトリル)中でヨードトリメチルシランを使用して周
囲温度で式R1NHC(O)Y3(式中、Y3はアルキル
(好ましくはt−ブチル)である)の化合物を開裂する
ことにより製造することもできる。
【0058】式R1NHC(O)Y3の化合物は、式R1
C(O)N3のアジドの転位により製造することができ
る。この反応は典型的にはトルエンのような溶剤中で還
流後、アルコール(好ましくはt−ブタノール)を添加
し、還流下に加熱することにより実施される。
C(O)N3のアジドの転位により製造することができ
る。この反応は典型的にはトルエンのような溶剤中で還
流後、アルコール(好ましくはt−ブタノール)を添加
し、還流下に加熱することにより実施される。
【0059】式R1C(O)N3の化合物は、ジメチルホ
ルムアミド及びトリメチルアミン中で0〜50℃の温度
でR1CO2Hの酸をジフェニルホスホリルアジドと反応
させることにより製造することができる。
ルムアミド及びトリメチルアミン中で0〜50℃の温度
でR1CO2Hの酸をジフェニルホスホリルアジドと反応
させることにより製造することができる。
【0060】式R1NH2の化合物は、式R1C(O)N
H2のアミドを水性次亜塩素酸ナトリウム及び水酸化ナ
トリウムで処理することにより製造することもできる。
反応は一般に0〜80℃の温度で実施される。
H2のアミドを水性次亜塩素酸ナトリウム及び水酸化ナ
トリウムで処理することにより製造することもできる。
反応は一般に0〜80℃の温度で実施される。
【0061】式R1C(O)NH2及びR1C(O)N3の
化合物は、式R1COClの酸塩化物を水性アンモニア
又はナトリウムアジドと夫々反応させることにより製造
することができる。
化合物は、式R1COClの酸塩化物を水性アンモニア
又はナトリウムアジドと夫々反応させることにより製造
することができる。
【0062】式R1C(O)Clの酸塩化物は、式R1C
O2Hの酸を塩素化試薬(例えば塩化チオニル)と還流
下に反応させることにより製造することができる。
O2Hの酸を塩素化試薬(例えば塩化チオニル)と還流
下に反応させることにより製造することができる。
【0063】式V、VII及びVIIIの化合物は公知
であるか又は公知方法を適用することにより製造するこ
とができる。式(I)の化合物の農業的に許容可能な塩
は公知方法により製造することができる。
であるか又は公知方法を適用することにより製造するこ
とができる。式(I)の化合物の農業的に許容可能な塩
は公知方法により製造することができる。
【0064】以下の実施例は式Iの化合物の製造を説明
するものであり、参考例は中間体の製造を説明するもの
である。本明細書中、m.p.は融点を意味する。NM
Rなる記載の後には核磁気スペクトルの特性を示す。特
に明記しない限り、百分率は重量に基づく。
するものであり、参考例は中間体の製造を説明するもの
である。本明細書中、m.p.は融点を意味する。NM
Rなる記載の後には核磁気スペクトルの特性を示す。特
に明記しない限り、百分率は重量に基づく。
【0065】実施例1 トリメチルアミン(1.81g)を4−フルオロフェニ
ヒドラジン塩酸塩(2.91g)のトルエン溶液に加え
た。2−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシベンゾ
イル)ニコチン酸(4.6g)を加え、混合物を還流下
に4時間撹拌した。Dean−Stark装置を使用し
て水を混合物から共沸留去した。次に反応混合物を2N
塩酸及びブラインで洗浄した。有機相を乾燥後、蒸発さ
せた。粗生成物をジエチルエーテル/ヘキサンと共に摩
砕し、8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェ
ニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピリド[2,3
−d]−ピリダジン−5−オン(化合物1、3.43
g)をベージュ色の固体として得た。m.p.173−
174℃。
ヒドラジン塩酸塩(2.91g)のトルエン溶液に加え
た。2−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシベンゾ
イル)ニコチン酸(4.6g)を加え、混合物を還流下
に4時間撹拌した。Dean−Stark装置を使用し
て水を混合物から共沸留去した。次に反応混合物を2N
塩酸及びブラインで洗浄した。有機相を乾燥後、蒸発さ
せた。粗生成物をジエチルエーテル/ヘキサンと共に摩
砕し、8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェ
ニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピリド[2,3
−d]−ピリダジン−5−オン(化合物1、3.43
g)をベージュ色の固体として得た。m.p.173−
174℃。
【0066】同様に操作することにより式(I)の以下
の化合物を調製した:6−(4−クロロフェニル)−8
−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−
ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化合物
2)、m.p.160−161.4℃;8−(3,4−
ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−6−(4−フ
ルオロフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5
−オン(化合物4)、m.p.176−177.4℃;
6−(4−フルオロフェニル)−8−(2,3−メチレ
ンジオキシフェニル)−ピリド[2,3−d]ピリダジ
ン−5−オン(化合物5)、m.p.165.4−16
7.4℃。
の化合物を調製した:6−(4−クロロフェニル)−8
−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−
ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化合物
2)、m.p.160−161.4℃;8−(3,4−
ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−6−(4−フ
ルオロフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5
−オン(化合物4)、m.p.176−177.4℃;
6−(4−フルオロフェニル)−8−(2,3−メチレ
ンジオキシフェニル)−ピリド[2,3−d]ピリダジ
ン−5−オン(化合物5)、m.p.165.4−16
7.4℃。
【0067】実施例2 5−クロロ−2−(2,3−ジフルオロメチレンジオキ
シベンゾイル)ニコチン酸(2.5g)を4−フルオロ
フェニルヒドラジン塩酸塩(1.54g)のエタノール
懸濁液に撹拌下に加えた。無水酢酸ナトリウム(0.7
8g)を加え、得られた混合物を還流下に6時間撹拌
後、室温で週末の間放置した。溶剤を蒸発させた。残渣
を2M塩酸に懸濁し、酢酸エチルで抽出した。有機抽出
物を水性重炭酸ナトリウム、次いで水で洗った後、乾燥
及び蒸発させた。得られた赤色固体をエーテル/シクロ
ヘキサンと共に摩砕し、カラムクロマトグラフィー(ジ
クロロメタン溶離剤)により更に精製した。得られた生
成物をシクロヘキサンと共に更に摩砕し、3−クロロ−
8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)
−6−(4−フルオロフェニル)ピリド[2,3−d]
ピリダジン−5−オン(化合物7、1.29g)をピン
ク色固体として得た。m.p.164−165℃。
シベンゾイル)ニコチン酸(2.5g)を4−フルオロ
フェニルヒドラジン塩酸塩(1.54g)のエタノール
懸濁液に撹拌下に加えた。無水酢酸ナトリウム(0.7
8g)を加え、得られた混合物を還流下に6時間撹拌
後、室温で週末の間放置した。溶剤を蒸発させた。残渣
を2M塩酸に懸濁し、酢酸エチルで抽出した。有機抽出
物を水性重炭酸ナトリウム、次いで水で洗った後、乾燥
及び蒸発させた。得られた赤色固体をエーテル/シクロ
ヘキサンと共に摩砕し、カラムクロマトグラフィー(ジ
クロロメタン溶離剤)により更に精製した。得られた生
成物をシクロヘキサンと共に更に摩砕し、3−クロロ−
8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)
−6−(4−フルオロフェニル)ピリド[2,3−d]
ピリダジン−5−オン(化合物7、1.29g)をピン
ク色固体として得た。m.p.164−165℃。
【0068】同様に操作することにより以下の化合物を
調製した:8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシ
フェニル−3−フルオロ−6−(4−フルオロフェニ
ル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化合
物13)、m.p.159−161℃。
調製した:8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシ
フェニル−3−フルオロ−6−(4−フルオロフェニ
ル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化合
物13)、m.p.159−161℃。
【0069】実施例3 2−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシベンゾイ
ル)ニコチン酸(6.14g)を4−トリフルオロメチ
ルフェニルヒドラジン(3.52g)のトルエン溶液に
加え、混合物を還流温度で4時間撹拌した。Dean−
Stark装置を使用して水を共沸留去した。反応混合
物を2N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム及びブラインで
順次洗った。有機相を乾燥し、溶剤を蒸発させた。粗生
成物をエーテル/ヘキサンと共に摩砕し、8−(2,3
−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−6−(4−
トリフルオロメチルフェニル)ピリド[2,3−d]ピ
リダジン−5−オン(化合物3)をオレンジ色の固体
(6.18g)として得た。m.p.181.6−18
2℃。
ル)ニコチン酸(6.14g)を4−トリフルオロメチ
ルフェニルヒドラジン(3.52g)のトルエン溶液に
加え、混合物を還流温度で4時間撹拌した。Dean−
Stark装置を使用して水を共沸留去した。反応混合
物を2N塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム及びブラインで
順次洗った。有機相を乾燥し、溶剤を蒸発させた。粗生
成物をエーテル/ヘキサンと共に摩砕し、8−(2,3
−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−6−(4−
トリフルオロメチルフェニル)ピリド[2,3−d]ピ
リダジン−5−オン(化合物3)をオレンジ色の固体
(6.18g)として得た。m.p.181.6−18
2℃。
【0070】(溶剤としてトルエンの代わりにエタノー
ルを使用した以外は)同様に操作することにより、式I
の以下の化合物を調製した:6−(3,4−ジフルオロ
メチレンジオキシフェニル)−8−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5
−オン(化合物6)、m.p.102.5−106℃;
3−クロロ−8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキ
シフェニル)−6−(4−トリフルオロメチルフェニ
ル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化合
物8)、m.p.186−187℃;6−(3−シアノ
−4−フルオロフェニル)−8−(2,3−ジフルオロ
メチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−d]ピリ
ダジン−5−オン(化合物9)、m.p.209−21
0.2℃;8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシ
フェニル)−6−(4−フルオロ−3−トリフルオロメ
チルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−
オン(化合物10)、m.p.177.6−178.6
℃;6−(4−シアノフェニル)−8−(2,3−ジフ
ルオロメチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−
d]ピリダジン−5−オン(化合物11)、m.p.2
13.4−214℃;8−(2,3−ジフルオロメチレ
ンジオキシフェニル)−6−(3,4−ジフルオロフェ
ニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化
合物12)、m.p.158.5−159℃;8−
(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−3
−フルオロ−6−(4−トリフルオロメチルフェニル)
ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化合物1
4)、m.p.188−189℃。
ルを使用した以外は)同様に操作することにより、式I
の以下の化合物を調製した:6−(3,4−ジフルオロ
メチレンジオキシフェニル)−8−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5
−オン(化合物6)、m.p.102.5−106℃;
3−クロロ−8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキ
シフェニル)−6−(4−トリフルオロメチルフェニ
ル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化合
物8)、m.p.186−187℃;6−(3−シアノ
−4−フルオロフェニル)−8−(2,3−ジフルオロ
メチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−d]ピリ
ダジン−5−オン(化合物9)、m.p.209−21
0.2℃;8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシ
フェニル)−6−(4−フルオロ−3−トリフルオロメ
チルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−
オン(化合物10)、m.p.177.6−178.6
℃;6−(4−シアノフェニル)−8−(2,3−ジフ
ルオロメチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−
d]ピリダジン−5−オン(化合物11)、m.p.2
13.4−214℃;8−(2,3−ジフルオロメチレ
ンジオキシフェニル)−6−(3,4−ジフルオロフェ
ニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化
合物12)、m.p.158.5−159℃;8−
(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−3
−フルオロ−6−(4−トリフルオロメチルフェニル)
ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン(化合物1
4)、m.p.188−189℃。
【0071】参考例1 シアン化2,3−ジフルオロメチレンジオキシベンゾイ
ル(30.2g)の乾燥1,4−ジオキサン溶液を水素
化ナトリウム(油状懸濁液として60%、18.24
g)の乾燥1,4−ジオキサン懸濁液に撹拌下に加え、
30分間撹拌した。TDA−1(0.44ml)を加
え、反応物を更に5分間撹拌した。2−クロロニコチン
酸(23.9g)の1,4−ジオキサン溶液を加えた。
反応混合物を還流温度で3時間撹拌した。反応混合物を
70℃まで降温させ、撹拌混合物に空気を3.5時間通
した後、一晩室温で放置した。水を慎重に加え、反応混
合物を水に注ぎ、シクロヘキサンで洗い、HiFloシ
リカで濾過した。得られた溶液を濃塩酸でpH2に酸性
化し、酢酸エチルで抽出し、ブライン及び水で洗い、乾
燥及び蒸発させ、2−(2,3−ジフルオロメチレンジ
オキシベンゾイル)ニコチン酸(39.1g)を得た。
m.p.120−140℃。
ル(30.2g)の乾燥1,4−ジオキサン溶液を水素
化ナトリウム(油状懸濁液として60%、18.24
g)の乾燥1,4−ジオキサン懸濁液に撹拌下に加え、
30分間撹拌した。TDA−1(0.44ml)を加
え、反応物を更に5分間撹拌した。2−クロロニコチン
酸(23.9g)の1,4−ジオキサン溶液を加えた。
反応混合物を還流温度で3時間撹拌した。反応混合物を
70℃まで降温させ、撹拌混合物に空気を3.5時間通
した後、一晩室温で放置した。水を慎重に加え、反応混
合物を水に注ぎ、シクロヘキサンで洗い、HiFloシ
リカで濾過した。得られた溶液を濃塩酸でpH2に酸性
化し、酢酸エチルで抽出し、ブライン及び水で洗い、乾
燥及び蒸発させ、2−(2,3−ジフルオロメチレンジ
オキシベンゾイル)ニコチン酸(39.1g)を得た。
m.p.120−140℃。
【0072】同様に操作することにより以下の化合物を
調製した:2−(3,4−ジフルオロメチレンジオキシ
ベンゾイル)ニコチン酸、NMR(CDCl3):
7.07(d,1H), 7.38−7.6(m,3
H),8.35(dd,1H), 8.73(dd,1
H);2−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシベン
ゾイル)ニコチン酸、m.p.160−165℃;5−
クロロ−2−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシベ
ンゾイル)ニコチン酸、m.p.115−120℃;2
−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシベンゾイル)
−5−フルオロニコチン酸。
調製した:2−(3,4−ジフルオロメチレンジオキシ
ベンゾイル)ニコチン酸、NMR(CDCl3):
7.07(d,1H), 7.38−7.6(m,3
H),8.35(dd,1H), 8.73(dd,1
H);2−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシベン
ゾイル)ニコチン酸、m.p.160−165℃;5−
クロロ−2−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシベ
ンゾイル)ニコチン酸、m.p.115−120℃;2
−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシベンゾイル)
−5−フルオロニコチン酸。
【0073】参考例2 臭化2,3−ジフルオロメチレンジオキシベンジル(4
0.4g)をエタノールに溶解し、シアン化カリウム
(11.3g)を加えた。混合物を70℃で5時間撹拌
した。水と別のシアン化カリウム(2g)を加え、混合
物を70℃で更に3時間撹拌した。溶剤の大部分を減圧
下に除去し、水を残渣に加え、ジエチルエーテルで抽出
し、水洗、乾燥及び濃縮し、シアン化2,3−ジフルオ
ロメチレンジオキシベンジルを黄色油状物として得た
(30.2g)。NMR(CDCl3): 3.80
(s,2H), 7.10(m,3H)。
0.4g)をエタノールに溶解し、シアン化カリウム
(11.3g)を加えた。混合物を70℃で5時間撹拌
した。水と別のシアン化カリウム(2g)を加え、混合
物を70℃で更に3時間撹拌した。溶剤の大部分を減圧
下に除去し、水を残渣に加え、ジエチルエーテルで抽出
し、水洗、乾燥及び濃縮し、シアン化2,3−ジフルオ
ロメチレンジオキシベンジルを黄色油状物として得た
(30.2g)。NMR(CDCl3): 3.80
(s,2H), 7.10(m,3H)。
【0074】同様に操作することにより以下の化合物を
調製した:シアン化3,4−ジフルオロメチレンジオキ
シベンジル、NMR(CDCl3): 3.63(s,
2H), 7.0(s,3H);シアン化2,3−メチ
レンジオキシベンジル、m.p.65.8−68.2
℃。
調製した:シアン化3,4−ジフルオロメチレンジオキ
シベンジル、NMR(CDCl3): 3.63(s,
2H), 7.0(s,3H);シアン化2,3−メチ
レンジオキシベンジル、m.p.65.8−68.2
℃。
【0075】参考例3 3臭化リン(47g)を2,3−ジフルオロメチレンジ
オキシベンジルアルコール(32g)の0℃ジエチルエ
ーテル溶液に加えた。0.5時間後、反応混合物を周囲
温度まで昇温させ、周囲温度で3時間撹拌した。次に反
応混合物を0℃まで冷却し、メタノール、次いで水を加
え、混合物をジエチルエーテルで抽出し、分離し、有機
相を飽和重炭酸ナトリウム(中性まで)で洗浄し、乾燥
し、溶剤を除去し、臭化2,3−ジフルオロメチレンジ
オキシベンジルを薄黄色油状物として得た(40.4
g)。NMR(CDCl3): 4.50(s,2
H),7.10(m,3H)。
オキシベンジルアルコール(32g)の0℃ジエチルエ
ーテル溶液に加えた。0.5時間後、反応混合物を周囲
温度まで昇温させ、周囲温度で3時間撹拌した。次に反
応混合物を0℃まで冷却し、メタノール、次いで水を加
え、混合物をジエチルエーテルで抽出し、分離し、有機
相を飽和重炭酸ナトリウム(中性まで)で洗浄し、乾燥
し、溶剤を除去し、臭化2,3−ジフルオロメチレンジ
オキシベンジルを薄黄色油状物として得た(40.4
g)。NMR(CDCl3): 4.50(s,2
H),7.10(m,3H)。
【0076】同様に操作することにより、以下の化合物
を調製した:臭化3,4−ジフルオロメチレンジオキシ
ベンジル、NMR(CDCl3):4.48(s,2
H), 6.98−7.18(d/sのd,3H);臭
化2,3−メチレンジオキシベンジル。
を調製した:臭化3,4−ジフルオロメチレンジオキシ
ベンジル、NMR(CDCl3):4.48(s,2
H), 6.98−7.18(d/sのd,3H);臭
化2,3−メチレンジオキシベンジル。
【0077】参考例4 温度が10℃を越えないように冷却しながら水素化ホウ
素ナトリウム(5g)のメタノール溶液を2,3−ジフ
ルオロメチレンジオキシベンズアルデヒド(36g)の
メタノール溶液に加えた。次いで、反応混合物を周囲温
度まで昇温させ、1時間撹拌した。メタノールの大部分
を蒸発させ、残渣を冷20%水酸化ナトリウム溶液に注
ぎ、エーテルで抽出し、分離し、ブライン(中性まで)
で洗い、乾燥し、溶剤を除去し、2,3−ジフルオロメ
チレンジオキシベンジルアルコールを無色油状物(3
3.7g)として得た。NMR(CDCl3): 2.
10(br,1H), 4.80(d,2H), 7.
00(m,1H), 7.10(m,2H)。
素ナトリウム(5g)のメタノール溶液を2,3−ジフ
ルオロメチレンジオキシベンズアルデヒド(36g)の
メタノール溶液に加えた。次いで、反応混合物を周囲温
度まで昇温させ、1時間撹拌した。メタノールの大部分
を蒸発させ、残渣を冷20%水酸化ナトリウム溶液に注
ぎ、エーテルで抽出し、分離し、ブライン(中性まで)
で洗い、乾燥し、溶剤を除去し、2,3−ジフルオロメ
チレンジオキシベンジルアルコールを無色油状物(3
3.7g)として得た。NMR(CDCl3): 2.
10(br,1H), 4.80(d,2H), 7.
00(m,1H), 7.10(m,2H)。
【0078】同様に操作することにより、以下の化合物
を調製した:3,4−ジフルオロメチレンジオキシベン
ジルアルコール、NMR(CDCl3): 2.15
(br.s,1H), 4.66(s,2H), 6.
95−7.16(m,3H)。
を調製した:3,4−ジフルオロメチレンジオキシベン
ジルアルコール、NMR(CDCl3): 2.15
(br.s,1H), 4.66(s,2H), 6.
95−7.16(m,3H)。
【0079】参考例5 不活性雰囲気下で2,3−メチレンジオキシ安息香酸エ
チル(5g)のジエチルエーテル溶液を水素化アルミニ
ウムリチウム(0.97g)のジエチルエーテル懸濁液
に加えた。得られた混合物を2時間還流した。別量の水
素化アルミニウムリチウム(0.25g)を加え、混合
物を更に1時間還流した。混合物を冷却し、酢酸エチ
ル、次いで1M塩酸を加えることにより過剰の水素化ア
ルミニウムリチウムを分解した。次いで混合物を分離
し、有機相を1M塩酸、次いで水で洗い、乾燥し、溶剤
を除去し、2,3−メチレンジオキシベンジルアルコー
ルを薄黄色油状物として得た(3.41g)。NMR
(CDCl3): 4.7(s,2H), 5.95
(s,2H), 6.76−6.87(m,3H)。
チル(5g)のジエチルエーテル溶液を水素化アルミニ
ウムリチウム(0.97g)のジエチルエーテル懸濁液
に加えた。得られた混合物を2時間還流した。別量の水
素化アルミニウムリチウム(0.25g)を加え、混合
物を更に1時間還流した。混合物を冷却し、酢酸エチ
ル、次いで1M塩酸を加えることにより過剰の水素化ア
ルミニウムリチウムを分解した。次いで混合物を分離
し、有機相を1M塩酸、次いで水で洗い、乾燥し、溶剤
を除去し、2,3−メチレンジオキシベンジルアルコー
ルを薄黄色油状物として得た(3.41g)。NMR
(CDCl3): 4.7(s,2H), 5.95
(s,2H), 6.76−6.87(m,3H)。
【0080】参考例6 亜硝酸ナトリウム(3g)の濃硫酸(25ml)溶液を
プロピオン酸(50ml)及び濃硫酸(5ml)中の
3,4−(ジフルオロメチレンジオキシ)アニリン
(6.92g)の冷却(0℃)溶液に、反応温度が5℃
以上にならないように滴下した。得られた混合物を0〜
5℃で更に1時間撹拌した後、1時間かけて室温にし
た。混合物を0℃に再冷却した。次いで、反応温度が5
℃以上にならないように塩化第1錫・2水和物(28.
8g)の濃塩酸(21ml)溶液を撹拌混合物に加え
た。得られた混合物を室温で1時間撹拌した後、50%
水酸化ナトリウムでpH14に希釈した。混合物をジエ
チルエーテルで抽出した。有機抽出物を水洗、乾燥及び
蒸発させ、3,4−(ジフルオロメチレンジオキシ)フ
ェニルヒドラジンを暗色油状物(6.15g)として得
た。NMR(CDCl3):3.6(br.s,2
H), 5.2(br.s,1H), 6.47(d
d,1H), 6.65(d.1H), 6.88
(d.1H)。
プロピオン酸(50ml)及び濃硫酸(5ml)中の
3,4−(ジフルオロメチレンジオキシ)アニリン
(6.92g)の冷却(0℃)溶液に、反応温度が5℃
以上にならないように滴下した。得られた混合物を0〜
5℃で更に1時間撹拌した後、1時間かけて室温にし
た。混合物を0℃に再冷却した。次いで、反応温度が5
℃以上にならないように塩化第1錫・2水和物(28.
8g)の濃塩酸(21ml)溶液を撹拌混合物に加え
た。得られた混合物を室温で1時間撹拌した後、50%
水酸化ナトリウムでpH14に希釈した。混合物をジエ
チルエーテルで抽出した。有機抽出物を水洗、乾燥及び
蒸発させ、3,4−(ジフルオロメチレンジオキシ)フ
ェニルヒドラジンを暗色油状物(6.15g)として得
た。NMR(CDCl3):3.6(br.s,2
H), 5.2(br.s,1H), 6.47(d
d,1H), 6.65(d.1H), 6.88
(d.1H)。
【0081】同様に操作することにより、以下の化合物
を調製した:3−シアノ−4−フルオロフェニルヒドラ
ジン、NMR(DMSO−d6):4.1(br.s,
2H), 7.0−7.38(m,4H)。
を調製した:3−シアノ−4−フルオロフェニルヒドラ
ジン、NMR(DMSO−d6):4.1(br.s,
2H), 7.0−7.38(m,4H)。
【0082】4−フルオロ−3−トリフルオロメチルフ
ェニルヒドラジン、NMR(CDCl3): 3.65
(br.s,2H), 5.27(br.s,1H),
6.9−7.17(m,3H);4−シアノフェニル
ヒドラジン、m.p.67−76℃。
ェニルヒドラジン、NMR(CDCl3): 3.65
(br.s,2H), 5.27(br.s,1H),
6.9−7.17(m,3H);4−シアノフェニル
ヒドラジン、m.p.67−76℃。
【0083】3,4−ジフルオロフェニルヒドラジン、
NMR(CDCl3): 3.57(br.s,2
H), 5.15(br.s,1H), 6.5(m,
1H),6.7(m,1H), 7.0(m,1h)。
NMR(CDCl3): 3.57(br.s,2
H), 5.15(br.s,1H), 6.5(m,
1H),6.7(m,1H), 7.0(m,1h)。
【0084】参考例7 塩化第1錫・2水和物(39.5g)を3,4−(ジフ
ルオロメチレンジオキシ)ニトロベンゼン(11g)、
濃塩酸(66ml)、水及びテトラヒドロフランの冷却
混合物に加えた。反応温度は40℃を越えないようにし
た。混合物を不活性雰囲気下に室温で3日間撹拌した。
混合物を水で希釈し、50%水酸化ナトリウムで塩基性
にし、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出物を
ブラインで洗い、乾燥及び蒸発させ、3,4−(ジフル
オロメチレンジオキシ)アニリンを暗色油状物(2.2
g)として得た。NMR(CDCl3): 3.65
(brs,2h), 6.3(dd,1H), 6.4
(d.1H), 6.82(d.1H)。
ルオロメチレンジオキシ)ニトロベンゼン(11g)、
濃塩酸(66ml)、水及びテトラヒドロフランの冷却
混合物に加えた。反応温度は40℃を越えないようにし
た。混合物を不活性雰囲気下に室温で3日間撹拌した。
混合物を水で希釈し、50%水酸化ナトリウムで塩基性
にし、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出物を
ブラインで洗い、乾燥及び蒸発させ、3,4−(ジフル
オロメチレンジオキシ)アニリンを暗色油状物(2.2
g)として得た。NMR(CDCl3): 3.65
(brs,2h), 6.3(dd,1H), 6.4
(d.1H), 6.82(d.1H)。
【0085】同様に操作することにより、以下の化合物
を調製した:3−シアノ−4−フルオロアニリン、m.
p.99−100℃。
を調製した:3−シアノ−4−フルオロアニリン、m.
p.99−100℃。
【0086】参考例8 2−クロロ−5−ニトロニコチン酸(3.3g)を反応
温度が40℃以上にならないように塩化第1錫(12.
6g)の濃塩酸溶液に少量ずつ加えた。次に混合物を9
0℃に加熱し、1時間保温した。混合物を室温まで降温
させ、水を加えた。混合物を一晩フリッジ中に置いた。
結晶生成物を濾取し、水洗後、乾燥し、5−アミノ−2
−クロロニコチン酸塩酸塩を無色固体(1.1g)とし
て得た。NMR(DMSO−d6): 7.0(br.
s,2H), 7.6(s,1H), 7.95(s,
1H)。
温度が40℃以上にならないように塩化第1錫(12.
6g)の濃塩酸溶液に少量ずつ加えた。次に混合物を9
0℃に加熱し、1時間保温した。混合物を室温まで降温
させ、水を加えた。混合物を一晩フリッジ中に置いた。
結晶生成物を濾取し、水洗後、乾燥し、5−アミノ−2
−クロロニコチン酸塩酸塩を無色固体(1.1g)とし
て得た。NMR(DMSO−d6): 7.0(br.
s,2H), 7.6(s,1H), 7.95(s,
1H)。
【0087】参考例9 不活性雰囲気下で反応温度が−68℃以上にならないよ
うに3−ブロモ−2,5−ジクロロピリジン(10g)
のジイソプロピルエーテル溶液をn−ブチルリチウム
(ヘキサン中2.5M、17.7ml)の−70℃ジイ
ソプロピルエーテル撹拌溶液に滴下した。次に過剰の固
体二酸化炭素を懸濁液に加え、混合物を2時間撹拌した
(過剰の二酸化炭素は蒸発し、温度は10℃となる)。
うに3−ブロモ−2,5−ジクロロピリジン(10g)
のジイソプロピルエーテル溶液をn−ブチルリチウム
(ヘキサン中2.5M、17.7ml)の−70℃ジイ
ソプロピルエーテル撹拌溶液に滴下した。次に過剰の固
体二酸化炭素を懸濁液に加え、混合物を2時間撹拌した
(過剰の二酸化炭素は蒸発し、温度は10℃となる)。
【0088】氷/水を加え、混合物を撹拌した。層を分
離した。水層を濃塩酸でpH2に酸性化した。得られた
沈殿をジエチルエーテルに抽出した。エーテル抽出物を
水洗、乾燥(硫酸マグネシウム)及び蒸発させ、得られ
た固体を軽油中で摩砕し、2,5−ジクロロニコチン酸
をクリーム色の固体(7.04g)として得た。m.
p.160−162℃。
離した。水層を濃塩酸でpH2に酸性化した。得られた
沈殿をジエチルエーテルに抽出した。エーテル抽出物を
水洗、乾燥(硫酸マグネシウム)及び蒸発させ、得られ
た固体を軽油中で摩砕し、2,5−ジクロロニコチン酸
をクリーム色の固体(7.04g)として得た。m.
p.160−162℃。
【0089】参考例10 5−アミノ−2−クロロニコチン酸塩酸塩(3.8g)
を50%テトラフルオロホウ酸に溶解した。テトラヒド
ロフランを加え、形成されたスラリーを0℃に冷却し
た。亜硝酸ナトリウム(1.6g)水溶液を加えた後、
反応混合物を0〜10℃に更に2時間保温した。沈殿を
濾取し、冷(0〜5℃)エタノールで洗った後、乾燥
し、テトラフルオロホウ酸2−クロロ−5−ジアゾニウ
ムニコチン酸を白色固体(4g)として得た。m.p.
143−4℃。
を50%テトラフルオロホウ酸に溶解した。テトラヒド
ロフランを加え、形成されたスラリーを0℃に冷却し
た。亜硝酸ナトリウム(1.6g)水溶液を加えた後、
反応混合物を0〜10℃に更に2時間保温した。沈殿を
濾取し、冷(0〜5℃)エタノールで洗った後、乾燥
し、テトラフルオロホウ酸2−クロロ−5−ジアゾニウ
ムニコチン酸を白色固体(4g)として得た。m.p.
143−4℃。
【0090】1,2−ジクロロベンゼンを155℃に加
熱した。反応温度を150〜155℃に維持するよう
に、上記のように調製したジアゾニウムテトラフルオロ
ホウ酸塩(5g)を1,2−ジクロロベンゼン中のスラ
リーとして少量ずつ加えた。添加の完了後、混合物を1
50℃で15分間撹拌した後、室温まで降温させた。混
合物を飽和重炭酸ナトリウム溶液、次いで水で抽出し
た。抽出物をジエチルエーテルで洗った後、濃塩酸でp
H11に酸性化した。混合物を酢酸エチルで抽出した。
有機抽出物を乾燥(硫酸マグネシウム)及び蒸発させ、
得られたオレンジ色のガムをヘキサン/ジエチルエーテ
ルと共に摩砕し、2−クロロ−5−フルオロニコチン酸
を黄色固体(1.4g)として得た。m.p. 123
−8℃。
熱した。反応温度を150〜155℃に維持するよう
に、上記のように調製したジアゾニウムテトラフルオロ
ホウ酸塩(5g)を1,2−ジクロロベンゼン中のスラ
リーとして少量ずつ加えた。添加の完了後、混合物を1
50℃で15分間撹拌した後、室温まで降温させた。混
合物を飽和重炭酸ナトリウム溶液、次いで水で抽出し
た。抽出物をジエチルエーテルで洗った後、濃塩酸でp
H11に酸性化した。混合物を酢酸エチルで抽出した。
有機抽出物を乾燥(硫酸マグネシウム)及び蒸発させ、
得られたオレンジ色のガムをヘキサン/ジエチルエーテ
ルと共に摩砕し、2−クロロ−5−フルオロニコチン酸
を黄色固体(1.4g)として得た。m.p. 123
−8℃。
【0091】参考例11 ジメチルホルムアミド(4滴)を2−ヒドロキシ−5−
ニトロニコチン酸(5g)のオキシ塩化リン(10m
l)溶液に加えた。混合物を還流温度で3時間撹拌し
た。過剰の溶剤を留去した後、残渣を水に慎重に注ぎ、
形成された混合物の温度を40℃以下に維持した。混合
物を室温で更に30分間撹拌した後、酢酸エチルで抽出
した。抽出物を水洗、乾燥(硫酸マグネシウム)及び蒸
発させた。得られた残渣をエーテル/ヘキサンと共に摩
砕し、2−クロロ−5−ニトロニコチン酸を薄黄色固体
(3.6g)として得た。m.p.123−7℃。
ニトロニコチン酸(5g)のオキシ塩化リン(10m
l)溶液に加えた。混合物を還流温度で3時間撹拌し
た。過剰の溶剤を留去した後、残渣を水に慎重に注ぎ、
形成された混合物の温度を40℃以下に維持した。混合
物を室温で更に30分間撹拌した後、酢酸エチルで抽出
した。抽出物を水洗、乾燥(硫酸マグネシウム)及び蒸
発させた。得られた残渣をエーテル/ヘキサンと共に摩
砕し、2−クロロ−5−ニトロニコチン酸を薄黄色固体
(3.6g)として得た。m.p.123−7℃。
【0092】参考例12 発煙硝酸(26ml)を2−ヒドロキシニコチン酸(3
4.8g)の35〜40℃濃硫酸(100ml)溶液に
撹拌下に加えた。次に、形成された混合物を50℃で4
時間撹拌した。混合物を室温まで冷却した後、氷に注い
だ。形成された沈殿を濾取し、フィルター上で風乾した
後、エタノールから再結晶させ、2−ヒドロキシ−5−
ニトロニコチン酸を薄黄色固体(39.6g)として得
た。m.p.210−22℃。
4.8g)の35〜40℃濃硫酸(100ml)溶液に
撹拌下に加えた。次に、形成された混合物を50℃で4
時間撹拌した。混合物を室温まで冷却した後、氷に注い
だ。形成された沈殿を濾取し、フィルター上で風乾した
後、エタノールから再結晶させ、2−ヒドロキシ−5−
ニトロニコチン酸を薄黄色固体(39.6g)として得
た。m.p.210−22℃。
【0093】本発明の更なる特徴により、1種以上の相
容性のある農学的に許容し得る希釈剤又はキャリヤー及
び/又は表面活性剤[即ち、除草剤組成物中の使用に好
適であり一般式Iの化合物と相容性があると業界で通常
認められている種類の希釈剤又はキャリヤー及び/又は
表面活性剤]と組み合わせて、好ましくはその中に均一
に分散して、1種以上の一般式Iのピリド[2,3−
d]ピリダジン−5−オン及び−5−チオン誘導体又は
農学上許容し得るその塩を含有する、除草剤の用途に好
適な組成物が提供される。
容性のある農学的に許容し得る希釈剤又はキャリヤー及
び/又は表面活性剤[即ち、除草剤組成物中の使用に好
適であり一般式Iの化合物と相容性があると業界で通常
認められている種類の希釈剤又はキャリヤー及び/又は
表面活性剤]と組み合わせて、好ましくはその中に均一
に分散して、1種以上の一般式Iのピリド[2,3−
d]ピリダジン−5−オン及び−5−チオン誘導体又は
農学上許容し得るその塩を含有する、除草剤の用途に好
適な組成物が提供される。
【0094】″均一に分散した″の用語は、一般式Iの
化合物が他の成分に溶解している組成物を含めて用いて
いる。″除草剤組成物″の用語は、除草剤としてそのま
ま使用する組成物のみならず、使用前に希釈する必要の
ある濃厚物も含めた広い意味で用いている。好ましく
は、組成物は、1種以上の一般式Iの化合物を0.05
から90重量%含有する。
化合物が他の成分に溶解している組成物を含めて用いて
いる。″除草剤組成物″の用語は、除草剤としてそのま
ま使用する組成物のみならず、使用前に希釈する必要の
ある濃厚物も含めた広い意味で用いている。好ましく
は、組成物は、1種以上の一般式Iの化合物を0.05
から90重量%含有する。
【0095】除草剤組成物は、希釈剤又はキャリヤーと
表面活性剤(例えば、湿潤剤、分散剤又は乳化剤)の両
方を含有することができる。本発明の除草剤組成物に存
在することのできる表面活性剤は、イオン系又は非イオ
ン系、例えば、スルホリシノレエート類、四級アンモニ
ウム誘導体、酸化エチレンとアルキル及びポリアリール
フェノール(例えばノニル- もしくはオクチルフェノー
ル)との縮合物に基づく生成物、又は酸化エチレンとの
縮合による遊離水酸基のエーテル化により可溶性になっ
たアンヒドロソルビトール類のカルボン酸エステル、ジ
ノニル- 及びジオクチル- ナトリウムスルホノスクシネ
ートのような硫酸エステル類及びスルホン酸類のアルカ
リ及びアルカリ土類金属塩、ならびにナトリウム及びカ
ルシウムリグノスルホネート類及びナトリウム及びカル
シウムアルキルベンゼンスルホネート類のような高分子
量スルホン酸誘導体のアルカリ及びアルカリ土類金属塩
であってもよい。
表面活性剤(例えば、湿潤剤、分散剤又は乳化剤)の両
方を含有することができる。本発明の除草剤組成物に存
在することのできる表面活性剤は、イオン系又は非イオ
ン系、例えば、スルホリシノレエート類、四級アンモニ
ウム誘導体、酸化エチレンとアルキル及びポリアリール
フェノール(例えばノニル- もしくはオクチルフェノー
ル)との縮合物に基づく生成物、又は酸化エチレンとの
縮合による遊離水酸基のエーテル化により可溶性になっ
たアンヒドロソルビトール類のカルボン酸エステル、ジ
ノニル- 及びジオクチル- ナトリウムスルホノスクシネ
ートのような硫酸エステル類及びスルホン酸類のアルカ
リ及びアルカリ土類金属塩、ならびにナトリウム及びカ
ルシウムリグノスルホネート類及びナトリウム及びカル
シウムアルキルベンゼンスルホネート類のような高分子
量スルホン酸誘導体のアルカリ及びアルカリ土類金属塩
であってもよい。
【0096】適切には、本発明による除草剤組成物は、
10重量%まで、例えば0.05から10重量%の表面
活性剤を含むことができるが、所望であれば、本発明に
よる除草剤組成物は、より高い割合の表面活性剤、例え
ば、乳化性懸濁濃厚液においては15重量%まで、水溶
性濃厚液において25重量%までを含むことができる。
10重量%まで、例えば0.05から10重量%の表面
活性剤を含むことができるが、所望であれば、本発明に
よる除草剤組成物は、より高い割合の表面活性剤、例え
ば、乳化性懸濁濃厚液においては15重量%まで、水溶
性濃厚液において25重量%までを含むことができる。
【0097】好適な固体希釈剤又はキャリヤーの例とし
ては、ケイ酸アルミニウム、微粉末二酸化ケイ素、タル
ク、チョーク、か焼マグネシア、ケイソウ土、燐酸三カ
ルシウム、粉末コルク、吸着性カーボンブラックならび
にカオリン及びベントナイトのような粘土がある。(粉
剤、粒剤又は水和剤の形態をとることのできる)固体組
成物は、好ましくは、一般式Iの化合物を固体希釈剤と
共に粉砕することにより、又は揮発性溶媒に溶解した一
般式Iの化合物溶液を固体希釈剤又はキャリヤーに浸み
込ませ、溶媒を蒸発させ、必要に応じて散剤を得るため
に生成物を粉砕することにより調製する。粒状配合組成
物は、(所望であれば揮発性であってもよい適切な溶媒
に溶解した)一般式Iの化合物を粒状形態の固体希釈剤
もしくはキャリヤー上に吸着させ、所望であれば、溶媒
を蒸発させることにより、又は上記のようにして得られ
る散剤形態の組成物を粒状化することにより調製するこ
とができる。固体除草剤組成物、特に水和剤及び粒剤
は、固形である場合希釈剤又はキャリヤーとして利用す
ることもできる(例えば上記の種類の)湿潤剤又は分散
剤を含有することができる。
ては、ケイ酸アルミニウム、微粉末二酸化ケイ素、タル
ク、チョーク、か焼マグネシア、ケイソウ土、燐酸三カ
ルシウム、粉末コルク、吸着性カーボンブラックならび
にカオリン及びベントナイトのような粘土がある。(粉
剤、粒剤又は水和剤の形態をとることのできる)固体組
成物は、好ましくは、一般式Iの化合物を固体希釈剤と
共に粉砕することにより、又は揮発性溶媒に溶解した一
般式Iの化合物溶液を固体希釈剤又はキャリヤーに浸み
込ませ、溶媒を蒸発させ、必要に応じて散剤を得るため
に生成物を粉砕することにより調製する。粒状配合組成
物は、(所望であれば揮発性であってもよい適切な溶媒
に溶解した)一般式Iの化合物を粒状形態の固体希釈剤
もしくはキャリヤー上に吸着させ、所望であれば、溶媒
を蒸発させることにより、又は上記のようにして得られ
る散剤形態の組成物を粒状化することにより調製するこ
とができる。固体除草剤組成物、特に水和剤及び粒剤
は、固形である場合希釈剤又はキャリヤーとして利用す
ることもできる(例えば上記の種類の)湿潤剤又は分散
剤を含有することができる。
【0098】本発明による液体組成物は、表面活性剤を
含むことができる、水性、有機又は水性- 有機の溶液、
懸濁液及び乳化液の形態をとることができる。液体組成
物中への配合に適した液体希釈剤としては、水、グリコ
ール類、グリコールエーテル類、テトラヒドロフルフリ
ルアルコール、アセトフェノン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン、N- アルキルピロリドン類、トルエン、キシ
レン、鉱油、動物性油、植物性油、エステル化植物性油
ならびに石油の軽芳香族及びナフテン画分(ならびにこ
れら希釈剤の混合物)が挙げられる。液体組成物に存在
してもよい表面活性剤は、(例えば上記の種類の)イオ
ン性又は非イオン性であってもよく、液体である場合希
釈剤又はキャリヤーとして利用することもできる。
含むことができる、水性、有機又は水性- 有機の溶液、
懸濁液及び乳化液の形態をとることができる。液体組成
物中への配合に適した液体希釈剤としては、水、グリコ
ール類、グリコールエーテル類、テトラヒドロフルフリ
ルアルコール、アセトフェノン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン、N- アルキルピロリドン類、トルエン、キシ
レン、鉱油、動物性油、植物性油、エステル化植物性油
ならびに石油の軽芳香族及びナフテン画分(ならびにこ
れら希釈剤の混合物)が挙げられる。液体組成物に存在
してもよい表面活性剤は、(例えば上記の種類の)イオ
ン性又は非イオン性であってもよく、液体である場合希
釈剤又はキャリヤーとして利用することもできる。
【0099】濃厚物の形態の散剤、分散可能な粒剤及び
液体組成物は、すぐ使用できる組成物を得るために、水
又は他の適当な希釈剤、例えば、特に希釈剤又はキャリ
ヤーが油である液体濃厚物の場合、鉱油又は植物性油で
希釈することができる。
液体組成物は、すぐ使用できる組成物を得るために、水
又は他の適当な希釈剤、例えば、特に希釈剤又はキャリ
ヤーが油である液体濃厚物の場合、鉱油又は植物性油で
希釈することができる。
【0100】所望であれば、一般式Iの化合物の液体組
成物は、乳化剤又は、活性物質と相容性のある乳化剤を
含有する溶媒に溶解した活性物質を含有する自己乳化性
濃厚物の形態で用いることができ、このような濃厚物を
水に単に加えることによりすぐ使用できる組成物を調製
することができる。
成物は、乳化剤又は、活性物質と相容性のある乳化剤を
含有する溶媒に溶解した活性物質を含有する自己乳化性
濃厚物の形態で用いることができ、このような濃厚物を
水に単に加えることによりすぐ使用できる組成物を調製
することができる。
【0101】希釈剤又はキャリヤーが油である液体濃厚
物は、更なる希釈をすることなく静電噴霧法を用いて使
用することができる。
物は、更なる希釈をすることなく静電噴霧法を用いて使
用することができる。
【0102】本発明による除草剤組成物は、所望であれ
ば、接着剤、保護コロイド、増粘剤、浸透剤、展着剤、
安定剤、金属イオン封鎖剤、固化防止剤、着色剤及び腐
食防止剤のような従来の補助剤も含有することができ
る。これらの補助剤は、キャリヤー又は希釈剤として利
用することもできる。
ば、接着剤、保護コロイド、増粘剤、浸透剤、展着剤、
安定剤、金属イオン封鎖剤、固化防止剤、着色剤及び腐
食防止剤のような従来の補助剤も含有することができ
る。これらの補助剤は、キャリヤー又は希釈剤として利
用することもできる。
【0103】特に断わらない限り以下のパーセンテージ
は、重量によるものである。本発明による好ましい除草
剤組成物は、1種以上の一般式Iの化合物10から70
%、表面活性剤2から10%、増粘剤0.1から5%及
び水15から87.9%から成る水性懸濁濃厚物;1種
以上の一般式Iの化合物10から90%、表面活性剤2
から10%及び固体希釈剤又はキャリヤー8から88%
から成る水和剤(湿潤性粉末);1種以上の一般式Iの
化合物10から90%、炭酸ナトリウム2から40%及
び固体希釈剤0から88%から成る水溶性又は水分散性
散剤;1種以上の一般式Iの化合物5から50%、例え
ば10から30%、表面活性剤0から25%及び水混和
性溶媒、例えばトリエチレングリコール又は水混和性溶
媒と水の混合物10から90%、例えば45から85%
から成る水溶性液体濃厚物;1種以上の一般式Iの化合
物10から70%、表面活性剤5から15%、増粘剤
0.1から5%及び有機溶媒例えば鉱油10から84.
9%から成る乳化性懸濁液体濃厚物;1種以上の一般式
Iの化合物1から90%例えば25から75%、表面活
性剤1から15%例えば2から10%、及び水を加える
ことによりペーストを形成し次いで乾燥した粒状固体希
釈剤例えば粘土5から95%例えば20から60%から
成る水分散性粒剤及び1種以上の一般式Iの化合物0.
05から90%好ましくは1から60%、表面活性剤
0.01から10%好ましくは1から10%及び有機溶
媒9.99から99.94%好ましくは39から98.
99%から成る乳化性濃厚物である。
は、重量によるものである。本発明による好ましい除草
剤組成物は、1種以上の一般式Iの化合物10から70
%、表面活性剤2から10%、増粘剤0.1から5%及
び水15から87.9%から成る水性懸濁濃厚物;1種
以上の一般式Iの化合物10から90%、表面活性剤2
から10%及び固体希釈剤又はキャリヤー8から88%
から成る水和剤(湿潤性粉末);1種以上の一般式Iの
化合物10から90%、炭酸ナトリウム2から40%及
び固体希釈剤0から88%から成る水溶性又は水分散性
散剤;1種以上の一般式Iの化合物5から50%、例え
ば10から30%、表面活性剤0から25%及び水混和
性溶媒、例えばトリエチレングリコール又は水混和性溶
媒と水の混合物10から90%、例えば45から85%
から成る水溶性液体濃厚物;1種以上の一般式Iの化合
物10から70%、表面活性剤5から15%、増粘剤
0.1から5%及び有機溶媒例えば鉱油10から84.
9%から成る乳化性懸濁液体濃厚物;1種以上の一般式
Iの化合物1から90%例えば25から75%、表面活
性剤1から15%例えば2から10%、及び水を加える
ことによりペーストを形成し次いで乾燥した粒状固体希
釈剤例えば粘土5から95%例えば20から60%から
成る水分散性粒剤及び1種以上の一般式Iの化合物0.
05から90%好ましくは1から60%、表面活性剤
0.01から10%好ましくは1から10%及び有機溶
媒9.99から99.94%好ましくは39から98.
99%から成る乳化性濃厚物である。
【0104】本発明による除草剤組成物は、1種以上の
他の農薬として活性な化合物及び、所望であれば、1種
以上の相容性のある農薬として許される希釈剤又はキャ
リヤー、表面活性剤及び前記のような従来の補助薬と組
み合わせて、好ましくはその中に均一に分散させて一般
式Iの化合物を含有することもできる。
他の農薬として活性な化合物及び、所望であれば、1種
以上の相容性のある農薬として許される希釈剤又はキャ
リヤー、表面活性剤及び前記のような従来の補助薬と組
み合わせて、好ましくはその中に均一に分散させて一般
式Iの化合物を含有することもできる。
【0105】本発明の除草剤組成物中に含むことができ
るか又は併用することのできる他の農薬として活性な化
合物の例としては、例えば適用した場合防除する雑草種
の範囲を拡大するための除草剤、例えばアラクロール
[2- クロロ- 2,6′- ジエチル- N- (メトキシ-
メチル)- アセトアニリド]、アトラジン[2- クロロ
- 4- エチルアミノ- 6- イソプロピルアミノ- 1,
3,5- トリアジン]、ブロモキシニル[3,5- ジブ
ロモ- 4- ヒドロキシベンゾニトリル]、クロルトルロ
ン[N′- (3- クロロ- 4- メチルフェニル)- N,
N- ジメチルウレア]、シアナジン[2- クロロ- 4-
(1- シアノ- 1- メチルエチルアミノ)-6- エチル
アミノ- 1,3,5- トリアジン]、2,4- D[2,
4- ジクロロフェノキシ- 酢酸]、ジカンバ[3,6-
ジクロロ- 2- メトキシ安息香酸]、ジフェンゾクァッ
ト[1,2- ジメチル- 3,5- ジフェニル- ピラゾリ
ウム塩]、フラムプロップメチル[メチルN- 2- (N
- ベンゾイル- 3- クロロ- 4- フルオロアニリノ)-
プロピオネート]、フルオメツロン[N′- (3- トリ
フルオロ- メチルフェニル)- N,N- ジメチルウレ
ア]、イソプロツロン[N′- (4- イソプロピルフェ
ニル)- N,N- ジメチルウレア]、殺虫剤、例えば合
成ピレソイド類、例えばペルメスリン(permeth
rin)及びシペルメスリン(cypermethri
n)、及び殺菌剤、例えばカルバメート類、例えばメチ
ルN- (1- ブチル- カルバモイル- ベンズイミダゾー
ル- 2- イル)カルバメート、及びトリアゾール類、例
えば1- (4- クロロ- フェノキシ)- 3,3- ジメチ
ル- 1- (1,2,4- トリアゾール- 1- イル)- ブ
タン-2- オンが挙げられる。
るか又は併用することのできる他の農薬として活性な化
合物の例としては、例えば適用した場合防除する雑草種
の範囲を拡大するための除草剤、例えばアラクロール
[2- クロロ- 2,6′- ジエチル- N- (メトキシ-
メチル)- アセトアニリド]、アトラジン[2- クロロ
- 4- エチルアミノ- 6- イソプロピルアミノ- 1,
3,5- トリアジン]、ブロモキシニル[3,5- ジブ
ロモ- 4- ヒドロキシベンゾニトリル]、クロルトルロ
ン[N′- (3- クロロ- 4- メチルフェニル)- N,
N- ジメチルウレア]、シアナジン[2- クロロ- 4-
(1- シアノ- 1- メチルエチルアミノ)-6- エチル
アミノ- 1,3,5- トリアジン]、2,4- D[2,
4- ジクロロフェノキシ- 酢酸]、ジカンバ[3,6-
ジクロロ- 2- メトキシ安息香酸]、ジフェンゾクァッ
ト[1,2- ジメチル- 3,5- ジフェニル- ピラゾリ
ウム塩]、フラムプロップメチル[メチルN- 2- (N
- ベンゾイル- 3- クロロ- 4- フルオロアニリノ)-
プロピオネート]、フルオメツロン[N′- (3- トリ
フルオロ- メチルフェニル)- N,N- ジメチルウレ
ア]、イソプロツロン[N′- (4- イソプロピルフェ
ニル)- N,N- ジメチルウレア]、殺虫剤、例えば合
成ピレソイド類、例えばペルメスリン(permeth
rin)及びシペルメスリン(cypermethri
n)、及び殺菌剤、例えばカルバメート類、例えばメチ
ルN- (1- ブチル- カルバモイル- ベンズイミダゾー
ル- 2- イル)カルバメート、及びトリアゾール類、例
えば1- (4- クロロ- フェノキシ)- 3,3- ジメチ
ル- 1- (1,2,4- トリアゾール- 1- イル)- ブ
タン-2- オンが挙げられる。
【0106】本発明の除草剤組成物中に含まれるか又は
併用することのできる、農薬として活性な化合物及び他
の生物学的に活性な物質、例えば前述のもの(これらは
酸である)は、所望であれば、従来の誘導体、例えばア
ルカリ金属塩及びアミン塩ならびにエステルの形態で利
用することができる。
併用することのできる、農薬として活性な化合物及び他
の生物学的に活性な物質、例えば前述のもの(これらは
酸である)は、所望であれば、従来の誘導体、例えばア
ルカリ金属塩及びアミン塩ならびにエステルの形態で利
用することができる。
【0107】本発明の別の特徴によると、式Iのピリド
[2,3−d]ピリダジン−5−オン及びピリド[2,
3−d]ピリダジン−5−チオン誘導体の少なくとも1
種又は好ましくは上記除草剤組成物を含む製品が提供さ
れ、好ましくは式Iのピリド[2,3−d]ピリダジン
−5−オン及びピリド[2,3−d]ピリダジン−5−
チオン誘導体の少なくとも1種又は上記除草剤組成物か
らなり、使用前に希釈が必要な除草剤濃厚物を式Iの前
記誘導体に適した容器に収容し、雑草の成長を防除する
ために、容器に収容した式Iの前記誘導体又は除草剤組
成物の使用方法を明記した使用説明を前記容器に物理的
に添付した製品が提供される。容器は一般に、常温で固
体の化学物質及び特に濃厚物形態の除草剤組成物の貯蔵
に慣用的に使用されている型であり、例えば場合により
内側にラッカーを塗った金属及びプラスチック材料の缶
及びドラム、ガラス及びプラスチック材料のびんであ
り、容器の内容物が固体(例えば顆粒)除草剤組成物で
ある場合には、例えば厚紙、プラスチック材料及び金属
の箱又は大型袋である。容器は一般に、雑草の成長を防
除するべく少なくとも1エーカーの土地を処理するため
に十分な量のN置換ピラゾール誘導体又は除草剤組成物
を含有するに十分な容積を有するが、慣用取り扱い方法
に適合する寸法を越えないものとする。使用説明は例え
ば容器に直接印刷するか又はラベルもしくはタッグを張
り付けることにより容器に物理的に添付する。使用説明
は一般に、容器の内容物を必要に応じて希釈後、上記方
法及び目的で活性物質0.01kg〜20kg/haの
施用量で雑草の成長を防除するために施用するように指
示する。
[2,3−d]ピリダジン−5−オン及びピリド[2,
3−d]ピリダジン−5−チオン誘導体の少なくとも1
種又は好ましくは上記除草剤組成物を含む製品が提供さ
れ、好ましくは式Iのピリド[2,3−d]ピリダジン
−5−オン及びピリド[2,3−d]ピリダジン−5−
チオン誘導体の少なくとも1種又は上記除草剤組成物か
らなり、使用前に希釈が必要な除草剤濃厚物を式Iの前
記誘導体に適した容器に収容し、雑草の成長を防除する
ために、容器に収容した式Iの前記誘導体又は除草剤組
成物の使用方法を明記した使用説明を前記容器に物理的
に添付した製品が提供される。容器は一般に、常温で固
体の化学物質及び特に濃厚物形態の除草剤組成物の貯蔵
に慣用的に使用されている型であり、例えば場合により
内側にラッカーを塗った金属及びプラスチック材料の缶
及びドラム、ガラス及びプラスチック材料のびんであ
り、容器の内容物が固体(例えば顆粒)除草剤組成物で
ある場合には、例えば厚紙、プラスチック材料及び金属
の箱又は大型袋である。容器は一般に、雑草の成長を防
除するべく少なくとも1エーカーの土地を処理するため
に十分な量のN置換ピラゾール誘導体又は除草剤組成物
を含有するに十分な容積を有するが、慣用取り扱い方法
に適合する寸法を越えないものとする。使用説明は例え
ば容器に直接印刷するか又はラベルもしくはタッグを張
り付けることにより容器に物理的に添付する。使用説明
は一般に、容器の内容物を必要に応じて希釈後、上記方
法及び目的で活性物質0.01kg〜20kg/haの
施用量で雑草の成長を防除するために施用するように指
示する。
【0108】以下の実施例により、本発明による除草剤
組成物を具体的に説明する:実施例C1 水和剤は、 活性成分(化合物1) 80% w/w ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 3% w/w N- メチル- N- オレイルタウリン酸ナトリウム 2% w/w ポリカルボン酸ナトリウム 1% w/w 微粉末二酸化ケイ素 2% w/w 白土 12% w/w から、上記成分を混合しエアジェットミル内で混合物を
粉砕することにより調製する。
組成物を具体的に説明する:実施例C1 水和剤は、 活性成分(化合物1) 80% w/w ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 3% w/w N- メチル- N- オレイルタウリン酸ナトリウム 2% w/w ポリカルボン酸ナトリウム 1% w/w 微粉末二酸化ケイ素 2% w/w 白土 12% w/w から、上記成分を混合しエアジェットミル内で混合物を
粉砕することにより調製する。
【0109】類似の水和剤は、ピリド[2,3−d]ピ
リダジン−5−オン誘導体(化合物1)を一般式Iの他
の化合物に置き換えることにより上記のように調製する
ことができる。
リダジン−5−オン誘導体(化合物1)を一般式Iの他
の化合物に置き換えることにより上記のように調製する
ことができる。
【0110】実施例C2 懸濁濃厚物は、 活性成分(化合物1) 60% w/v ノニルフェノール 9モル ポリエトキシレート 0.5% w/v 燐酸化トリスチリルフェノール 16モル ポリエトキシレートのトリエタノールアミン塩 1.5% w/v ポリカルボン酸ナトリウム 0.4% w/v 多糖類ゴム 0.1% w/v プロピレングリコール 5% w/v シリコン消泡乳剤 0.01% w/v ジプロピレングリコールに溶解した 1,2- ベンズイソチアゾリン- 3- オン溶液 0.01% w/v 容量100になるように加える水から、すべての成分を
90%容量の水中に高剪断ミキサーを用いて混合し、次
いで水を加えて全容量とした後、水平ビーズミルに通す
ことにより混合物を粉砕することにより調製する。
90%容量の水中に高剪断ミキサーを用いて混合し、次
いで水を加えて全容量とした後、水平ビーズミルに通す
ことにより混合物を粉砕することにより調製する。
【0111】類似の懸濁濃厚物は、ピリド[2,3−
d]ピリダジン−5−オン誘導体(化合物1)を一般式
Iの他の化合物に置き換えることにより上記のように調
製することができる。
d]ピリダジン−5−オン誘導体(化合物1)を一般式
Iの他の化合物に置き換えることにより上記のように調
製することができる。
【0112】実施例C3 粒剤は、 活性成分(化合物1) 5% w/w セピオライト粒子30/60メッシュ 95% w/w から、n- ブタノールに活性成分を溶解し、次いでタン
ブラーミキサー内で粒子を混合しながらセピオライト粒
子上にこの溶液を噴霧した後、n- ブタノールを蒸発さ
せて5%w/wの活性成分を含有する粒子を残すことに
より調製する。
ブラーミキサー内で粒子を混合しながらセピオライト粒
子上にこの溶液を噴霧した後、n- ブタノールを蒸発さ
せて5%w/wの活性成分を含有する粒子を残すことに
より調製する。
【0113】類似の粒剤は、ピリド[2,3−d]ピリ
ダジン−5−オン誘導体(化合物1)を一般式Iの他の
化合物に置き換えることにより上記のように調製するこ
とができる。
ダジン−5−オン誘導体(化合物1)を一般式Iの他の
化合物に置き換えることにより上記のように調製するこ
とができる。
【0114】実施例C4 水分散性粒剤は、 活性成分(化合物1) 75% w/w リグノスルホン酸ナトリウム 10% w/w ジアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 3% w/w 粘土 12% w/w から、上記成分を混合し、次いでエアジェットミル内で
混合物を粉砕した後、水を加えて混練可能なペーストを
形成し、次いでこのペーストを押し出して直径約1ミリ
の細いフィラメントを形成し、押し出し物を約4ミリ長
さに切断した後、流動床乾燥器内でこれらを乾燥するこ
とにより調製する。
混合物を粉砕した後、水を加えて混練可能なペーストを
形成し、次いでこのペーストを押し出して直径約1ミリ
の細いフィラメントを形成し、押し出し物を約4ミリ長
さに切断した後、流動床乾燥器内でこれらを乾燥するこ
とにより調製する。
【0115】類似の水分散性粒剤は、ピリド[2,3−
d]ピリダジン−5−オン誘導体(化合物1)を一般式
Iの他の化合物に置き換えることにより上記のように調
製することができる。
d]ピリダジン−5−オン誘導体(化合物1)を一般式
Iの他の化合物に置き換えることにより上記のように調
製することができる。
【0116】本発明の特徴により、除草剤として効果的
な量の少なくとも1種の一般式(I)のピリド[2,3
−d]ピリダジン−5−オン又はピリダジン−5−チオ
ン誘導体又は農業的に許されるその塩を所定の場所に散
布することから成る、所定場所での雑草(即ち所望しな
い植生)の成長を制御する方法が提供される。この目的
のために、ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン
又はピリダジン−5−チオン誘導体を、例えば以後述べ
るような除草剤組成物(即ち、除草剤組成物の用途に適
した、相容性のある希釈剤又はキャリヤー及び/又は表
面活性剤と組み合せた)の形態で通常用いる。
な量の少なくとも1種の一般式(I)のピリド[2,3
−d]ピリダジン−5−オン又はピリダジン−5−チオ
ン誘導体又は農業的に許されるその塩を所定の場所に散
布することから成る、所定場所での雑草(即ち所望しな
い植生)の成長を制御する方法が提供される。この目的
のために、ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オン
又はピリダジン−5−チオン誘導体を、例えば以後述べ
るような除草剤組成物(即ち、除草剤組成物の用途に適
した、相容性のある希釈剤又はキャリヤー及び/又は表
面活性剤と組み合せた)の形態で通常用いる。
【0117】一般式(I)の化合物は、発芽前及び/又
は発芽後処理により双子葉(即ち広葉性)及び単子葉
(例えばイネ科)雑草に対し除草活性を示す。
は発芽後処理により双子葉(即ち広葉性)及び単子葉
(例えばイネ科)雑草に対し除草活性を示す。
【0118】″発芽前処理″とは、土壌表面上に雑草が
発生する以前に、雑草の種子又は実生の植物が存在する
土壌を処理することを意味する。″発芽後処理″とは、
土壌表面上に発生してしまった雑草の空中又は露出部分
を処理することを意味する。例えば、一般式(I)の化
合物は、広葉性雑草、例えば、イチビ(Abutilo
n theophrasti)、アオビユ(Amara
nthus retroflexus)、コセンダング
サ(Bidens pilosa)、アカザ(Chen
opodium album)、ヤエムグラ(Gali
um aparine)、サツマイモ属植物(Ipom
oea spp.)例えばマルバアサガオ(Ipomo
ea purpurea)、セスバニアイグザルタータ
(Sesbania exaltata)、シナピスア
ーベンシス(Sinapis arvensis)、イ
ヌホオズキ(Solanum nigrum)及びオナ
モミ(Xanthium strumarium)なら
びに、イネ科雑草、例えばスズメノテッポウ(Alop
ecurus myosuroides)、カラスムギ
(Avena fatua)、メヒシバ(Digita
ria sanguinalis)、イヌビエ(Ech
inochloa crus- galli)、オヒシバ
(Eleusine indica)、及びエノコログ
サ属植物(Setaria spp.)例えばアキノエ
ノコログサ(Setaria faberii)又はエ
ノコログサ(Setaria viridis)ならび
に、スゲ類(sedges)例えばカヤツリグサ(Cy
perus esculentus)の成長を制御する
ために用いることができる。
発生する以前に、雑草の種子又は実生の植物が存在する
土壌を処理することを意味する。″発芽後処理″とは、
土壌表面上に発生してしまった雑草の空中又は露出部分
を処理することを意味する。例えば、一般式(I)の化
合物は、広葉性雑草、例えば、イチビ(Abutilo
n theophrasti)、アオビユ(Amara
nthus retroflexus)、コセンダング
サ(Bidens pilosa)、アカザ(Chen
opodium album)、ヤエムグラ(Gali
um aparine)、サツマイモ属植物(Ipom
oea spp.)例えばマルバアサガオ(Ipomo
ea purpurea)、セスバニアイグザルタータ
(Sesbania exaltata)、シナピスア
ーベンシス(Sinapis arvensis)、イ
ヌホオズキ(Solanum nigrum)及びオナ
モミ(Xanthium strumarium)なら
びに、イネ科雑草、例えばスズメノテッポウ(Alop
ecurus myosuroides)、カラスムギ
(Avena fatua)、メヒシバ(Digita
ria sanguinalis)、イヌビエ(Ech
inochloa crus- galli)、オヒシバ
(Eleusine indica)、及びエノコログ
サ属植物(Setaria spp.)例えばアキノエ
ノコログサ(Setaria faberii)又はエ
ノコログサ(Setaria viridis)ならび
に、スゲ類(sedges)例えばカヤツリグサ(Cy
perus esculentus)の成長を制御する
ために用いることができる。
【0119】一般式(I)の化合物の散布量は、雑草の
種類、用いる組成物、散布時期、気候及び土壌条件及び
(作物栽培区域において雑草の成長を制御するために用
いる場合)作物の種類と共に変える。作物栽培区域に散
布する場合、散布率は、作物に実質的永続的被害を与え
ることなく雑草の成長を制御するのに充分であるべきで
ある。一般的に、これらの要因を考慮に入れると、1ヘ
クタール当り0.01kgから5kgの活性物質の散布
率が良好な結果をもたらす。しかしながら、遭遇する特
定の雑草防除問題に依存して、より高い又はより低い散
布率を用いることができることは言うまでもない。
種類、用いる組成物、散布時期、気候及び土壌条件及び
(作物栽培区域において雑草の成長を制御するために用
いる場合)作物の種類と共に変える。作物栽培区域に散
布する場合、散布率は、作物に実質的永続的被害を与え
ることなく雑草の成長を制御するのに充分であるべきで
ある。一般的に、これらの要因を考慮に入れると、1ヘ
クタール当り0.01kgから5kgの活性物質の散布
率が良好な結果をもたらす。しかしながら、遭遇する特
定の雑草防除問題に依存して、より高い又はより低い散
布率を用いることができることは言うまでもない。
【0120】一般式(I)の化合物は、雑草の成長を選
択的に制御するために、例えば、前述のそれらの種の成
長を制御するために、作物、例えば穀類、例えばコム
ギ、オオムギ、カラスムギ、トウモロコシ及びイネ、ダ
イズ、飼料用矮性マメ、エンドウ、ムラサキウマゴヤ
シ、ワタ、ラッカセイ、アマ、タマネギ類、ニンジン
類、キャベツ、アブラナ、ヒマワリ、テンサイを栽培す
るために使用している又は使用しようとする区域にある
雑草がはびこった場所及び永年又は人工草地に作物の種
まき前もしくは後又は作物の発芽前もしくは後に、定方
向(directional)又は非定方向様式で発芽
前又は発芽後処理により、例えば定方向又は非定方向噴
霧により用いることができる。作物、例えば前述の作物
を栽培するために使用している又は使用しようとする区
域にある雑草がはびこった場所で雑草を選択的に防除す
るためには、1ヘクタール当り活性物質0.01kgか
ら4.0kg、好ましくは0.01kgから2.0kg
の散布率が特に適している。
択的に制御するために、例えば、前述のそれらの種の成
長を制御するために、作物、例えば穀類、例えばコム
ギ、オオムギ、カラスムギ、トウモロコシ及びイネ、ダ
イズ、飼料用矮性マメ、エンドウ、ムラサキウマゴヤ
シ、ワタ、ラッカセイ、アマ、タマネギ類、ニンジン
類、キャベツ、アブラナ、ヒマワリ、テンサイを栽培す
るために使用している又は使用しようとする区域にある
雑草がはびこった場所及び永年又は人工草地に作物の種
まき前もしくは後又は作物の発芽前もしくは後に、定方
向(directional)又は非定方向様式で発芽
前又は発芽後処理により、例えば定方向又は非定方向噴
霧により用いることができる。作物、例えば前述の作物
を栽培するために使用している又は使用しようとする区
域にある雑草がはびこった場所で雑草を選択的に防除す
るためには、1ヘクタール当り活性物質0.01kgか
ら4.0kg、好ましくは0.01kgから2.0kg
の散布率が特に適している。
【0121】また、一般式(I)の化合物は、開園した
果樹園及び他の樹木生育区域、例えば森、林及び公園な
らびに農園、例えばサトウキビ園、アブラヤシ園及びゴ
ム園において発芽前又は発芽後処理により、雑草、特に
上記のものの成長を制御するために用いることもでき
る。この目的のためには、1ヘクタール当り活性物質
0.25kgから5.0kg、好ましくは0.5kgか
ら4.0kgの散布率で、樹木又は農園作物の植え付け
前もしくは植え付け後、雑草又はそれらが出現すること
が予期される土壌に定方向又は非定方向様式で(例えば
定方向又は非定方向噴霧により)散布することができ
る。
果樹園及び他の樹木生育区域、例えば森、林及び公園な
らびに農園、例えばサトウキビ園、アブラヤシ園及びゴ
ム園において発芽前又は発芽後処理により、雑草、特に
上記のものの成長を制御するために用いることもでき
る。この目的のためには、1ヘクタール当り活性物質
0.25kgから5.0kg、好ましくは0.5kgか
ら4.0kgの散布率で、樹木又は農園作物の植え付け
前もしくは植え付け後、雑草又はそれらが出現すること
が予期される土壌に定方向又は非定方向様式で(例えば
定方向又は非定方向噴霧により)散布することができ
る。
【0122】また、一般式(I)の化合物は、作物栽培
区域ではないがそれでもなお雑草の防除が望まれる場所
で、雑草、特に上記のものの成長を制御するために用い
ることもできる。
区域ではないがそれでもなお雑草の防除が望まれる場所
で、雑草、特に上記のものの成長を制御するために用い
ることもできる。
【0123】このような作物非栽培区域の例としては、
飛行場、工業地帯、鉄道、道路端、河辺、かんがい及び
他の用水路、雑木地帯及び休閑地又は未墾地、特に火事
の危険を減少させるために雑草の成長を制御することが
望まれる場所が挙げられる。全体的除草効果がしばしば
望まれるこのような目的に用いる場合、活性化合物は、
通常、前述のような作物栽培区域で用いるより高い投与
率で散布する。正確な投与量は、処理する植生の種類及
び求められる効果に依存する。
飛行場、工業地帯、鉄道、道路端、河辺、かんがい及び
他の用水路、雑木地帯及び休閑地又は未墾地、特に火事
の危険を減少させるために雑草の成長を制御することが
望まれる場所が挙げられる。全体的除草効果がしばしば
望まれるこのような目的に用いる場合、活性化合物は、
通常、前述のような作物栽培区域で用いるより高い投与
率で散布する。正確な投与量は、処理する植生の種類及
び求められる効果に依存する。
【0124】1ヘクタール当り活性物質1.0kgから
20.0kg、好ましくは5.0kgから10.0kg
の散布率で、定方向又は非定方向様式での(例えば定方
向又は非定方向噴霧により)発芽前又は発芽後処理、好
ましくは発芽前処理がこの目的に特に合っている。
20.0kg、好ましくは5.0kgから10.0kg
の散布率で、定方向又は非定方向様式での(例えば定方
向又は非定方向噴霧により)発芽前又は発芽後処理、好
ましくは発芽前処理がこの目的に特に合っている。
【0125】発芽前処理により雑草の成長を制御するた
めに用いる場合、雑草の発生が予期される土壌中に一般
式(I)の化合物を取込むことができる。発芽後処理に
より、即ち発生した雑草の空中又は露出部分に散布する
ことにより雑草の成長を制御するために一般式(I)の
化合物を用いる場合、一般式(I)の化合物は、一般
に、土壌とも接触するようになり、次いで土壌中の後か
ら発芽する雑草に対しても発芽前防除を働かせると考え
られる。
めに用いる場合、雑草の発生が予期される土壌中に一般
式(I)の化合物を取込むことができる。発芽後処理に
より、即ち発生した雑草の空中又は露出部分に散布する
ことにより雑草の成長を制御するために一般式(I)の
化合物を用いる場合、一般式(I)の化合物は、一般
に、土壌とも接触するようになり、次いで土壌中の後か
ら発芽する雑草に対しても発芽前防除を働かせると考え
られる。
【0126】特に長期の雑草防除が要求される場合、一
般式(I)の化合物の散布は、必要に応じて繰り返すこ
とができる。
般式(I)の化合物の散布は、必要に応じて繰り返すこ
とができる。
【0127】一般式(I)の代表的化合物を、以下の手
法により除草剤散布に用いた。
法により除草剤散布に用いた。
【0128】除草剤化合物の使用法 a)概略 植物を処理するのに用いる化合物の適切な量をアセトン
に溶解して散布率が1ヘクタール当り試験化合物400
0gまで(g/ha)と等しい溶液を得た。これらの溶
液を、1ヘクタール当り290リットル相当の噴霧液を
供給する標準実験室用除草剤噴霧器により散布した。
に溶解して散布率が1ヘクタール当り試験化合物400
0gまで(g/ha)と等しい溶液を得た。これらの溶
液を、1ヘクタール当り290リットル相当の噴霧液を
供給する標準実験室用除草剤噴霧器により散布した。
【0129】b)雑草防除:発芽前処理 非滅菌土壌を入れた70ミリ平方、75ミリ深さのプラ
スチックのポットに種子をまいた。ポット当りの種子の
量は、以下の通りである:雑草種 種子のおよその数/ポット 1)広葉雑草 イチビ 10 アオビユ 20 ヤエムグラ 10 マルバアサガオ 10 シナピス・アーベンス 15 オナモミ 2 2)イネ科雑草 スズメノテッポウ 15 カラスムギ 10 イヌビエ 15 エノコログサ 20 3)スゲ類 カヤツリグサ 3作 物 1)広葉性 ワタ 3 ダイズ 3 2)イネ科 トウモロコシ 2 イネ 6 コムギ 6 本発明の化合物を、(a)で述べたように種子を含む土
壌表面に散布した。単一のポットの各作物及び各雑草
を、処理するもの、未噴霧の対照及びアセトンのみを噴
霧する対照に割り振りした。
スチックのポットに種子をまいた。ポット当りの種子の
量は、以下の通りである:雑草種 種子のおよその数/ポット 1)広葉雑草 イチビ 10 アオビユ 20 ヤエムグラ 10 マルバアサガオ 10 シナピス・アーベンス 15 オナモミ 2 2)イネ科雑草 スズメノテッポウ 15 カラスムギ 10 イヌビエ 15 エノコログサ 20 3)スゲ類 カヤツリグサ 3作 物 1)広葉性 ワタ 3 ダイズ 3 2)イネ科 トウモロコシ 2 イネ 6 コムギ 6 本発明の化合物を、(a)で述べたように種子を含む土
壌表面に散布した。単一のポットの各作物及び各雑草
を、処理するもの、未噴霧の対照及びアセトンのみを噴
霧する対照に割り振りした。
【0130】処理後、ポットを温室においた毛管マット
上に置き、上部から水やりした。噴霧の20- 24日
後、作物の被害を肉眼により評価した。結果を、対照と
なるポットの植物と比較した作物又は雑草の成長又は被
害における減少パーセンテージとして表した。
上に置き、上部から水やりした。噴霧の20- 24日
後、作物の被害を肉眼により評価した。結果を、対照と
なるポットの植物と比較した作物又は雑草の成長又は被
害における減少パーセンテージとして表した。
【0131】c)雑草防除:発芽後処理 苗の段階で穴に植え付け噴霧の1週間前にポットに移し
たアオビユを除いては、雑草及び作物を75ミリ深さ、
70ミリ平方のポット内のジョンインズ(John I
nnes)ポット用堆肥中に直接まいた。次いで、植物
を処理するのに用いる化合物を噴霧できるようになるま
で植物を温室で育てた。ポット当りの植物の数は、以下
の通りである: 1)広葉雑草 雑草種 ポット当りの植物体の数 成長段階 イチビ 3 1- 2葉 アオビユ 4 1- 2葉 ヤエムグラ 3 第一輪生 マルバアサガオ 3 1- 2葉 シナピス・アーベンシス 4 2葉 オナモミ 1 2- 3葉 2)イネ科雑草 雑草種 ポット当りの植物体の数 成長段階 スズメノテッポウ 8- 12 1- 2葉 カラスムギ 12- 18 1- 2葉 イヌビエ 4 2- 3葉 エノコログサ 15- 25 1- 2葉 3)スゲ類 雑草種 ポット当りの植物体の数 成長段階 カヤツリグサ 3 3葉 1)広葉性 作物 ポット当りの植物体の数 成長段階 ワタ 2 1葉 ダイズ 2 2葉 2)イネ科 作物 ポット当りの植物体の数 成長段階 トウモロコシ 2 2- 3葉 イネ 4 2- 3葉 コムギ 5 2- 3葉 植物を処理するのに用いる化合物を(a)で述べたよう
に植物に散布した。単一のポットの各作物及び雑草種
を、処理するもの、未噴霧の対照及びアセトンのみを噴
霧する対照に割り振りした。
たアオビユを除いては、雑草及び作物を75ミリ深さ、
70ミリ平方のポット内のジョンインズ(John I
nnes)ポット用堆肥中に直接まいた。次いで、植物
を処理するのに用いる化合物を噴霧できるようになるま
で植物を温室で育てた。ポット当りの植物の数は、以下
の通りである: 1)広葉雑草 雑草種 ポット当りの植物体の数 成長段階 イチビ 3 1- 2葉 アオビユ 4 1- 2葉 ヤエムグラ 3 第一輪生 マルバアサガオ 3 1- 2葉 シナピス・アーベンシス 4 2葉 オナモミ 1 2- 3葉 2)イネ科雑草 雑草種 ポット当りの植物体の数 成長段階 スズメノテッポウ 8- 12 1- 2葉 カラスムギ 12- 18 1- 2葉 イヌビエ 4 2- 3葉 エノコログサ 15- 25 1- 2葉 3)スゲ類 雑草種 ポット当りの植物体の数 成長段階 カヤツリグサ 3 3葉 1)広葉性 作物 ポット当りの植物体の数 成長段階 ワタ 2 1葉 ダイズ 2 2葉 2)イネ科 作物 ポット当りの植物体の数 成長段階 トウモロコシ 2 2- 3葉 イネ 4 2- 3葉 コムギ 5 2- 3葉 植物を処理するのに用いる化合物を(a)で述べたよう
に植物に散布した。単一のポットの各作物及び雑草種
を、処理するもの、未噴霧の対照及びアセトンのみを噴
霧する対照に割り振りした。
【0132】処理後、ポットを温室においた毛管マット
上に置き、24時間後1回上部から、次いで制御された
地下かんがいにより水やりした。噴霧の20- 24日
後、作物の被害を肉眼により評価した。結果を、対照と
なるポットの植物体と比較した作物又は雑草の成長又は
被害における減少パーセンテージとして表した。
上に置き、24時間後1回上部から、次いで制御された
地下かんがいにより水やりした。噴霧の20- 24日
後、作物の被害を肉眼により評価した。結果を、対照と
なるポットの植物体と比較した作物又は雑草の成長又は
被害における減少パーセンテージとして表した。
【0133】化合物1から14を、発芽前又は発芽後に
1000g/ヘクタール以下で供した場合、1種以上の
雑草種の成長を少なくとも90%減少させた。
1000g/ヘクタール以下で供した場合、1種以上の
雑草種の成長を少なくとも90%減少させた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 バリー・デイビツド・ジー・ヘイラー イギリス国、エセツクス・シー・エム・ 5・オー・エイチ・ダブリユ、オンガー、 フアイフイールド・ロード、ローヌ−プー ラン・アグリカルチヤー・リミテツド気付 (番地なし) (72)発明者 フイリツプ・ヘンリー・ジー・スミス イギリス国、エセツクス・シー・エム・ 5・オー・エイチ・ダブリユ、オンガー、 フアイフイールド・ロード、ローヌ−プー ラン・アグリカルチヤー・リミテツド、リ サーチ・ステーシヨン気付(番地なし)
Claims (14)
- 【請求項1】 所定の場所における雑草の成長の防除方
法であって、除草剤として有効量の式(I): 【化1】 [式中、R及びR1は同一でも異なってもよく、各々水
素原子;1個以上のハロゲン原子により任意に置換され
た炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル、
アルケニルもしくはアルキニル基;−(−CR3R4)n
−(フェニル)−(R5)q基;−(−CR3R4)nHe
t基;−(CR3R4)n−Ar基(式中、Arは1個以
上のR5基により任意に置換されたフェニル又はピリジ
ルを表し、環の隣接位置上の2個の置換基はこれらの基
が結合している2個の原子と共に、1個以上のヘテロ原
子を任意に含む(任意に不飽和の)脂環式5〜7員環又
は芳香族環を形成し、脂環式又は芳香族環は同一でも異
なってもよい1個以上のR51基により任意に置換され
る)を表し;但しR及びR1基の少なくとも一方は−
(−CR3R4)n−Arを表し;R2はR5基;又は同一
でも異なってもよい1〜5個のR5基により任意に置換
されたフェニルを表し;Xは酸素又は硫黄を表し;mは
0又は1〜3の整数を表し、m>1のとき、R2は同一
でも異なってもよく;R3及びR4は同一でも異なっても
よく、各々水素原子又は1個以上のハロゲン原子により
任意に置換された炭素原子数4個までの直鎖もしくは分
枝鎖アルキル基を表し;R5はハロゲン原子;1個以上
のハロゲン原子により任意に置換された炭素原子数6個
までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル、アルケニルもしく
はアルキニル基;又はシアノ、ニトロ、−CO2R6、−
S(O)pR6、−NR3R4、−COR6、−S(O)pR
7、−CO2R7、−OR7、−CONR3R4、OSO
2R7、−OSO2R8、−OCH2R7、−N(R3)CO
R8、−N(R3)SO2R8、−N(R3)SO2R7、−
SO2NR3R4、−Si(R8)3及び−OR6から選択さ
れる基を表し;nは0、1又は2を表し、nが2である
とき、−(−CR3R4)−基は同一でも異なってもよ
く;qは0又は1〜5の整数を表し、q>1であると
き、R5基は同一でも異なってもよく;R51はR5と同義
であるか又は=O、=Sもしくは−O(−CR61R
62−)r−O−基を表し;Hetは環内に3〜5個の炭
素原子を含み且つ環内に窒素、硫黄及び酸素から選択さ
れる1〜3個のヘテロ原子を含み、同一でも異なっても
よい1個以上のR5基により任意に置換された5又は6
員環複素環を表し;R6は水素原子又は1個以上のハロ
ゲン原子により任意に置換された炭素原子数6個までの
直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表し;pは0、1又は
2を表し;rは1又は2を表し、rが2であるとき、−
(−CR61R62)−基は同一でも異なってもよく;R7
はハロゲン、ニトロ、シアノ、R6及び−OR6から選択
される同一でも異なってもよい1〜5個の基により任意
に置換されたフェニルを表し;R8は1個以上のハロゲ
ン原子により任意に置換された炭素原子6個までの直鎖
又は分枝鎖アルキル基を表し;R61及びR62は同一でも
異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子又は1個
以上のハロゲン原子により任意に置換された炭素原子数
4個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表す]のピ
リド[2,3−d]ピリダジン−5−オンもしくは−5
−チオン誘導体又は農業的に許容可能なその塩を前記場
所に施用することからなる方法。 - 【請求項2】 前記場所が作物を栽培するために使用さ
れるか又は将来使用される区域であり、化合物の施用量
が0.01kg〜4.0kg/haである請求項1に記
載の方法。 - 【請求項3】 前記場所がか穀類の栽培に使用される区
域である請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 Xが酸素であり、mが0であり且つRが
3,4−メチレンジオキシフェニルを表すとき、R1が
水素、フェニル、ベンジル、エチル及び4−ピリジルメ
チルから構成される群から選択されないことを条件とす
る請求項1に記載の式(I)の化合物又は農業的に許容
可能なその塩。 - 【請求項5】 Rが−(−CR3R4)n−Ar基(式
中、Arは1〜3個のR5基により任意に置換されたフ
ェニルを表し、環の2,3又は3,4位の2個の置換基
はこれらの基が結合した2個の原子と共に、酸素、硫黄
及び窒素から選択される1又は2個のヘテロ原子を含む
(任意に不飽和の)5もしくは6員環脂環式環又は芳香
族環を形成し、脂環式又は芳香族環は同一でも異なって
もよい1個以上のR51基により任意に置換される)を表
し;R1が同一でも異なってもよい1〜5個のR5基によ
り任意に置換されたフェニルを表し;R2がハロゲン原
子;1個以上のハロゲン原子により任意に置換された炭
素原子数6個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル、アル
ケニルもしくはアルキニル基;シアノ、ニトロ、−CO
2R6、−S(O)pR6、−NR3R4、−COR6及び−
OR6から選択される基を表し;nが0を表し;R51が
ハロゲン原子;1個以上のハロゲン原子により任意に置
換された炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝鎖アル
キル基;シアノ、ニトロ、−CO2R6、−S(O)
pR6、−NR3R4、−COR6、−S(O)pR7、−C
O2R7、−OR7、-CONR3R4、−OSO2R7及び−OR6
から選択される基を表し;Xが酸素を表す請求項4に記
載の化合物。 - 【請求項6】 mが1であり、R2がピリジル環の3位
を占める請求項4又は5に記載の化合物。 - 【請求項7】 Rが同一でも異なってもよい1又は2個
のR51基により任意に置換されたメチレン基を含む2,
3−メチレンジオキシフェニルを表し;R1が3及び/
又は4位をR5により任意に置換されたフェニルを表
し;R2がハロゲン原子;1個以上のハロゲン原子によ
り任意に置換された炭素原子数4個までの直鎖もしくは
分枝鎖アルキル基;又は−S(O)pR6、−NR3R4及
び−OR6から選択される基を表し;R51がハロゲン原
子;又は1個以上のハロゲン原子により任意に置換され
た炭素原子数4個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基
を表し;R5がハロゲン原子;シアノ基;又は1個以上
のハロゲン原子により任意に置換された炭素原子数4個
までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表し;mが0、
1又は2を表し;Xが酸素を表す請求項4から6のいず
れか一項に記載の化合物。 - 【請求項8】 R及びR1が同一でも異なってもよく、
各々3及び/又は4位をR5により置換されたフェニ
ル;2個のフッ素原子により任意に置換されたメチレン
基を含む2,3−又は3,4−メチレンジオキシフェニ
ルを表し、但し、R及びR1基の少なくとも一方は2個
のフッ素原子により任意に置換されたメチレン基を含む
2,3−又は3,4−メチレンジオキシフェニルであ
り;R2がハロゲン原子を表し;R5がハロゲン原子、ト
リフルオロメチル又はシアノを表し;mが0又は1を表
し;Xが酸素を表す請求項4に記載の化合物。 - 【請求項9】 8−(2,3−ジフルオロメチレンジオ
キシフェニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピリド
[2,3−d]ピリダジン−5−オン;6−(4−クロ
ロフェニル)−8−(2,3−ジフルオロメチレンジオ
キシフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−
オン;8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェ
ニル)−6−(4−トリフルオロメチルフェニル)ピリ
ド[2,3−d]ピリダジン−5−オン;8−(3,4
−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−6−(4−
フルオロフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−
5−オン;6−(4−フルオロフェニル)−8−(2,
3−メチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−d]
ピリダジン−5−オン;6−(3,4−ジフルオロメチ
レンジオキシフェニル)−8−(3−トリフルオロメチ
ルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オ
ン;3−クロロ−8−(2,3−ジフルオロメチレンジ
オキシフェニル)−6−(4−フルオロフェニル)ピリ
ド[2,3−d]ピリダジン−5−オン;3−クロロ−
8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)
−6−(4−トリフルオロメチルフェニル)ピリド
[2,3−d]ピリダジン−5−オン;6−(3−シア
ノ−4−フルオロフェニル)−8−(2,3−ジフルオ
ロメチレンジオキシフェニル)ピリド[2,3−d]ピ
リダジン−5−オン;8−(2,3−ジフルオロメチレ
ンジオキシフェニル)−6−(4−フルオロ−3−トリ
フルオロメチルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダ
ジン−5−オン;6−(4−シアノフェニル)−8−
(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)ピリ
ド[2,3−d]ピリダジン−5−オン;8−(2,3
−ジフルオロメチレンジオキシフェニル)−6−(3,
4−ジフルオロフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダ
ジン−5−オン;8−(2,3−ジフルオロメチレンジ
オキシフェニル)−3−フルオロ−6−(4−フルオロ
フェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5−オ
ン;もしくは8−(2,3−ジフルオロメチレンジオキ
シフェニル)−3−フルオロ−6−(4−トリフルオロ
メチルフェニル)ピリド[2,3−d]ピリダジン−5
−オンである請求項4に記載の化合物又は農業的に許容
可能なその塩。 - 【請求項10】 1種以上の相容性のある農業的に許容
可能な希釈剤又はキャリヤーと共に、除草剤として有効
量の請求項4から9のいずれか一項に記載の式(I)の
化合物又は農業的に許容可能なその塩を活性成分として
含有する、除草剤用として適切な組成物。 - 【請求項11】 約0.05〜約95重量%の活性成分
と約0.05〜約25重量%の界面活性剤を含有する請
求項10に記載の組成物。 - 【請求項12】 水性懸濁濃厚物、湿潤性粉末、可溶性
粉末、液体水溶性濃厚物、液体乳化性懸濁濃厚物、顆粒
又は乳化性濃厚物の形態の請求項10又は11に記載の
組成物。 - 【請求項13】 (a)式II: 【化2】 (式中、R、R2及びmは請求項1に定義したと同義で
あり、Lは離脱基である)の化合物を式III: R1−NHNH2 (III) (式中、R1は請求項1に定義したと同義である)のヒ
ドラジン又はその塩と反応させ、(b)Xが酸素を表す
場合には、式(IIa): 【化3】 (式中、R、R1、R2及びmは請求項1に定義したと同
義であり、Lは上記と同義である)の化合物を環化し、
(c)Xが硫黄である場合には、Xが酸素を表す式Iの
対応する化合物をチオ化試薬と反応させてカルボニル基
をチオカルボニル基に変換し、その後、こうして得られ
た式Iの化合物を農業的に許容可能なその塩に任意に変
換することからなる請求項1に記載の式Iの化合物の製
造方法。 - 【請求項14】 前記化合物が式(II): 【化4】 又は式(IIa): 【化5】 (式中、R、R1、R2及びmは請求項1に定義したと同
義であり、Lは−OH、炭素原子数4個までの直鎖もし
くは分枝鎖アルコキシ、又はハロゲンを表す)で表され
る請求項1に記載の式Iの化合物の製造における中間体
として有用な化合物。
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CN94108590.2A CN1100262A (zh) | 1993-07-13 | 1994-07-17 | 新型除草剂 |
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