JP3309986B2 - 新規除草剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の属する技術分野 本発明は新規４−ベンゾイルイソオキサゾール誘導
体、該誘導体を含有する組成物、その製造方法、その製
造における中間体及び除草剤としてのその使用に関す
る。

背景技術 除草特性を有する４−ベンゾイルイソオキサゾールは
ヨーロッパ特許第0418175号及び0487357号明細書に記載
されている。各明細書は部分的に本発明の化合物を属的
に開示している。しかしながら、本発明の範囲に該当
し、従って、これらの明細書の範囲内から（部分的に）
新規選択される化合物種はどちらの明細書にも開示され
ていない。

発明の説明 本発明は、有益な除草特性を有する式（Ｉ）： ［式中、 Ｒは水素原子又は−CO₂R⁵基を表し； R¹は炭素原子数３個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキ
ル基、シクロプロピル又は１−メチルシクロプロピルを
表し； R²は塩素もしくは臭素原子;1個以上のハロゲン原子も
しくは１個以上の−OR⁵¹基により任意に置換された炭素
原子数４個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基;1個以
上のハロゲン原子により任意に置換された炭素原子数４
個までの直鎖もしくは分枝鎖アルコキシ基；又は−Ｓ
（Ｏ）_pR⁶¹、ニトロ及びシアノから選択される基を表
し； R³は−Ｓ（Ｏ）_nR⁶基を表し； R⁴は水素、フッ素、塩素もしくは臭素原子;1個以上の
ハロゲン原子もしくは１個以上の−OR⁵¹基により任意に
置換された炭素原子数４個までの直鎖もしくは分枝鎖ア
ルキル基；又は−（Ｓ）O_qR⁶¹、ニトロ、シアノ及び−C
O₂R⁵²から選択される基を表し； R⁵及びR⁶¹は同一でも異なってもよく、各々１個以上
のハロゲン原子により任意に置換された炭素原子数６個
までの直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し； R⁵¹は１個以上のハロゲン原子により任意に置換され
た炭素原子数４個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基を表
し； R⁵²は炭素原子数４個までの直鎖又は分枝鎖アルキル
基を表し； R⁶は１個以上のハロゲン原子により任意に置換された
炭素原子数６個までの直鎖又は分枝鎖アルキル、アルケ
ニル又はアルキニル基を表し； ｎ、ｐ及びｑは同一でも異なってもよく、各々０、１
又は２を表し； 但しR²が−Ｓ（Ｏ）_pR⁶¹を表すとき、ｎ及びｐの一方
は０を表す］ の４−ベンゾイルイソオキサゾール誘導体を提供する。

更に、場合によりＲ、R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁵¹、
R⁵²、R⁶及びR⁶¹基の選択次第で光学異性体が形成される
場合もある。本発明はこのような全形態を包含する。

本発明の化合物はその活性の所定の側面、例えばエノ
コログサ属（Setaria viridis及びSetaria faberi
i）、イヌビエ（Echinochloa crus−galli）、カラス
ムギ属（Avena fatua）及びblackgrass（Alopercurus
myosuroides）を含む主要雑草の防除や、所定の主要
作物におけるその選択性において公知化合物に優る利点
を示す。

発明の詳細な説明 式（Ｉ）の化合物の１好適類は、 R²が塩素もしくは臭素原子;1個以上のハロゲン原子に
より任意に置換された炭素原子数４個までの直鎖もしく
は分枝鎖アルキル基;1個以上のハロゲン原子により任意
に置換された炭素原子数４個までの直鎖もしくは分枝鎖
アルコキシ基；又は−Ｓ（Ｏ）_pR⁶¹基を表し； R⁴が水素、フッ素、塩素もしくは臭素原子;1個以上の
ハロゲン原子により任意に置換された炭素原子数４個ま
での直鎖もしくは分枝鎖アルキル基;1個以上のハロゲン
原子により任意に置換された炭素原子数４個までの直鎖
もしくは分枝鎖アルコキシ基；又は−Ｓ（Ｏ）_qR⁶¹基を
表し； R⁶¹が炭素原子数４個までの直鎖又は分枝鎖アルキル
基を表し； R⁵が炭素原子数６個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基
を表し； R⁵²がメチル又はエチル基を表し； R⁶が炭素原子数４個までの直鎖又は分枝鎖アルキル、
アルケニル又はアルキニル基を表し； R²が−Ｓ（Ｏ）_pR⁶¹を表すとき、R⁴が−Ｓ（Ｏ）_qR⁶¹
以外の基を表す 化合物である。

式（Ｉ）の化合物の別の好適類は、 R¹がシクロプロピル基を表し； R²が塩素もしくは臭素原子;1個以上のハロゲン原子に
より任意に置換された炭素原子数１もしくは２個のアル
キル基;1個以上のハロゲン原子により任意に置換された
炭素原子数１もしくは２個のアルコキシ基；又は−Ｓ
（Ｏ）_pR⁶¹基を表し； R⁴がフッ素、塩素もしくは臭素原子;1個以上のハロゲ
ン原子により任意に置換された炭素原子数１もしくは２
個のアルキル基;1個以上のハロゲン原子により任意に置
換された炭素原子数１もしくは２個のアルコキシ基；又
は−Ｓ（Ｏ）_qR⁶¹基を表し； R⁶¹がメチル又はエチル基を表し； R⁵が炭素原子数６個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基
を表し； R⁵¹がメチル又はエチル基を表し； R⁵²がメチル又はエチル基を表し； R⁶がメチル又はエチル基を表し； R²が−Ｓ（Ｏ）_pR⁶¹を表すとき、R⁴が−Ｓ（Ｏ）_qR⁶¹
以外の基を表す 化合物である。

式（Ｉ）の特に重要な化合物を以下に挙げる。

1. ４−［2,3−ビス（メチルスルフェニル）−４−ク
ロロベンゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾー
ル； 2. ４−［４−クロロ−３−（メチルスルフェニル）−
２−（メチルスルホニル）ベンゾイル］−５−シクロプ
ロピルイソオキサゾール； 3. ５−シクロプロピル−４−［2,4−ジクロロ−３−
（メチルスルホニル）ベンゾイル］イソオキサゾール； 4. ５−シクロプロピル−４−［3,4−ビス（メチルス
ルフェニル）−２−トリフルオロメチルベンゾイル］イ
ソオキサゾール； 5. ５−シクロプロピル−４−［３−（メチルスルフェ
ニル）−４−（メチルスルホニル）−２−トリフルオロ
メチルベンゾイル］イソオキサゾール； 6. ５−シクロプロピル−４−［3,4−ビス（メチルス
ルホニル）−２−トリフルオロメチルベンゾイル］イソ
オキサゾール； 7. ４−［４−クロロ−３−（メチルスルフェニル）−
２−トリフルオロメチルベンゾイル］−５−シクロプロ
ピルイソオキサゾール； 8. ４−［４−クロロ−２−（メチルスルホニル）−３
−（プロプ−２−エニルスルフェニル）ベンゾイル］−
５−シクロプロピルイソオキサゾール； 9. ４−［４−ブロモ−３−（メチルスルフェニル）−
２−（メチルスルホニル）ベンゾイル］−５−シクロプ
ロピルイソオキサゾール； 10. ４−［2,3−ビス（メチルスルフェニル）−４−ブ
ロモベンゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾー
ル； 11. ４−［４−クロロ−３−（メチルスルホニル）−
２−トリフルオロメチルベンゾイル］−５−シクロプロ
ピルイソオキサゾール； 12. ４−［４−クロロ−３−（メチルスルフィニル）
−２−トリフルオロメチルベンゾイル］−５−シクロプ
ロピルイソオキサゾール； 13. ５−シクロプロピル−４−［２−メチル−３−
（メチルスルフェニル）−４−（メチルスルホニル）ベ
ンゾイル］イソオキサゾール； 14. ４−［3,4−ビス（メチルスルホニル）−２−メチ
ルベンゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾー
ル； 15. ５−シクロプロピル−４−［２−メチル−３−
（メチルスルフィニル）−４−（メチルスルホニル）ベ
ンゾイル］イソオキサゾール； 16. ４−［2,3−ビス（メチルスルフェニル）−４−ク
ロロベンゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾー
ル−３−カルボン酸エチル； 17. ４−［４−クロロ−３−（エチルスルフェニル）
−２−（メチルスルフェニル）ベンゾイル］−５−シク
ロプロピルイソオキサゾール； 18. ４−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルフェ
ニル）−２−メトキシベンゾイル］−５−シクロプロピ
ルイソオキサゾール； 19. ４−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルフィ
ニル）−２−メトキシベンゾイル］−５−シクロプロピ
ルイソオキサゾール； 20. ４−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルホニ
ル）−２−メトキシベンゾイル］−５−シクロプロピル
イソオキサゾール； 21. ４−［４−クロロ−２−（メチルスルフェニル）
−３−（プロピルスルフェニル）ベンゾイル］−５−シ
クロプロピルイソオキサゾール； 22. ４−［４−クロロ−３−（１−メチルエチルスル
フェニル）−２−（メチルスルフェニル）ベンゾイル］
−５−シクロプロピルイソオキサゾール。

これらの化合物を以下に引用する際には番号１〜22で
指定する。

式（Ｉ）の化合物は例えば以下に記載するような公知
方法（即ち従来使用されているか又は文献中に記載され
ている方法）を適用又は応用することにより製造するこ
とができる。

以下の説明において式中の符号を特に定義しない場合
には、明細書中の各符号の最初の定義に従って「上記と
同義」であると理解されたい。

以下の製法の説明において工程は順序を変えて実施し
てもよく、所望の化合物に達するために適切な保護基が
必要な場合もあると理解されたい。

本発明の１特徴によると、Ｒが水素を表す式（Ｉ）の
化合物は、式（II）： （式中、Ｌは離脱基であり、R¹、R²、R³及びR⁴は上記と
同義である）の化合物をヒドロキシルアミン又はヒドロ
キシルアミンの塩と反応させることにより製造すること
ができる。ヒドロキシルアミン塩酸塩が一般に好適であ
る。一般にＬはアルコキシ（例えばエトキシ）、又はN,
N−ジアルキルアミノ（例えばN,N−ジメチルアミノ）で
ある。反応は一般に、０〜100℃の温度で塩基又は酸受
容体（例えばトリエチルアミン又は酢酸ナトリウム）の
任意存在下で有機溶媒（例えばエタノール又はアセトニ
トリル）中、又は好ましくは1:99〜99:1の有機溶媒：水
比の水混和性有機溶媒と水の混合物中で実施する。

本発明の別の特徴によると、Ｒが水素を表す式（Ｉ）
の化合物は、式（III）： ［式中、R¹は上記と同義であり、Ｙはカルボキシ基又は
その反応性誘導体（例えばカルボン酸塩化物又はカルボ
ン酸エステル）、又はシアノ基を表す］の化合物をグリ
ニャール試薬又はオルガノリチウム試薬等の適当な有機
金属試薬と反応させることにより製造することができ
る。反応は一般に、０℃〜混合物の還流温度でエーテル
又はテトラヒドロフラン等の不活性溶媒中で実施され
る。

本発明の別の特徴によると、Ｒが−CO₂R⁵基を表し、
ｎが０又は２を表し、R²がR²¹を表し、R²¹はｐが０又は
２であるという条件下でR²と同義であり、R⁴がR⁴¹基を
表し、R⁴¹はｐが０又は２であるという条件下でR⁴と同
義である式（Ｉ）の化合物物は、式（IV）： （式中、R¹、R²¹、R³及びR⁴¹は上記と同義であり、ｎは
０又は２であり、ＰはN,N−ジアルキルアミノ等の離脱
基である）の化合物を式:R⁵O₂CC（Ｚ）＝NOH（式中、R⁵
は上記と同義であり、Ｚはハロゲン原子である）の化合
物と反応させることにより製造することができる。一般
に、Ｚは塩素又は臭素である。反応は一般に、塩素（例
えばトリエチルアミン）又は触媒（例えば４Å分子篩又
はフッ素イオン）の存在下で不活性溶媒（例えばトルエ
ン又はジクロロメタン）中で実施される。

本発明の別の特徴によると、Ｒが−CO₂R⁴基を表し、
ｎが０又は２であり、R²が上記R²¹を表し、R⁴が上記R⁴¹
を表す式（Ｉ）の化合物は、式（Ｖ）： （式中、R¹、R²¹、R³及びR⁴¹は上記と同義であり、ｎは
０又は２である）の化合物を式:R⁵O₂CC（Ｚ）＝NOH（式
中、Ｚ及びR⁵は上記と同義である）の化合物と反応させ
ることにより製造することができる。反応は一般に、塩
素（例えばトリエチルアミン）又は触媒（例えば４Å分
子篩又はフッ素イオン）の任意存在下で不活性溶媒（例
えばトルエン又はジクロロメタン）中で実施される。反
応は室温〜混合物の還流温度で実施することができる。

本発明の別の特徴によると、Ｒが−CO₂R⁵基を表し、
ｎが０又は２であり、R²が上記R²¹を表し、R⁴が上記R⁴¹
を表す式（Ｉ）の化合物は、式（VI）： （式中、R¹、R²¹、R³及びR⁴¹は上記と同義であり、ｎは
０又は２である）の化合物の塩を式:R⁵O₂CC（Ｚ）＝NOH
（式中、R⁵及びＺは上記と同義である）の化合物と反応
させることにより製造することができる。好適塩として
は、ナトリウム又はマグネシウム塩を挙げることができ
る。反応は不活性溶媒（例えばジクロロメタン又はアセ
トニトリル）中で室温〜混合物の還流温度で実施するこ
とができる。

式（Ｉ）の化合物の製造における中間体は公知方法の
適用又は応用により製造することができる。

式（II）の化合物は、式（VI）の化合物をオルトギ酸
トリアルキル（例えばオルトギ酸トリエチル）又はジメ
チルホルムアミドジアルキルアセタール（例えばジメチ
ルホルムアミドジメチルアセタール）と反応させること
により製造することができる。

オルトギ酸トリエチルとの反応は、混合物の還流温度
で無水酢酸の存在下で実施することができ、ジメチルホ
ルムアミドジアルキルアセタールとの反応は室温〜混合
物の還流温度で不活性溶媒の任意存在下で実施する。

式（IV）の化合物は、式（VII）の化合物を式（VII
I）： （式中、R¹、R²¹、R³、R⁴¹及びＰは上記と同義であり、
ｎは０又は２である）の塩化ベンゾイルと反応させるこ
とにより製造することができる。反応は一般に−20℃〜
室温までの温度でトルエン又はジクロロメタン等の不活
性溶媒中でトリエチルアミン等の有機塩基の存在下で実
施される。

式（Ｖ）の化合物は、式（IX）： R¹C≡CH （IX） （式中、R¹は上記と同義である）のアセチレンの金属化
後、こうして得られた金属塩を式（VIII）の塩化ベンゾ
イルと反応させることにより製造することができる。金
属化は一般に、−78℃〜０℃で不活性溶媒（例えばエー
テル又はテトラヒドロフラン）中でｎ−ブチルリチウム
を使用して実施する。その後の塩化ベンゾイルとの反応
は、−78℃〜室温で同一溶媒中で実施する。

式（VI）の化合物を製造するには、式（VIII）の酸塩
化物を式（Ｘ）： （式中、R¹は上記と同義である）の化合物の金属塩と反
応させ、式（XI）： （式中、R¹、R²¹、R³及びR⁴¹は上記と同義であり、ｎは
０又は２である）の化合物を得た後、該化合物を脱カル
ボキシル化して式（VI）の化合物を得る。式（Ｘ）の化
合物の金属塩を製造するための反応は一般に溶媒（例え
ば低級アルコール、好ましくはメタノール）中で実施す
る。好ましくは金属はマグネシウムである。次いで式
（Ｘ）の化合物の金属塩をトルエン又はアセトニトリル
等の不活性溶媒中で式（VIII）の酸塩化物と反応させ
る。脱カルボキシル化は一般に、不活性溶媒（例えばト
ルエン）中で触媒（例えばパラトルエンスルホン酸）の
存在下で式（XI）の化合物を還流させることにより実施
される。

式（VIII）の酸塩化物は、混合物の還流温度で式（XI
I）： （式中、R²¹、R³及びR⁴¹は上記と同義であり、ｎは０又
は２である）の安息香酸を塩素化剤（例えば塩化チオニ
ル）と反応させることにより製造することができる。

式（III）、（VII）、（IX）、（Ｘ）及び（XII）の
中間体は公知であるし、公知方法の適用又は応用により
製造することもできる。

式（Ｉ）のある種の化合物が式（Ｉ）の他の化合物の
相互変換により製造することができ、このような相互変
換も本発明の更に別の特徴を構成することは当業者に理
解されよう。このような相互変換の例を以下に記載す
る。

本発明の別の特徴によると、ｐが１又は２であり、及
び／又はｑが１又は２である化合物は、ｐ及び／又はｑ
が０又は１である対応する化合物の硫黄原子の酸化によ
り製造することができる。硫黄原子の酸化は、一般に−
40℃〜室温でジクロロメタン等の不活性溶媒中で例えば
３−クロロペルオキシ安息香酸を使用して実施される。

以下の実施例は式（Ｉ）の化合物の製造を説明するも
のであり、参考例は本発明の中間体の製造を説明するも
のである。本明細書中、b.p.は沸点を意味し、m.p.は融
点を意味し、cPrはシクロプロピルを意味する。

実施例１ エタノール中の１−［2,3−ビス（メチルスルフェニ
ル）−４−クロロフェニル］−３−シクロプロピル−２
−エトキシメチレンプロパン−1,3−ジオン（4.1g）及
び塩酸ヒドロキシルアミン（1.11g）の混合物に酢酸ナ
トリウム（1.31g）を加え、混合物を室温で一晩撹拌し
た。混合物を水に注ぎ、形成された固体を濾取し、エタ
ノールを加えて粉砕し、濾過し、４−［2,3−ビス（メ
チルスルフェニル）−４−クロロベンゾイル］−５−シ
クロプロピルイソオキサゾール（化合物１、2.48g）を
オフホワイト固体として得た。m.p.130.5−131.5℃。

同様に操作することにより、適切に置換した出発材料
から式（Ｉ）の以下の化合物を調製した。

実施例２ 酢酸及び無水酢酸の混合物中の４−［3,4−ビス（メ
チルスルフェニル）−２−トリフルオロメチルベンゾイ
ル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール（1.0g）の
溶液に過酸化水素（30％、1.3ml）を加え、混合物を撹
拌下で70℃に１時間加熱した。更に無水酢酸及び過酸化
水素（2.0ml）を加え、混合物を70℃に３時間加熱し
た。混合物を冷却して水に注いだ。固体を濾取し、重亜
硫酸ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、４−［3,4−ビ
ス（メチルスルホニル）−２−トリフルオロメチルベン
ゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール（化合
物６、0.85g）を白色固体として得た。m.p.222−223
℃。

同様に操作することにより、適切に置換した出発材料
５−シクロプロピル−４−［２−メチル−３−（メチル
スルフェニル）−４−（メチルスルホニル）ベンゾイ
ル］イソオキサゾールから化合物４−［3,4−ビス（メ
チルスルホニル）−２−メチルベンゾイル］−５−シク
ロプロピルイソオキサゾール（化合物14）を調製した。
m.p.191−193℃。

実施例３ ４−［４−クロロ−３−（メチルスルフェニル）−２
−トリフルオロメチルベンゾイル］−５−シクロプロピ
ルイソオキサゾール（1.5g）のジクロロメタン溶液を撹
拌下で０℃に冷却した中に、３−クロロペルオキシ安息
香酸（50％、2.7g）を加えた。混合物を０℃で１時間、
室温で一晩撹拌した。混合物をメタ重亜硫酸ナトリウム
水溶液で洗浄した後、重炭酸ナトリウム水溶液及び水で
迅速に洗浄し、脱水（Na₂SO₄）及び濾過した。濾液を蒸
発乾涸させ、残渣をクロマトグラフィーにより主２成分
に分離し、白色固体として４−［４−クロロ−３−（メ
チルスルホニル）−２−トリフルオロメチルベンゾイ
ル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール（化合物1
1、0.86g、m.p.139.5−141℃）及び白色固体として４−
［４−クロロ−３−（メチルスルフィニル）−２−トリ
フルオロメチルベンゾイル］−５−シクロプロピルイソ
オキサゾール（化合物12、0.28g、m.p.122−124℃）を
得た。

同様に操作することにより適切に置換した出発材料か
ら以下の化合物を調製した。

５−シクロプロピル−４−［２−メチル−３−（メチ
ルスルフェニル）−４−（メチルスルホニル）ベンゾイ
ル］イソオキサゾールから５−シクロプロピル−４−
［２−メチル−３−（メチルスルフィニル）−４−（メ
チルスルホニル）ベンゾイル］イソオキサゾール（化合
物15）。m.p.153−154.5℃。

４−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルフェニ
ル）−２−メトキシベンゾイル］−５−シクロプロピル
イソオキサゾールから透明ガムとして４−［４−クロロ
−３−（クロロメチルスルフィニル）−２−メトキシベ
ンゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール（化
合物19）。NMR（CDCl₃）1.2−1.4（m,4H）,3.9（s,3
H）,4.9（d,1H）,5.2（d,1H）,7.4（d,1H）,7.6（d,1
H）,8.2（s,1H）。

４−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルフェニ
ル）−２−メトキシベンゾイル］−５−シクロプロピル
イソオキサゾールから白色固体として４−［４−クロロ
−３−（クロロメチルスルホニル）−２−メトキシベン
ゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール（化合
物20）。m.p.118.9−119.8℃。

実施例４ マグネシウム（0.27g）と四塩化炭素（0.1ml）を含有
するメタノールの混合物を還流温度に30分間加熱した。
混合物を冷却し、１−［2,3−ビス（メチルスルフェニ
ル）−４−クロロフェニル］−３−シクロプロピルプロ
パン−1,3−ジオン（3.4g）を加えた。得られた混合物
を撹拌下で還流温度に２時間加熱した。混合物を冷却
し、蒸発乾涸させた。残渣をジクロロメタンに溶解し、
クロロオキシミド酢酸エチル（1.82g）のジクロロメタ
ン溶液を加えた。混合物を室温で一晩撹拌した。塩酸
（2M）を加え、混合物を30分間撹拌した。層を分離し、
有機相を水洗、脱水（Na₂SO₄）及び濾過した。濾液を蒸
発乾涸させ、酢酸エチルとヘキサンの混合物（1:9）を
溶離剤として残渣をクロマトグラフィー精製し、４−
［2,3−ビス（メチルスルフェニル）−４−クロロベン
ゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール−３−
カルボン酸エチル（化合物16、3.02g）をオレンジ色油
状物として得た。NMR（CDCl₃）1.1（m,2H）,1.15（t,3
H）,1.3（m,2H）,2.25（m,1H）,2.35（s,3H）,2.4（s,3
H）,4.1（q,2H）,7.2（d,1H）,7.45（d,1H）。

実施例５ １−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルフェニ
ル）−２−メトキシフェニル］−３−シクロプロピル−
２−エトキシメチレンプロパン−1,3−ジオン及び１−
［４−クロロ−２−メトキシ−３−（メチルスルフェニ
ル）フェニル］−３−シクロプロピル−２−エトキシメ
チレンプロパン−1,3−ジオン（約1:2、25.1g）の粗混
合物をエタノールに溶解し、塩酸ヒドロキシルアミン
（6.03g）、次いで酢酸ナトリウム（5.25g）を加えた。
混合物を室温で一晩撹拌した後、蒸発乾涸させた。残渣
を酢酸エチルに溶解し、水洗、脱水（MgSO₄）及び濾過
した。濾液を蒸発乾涸させ、４−［４−クロロ−３−
（クロロメチルスルフェニル）−２−メトキシベンゾイ
ル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール及び４−
［４−クロロ−２−メトキシ−３−（メチルスルフェニ
ル）ベンゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾー
ルの粗混合物を得、酢酸エチルとヘキサンの混合物（1:
20）を溶離剤としてカラムクロマトグラフィー精製し、
生成物４−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルフェ
ニル）−２−メトキシベンゾイル］−５−シクロプロピ
ルイソオキサゾール（化合物18、4.01g）のみを純粋状
態で単離した。m.p.70−71.6℃。NMR（CDCl₃）1.2−1.4
（m,4H）,2.65−2.8（m,1H）,3.8（s,3H）,5.05（s,2
H）,7.4（s,2H）,8.25（s,1H）。

参考例１ 酢酸中の１−［2,3−ビス（メチルスルフェニル）−
４−クロロフェニル］−３−シクロプロピルプロパン−
1,3−ジオン（3.45g）と無水酢酸（3.37g）の混合物を
撹拌下で還流温度に３時間加熱した。混合物を冷却し、
蒸発乾涸させた。残渣をトルエンに溶解し、再蒸発さ
せ、１−［2,3−ビス（メチルスルフェニル）−４−ク
ロロフェニル］−３−シクロプロピル−２−エトキシメ
チレンプロパン−1,3−ジオン（4.1g）を茶色油状物と
して得、それ以上精製しなかった。

同様に操作することにより、適切に置換した出発材料
から下記化合物を調製した。

参考例２ マグネシウム（0.44g）と四塩化炭素（0.1ml）を含有
するメタノールの混合物を還流温度に30分間加熱した。
３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸ｔ−ブチ
ル（3.0g）を滴下し、得られた懸濁液を還流温度に１時
間加熱した。懸濁液を冷却し、蒸発乾涸させた。トルエ
ンを加え、混合物を再蒸発乾涸させた。残渣をトルエン
に溶解し、2,3−ビス（メチルスルフェニル）−４−ク
ロロベンゾイルクロリド（4.35g）を加えた。混合物を
室温で一晩撹拌した。塩酸（2M）を加え、混合物を30分
間撹拌した。層を分離し、有機層を水洗し、Dean ＆
Stark装置を使用して水を共沸除去することにより脱水
した。４−トルエンスルホン酸（0.1g）を加え、混合物
を還流温度に２時間加熱した。混合物を冷却し、水洗、
脱水（Na₂SO₄）及び濾過した。濾液を蒸発乾涸させ、酢
酸エチルとｎ−ヘキサンの混合物を溶離剤として残渣を
クロマトグラフィー精製し、１−［2,3−ビス（メチル
スルフェニル）−４−クロロフェニル］−３−シクロプ
ロピルプロパン−1,3−ジオン（3.45g）をオレンジ色油
状物として得た。NMR（CDCl₃）0.9−1.1（m,2H）,1.2−
1.3（m,2H）,1.7−1.8（m,1H）,2.45（s,3H）,2.48（s,
3H）,6.0（s,1H）,7.3（d,1H）,7.45（d,1H）,15.6−1
6.0（bs,1H）。

同様に操作することにより適切に置換した出発材料か
ら上記式（VI）の下記化合物を調製した。

対応する安息香酸を塩化チオニルで処理し、還流温度
に４時間加熱することにより塩化ベンゾイルを調製し
た。蒸発、トルエン処理及び再蒸発により過剰の塩化チ
オニルを除去した。残留塩化ベンゾイルをそれ以上精製
せずに使用した。

参考例３ 水酸化リチウム・１水和物（4.95g）をメチルメルカ
プタン（4.4g）のN,N−ジメチルホルムアミド溶液に加
え、得られた混合物に４−クロロ−３−フルオロ−２−
（メチルスルフェニル）安息香酸（5.5g）を加えた。混
合物を室温で１時間撹拌し、80℃に一晩加熱した。混合
物を冷却し、水に注ぎ、エーテルで抽出し、水洗、脱水
（Na₂SO₄）及び濾過した。濾液を蒸発乾涸させ、酢酸、
エーテル及びヘキサンの混合物（1:10:89）を溶離剤と
してカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製し、2,
3−ビス（メチルスルフェニル）−４−クロロ安息香酸
（3.24g）をオフホワイト固体として得た。m.p.130−13
1℃。

同様に操作することにより、適切に置換した出発材料
から以下の化合物を調製した。

3,4−ビス（メチルスルフェニル）−２−トリフルオ
ロメチル安息香酸。NMR（CDCl₃）2.35（s,3H）,2.4（s,
3H）,4.7−5.4（bs,1H）,7.2（d,1H）,7.5（d,1H）。

2,3−ビス（メチルスルフェニル）−４−ブロモ安息
香酸。m.p.99−101℃。

４−クロロ−３−（エチルスルフェニル）−２−（メ
チルスルフェニル）安息香酸。NMR（CDCl₃）1.25（t,3
H）,2.55（s,3H）,3.0（q,2H）,7.55（d,1H）,7.9（d,1
H）。

４−クロロ−２−（メチルスルフェニル）−３−（プ
ロモピルスルフェニル）安息香酸。m.p.92−３℃。

４−クロロ−３−（１−メチルエチルスルフェニル）
−２−（メチルスルフェニル）安息香酸。NMR（CDCl₃）
1.3（d,6H）,2.55（s,3H）,3.65（m,1H）,7.55（d,1
H）,7.9（d,1H）。

参考例４ 温度を−40℃未満に維持しながら、テトラヒドロフラ
ン中の４−クロロ−３−フルオロ安息香酸（37.5g）の
撹拌冷却溶液にｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中2.5M、
180ml）を滴下した。混合物を−40℃で３時間撹拌し
た。テトラヒドロフラン中の二硫化ジメチル（60.5g）
を滴下し、混合物を−40℃で30分間、室温で一晩撹拌し
た。塩酸（2M）を加え、層を分離した。水層をエーテル
で抽出し、有機層をあわせて水酸化ナトリウム水溶液
（2M）で抽出した。水性抽出物をpH1に酸性化し、エー
テルで抽出し、水洗、脱水（Na₂SO₄）及び濾過した。濾
液を蒸発乾涸させ、残渣にｎ−ヘキサンを加えて粉砕
し、濾過し、４−クロロ−３−フルオロ−２−（メチル
スルフェニル）安息香酸（32.84g）を白色固体として得
た。m.p.149.5−150.5℃。

参考例５ メチルメルカプタン（0.72g）のジメチルホルムアミ
ド溶液に水酸化リチウム・１水和物（1.26g）を加え
た。この混合物に４−クロロ−３−フルオロ−２−（メ
チルスルホニル）安息香酸（3.7g）を加えた。混合物を
２時間撹拌後、水に注ぎ、pH1に酸性化した。酸性化し
た混合物をエーテルで抽出し、水洗、脱水（Na₂SO₄）及
び濾過した。濾液を蒸発乾涸させ、残渣にｎ−ヘキサン
を加えて粉砕し、濾過し、４−クロロ−３−（メチルス
ルフェニル）−２−（メチルスルホニル）安息香酸（2.
26g）を白色固体として得た。NMR（CDCl₃）2.5（s,3
H）,3.45（s,3H）,7.5（d,1H）,7.7（d,1H）。

同様に操作することにより、適切に置換した出発材料
から下記化合物を調製した。

３−（メチルスルフェニル）−４−（メチルスルホニ
ル）−２−トリフルオロメチル安息香酸。NMR（CDCl₃）
2.2（s,3H）,3.2（s,3H）,7.4（d,1H）,8.1（d,1H）。

４−クロロ−３−（メチルスルフェニル）−２−トリ
フルオロメチル安息香酸。NMR（CDCl₃）2.45（s,3H）,
5.2−5.8（bs,1H）,7.5（d,1H）,7.7（d,1H）。

４−クロロ−２−（メチルスルホニル）−３−（プロ
プ−２−エニルスルフェニル）安息香酸。NMR（CDCl₃）
3.5（s,3H）,3.7（d,2H）,5.1（dd,2H）,5.9（m,1H）,
7.5（d,1H）,7.8（d,1H）。

４−ブロモ−３−（メチルスルフェニル）−２−（メ
チルスルホニル）安息香酸。m.p.174−176℃。

２−メチル−３−（メチルスルフェニル）−４−（メ
チルスルホニル）安息香酸。m.p.116−117℃。

参考例６ 濃硫酸（1ml）を含有する氷酢酸中の４−クロロ−３
−フルオロ−２−（メチルスルフェニル）安息香酸（1
8.39g）の撹拌懸濁液に過酸化水素（30％;30ml）を加え
た。混合物を１時間撹拌後、90℃まで徐々に加熱し、こ
の温度に３時間維持した。混合物を冷却し、一晩放置し
た後、水に注ぎ、15分間撹拌した。沈殿固体を濾取し、
４−クロロ−３−フルオロ−２−（メチルスルホニル）
安息香酸（12.25g）を白色固体として得た。m.p.207.5
−209℃。

同様に操作することにより、適切に置換した出発材料
から下記化合物を調製した。

2,4−ジクロロ−３−（メチルスルホニル）トルエ
ン。m.p.84−85.5℃。

参考例７ 2,4−ジクロロ−３−（メチルスルホニル）トルエン
（16.88g）の水中懸濁液を撹拌下で95〜100℃に加熱し
た中に、過マンガン酸カリウム（33.66g）を少量ずつ加
えた。混合物を撹拌下で還流温度に1.5時間加熱した。
熱懸濁液を濾過し、濾液を０℃に冷却し、酸性化した。
酸性化した濾液を濾過し、2,4−ジクロロ−３−（メチ
ルスルホニル）安息香酸（5.35g）をオレンジ色固体と
して得た。m.p.157.5−158.5℃。

参考例８ 温度を10℃未満に維持しながら、氷酢酸と濃塩酸の混
合物中の2,6−ジクロロ−３−メチルアニリン（30.0g）
の撹拌懸濁液に亜硝酸ナトリウム（12.0g）の水溶液を
加えた。混合物を０℃で45分間撹拌した後、氷酢酸中の
二硫化ジメチル（20ml）と銅粉末（0.25g）の混合物に
加えた。混合物を４時間撹拌し、エーテルで抽出した。
有機層を炭酸ナトリウム水溶液（2M）、水で洗浄し、脱
水（Na₂SO₄）及び濾過した。濾液を蒸発乾涸させ、2,4
−ジクロロ−３−（メチルスルフェニル）トルエン（2
7.2g）を赤色液体として得た。NMR（CDCl₃）2.4（s,3
H）,2.45（s,3H）,7.15（d,1H）,7.3（d,1H）。

参考例９ 温度を−70℃未満に維持しながら、エーテル中の６−
ブロモ−２−フルオロ−３−（メチルスルフェニル）ベ
ンゾトリフルオリド（30.6g）の撹拌冷却溶液にｎ−ブ
チルリチウム（ヘキサン中2.5M、51ml）を加えた。混合
物を−78℃で４時間撹拌後、二酸化炭素ペレットに注
ぎ、２時間撹拌し、水で希釈した。水で希釈した混合物
をエーテルで洗浄し、水層を酸性化し、エーテルで抽出
し、水洗、脱水（MgSO₄）及び濾過した。濾液を蒸発乾
涸させ、３−フルオロ−４−（メチルスルフェニル）−
２−トリフルオロメチル安息香酸（23.4g）をベージュ
色固体として得た。NMR（DMSO−d₆）3.14（s,3H）,7.99
（d,1H）,8.19（t,1H）。

同様に操作することにより、適切に置換した出発材料
から４−クロロ−３−フルオロ−２−トリフルオロメチ
ル安息香酸を調製した。m.p.108−109℃。

参考例10 温度を５℃未満に維持しながら、氷酢酸中の４−ブロ
モ−２−フルオロ−３−トリフルオロメチルアニリン
（40g）の撹拌冷却懸濁液に亜硝酸ナトリウム（11.2g）
の濃硫酸溶液を加えた。混合物を５℃で1.5時間撹拌し
た。得られた混合物を45℃で氷酢酸中の二硫化ジメチル
（20ml）及び銅粉末（0.224g）の混合物に漸次加えた。
混合物を撹拌下で70℃に３時間加熱した。混合物を冷却
し、水に注ぎ、エーテルで抽出し、水洗、脱水（MgS
O₄）及び濾過した。濾液を蒸発乾涸させ、石油スピリッ
ト（b.p.60−80℃）を溶離剤としてカラムクロマトグラ
フィーにより精製し、６−ブロモ−２−フルオロ−３−
（メチルスルフェニル）ベンゾトリフルオリド（30.6
g）をオレンジ色油状物として得た。NMR（CDCl₃）2.45
（s,3H）,7.25（t,1H）,7.5（d,1H）。

参考例11 Ｎ−ブロモスクシンイミド（24.9g）のN,N−ジメチル
ホルムアミド溶液を２−フルオロ−３−トリフルオロメ
チルアニリン（25g）のジメチルホルムアミド溶液に加
えた。混合物を4.5時間撹拌した。混合物を水に注ぎ、
油状物を分離した。水層をエーテルで抽出し、有機層を
あわせて水洗、脱水（MgSO₄）及び濾過した。濾液を蒸
発乾涸させ、残渣を蒸留し、４−ブロモ−２−フルオロ
−３−トリフルオロメチルアニリン（27.44g）をオレン
ジ色油状物として得た。b.p.88−94℃/4mbar。

参考例12 酢酸と無水酢酸の混合物中の３−フルオロ−４−（メ
チルスルフェニル）−２−トリフルオロメチル安息香酸
（5.0g）の溶液に過酸化水素（30％、19ml）を滴下し
た。混合物を１時間撹拌し、70℃に４時間加熱した。混
合物を冷却し、水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機
抽出物をメタ重亜硫酸ナトリウム水溶液、水、硫酸第一
鉄水溶液、水で洗浄し、脱水（MgSO₄）及び濾過した。
濾液を蒸発乾涸させ、３−フルオロ−４−（メチルスル
ホニル）−２−トリフルオロメチル安息香酸（0.8g）を
得た。水層をあわせて蒸発乾涸させ、残渣を酢酸エチル
に懸濁し、還流温度に30分間加熱した。熱酢酸エチル溶
液をデカントし、飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、脱
水（MgSO₄）及び濾過した。濾液を蒸発乾涸させ、３−
フルオロ−４−（メチルスルホニル）−２−トリフルオ
ロメチル安息香酸（4.0g）をベージュ色固体として得
た。NMR（CDCl₃＋CD₃CN）3.15（s,3H）,7.45（d,1H）,
8.05（t,1H）。

同様に操作することにより、適切に置換した出発材料
から４−ブロモ−３−フルオロ−２−（メチルスルホニ
ル）安息香酸を調製した。m.p.250−252℃。

参考例13 温度を15℃未満に維持しながら、氷酢酸中の４−ブロ
モ−２−フルオロ−３−トリフルオロメチルアニリン
（27.4g）の撹拌冷却溶液に亜硝酸ナトリウム（7.3g）
の濃硫酸溶液を加えた。混合物を10〜15℃で1.5時間撹
拌した後、塩酸（5M）中の塩化銅（Ｉ）（10.5g）の混
合物に注いだ。混合物を1.5時間撹拌した後、水で希釈
し、エーテルで抽出し、水酸化ナトリウム水溶液（2
M）、水で洗浄し、脱水（MgSO₄）及び濾過した。濾液を
蒸発乾涸させ、残渣を蒸留し、６−ブロモ−３−クロロ
−２−フルオロベンゾトリフルオリド（8.3g）を黄色油
状物として得た。b.p.44−45℃/2mbar。

参考例14 温度を０℃に維持しながら、ジイソプロピルアミンの
無水テトラヒドロフラン溶液にｎ−ブチルリチウム（ヘ
キサン中2.5M、63ml）を加えた。添加が完了したら冷却
浴を除去し、混合物を30分間室温で撹拌した。温度を−
50℃に維持しながら、得られたリチウムジイソプロピル
アミド（LDA）の溶液を４−ブロモ−３−フルオロ安息
香酸（14.6g）のテトラヒドロフラン溶液に加えた。次
いで混合物を−30℃で５時間撹拌した。次いで二硫化ジ
メチル（21g）のテトラヒドロフラン溶液を加え、冷却
浴を除去し、混合物を室温で一晩撹拌した。混合物をエ
ーテルで希釈し、水洗した。水層を2M塩酸でpH1に酸性
化し、エーテルで抽出し、水洗、脱水（MgSO₄）及び濾
過した。濾液を蒸発乾涸させ、残渣に石油スピリット
（b.p.60−80℃）を加えて粉砕し、４−ブロモ−３−フ
ルオロ−２−（メチルスルフェニル）安息香酸（14g）
を白色固体として得た。m.p.152−154℃。

参考例15 ピリジン及び水中の４−ブロモ−３−フルオロトルエ
ン（35g）及び水酸化ナトリウム（7.7g）の溶液を撹拌
下で還流温度まで加熱した。過マンガン酸カリウム（12
3g）を２時間かけて混合物に加えた。得られた懸濁液を
更に３時間還流温度に加熱した。混合物を高温状態でハ
イフロシリカで濾過した。シリカを沸騰水、次いで酢酸
エチルで洗浄した。水層を冷却して濃塩酸でpH1に酸性
化し、酢酸エチルで抽出した。有機抽出物を水洗、脱水
（MgSO₄）及び濾過した。濾液を蒸発乾燥させ、残渣に
石油スピリット（b.p.60−80℃）を加えて粉砕し、４−
ブロモ−３−フルオロ安息香酸（21.25g）を白色固体と
して得た。m.p.213−215℃。

参考例16 無水酢酸中に１−［４−クロロ−３−（クロロメチル
スルフェニル）−２−メトキシフェニル］−３−シクロ
プロピルプロパン−1,3−ジオン及び１−［４−クロロ
−２−メトキシ−３−（メチルスルフェニル）フェニ
ル］−３−シクロプロピルプロパン−1,3−ジオンを含
有する粗混合物（約1:2、20g）をオルトギ酸トリエチル
（96g）で処理した。混合物を撹拌下で還流温度に４時
間加熱した。混合物を冷却し、蒸発乾涸させた。キシレ
ンを加え、再蒸発乾涸させ、１−［４−クロロ−３−
（クロロメチルスルフェニル）−２−メトキシフェニ
ル］−３−シクロプロピル−２−エトキシメチレンプロ
パン−1,3−ジオン及び１−［４−クロロ−２−メトキ
シ−３−（メチルスルフェニル）フェニル］−３−シク
ロプロピル−２−エトキシメチレンプロパン−1,3−ジ
オン（25.1g）の粗1:2混合物を粗茶色油状物として得、
それ以上精製しなかった。

参考例17 ４−クロロ−２−メトキシ−３−（メチルスルフェニ
ル）安息香酸（14.7g）の塩化チオニル溶液を撹拌下で
還流温度に５時間加熱した。溶液を冷却し、蒸発乾涸さ
せた。トルエンを加え、再蒸発させ、オレンジ色油状物
を得た。

マグネシウム（2.0g）と四塩化炭素（1ml）を含有す
るメタノールの混合物を30分間かけて徐々に昇温させ
た。３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸ｔ−
ブチル（18.4g）を加え、混合物を還流温度に30分間加
熱した。混合物を蒸発乾涸させた。残渣をトルエンに溶
解し、再蒸発乾涸させた。残留白色固体をトルエンに溶
解し、上述のように調製した塩化ベンゾイルを加えた。
混合物を室温で一晩撹拌した。塩酸（2M）を加え、混合
物を30分間撹拌した。層を分離し、有機層を脱水（MgSO
₄）及び濾過した。４−トルエンスルホン酸（1g）を濾
液に加え、混合物を還流温度に４時間加熱した。混合物
を冷却し、水、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、水で洗浄
し、脱水（MgSO₄）及び濾過した。濾液を蒸発乾涸さ
せ、１−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルフェニ
ル）−２−メトキシフェニル］−３−シクロプロピルプ
ロパン−1,3−ジオン及び１−［４−クロロ−２−メト
キシ−３−（メチルスルフェニル）フェニル］−３−シ
クロプロピルプロパン−1,3−ジオンの1:2混合物（22.1
g）を茶色油状物として得た。NMR（CDCl₃）0.95−1.05
（m,2H）,1.15−1.3（m,2H）,1.75−1.9（m,1H）,2.5
（s,0.9H）,3.9（s,3H）,5.05（s,1.4H）,6.55（s,2
H）,7.3（d,0.3H）,7.4（d,0.7H）,7.7（d,0.3H）,7.75
（d,0.7H）。この混合物は、上記NMRスペクトルにおけ
る2.5ppmのメチルプロパンに対する5.05ppmのメチレン
プロトンの比から、夫々の化合物の1:2混合物であるこ
とが判明した。

参考例18 水性メタノール中の４−クロロ−２−メトキシ−３−
（メチルスルフェニル）安息香酸メチル（純度85％、1
6.9g）と水酸化リチウム・１水和物（3.85g）の混合物
を室温で一晩撹拌した。混合物を蒸発させた後、水で処
理し、pH1に酸性化した。酸性化した混合物を酢酸エチ
ルで抽出し、脱水（MgSO₄）及び濾過した。濾液を蒸発
乾涸させ、４−クロロ−２−メトキシ−３−（メチルス
ルフェニル）安息香酸（14.7g）を白色固体として得
た。m.p.121.3−122.7℃。NMR（CDCl₃）2.45（s,3H）,
4.05（s,3H）,7.3（d,1H）,7.95（d,1H）。（NMRによる
と）生成物中に４−クロロ−３−（クロロメチルスルフ
ェニル）−２−メトキシ安息香酸をほんの微量含有して
いた。

参考例19 ４−クロロ−２−フルオロ−３−（メチルスルフェニ
ル）安息香酸メチル（純度85％、19.2g）の無水テトラ
ヒドロフラン溶液にナトリウムメトキシド（5.6g）を加
え、混合物を室温で一晩撹拌した。水を加え、混合物を
エーテルで抽出し、脱水（MgSO₄）及び濾過した。濾液
を蒸発乾涸させ、４−クロロ−２−メトキシ−３−（メ
チルスルフェニル）安息香酸メチル（17.1g）を黄色油
状物として得た。NMR（CDCl₃）2.5（s,3H）,3.95（s,3
H）,4.0（s,3H）,7.25（d,1H）,7.65（d,1H）。（NMRシ
グナルの比によると）生成物は４−クロロ−３−（クロ
ロメチルスルフェニル）−２−メトキシ安息香酸メチル
15％で汚染されていた。

参考例20 ４−クロロ−２−フルオロ−３−（メチルスルフェニ
ル）安息香酸（18.25g）と塩化チオニルの混合物を撹拌
下で還流温度に５時間加熱した。混合物を蒸発乾涸さ
せ、残渣をトルエンに溶解し、再蒸発させた。残渣をメ
タノールに溶解し、室温で一晩撹拌した。そのメタノー
ル溶液を蒸発乾涸させ、残渣をエーテルに溶解し、水、
飽和重炭酸ナトリウム水溶液、水で洗浄し、脱水（MgSO
₄）し、脱色用木炭で処理し、濾過した。濾液を蒸発乾
涸させ、４−クロロ−２−フルオロ−３−（メチルスル
フェニル）安息香酸メチル（19.2g）を黄色油状物とし
て得た。NMR（CDCl₃）2.5（s,3H）,3.95（s,3H）,7.3
（d,1H）,7.8（t,1H）。（NMRシグナルの比によると）
生成物は４−クロロ−３−（クロロメチルスルフェニ
ル）−２−フルオロ安息香酸メチル15％で汚染されてい
た。

参考例21 温度を−70℃未満に維持しながら、無水テトラヒドロ
フラン中の粗２−クロロ−６−フルオロチオアニソール
（60.0g）の撹拌冷却溶液にｎ−ブチルリチウム（ヘキ
サン中2.5M、140ml）を加えた。混合物を−78℃で3.5時
間撹拌後、固体二酸化炭素ペレットに注ぎ、撹拌し、室
温まで昇温させた。混合物を蒸発乾涸させ、残渣を水に
溶解し、エーテルで洗浄した。水層をpH1に酸性化し、
エーテルで抽出し、水洗、脱水（MgSO₄）及び濾過し
た。濾液を蒸発乾涸させ、残渣にヘキサンを加えて粉砕
し、濾過し、４−クロロ−２−フルオロ−３−（メチル
スルフェニル）安息香酸を白色固体として得た。m.p.18
3−185℃。

参考例22 温度を−70℃未満に維持しながら、３−フルオロクロ
ロベンゼン（35g）の無水テトラヒドロフラン溶液にｎ
−ブチルリチウム（ヘキサン中2.5M、129ml）を加え
た。混合物を−78℃で３時間撹拌し、二硫化ジメチル
（60.65g）を加えた。混合物を室温まで昇温させ、一晩
撹拌した。混合物を蒸発乾涸させ、残渣をエーテルに懸
濁し、水洗、脱水（MgSO₄）及び濾過した。濾液を蒸発
乾涸させ、多少の二硫化ジメチルを含有する粗黄色油状
物として２−クロロ−６−フルオロチオアニソール（60
g）を得た。NMR（CDCl₃）2.45（s,3H）,6.95（t,1H）,
7.1−7.3（m,2H）。

本発明の１特徴によると、所定の場所における雑草
（即ち望ましくない植生）の成長の防除方法が提供さ
れ、該方法は除草剤として有効量の少なくとも１種の式
（Ｉ）のイソオキサゾール誘導体を該場所に施用するこ
とからなる。この目的のために、イソオキサゾール誘導
体は一般に例えば後述するような除草剤組成物の形態で
（即ち除草剤組成物中で使用するのに適した相容性希釈
剤又はキャリヤー及び／又は界面活性剤と共に）使用さ
れる。

式Ｉの化合物は、発芽前及び／又は発芽後施用により
双子葉（即ち広葉）及び単子葉（即ちイネ科）雑草に対
して除草活性を示す。

「発芽前施用」なる用語は、雑草が土壌表面上に出現
する前に、雑草種子又は実生が埋もれている土壌に施用
することを意味する。「発芽後施用」なる用語は、土壌
表面上に出現した雑草の地上部又は露出部分に施用する
ことを意味する。例えば、式（Ｉ）の化合物は、 広葉雑草として例えば、イチビ（Abutilon theophra
sti）、アオビユ（Amaranthus retroflexus）、コセン
ダングサ（Bidens pilosa）、アカザ（Chenopodium a
lbum）、ヤエムグラ（Galium aparine）、サツマイモ
属植物（Ipomoea spp.）（例えばマルバアサガオ（Ipo
moea purpurea））、アメリカツノクサネム（Sesbania
exaltata）、ノハラガラシ（Sinapis arvensis）、
イヌホオズキ（Solanum nigrum）及びオナモミ（Xanth
ium strumarium）、 イネ科雑草として例えばスズメノテッポウ（Alopecur
us myosuroides）、カラスムギ（Avena fatua）、メ
ヒシバ（Digitaria sanguinalis）、イヌビエ（Echino
chloa crus−galli）、モロコシ（Sorghum bicolo
r）、オヒシバ（Eleusine indica）、及びエノコログ
サ属植物（Setaria spp.）（例えばアキノエノコログ
サ（Setaria faberii）又はエノコログサ（Setaria v
iridis））並びに、 スゲ類（sedges）として例えばカヤツリグサ（Cyperu
s esculentus） の成長を防除するために用いることができる。

式（Ｉ）の化合物の施用量は、雑草の種類、使用する
組成物、施用時期、気候及び土壌条件並びに（作物栽培
区域で雑草の成長を防除するために用いる場合には）作
物の種類により異なる。作物栽培区域に施用する場合、
施用量は、作物に実質的永続的被害を生じることなく雑
草の成長を防除するのに充分な量とすべきである。一般
に、これらの要因を考慮すると、活性物質0.01kg〜5kg/
haの施用量で良好な結果が得られる。しかしながら、直
面する特定の雑草防除の問題に依存して、前記範囲以下
又は以上の施用量を使用する場合もあると理解された
い。

式（Ｉ）の化合物は、作物、例えば穀類（例えばコム
ギ、オオムギ、エンバク、トウモロコシ及びイネ）、ダ
イズ、飼料用ツルナシインゲンマメ、エンドウ、ムラサ
キウマゴヤシ、ワタ、ラッカセイ、アマ、タマネギ類、
ニンジン類、キャベツ、アブラナ、ヒマワリ、テンサイ
を栽培するために使用しているか又は使用を予定してい
る区域で雑草が繁茂した場所や、永年又は播種した牧草
地に、作物の播種前もしくは後又は作物の発芽前もしく
は後に、指向（directional）又は非指向様式で雑草の
発芽前又は発芽後施用（例えば指向又は非指向噴霧）に
より、雑草の成長を選択的に防除するため、例えば上記
雑草種の成長を防除するために用いることができる。作
物、例えば上記作物を栽培するために使用しているか又
は使用を予定している区域で雑草が繁茂した場所におい
て雑草を選択的に防除するためには、活性物質0.01kg〜
4.0kg/ha、好ましくは0.01kg〜2.0kg/haの施用量が特に
適している。

また、式（Ｉ）の化合物は、果樹園及び他の樹木生育
区域（例えば森林及び公園）並びに農園（例えばサトウ
キビ園、アブラヤシ園及びゴム園）において発芽前又は
発芽後施用により、雑草、特に上記種の雑草の成長を防
除するために用いることもできる。この目的のために
は、樹木又は農園作物の植え付け前もしくは植え付け後
に、雑草又は雑草が出現すると予想される土壌に指向又
は非指向様式で（例えば指向又は非指向噴霧により）活
性物質0.25kg〜5.0kg/ha、好ましくは0.5kg〜4.0kg/ha
を施用することができる。

また、式（Ｉ）の化合物は、作物栽培区域ではないが
雑草の防除が望まれる場所において雑草、特に上記種の
雑草の成長を防除するために用いることもできる。

このような作物非栽培区域の例としては、特に火炎の
危険を減らすために雑草の成長を防除することが望まれ
る飛行場、工業用地、鉄道、路肩、川端、潅漑及び他の
水路、低木林及び休閑地又は未墾地が挙げられる。全体
的除草効果が望まれることの多いこのような目的に用い
る場合、活性化合物は、通常、前述のような作物栽培区
域で用いるよりも高い施用量を用いる。厳密な施用量
は、処理する植生の種類及び所望の効果に依存する。

この目的には、活性物質1.0kg〜20.0kg/ha、好ましく
は5.0kg〜10.0kg/haの施用量を指向又は非指向様式で
（例えば指向又は非指向噴霧により）発芽前又は発芽後
施用、好ましくは発芽前施用すると特に適切である。

発芽前施用により雑草の成長を防除するために用いる
場合には、雑草が出現すると予想される土壌中に式
（Ｉ）の化合物を混和することができる。発芽後施用、
即ち出現した雑草の地上部又は露出部分に施用すること
により雑草の成長を防除するために式（Ｉ）の化合物を
用いる場合、式（Ｉ）の化合物は、通常は土壌とも接触
し、まだ発芽していない土壌中の雑草に対しても発芽前
防除作用を及ぼすことが理解されよう。

特に長期の雑草防除が必要な場合には、必要に応じて
式（Ｉ）の化合物の施用を繰り返す。

本発明の別の特徴によると、式（Ｉ）のイソオキサゾ
ール誘導体の１種以上を１種以上の農業的に許容可能な
相容性希釈剤又はキャリヤー及び／又は界面活性剤［即
ち、除草剤組成物中で使用するのに適切であると業界で
一般に認められており且つ式（Ｉ）の化合物に対して相
容性の型の希釈剤又はキャリヤー及び／又は界面活性
剤］と共に含有し、好ましくは前記誘導体を前記希釈剤
等に均一に分散した状態で含有する除草剤に適した組成
物が提供される。「均一に分散した」なる用語は、式
（Ｉ）の化合物が他の成分に溶解している組成物を含め
て用いる。「除草剤組成物」なる用語は、除草剤として
即使用可能な組成物のみならず、使用前に希釈する必要
のある濃厚物も含めて広義に用いる。好ましくは、組成
物は、0.05〜90重量％の式（Ｉ）の１種以上の化合物を
含有する。

除草剤組成物は、希釈剤又はキャリヤーと界面活性剤
（例えば、湿展剤、分散剤又は乳化剤）の両方を含有し
てもよい。本発明の除草剤組成物中に存在し得る界面活
性剤はイオン性型でも非イオン性型でもよく、例えば、
スルホリシノレート類、第四級アンモニウム誘導体、酸
化エチレンとアルキル及びポリアリールフェノール類
（例えばノニルフェノール又はオクチルフェノール）と
の縮合物をベースとする生成物、又は酸化エチレンとの
縮合による遊離水酸基のエーテル化により可溶化された
アンヒドロソルビトール類のカルボン酸エステル類、硫
酸エステル類及びスルホン酸類のアルカリ及びアルカリ
土類金属塩（例えばジノニルナトリウムスルホノスクシ
ネート及びジオクチルナトリウムスルホノスクシネー
ト）、並びに高分子量スルホン酸誘導体のアルカリ及び
アルカリ土類金属塩（例えばナトリウムリグノスルホネ
ート類、カルシウムリグノスルホネート類、ナトリウム
アルキルベンゼンスルホネート類及びカルシウムアルキ
ルベンゼンスルホネート類）である。

適切には、本発明の除草剤組成物は、10重量％まで、
例えば0.05〜10重量％の界面活性剤を含有し得るが、所
望であれば、本発明の除草剤組成物は、前記割合以上、
例えば、乳化性懸濁濃厚液においては15重量％まで、水
溶性濃厚液においては25重量％までの界面活性剤を含有
し得る。

適切な固体希釈剤又はキャリヤーの例としては、ケイ
酸アルミニウム、タルク、か焼マグネシア、ケイソウ
土、燐酸三カルシウム、粉末コルク、吸着性カーボンブ
ラック並びにクレー（例えばカオリン及びベントナイ
ト）が挙げられる。（粉剤、粒剤又は水和剤の形態をと
り得る）固体組成物は好ましくは、式（Ｉ）の化合物を
固体希釈剤と共に粉砕することにより、又は揮発性溶媒
中の式（Ｉ）の化合物の溶液を固体希釈剤もしくはキャ
リヤーに含浸させ、溶媒を蒸発させ、必要に応じて生成
物を粉砕して粉末とすることにより製造される。粒状製
剤は、（所望に応じて揮発性であり得る適切な溶媒に溶
解した）式（Ｉ）の化合物を粒状形態の固体希釈剤もし
くはキャリヤーに吸着させ、所望であれば溶媒を蒸発さ
せることにより、又は上記のようにして得られた粉末形
態の組成物を粒状化することにより製造することができ
る。固体除草剤組成物、特に水和剤及び粒剤は、固体の
場合には希釈剤又はキャリヤーとしても機能し得る（例
えば上記型の）湿展剤又は分散剤を含有し得る。

本発明による液体組成物は、界面活性剤を含有し得る
水性、有機又は水性−有機の溶液、懸濁液及びエマルジ
ョンの形態をとることができる。液体組成物中への配合
に適切な液体希釈剤としては、水、グリコール類、テト
ラヒドロフルフリルアルコール、アセトフェノン、シク
ロヘキサノン、イソホロン、トルエン、キシレン、鉱
油、動物油、植物油、並びに石油の軽芳香族及びナフテ
ン画分（及びこれら希釈剤の混合物）が挙げられる。液
体組成物中に存在し得る界面活性剤は、（例えば上記型
の）イオン性でも非イオン性でもよく、液体の場合には
希釈剤又はキャリヤーとしても機能し得る。

濃厚物の形態の粉末、分散性粒剤及び液体組成物は、
水又は他の適当な希釈剤（例えば、特に希釈剤又はキャ
リヤーが油である液体濃厚物の場合には鉱油又は植物
油）で希釈し、即使用可能な組成物を得ることができ
る。

所望であれば、式（Ｉ）の化合物の液体組成物は、乳
化剤に溶解するか又は、活性物質に対して相容性の乳化
剤を含有する溶媒に溶解した活性物質を含有する自己乳
化性濃厚物の形態で用いることができ、このような濃厚
物に水を加えるだけで即使用可能な組成物が得られる。

希釈剤又はキャリヤーが油である液体濃厚物は、希釈
せずに静電噴霧法を用いて使用することができる。

本発明による除草剤組成物は、所望であれば、固着
剤、保護コロイド、増粘剤、浸透剤、安定剤、金属イオ
ン封鎖剤、固化防止剤、着色剤及び腐食防止剤のような
慣用補助剤も含有し得る。これらの補助剤は、キャリヤ
ー又は希釈剤としても機能し得る。

特に明記しない限り、以下の百分率は重量に基づく。
本発明による好ましい除草剤組成物は、 １種以上の式（Ｉ）の化合物10〜70％、界面活性剤２
〜10％、増粘剤0.1〜５％及び水15〜87.9％から成る水
性懸濁濃厚物； １種以上の式（Ｉ）の化合物10〜90％、界面活性剤２
〜10％及び固体希釈剤又はキャリヤー８〜88％から成る
水和剤； １種以上の式（Ｉ）の化合物10〜90％、炭酸ナトリウ
ム２〜40％及び固体希釈剤０〜88％から成る水溶性又は
水分散性粉末； １種以上の式（Ｉ）の化合物５〜50％、例えば10〜30
％、界面活性剤５〜25％及び水混和性溶媒（例えばジメ
チルホルムアミド）又は水混和性溶媒と水の混合物25〜
90％、例えば45〜85％から成る水溶性液体濃厚物； １種以上の式（Ｉ）の化合物10〜70％、界面活性剤５
〜15％、増粘剤0.1〜５％及び有機溶媒10〜84.9％から
成る乳化性懸濁液体濃厚物； １種以上の式（Ｉ）の化合物１〜90％例えば２〜10
％、界面活性剤0.5〜７％例えば0.5〜２％、及び粒状キ
ャリヤー３〜98.5％、例えば88〜97.5％から成る粒剤；
並びに １種以上の式（Ｉ）の化合物0.05〜90％好ましくは１
〜60％、界面活性剤0.01〜10％好ましくは１〜10％及び
有機溶媒9.99〜99.94％好ましくは39〜98.99％から成る
乳化性濃厚物である。

本発明による除草剤組成物は更に、１種以上の他の農
薬として活性な化合物及び、所望であれば、１種以上の
農薬として許容可能な相容性希釈剤又はキャリヤー、界
面活性剤及び上記のような慣用補助剤と式（Ｉ）の化合
物を併有し、好ましくは前記希釈剤等に前記化合物を均
一に分散した状態で含有してもよい。本発明の除草剤組
成物に含有又は併用し得る他の農薬として活性な化合物
の例としては、例えば防除する雑草種の範囲を拡大する
ための除草剤として例えばアラクロール［２−クロロ−
2,6′−ジエチル−Ｎ−（メトキシメチル）アセトアニ
リド］、アトラジン［２−クロロ−４−エチルアミノ−
６−イソプロピルアミノ−1,3,5−トリアジン］、ブロ
モキシニル［3,5−ジブロモ−４−ヒドロキシベンゾニ
トリル］、クロルトルロン［Ｎ′−（３−クロロ−４−
メチルフェニル）−N,N−ジメチル尿素］、シアナジン
［２−クロロ−４−（１−シアノ−１−メチルエチルア
ミノ）−６−エチルアミノ−1,3,5−トリアジン］、2,4
−Ｄ［2,4−ジクロロフェノキシ酢酸］、ジカンバ［3,6
−ジクロロ−２−メトキシ安息香酸］、ジフェンゾクァ
ット［1,2−ジメチル−3,5−ジフェニルピラゾリウム
塩］、フラムプロップメチル［メチルＮ−２−（Ｎ−ベ
ンゾイル−３−クロロ−４−フルオロアニリノ）プロピ
オネート］、フルオメツロン［Ｎ′−（３−トリフルオ
ロメチルフェニル）−N,N−ジメチルウレア］、イソプ
ロツロン［Ｎ′−（４−イソプロピルフェニル）−N,N
−ジメチル尿素］；殺虫剤として例えば合成ピレソイド
類（例えばペルメトリン（permethrin）及びシペルメト
リン（cypermethrin））；並びに殺菌剤として例えばカ
ーバメート類（例えばメチルＮ−（１−ブチルカルバモ
イルベンズイミダゾール−２−イル）カーバメート）及
びトリアゾール類（例えば１−（４−クロロフェノキ
シ）−3,3−ジメチル−１−（1,2,4−トリアゾール−１
−イル）−ブタン−２−オン）が挙げられる。例えば前
述のような本発明の除草剤組成物に含有又は併用し得る
農薬として活性な化合物及び他の生物学的に活性な物質
が酸である場合には、所望であれば、慣用誘導体、例え
ばアルカリ金属及びアミンの塩及びエステル類の形態で
利用することができる。

以下、実施例により本発明の除草剤組成物を具体的に
説明する。

実施例C1 活性成分（化合物１）20％w/v、水酸化カリウム33％w
/v溶液10％v/v、テトラヒドロフルフリルアルコール（T
HFA）10％v/v、水100容量までを使用し、THFA、活性成
分（化合物１）及び水90容量％を撹拌し、安定してpH7
〜８が得られるまで水酸化カリウム溶液をゆっくりと加
えた後、水を補充することにより、可溶性濃厚物を形成
する。

イソオキサゾール（化合物１）の代わりに式（Ｉ）の
他の化合物を使用することにより、上記方法で同様の可
溶性濃厚物を調製することができる。

実施例C2 活性成分（化合物１）50％w/w、ドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム３％w/w、リグノ硫酸ナトリウム５
％w/w、ホルムアルデヒドアルキルナフタレンスルホン
酸ナトリウム２％w/w、微粉二酸化ケイ素３％w/w及びチ
ャイナクレー37％w/wを使用し、これらの成分をブレン
ドし、エアジェットミルで混合物を粉砕することによ
り、水和剤を形成する。

イソオキサゾール（化合物１）の代わりに式（Ｉ）の
他の化合物を使用することにより、上記方法で同様の水
和剤を調製することができる。

実施例C3 活性成分（化合物１）50％w/w、ドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム１％w/w、澱粉二酸化ケイ素２％w/
w、重炭酸ナトリウム47％w/wを使用し、これらの成分を
ブレンドし、ハンマーミルで混合物を粉砕することによ
り、水溶性粉末を形成する。

イソオキサゾール（化合物１）の代わりに式（Ｉ）の
他の化合物を使用することにより、上記方法で同様の水
溶性粉末を調製することができる。

以下の手順に従って、本発明の化合物を除草に用い
た。

除草性化合物の使用法 ａ）概要 植物の処理に使用するのに適切な量の化合物をアセト
ンに溶解し、試験化合物1000g/haまでの施用量に等価の
溶液を得た。噴霧液290リットル/haに等価の量を放出す
る標準実験室用除草剤噴霧器によりこれらの溶液を散布
した。

ｂ）雑草防除：発芽前 70ミリ平方、深さ75ミリのプラスチックポットに非滅
菌土壌を入れ、種子をまいた。ポット当りの種子量は以
下の通りとした。

雑草種 種子概数／ポット １）広葉雑草 イチビ 10 アオビユ 20 ヤエムグラ 10 マルバアサガオ 10 ノハラガラシ 15 オナモミ 2 ２）イネ科雑草 スズメノテッポウ 15 カラスムギ 10 イヌビエ 15 エノコログサ 20 ３）スゲ類 カヤツリグサ ３ 作物 １）広葉 ワタ ３ ダイズ ３ ２）イネ科 トウモロコシ ２ イネ ６ コムギ ６ 種子を蒔いた土壌の表面に本発明の化合物を（ａ）の
記載に従って施用した。各作物及び各雑草毎に１個のポ
ットを各処理に割り当て、対照として噴霧しないもの
と、アセトンのみを噴霧したものを使用した。

処理後、ガラス室内に維持した毛管マット上にポット
を置き、上部から灌水した。噴霧から20〜24日後に作物
の被害を視覚的に評価した。対照ポット中の植物と比較
して作物又は雑草の成長又は被害の減少百分率として結
果を表した。

ｃ）雑草防除：発芽後 深さ75ミリ、70ミリ平方のポット内のジョンインズ
（John Innes）鉢植えコンポストに雑草及び作物を直
接播種した。但し、アオビユは苗の段階で苗床から取り
出し、噴霧から１週間前にポットに移植した。その後、
植物処理用化合物を噴霧できるようになるまで苗を温室
で育てた。ポット当りの苗数は、以下の通りである： １）広葉雑草雑草種 ポット当りの苗数 成長段階 イチビ ３ １−２葉 アオビユ ４ １−２葉 ヤエムグラ ３ 第一輪生 マルバアサガオ ３ １−２葉 ノハラガラシ ４ ２葉 オナモミ １ ２−３葉 ２）イネ科雑草雑草種 ポット当りの数 成長段階 スズメノテッポウ 8−12 １−２葉 カラスムギ 12−18 １−２葉 イヌビエ ４ ２−３葉 エノコログサ 15−25 １−２葉 ３）スゲ類雑草種 ポット当りの苗数 成長段階 カヤツリグサ ３ ３葉 １）広葉作物 ポット当りの苗数 成長段階 ワタ ２ １葉 ダイズ ２ ２葉 ２）イネ科作物 ポット当りの苗数 成長段階 トウモロコシ ２ ２−３葉 イネ ４ ２−３葉 コムギ ５ ２−３葉 植物処理用化合物を（ａ）の記載に従って植物に施用
した。各作物及び雑草種毎に１個のポットを各処理に割
り当て、対照として噴霧しないものと、アセトンのみを
噴霧したものを使用した。

処理後、ガラス室内に維持した毛管マット上にポット
を置き、24時間後に上部から１回灌水し、次いで制御下
に地下潅漑した。噴霧から20〜24日後に作物被害及び雑
草防除を視覚的に評価した。対照ポット中の苗と比較し
て作物又は雑草の成長又は被害の減少百分率として結果
を表した。

本発明の化合物を1kg/ha以下の施用量で使用した処、
上記実験に使用した雑草に対して優れたレベルの除草活
性と作物耐性を有することが判明した。

発芽前又は発芽後に1000g/haの施用量で施用した処、
化合物１〜22は雑草種の１種以上の成長を少なくとも90
％防除することが判明した。

フロントページの続き (72)発明者 ランバート，クロード フランス国、エフ―69009・リヨン、シ ユマン・ドウ・モンペラ、12 (72)発明者 ウオリス，デレク・イアン イギリス国、エセツクス・シー・エム・ ５・０・エイチ・ダブリユ、オンガー、 フアイフイールド・ロード（番地なし) ローヌ―プーラン・アグリカルチヤ ー・リミテツド・リサーチ・ステイシヨ ン (72)発明者 ヤーウツド，トーマス イギリス国、エセツクス・シー・エム・ ５・０・エイチ・ダブリユ、オンガー、 フアイフイールド・ロード（番地なし) ローヌ―プーラン・アグリカルチヤ ー・リミテツド・リサーチ・ステイシヨ ン (56)参考文献 特開 平４−300875（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−118374（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07D 261/00 - 261/20 C07D 275/00 - 275/06 C07D 231/00 - 231/56 A01N 43/00 - 43/80 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ)

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式（Ｉ）： ［式中、 Ｒは水素原子又は−CO₂R⁵基を表し； R¹は炭素原子数３個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル
   基、シクロプロピル又は１−メチルシクロプロピルを表
   し； R²は塩素もしくは臭素原子;1個以上のハロゲン原子もし
   くは１個以上の−OR⁵¹基により任意に置換された炭素原
   子数４個までの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基;1個以上
   のハロゲン原子により任意に置換された炭素原子数４個
   までの直鎖もしくは分枝鎖アルコキシ基；又は−Ｓ
   （Ｏ）_pR⁶¹、ニトロ及びシアノから選択される基を表
   し； R³は−Ｓ（Ｏ）_nR⁶基を表し； R⁴は水素、フッ素、塩素もしくは臭素原子;1個以上のハ
   ロゲン原子もしくは１個以上の−OR⁵¹基により任意に置
   換された炭素原子数４個までの直鎖もしくは分枝鎖アル
   キル基;1個以上のハロゲン原子により任意に置換された
   炭素原子数４個までの直鎖もしくは分枝鎖アルコキシ
   基；又は−（Ｓ）O_qR⁶¹、ニトロ、シアノ及び−CO₂R⁵²
   から選択される基を表し； R⁵及びR⁶¹は同一でも異なってもよく、各々１個以上の
   ハロゲン原子により任意に置換された炭素原子数６個ま
   での直鎖又は分枝鎖アルキル基を表し； R⁵¹は１個以上のハロゲン原子により任意に置換された
   炭素原子数４個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基を表
   し； R⁵²は炭素原子数４個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基
   を表し； R⁶は１個以上のハロゲン原子により任意に置換された炭
   素原子数６個までの直鎖又は分枝鎖アルキル、アルケニ
   ル又はアルキニル基を表し； ｎ、ｐ及びｑは同一でも異なってもよく、各々０、１又
   は２を表し； 但しR²が−Ｓ（Ｏ）_pR⁶¹を表すとき、ｎ及びｐの一方は
   ０を表す］ の４−ベンゾイルイソオキサゾール誘導体。
2. 【請求項２】R²が塩素もしくは臭素原子;1個以上のハロ
   ゲン原子により任意に置換された炭素原子数４個までの
   直鎖もしくは分枝鎖アルキル基;1個以上のハロゲン原子
   により任意に置換された炭素原子数４個までの直鎖もし
   くは分枝鎖アルコキシ基；又は−Ｓ（Ｏ）_pR⁶¹基を表
   し； R⁴が水素、フッ素、塩素もしくは臭素原子;1個以上のハ
   ロゲン原子により任意に置換された炭素原子数４個まで
   の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基;1個以上のハロゲン原
   子により任意に置換された炭素原子数４個までの直鎖も
   しくは分枝鎖アルコキシ基；又は−Ｓ（Ｏ）_qR⁶¹基を表
   し； R⁶¹が炭素原子数４個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基
   を表し； R⁵が炭素原子数６個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基を
   表し； R⁵²がメチル又はエチル基を表し； R⁶が炭素原子数４個までの直鎖又は分枝鎖アルキル、ア
   ルケニル又はアルキニル基を表し； R²が−Ｓ（Ｏ）_pR⁶¹を表すとき、R⁴が−Ｓ（Ｏ）_qR⁶¹以
   外の基を表す 請求項１に記載の化合物。
3. 【請求項３】R¹がシクロプロピル基を表し； R²が塩素もしくは臭素原子;1個以上のハロゲン原子によ
   り任意に置換された炭素原子数１もしくは２個のアルキ
   ル基;1個以上のハロゲン原子により任意に置換された炭
   素原子数１もしくは２個のアルコキシ基；又は−Ｓ
   （Ｏ）_pR⁶¹基を表し； R⁴がフッ素、塩素もしくは臭素原子;1個以上のハロゲン
   原子により任意に置換された炭素原子数１もしくは２個
   のアルキル基;1個以上のハロゲン原子により任意に置換
   された炭素原子数１もしくは２個のアルコキシ基；又は
   −Ｓ（Ｏ）_qR⁶¹基を表し； R⁶¹がメチル又はエチル基を表し； R⁵が炭素原子数６個までの直鎖又は分枝鎖アルキル基を
   表し； R⁵¹がメチル又はエチル基を表し； R⁵²がメチル又はエチル基を表し； R⁶がメチル又はエチル基を表し； R²が−Ｓ（Ｏ）_pR⁶¹を表すとき、R⁴が−Ｓ（Ｏ）_qR⁶¹以
   外の基を表す 請求項１に記載の化合物。
4. 【請求項４】R¹がシクロプロピル基を表す請求項１に記
   載の化合物。
5. 【請求項５】Ｒが水素又は−CO₂Etを表し； R¹がシクロプロピル基を表し； R²が塩素原子；メチル、トリフルオロメチル、メトキシ
   又は−Ｓ（Ｏ）_pR⁶¹を表し： R³が−Ｓ（Ｏ）_nR⁶基を表し； R⁴が塩素もしくは臭素原子；又は−Ｓ（Ｏ）_qR⁶¹基を表
   し； R⁶がメチル、エチル、プロピル、クロロメチル又はプロ
   ペニルを表し； R⁶¹がメチルを表し； ｎ、ｐ及びｑが独立して０、１又は２を表す 請求項１に記載の化合物。
6. 【請求項６】４−［2,3−ビス（メチルスルフェニル）
   −４−クロロベンゾイル］−５−シクロプロピルイソオ
   キサゾール； ４−［４−クロロ−３−（メチルスルフェニル）−２−
   （メチルスルホニル）ベンゾイル］−５−シクロプロピ
   ルイソオキサゾール； ５−シクロプロピル−４−［2,4−ジクロロ−３−（メ
   チルスルホニル）ベンゾイル］イソオキサゾール； ５−シクロプロピル−４−［3,4−ビス（メチルスルフ
   ェニル）−２−トリフルオロメチルベンゾイル］イソオ
   キサゾール； ５−シクロプロピル−４−［３−（メチルスルフェニ
   ル）−４−（メチルスルホニル）−２−トリフルオロメ
   チルベンゾイル］イソオキサゾール； ５−シクロプロピル−４−［3,4−ビス（メチルスルホ
   ニル）−２−トリフルオロメチルベンゾイル］イソオキ
   サゾール； ４−［４−クロロ−３−（メチルスルフェニル）−２−
   トリフルオロメチルベンゾイル］−５−シクロプロピル
   イソオキサゾール； ４−［４−クロロ−２−（メチルスルホニル）−３−
   （プロプ−２−エニルスルフェニル）ベンゾイル］−５
   −シクロプロピルイソオキサゾール； ４−［４−ブロモ−３−（メチルスルフェニル）−２−
   （メチルスルホニル）ベンゾイル］−５−シクロプロピ
   ルイソオキサゾール； ４−［2,3−ビス（メチルスルフェニル）−４−ブロモ
   ベンゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール； ４−［４−クロロ−３−（メチルスルホニル）−２−ト
   リフルオロメチルベンゾイル］−５−シクロプロピルイ
   ソオキサゾール； ４−［４−クロロ−３−（メチルスルフィニル）−２−
   トリフルオロメチルベンゾイル］−５−シクロプロピル
   イソオキサゾール； ５−シクロプロピル−４−［２−メチル−３−（メチル
   スルフェニル）−４−（メチルスルホニル）ベンゾイ
   ル］イソオキサゾール； ４−［3,4−ビス（メチルスルホニル）−２−メチルベ
   ンゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール； ５−シクロプロピル−４−［２−メチル−３−（メチル
   スルフィニル）−４−（メチルスルホニル）ベンゾイ
   ル］イソオキサゾール； ４−［2,3−ビス（メチルスルフェニル）−４−クロロ
   ベンゾイル］−５−シクロプロピルイソオキサゾール−
   ３−カルボン酸エチル； ４−［４−クロロ−３−（エチルスルフェニル）−２−
   （メチルスルフェニル）ベンゾイル］−５−シクロプロ
   ピルイソオキサゾール； ４−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルフェニル）
   −２−メトキシベンゾイル］−５−シクロプロピルイソ
   オキサゾール； ４−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルフィニル）
   −２−メトキシベンゾイル］−５−シクロプロピルイソ
   オキサゾール； ４−［４−クロロ−３−（クロロメチルスルホニル）−
   ２−メトキシベンゾイル］−５−シクロプロピルイソオ
   キサゾール； ４−［４−クロロ−２−（メチルスルフェニル）−３−
   （プロピルスルフェニル）ベンゾイル］−５−シクロプ
   ロピルイソオキサゾール；又は ４−［４−クロロ−３−（１−メチルエチルスルフェニ
   ル）−２−（メチルスルフェニル）ベンゾイル］−５−
   シクロプロピルイソオキサゾール である請求項１に記載の化合物。
7. 【請求項７】（ａ）Ｒが水素を表す場合には、式（I
   I）： （式中、Ｌは離脱基であり、R¹、R²、R³及びR⁴は請求項
   １と同義である）の化合物をヒドロキシルアミン又はヒ
   ドロキシルアミンの塩と反応させ、 （ｂ）Ｒが水素を表す場合には、式（III）： （式中、R¹は請求項１と同義であり、Ｙはカルボキシ基
   又はその反応性誘導体を表す）の化合物を適当な有機金
   属試薬と反応させ、 （ｃ）Ｒが−CO₂R⁵基を表し、ｎが０又は２を表し、R²
   がR²¹を表し、R²¹はｐが０又は２であるという条件下で
   R²と同義であり、R⁴がR⁴¹基を表し、R⁴¹はｐが０又は２
   であるという条件下でR⁴と同義である場合には、式（I
   V）： （式中、R¹及びR³は請求項１と同義であり、R²¹及びR⁴¹
   は上記と同義であり、ｎは０又は２であり、Ｐは離脱基
   である）の化合物を式:R⁵O₂CC（Ｚ）＝NOH（式中、R⁵は
   請求項１と同義であり、Ｚはハロゲン原子である）の化
   合物と反応させ、 （ｄ）Ｒが−CO₂R⁴基を表し、ｎが０又は２であり、R²
   が上記R²¹を表し、R⁴が上記R⁴¹を表す場合には、式
   （Ｖ）： （式中、R¹及びR³は請求項１と同義であり、R²¹及びR⁴¹
   は上記と同義であり、ｎは０又は２である）の化合物を
   式:R⁵O₂CC（Ｚ）＝NOH（式中、R⁵は請求項１と同義であ
   り、Ｚはハロゲン原子である）の化合物と反応させ、 （ｅ）Ｒが−CO₂R⁴基を表し、ｎが０又は２であり、R²
   が上記R²¹を表し、R⁴が上記R⁴¹を表す場合には、式（V
   I）： （式中、R¹及びR³は請求項１と同義であり、R²¹及びR⁴¹
   は上記と同義であり、ｎは０又は２である）の化合物の
   塩を式:R⁵O₂CC（Ｚ）＝NOH（式中、R⁵は請求項１と同義
   であり、Ｚは上記と同義である）の化合物と反応させ、 （ｆ）ｎが１又は２であり及び／又はｐが１又は２であ
   り及び／又はｑが１又は２である場合には、ｎ及び／又
   はｐ及び／又はｑが０又は１である対応する化合物の硫
   黄原子を酸化させる ことからなる請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物の製造
   方法。
8. 【請求項８】農業的に許容可能なキャリヤー又は希釈剤
   及び／又は界面活性剤と共に除草剤として有効量の請求
   項１に記載の式（Ｉ）の化合物を活性成分として含有す
   る除草剤組成物。
9. 【請求項９】活性成分0.05〜90重量％を含有する請求項
   ８に記載の除草剤組成物。
10. 【請求項１０】所定の場所における雑草の成長の防除方
    法であって、除草剤として有効量の請求項１に記載の式
    （Ｉ）の化合物を前記場所に施用することからなる前記
    方法。
11. 【請求項１１】前記場所が作物栽培に使用されているか
    又は使用する予定の区域であり、0.01kg〜4.0kg/haの施
    用量で化合物を施用する請求項10に記載の方法。