JP2001510133A - ヒドロキシルアミンの精製法 - Google Patents

ヒドロキシルアミンの精製法

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Abstract

(57)【要約】 【目的】カチオン及びアニオンを実質的に減少させるヒドロキシルアミンの精製法を提供することである。 【構成】その方法は、ヒドロキシルアミンの溶液を少なくとも一つの強酸イオン交換樹脂床に通し、次に少なくとも一つの強塩基アニオン交換樹脂床に通すことを含む。その強酸イオン交換樹脂床は稀薄塩酸で前処理される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、ヒドロキシルアミンの精製法に関し、特に、イオン交換によるヒド
ロキシルアミン水溶液の精製法が提供される。
【0002】
【従来の技術】
ヒドロキシルアミンは、種々の産業に多くの用途を有する。例えば、製薬産業
において、光硬化性樹脂用剥離組成物に関して広範囲の用途を有する。製薬産業
及び光硬化性樹脂の処理には、製品がアニオン及びカチオンのような不純物を含
まないことが重要である。
【0003】 コッフ(Koff)らの米国特許第4、147、623号は、ヒドロキシルア
ンモニウム塩類を通すアニオン交換樹脂の使用を含むイオン除去によるヒドロキ
シルアミンの精製法を開示している。そのイオン交換樹脂は、主に分離よりも反
応源として利用されている。
【0004】 コッフ(Koff)らの米国特許第4、202、765号は、カチオン交換樹
脂の使用によって、ヒドロキシルアンモニウム塩溶液からヒドロキシルアミンの
分離法を開示している。その方法はアニオンの除去を教示していない。
【0005】 カウルフィルド(Cawlfied)らの米国特許第5、318、762号は
、過剰の酸を含有するヒドロキシルアンモニウム塩類の溶液を弱塩基イオン交換
樹脂に通すことによって処理する方法を開示している。
【0006】 米国特許第4,166,842号は、カチオン交換樹脂を利用して溶液からヒ
ドロキシルアンモニウム・イオンを抽出する方法を開示している、その方法はさ
らにヒドロキシルアンモニウム・イオンをヒドロキシルアミンに転化する工程を
含む。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
それらの先行技術はいずれも、高精製ヒドロキシルアミンを製造するためにヒ
ドロキシルアミンからカチオン及びアニオンの除去を教示していない。
【0008】 従って、本発明の目的は、有害なカチオン及びアニオンを実質的に含まないヒ
ドロキシルアミン溶液を提供することである。
【0009】 本発明の別の目的は、イオン交換樹脂の使用を介してヒドロキシルアミンを精
製することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、通常存在するカチオン及びアニオンを著しく減少させるヒドロキシ
ルアミンの精製法を提供する。そのヒドロキシルアミンの精製法は、 (A) ヒドロキシルアミンの水溶液を稀薄塩酸溶液で処理した少なくとも一
つのマクロポーラス又はゲル強酸イオン交換樹脂床に通す工程;次に (B) 工程Aからの溶液を強塩基アニオン交換樹脂床に通す工程から成る。
【0011】 その塩酸溶液は、約5−20重量%塩酸であることが望ましい。複数のカチオ
ン交換樹脂床及び複数のアニオン交換樹脂床を利用することが望ましい。
【0012】 本発明によって、得られる製品が有害なカチオン及びアニオンを実質的に含ま
ないヒドロキシルアミンの精製法が提供される。本発明は、ヒドロキシルアミン
の水溶液をカチオン強酸イオン交換樹脂の少なくとも一つの床及び強塩基アニオ
ン交換樹脂の少なくとも一つの床に通す方法を提供する。カチオン交換樹脂が塩
酸の稀薄溶液で処理されることが本発明の必須事項である。その塩酸処理は、5
−20重量%の塩酸溶液、好適には約5−20重量%の塩酸溶液で行う。
【0013】 アニオン強酸基交換樹脂は、存在する有害なカチオンを除去するために稀薄水
酸化カリウム又は水酸化ナトリウム溶液で処理することが望ましい。
【0014】 本発明によって、水素の形態で強酸基を含有するカチオン樹脂は、有害な痕跡
の金属の多くを除去できることが発見された。また、従来の硫酸によるような前
処理法は、イオン交換樹脂を前処理又は再生するために稀薄塩酸を使用したとき
に見られるのと同じ結果を与えない。また、イオン交換樹脂の一つ以上の床にヒ
ドロキシルアミンの50重量%溶液を通す前に、ヒドロキシルアミンの5〜20
重量%、好適には5〜10溶液重量%のようなヒドロキシルアミンの稀薄溶液で
カチオン交換樹脂を前処理または再生することが望ましい。
【0015】 イオン交換樹脂床にそのヒドロキシルアミン溶液を添加すると発熱反応が生じ
るので、稀薄ヒドロキシルアミン溶液を利用してイオン交換樹脂を調整すること
が望ましい。使用される50%ヒドロキシルアミン水溶液は強塩基カチオン交換
樹脂と反応し、強い発熱反応を伴って対応するアミン塩を生成する。アミン塩が
一旦形成されて発熱が止むと、Na+、K+及び他のカチオンが樹脂床において
満足に交換される。
【0016】 5〜10重量%、好適には5〜10重量%のヒドロキシルアミン溶液での前処
理の流速を利用して、初期に生じる発熱反応を制御することができる。
【0017】 アニオン及びカチオンの大部分のイオン交換樹脂は、使用前にさらに洗浄また
は再生処理をする必要がある。若しもその洗浄または再生処理を行わないと、ヒ
ドロキシルアミンの過剰の分解が生じる。Na/K値が低下するがCA値が
上昇する場合には、使用前に稀薄塩酸でのカチオン樹脂の再生及び塩基でのアニ
オン樹脂の再生が必要であることがわかった。
【0018】 本法にはゲル型及びマクロポーラシ型のイオン交換樹脂の両方を使用できる。
ポリスチレン及びポリアクリル酸強酸水素形態のカチオン交換及びポリスチレン
及びポリアクリル酸型及び04型の強塩基アニオン交換が望ましい。
【0019】 弱酸型カチオン交換及び弱塩基アニオン交換体は、工業的に製造されるヒドロ
キシルアミン組成物に見られるカチオン及びアニオン痕跡物質の両方を低減させ
るのに効果のないことがわかった。
【0020】 本発明に利用できるアニオン交換樹脂は、OH形態のPuroliteアニ
オン交換樹脂A−600,A−400,A−300,A−300E,A−400
,A−850及びA−87,Rohm&Haas樹脂IRA−400,IRA−
402,IRA−904及びIRA−93,Dow樹脂SBR,SAR,Dow
ex66及びDowexII,IonacASB−1,DuoliteA−10
9,等を含む。
【0021】 本発明に利用できるカチオン交換樹脂は、H形態のPurolite樹脂C
T−151,C−100,C−150,C−105及びNRW−100、Roh
m&Haas樹脂IR−120,IR−122,200、DP−1及びIRC−
50,Dow樹脂MSC−1,Dowex88及びCCR−2,Ionac樹脂
CC及びCNN、Duolite樹脂C−200,C−26,C−200等を含
む。
【0022】 次の実施例は、本発明をさらに説明するものであって、本発明の範囲を限定す
るものではない。
【0023】
【実施例】実施例1 1. 活栓を含む直径が2.54cmのガラスカラムに、Furolite CT−151カチオン交換樹脂25mlを添加した。そのカラムを脱イオン(D
I)水1Lでフラッシングした。次にその樹脂を10%塩酸でフラッシングした
。そのカラムは、全ての有害なカチオンが高周波誘導結合プラズマ(ICP)分
析によって除去されたか否かを測定する試験をした。次にそのカラムは、塩化物
イオン・レベルが0.5ppm以下になるまでDI水でフラッシングした。5%
ヒドロキシルアミン溶液をそのカラムに注入したところ、発熱反応があった。そ
の発熱の完了後、そのカラムに50%塩酸溶液を通した。
【0024】 2. 上記工程1に類似のFuroliteアニオン交換樹脂A−400でガ
ラスカラムを調製した。ICP分析が金属アニオン、特にFeCl −3の除去
を示すまで、そのカラムに8%KOH溶液1000mlを通した。そのカラムは
、次に、ICPによるKの分析が5ppb以下になるまでDI水2Lでフラッ
シングした。次に、そのカラムは窒素で乾燥した。次に工程1で処理した50%
ヒドロキシルアミン溶液をそのカチオンを交換樹脂に通した。
【0025】 調製した複数(約5)のカチオン交換樹脂床に50%ヒドロキシルアミン溶液
を通し、次に約3つのアニオン交換樹脂床に通すことが望ましい。
【0026】 実施例1の方法を用いた痕跡金属の減少を下記に要約する: イオン交換前 イオン交換後 (ppb) (ppb) Al 536 <5 Ca 72 <5 Cr 70 <5 Fe 313 <5 Mg 15 <5
【0027】 イオン交換前 イオン交換後 (ppb) (ppb) Ni 29 9 K 303 <5 Si 1687 <5 Na 183 <5
【0028】比較例1 10%塩酸の代わりに、工程1で10%硫酸を使用したことを除いて実施例1
の方法に従った。アニオン交換樹脂床に通した後に得られたヒドロキシルアミン
は許容できない量の痕跡カチオンを含有した。
【0029】比較例2 工程2でPurolite A−100のポリスチレン型弱塩基アニオン交換
樹脂を使用したことを除いて実施例1に従った。アニオン交換樹脂床に通した後
に得られたヒドロキシルアミンは許容できない量の痕跡アニオンを含有した。
【0030】比較例3 工程2で、アニオン交換樹脂としてPurolite A−830の遊離塩基
イオン形態を有する弱塩基ポリアクリルアニオン交換樹脂を使用したことを除い
て実施例2の方法に従った。アニオン交換樹脂床に通した後に得られたヒドロキ
シルアミンは許容できない量の痕跡アニオンを含有した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),AL,AM,A T,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA ,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES, FI,GB,GE,HU,IL,IS,JP,KE,K G,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT ,LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX, NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,S G,SI,SK,TJ,TM,TR,TT,UA,UG ,UZ,VN (72)発明者 ミチェロッティ、フランシス ダブリュ アメリカ合衆国ペンシルパニア州18042 イーストン サウスウッド ドライブ 3560

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記の工程(A)及び(B)からなることを特徴とするヒド
    ロキシルアミンの精製法: (A) ヒドロキシルアミンの水溶液を稀薄塩酸溶液で処理した少なくとも一
    つのマクロポーラス又はゲル強酸イオン交換樹脂床に通す工程;及び次に (B) 前記工程Aからの溶液を少なくとも一つの強塩基アニオン交換樹脂床
    に通す工程。
  2. 【請求項2】 前記工程(A)の樹脂の処理に5−20%の塩酸溶液を使用
    することを特徴とする請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記工程(A)の樹脂が、強酸ポリスチレン樹脂であること
    を特徴とする請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記工程(B)の樹脂が、ジビニルベンゼンで架橋されたポ
    リスチレンから成ることを特徴とする請求項1記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記ヒドロキシルアミン溶液が、5〜10重量%のヒドロキ
    シルアミンから成ることを特徴とする請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 50重量%のヒドロキシルアミン溶液を通す後続工程を含む
    ことを特徴とする請求項5記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記ヒドロキシルアミン溶液が、工程(A)において複数の
    樹脂床に通されることを特徴とする請求項1記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記工程(A)からのヒドロキシルアミン溶液が、工程(B
    )において複数の樹脂床に通されることを特徴とする請求項1記載の方法。
  9. 【請求項9】 下記の工程(a)〜(f)から成ることを特徴とするヒドロ
    キシルアミンの精製法: (a) 複数の強酸イオン交換樹脂床を形成する工程; (b) 複数の強塩基イオン交換樹脂床を形成する工程; (c) 前記強酸イオン交換樹脂床を稀薄塩酸溶液で処理する工程; (d) 前記強塩基イオン交換樹脂床を水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム
    の溶液で処理する工程; (e) 5〜20重量%のヒドロキシルアミンを含有する水溶液を前記強酸及
    び強塩基イオン交換樹脂床に通す工程;及び次に (f) 50重量%のヒドロキシルアミンを含有する水溶液を前記強酸及び強
    塩基イオン交換樹脂床に通す工程。
  10. 【請求項10】 請求項1の方法によって調製されたヒドロキシルアミン水
    溶液。
  11. 【請求項11】 請求項9の方法によって調製されたヒドロキシルアミン水
    溶液。
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