JP2001503840A - ガスパネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 半導体を製造するツールと併用するガスパネル（１４）は、プロセスガスを受け入れる流入口（１００）を備えた一体型マニホールド本体（１５２）を含む。

Description

【発明の詳細な説明】 ガスパネル 発明の背景 本発明は、一般には半導体処理用のガス取り扱いシステムに関し、特に局部的 な性質のガスパネルシステムまたは半導体処理ツールの周囲に分散させたガスパ ネルシステムに関する。 一般にウェハ製造設備は、化学的蒸着、プラズマ蒸着（デポジション）、プラ ズマエッチング、スパッタリングなどを行う領域を含むように構成されている。 これらのプロセスの大半を行うには、化学的蒸着反応装置、真空スパッタリング 装置、プラズマエッチャ、プラズマエンハンスト化学的蒸着の別を問わず、プロ セスに使用するツールに、反応性ガス、不活性ガス、あるいは反応化学種を生成 するガスなど、各種プロセスガスを供給する必要がある。 例えば、エピタキシャル成長（デポジション）を行うには、乾燥窒素などのキ ャリアガスを四塩化ケイ素に通して気泡にする。キャリアガスは、四塩化ケイ素 の蒸気をエピタキシャル成長室に運ぶ。酸化ケイ素誘電体膜、別名、堆積酸化物 膜を成膜させるには、シラン（ＳｉＨ₄）をツールに流入させ、酸素をツールに 流入させる。そこで両者が反応して、ウェハ表面でＳｉＯ₂を形成する。プラズ マエッチングは、四塩化炭素および六フッ化イオウをプラズマエッチングツール に供給して行う。化合物はイオン化され、シリコンウェハをエッチングする反応 性ハロゲン種を形成する。ツール内でジクロロシランとアンモニアとの反応によ り、窒化ケイ素を堆積させることができる。各例において、汚れのない純粋なキ ャリアガス、または反応性ガスを正確に計量してツールに供給する必要があるこ とを理解されたい。 典型的なウェハ製造設備では、不活性ガスおよび反応性ガスがタンクに保存さ れ、タンクは設備の地下などにあり、パイプまたはコンジットを介して、バルブ マニホールドボックスに接続されている。タンクおよびバルブマニホールドボッ クスは、設備レベルのシステムの一部であると考えられる。ツールレベルでは、 プラズマエッチャなど、ツールシステム全体が、ガスパネルおよびツール自体を 含む。ツール内にあるガスパネルは、ツール内の手動バルブ、空圧バルブ、圧力 レギュレータ、圧力トランスデューサ、マスフロー制御装置、フィルタ、浄化装 置などを接続する複数のガス経路を含む。これらの装置すべてには、純粋な不活 性ガスまたは反応性ガスを正確に計量した量だけバルブマニホールドボックスか らツール自体に供給するという目的がある。 ガスパネルは、ツールを備えたキャビネット内に配置され、各活動装置（ａｃ ｔｉｖｅ ｄｅｖｉｃｅ）が、装置にチューブを溶接するか、Ｃａｊｏｎ Ｃｏ ｒｐｏｒａｔｉｏｎなどが販売しているＶＣＲコネクタなどのコネクタと溶接の 組み合わせにより、ガスパネルに配管されているため、比較的広いスペースを占 めるのが普通である。 ガスパネルは、比較的製造が困難であり、したがって、高価である。ＶＣＲコ ネクタと溶接チューブシステムとの組み合わせでは、シムを入れたサポート上に 個々のコンポーネントを保持して、ＶＣＲ継手の接続箇所の前で整合を行う。Ｖ ＣＲ継手の位置に不整合があると、漏洩が発生する。 さらに、ＶＣＲ継手は、輸送中に緩みやすいことがわかっており、ガスパネル メーカーの中には、ＶＣＲ継手が輸送時に緩み、汚染物がシステムに入り込む恐 れがあると考えているメーカーもある。 このようなシステムでの溶接は、比較的コスト高となるが、通常、チューブス タブとチューブとを溶接する環状溶接ヘッドを備えたタングステン不活性ガス（ ＴＩＧ）システムを利用して行う。溶接は、アルゴンなどのような不活性雰囲気 で行う必要があり、しかもその後チューブ内の表面仕上げを劣化させる。今日の ガスパネルシステムおよびガス取り扱いシステムの重要な特性の１つは、ガスや 蒸気と接触しやすいガス取り扱い機器の表面をできるだけ平滑で反応しにくくし 、汚染物がチューブ内で付着し、処理中のウェハを汚染する粒子やホコリを形成 しやすい核形成箇所および集合箇所の数を減らさなければならないことである。 従来のガスパネルにかかわるその他の問題は、現在使用されているタイプの組 み合わせＶＣＲおよび溶接システムが、整備時にＶＣＲ接続箇所に手が届き、こ れを開くことができるように、通常、各コンポーネント間に大きなスペースを必 要とすることと関連している。また、現在のガスパネルから作動コンポーネント を取り外すには、コンポーネントを広げて、対象とする作動コンポーネントを外 せるように、周囲のコンポーネントの支持物の多くを緩めなければならない。 大半のウェハメーカーは、例えばガスパネル内のシランラインが「塵にまみれ る」のは、単に時間の問題であることを認識している。作動中のシランラインに 空気が漏洩した結果、自然発火反応が起こり、チューブ内の二酸化ケイ素粒子が 剥離して、ラインを汚染する場合に、「塵」が発生する。その他のラインも汚染 されることがある。例えば、エッチャで使用する塩素ガスが流れるラインや、そ の他の反応に使用する塩化水素が流れるラインなどが汚染される。塩化水素は、 空気中の水分と混ざりあうと、塩酸を生成し、塩酸はチューブの内面を浸食して 荒し、チューブ内で好ましくない付着が発生する機会および核形成箇所の数が増 大する。どちらの場合も、その他の場合と同様に、ガスパネル内の一定のライン を開いて、清掃する必要がある。 また、個々のコンポーネントに障害が発生した場合、ラインを開いて清掃しな ければならないので、時間とコストがかかる。 したがって、コンパクトで、製造コストが低く、整備が簡単な新タイプのガス パネルが必要である。 発明の概要 本発明によれば、一体型ガスまたは蒸気マニホールドを受け入れる複数の活動 装置を含むガスパネルアセンブリが提供される。マニホールドを受け入れる活動 装置は、流入端部からガスまたは蒸気を受け入れ、活動装置に接続されているか またはガスリターンキャップを活動装置に接続している複数の活動装置収容ステ ーションまで、ガスまたは蒸気を複数の内部経路に沿って流し、最終的に流出口 からガスまたは蒸気を流してツールに供給するように構成されている。 本発明のガスパネルアセンブリは、標準化マニホールドと、活動装置への接続 用の標準化フットプリントとを併用していることから、簡単に製造できる。各活 動装置サイトは、ほぼ矩形のマニホールドの表面に沿って配置され、活動装置マ ニホールドの表面に対してほぼ直角に延び、したがって共通流路から出るように 方向を定めてある。各装置は、複数のアレンヘッド（六角頭）ボルトによりマニ ホールドに接続されている。このボルトは、装置の基部をマニホールドに固定す るボルトであって、システムの他の部分を乱すことなく、システムから特定の装 置を外すために迅速、容易に取り外すことができる。 各マニホールドが、事前組み立てされた、繰り返し機械加工が可能なコンポー ネントになっているため、マニホールドシステムも、自己調整（整合）式である 。マニホールド自体を貫通しかつマニホールド自体によってサポートされる接続 がなされているので、溶接接続箇所やＶＣＲおよびチューブ接続箇所を活動装置 に直接設ける必要がない。隣接するステーションの間のマニホールドから、各流 入および流出接続ループをマニホールド内で折り重ねることによって、スペース が大幅に節約され、従来技術によるガスパネルアセンブリに比べ、必要スペース が激減する。 本発明を具体化したガスパネルアセンブリは、各活動装置をそれぞれ独立して 調整するので、製造が容易である。例えば、圧力レギュレータと、一体型マニホ ールドの表面にある装置収容ステーションの間に不整合が発生しても、その結果 、隣接するバルブマスフロー制御装置などは、共通マニホールド構造と整合を外 れた位置にはならない。したがって、発生する恐れがある不整合は、マニホール ドシステムの採用により、周囲のステーションから分離されている。また、マニ ホールドを活動装置に同時に接続し、整合させることができるので、許容誤差の 累積の問題も回避される。 マニホールドに接続した各活動装置は、組み合わせシールおよびネジ捕捉機構 コンポーネントを含み、シールが、シールを活動装置と整合状態に保持するキー パを含み、ネジがナイロン製スプリットリングに捕捉され、活動装置のマウント の穴の中に保持されるように事前組み立てしてもよい。これにより迅速かつ容易 な組立てが可能になる。活動装置は、作動箇所のエッジシール上に着座させてあ る。エッジシールは、広い範囲にわたる表面処理や微妙な表面処理を必要とせず 、マニホールドと活動装置との間にあるガス流入口および流出口で、漏洩や汚染 がない良好な接続を行う。シールは、修理中、簡単に取り外して交換することが できる。シールは、自己配置キーパを含み、このキーパは、現場でマニホールド 表面の活動装置を交換する場合、特に役に立つ。 また、本発明のガスパネルマニホールドシステムによれば、マニホールドアセ ンブリ全体、あるいはスティックは、加熱テープやその他の形式のヒータを適用 して、活動装置のコンポーネント間に延びるマニホールド穴をすべて加熱したり 、システムの各プロセスガスラインの全体にわたって低蒸気圧ガスまたは蒸気を 蒸気の状態に維持することができる。 本発明によるガスパネルマニホールドシステムは、溶接箇所やＶＣＲ接続箇所 を破壊する必要がないため、現場で、ユーザが容易にガスパネルを再構成するこ とができる。活動装置は、持ち上げて活動装置サイトと分離し、新しいものを接 続するだけで、簡単に交換、追加が可能である。 一体型マニホールドの上流端部および下流端部の両方に一対の窒素パージ流入 口を設けてあり、したがって、活動装置をマニホールドから取り外す必要がある 場合、マニホールドから乾燥窒素を前後両方向に吹き込むことができる。活動装 置サイトの交換時に活動装置サイトおよびマニホールドの残り部分の汚染が除去 されれば、露出した流入ポートおよび流出ポートの双方から、清浄な乾燥窒素が 流出する。 さらに、本発明の実施形態では、マニホールドガスパネルシステムが、読み取 り可能なデジタルメータを備えた圧力トランスデューサを含み、したがって、サ イトでオペレータが直接圧力を読み取ることができるとともに、制御コンピュー タに圧力を送信することができる。 本発明の装置のさらに別の特徴として挙げられるのは、ガスパネルシステムが 、床部、側部、およびカバーを備えたガスパネルハウジングに収容されているこ とである。ガスパネルマニホールドの各端部において、マウント孔と合うように した複数のネジ付マウントが、ガスパネルハウジングの床部を横切って延びてい る。このマウントでは、活動装置を収容するマニホールドの上面が、それぞれ単 一平面に整合する。よって、ガスパネルシステム全体の活動装置を迅速に組み立 てることができ、ブリッジングコネクタを、各マニホールドが画定するガスパネ ル活動装置平面全体と簡単に整合させることができる。また、単一装置面構造の おかげで、活動装置をマニホールドに固定している六角頭ボルトに容易に接近す ることができる。 Ｕチューブ型ブリッジコネクタでは、連続マニホールドを相互接続し、各種マ ニホールドをブリッジするＣａｊｏｎエルボ（ひじ継手）により、長いコネクタ レッグと短いクロスチューブが１つに接続され、このブリッジコネクタは、窒素 など、パージガスの経路となる。長いチューブは、機械的に有利であり、限度は あるが、短いブリッジングチューブを湾曲させることができる。したがって、Ｕ チューブ接続は、活動装置の面を画定する水平面内で発生する可能性があるわず かな不整合を寸法的に許容する。マニホールド間でＵチューブが簡単に接続でき るべくマニホールド間の水平方向のわずかな遊びを許容するために、ネジ付支持 固定具と活動装置のマニホールドとがぴったりとはまり合うことはないものと考 えてよい。また、Ｕチューブは、チューブを曲げることで、溶接の必要がないＵ 字形状構成に形成してもよい。 ガスパネル外囲いの表面上部にマニホールドを懸垂することができるため、パ ージ用空気および真空空気をアセンブリの周囲で循環させることができる。ウェ ハ製造設備の建築基準法では、所定量のパージ用空気で、ガスパネルのハウジン グから漏洩プロセスガスを排除し、安全に処分するように義務づけていることが 多い。床部の上にマニホールドアセンブリを懸垂することによって排除性能を向 上させれば、ガスパネルシステム内で発生する恐れがある漏洩をウェハ製造運転 者と分離するのに役立つ。 図面の簡単な説明 図１はハウジングおよびガスパネルマウンティングプレートを含むガスパネル システムの斜視図である。 図２は図１に示すガスパネルの斜視図である。 図３は図２に示すガスパネルの上面図である。 図４は図２に示すガスパネルの底部の斜視図である。 図５は図２に示すガスマニホールドの斜視図であり、想像線で示した部分を含 む図である。 図６は別の実施形態の流出ガスパネルマニホールドの分解斜視図であり、想像 線で示した部分を含む図である。 図７は別の実施形態の流入ガスパネルマニホールドの斜視図である。 図８は本発明を具体化したガスパネルと併用するマスフロー制御装置の断面斜 視図である。 図９はガスパネルシステムの一部とジャンパ構成に接続したマスフロー制御ベ ースブロックの底部の図である。 図１０はガスパネルマニホールドとの組み付けの詳細を示す、マスフロー制御 装置の底部ブロックの分解斜視図である。 図１１は図１０に示す変形可能エッジタイプシール要素の斜視図である。 図１２はキーパおよびＣリングシールの分解斜視図である。 図１３は図１２に示すキーパとＣリングシールの掛合の状態を示す斜視図であ る。 図１４はマスフロー制御装置の一部と、ガスパネルマニホールドの一部との間 の断面図であり、Ｃリングシールとマニホールドの掛合の詳細を示す図である。 図１５は空圧制御バルブの分解斜視図であり、ガスマニホールドとの接続用の フランジマウントアセンブリの詳細を示す図である。 図１６は図１５に示すアセンブリで使用するエッジタイプシールの斜視図であ る。 図１７はジャンパコンジットの分解斜視図である。 図１８は図１７に示すジャンパコンジットの接続継手の詳細部分断面分解図で ある。 図１９はガスパネルサポートプラットフォーム上のガスマニホールドの詳細部 分断面斜視図である。 図２０はガスパネルスティックの部分分解斜視図であり、その内部の接続関係 の一部を示す図である。 図２１はバルブをガスマニホールドに接続するフランジの分解斜視図である。 図２２は図２１に示すフランジの断面図である。 図２３はアセンブリガスマニホールドの別の実施形態の斜視図である。 図２４は図２３に示すマニホールドの上部側面図であり、想像線で示した部分 を含む図である。 図２５は図２３に示すマニホールドの側面図であり、想像線で示した部分を含 む図である。 図２６は図２３に示す組み立て済みガスマニホールドの一部の断面図である。 好ましい実施形態の詳細な説明 図面、特に図１を説明すれば、全体として参照番号１０で示すガスパネルアセ ンブリは、上部ハウジング部分１６と下部ハウジング部分１８との間に位置する ガスパネル１４を有するガスパネルハウジング１２を含む。ガスパネルアセンブ リは、ガス源から複数の種類のプロセスガスを受け、半導体ウェハを製造するツ ールにこれらのガスを供給する。 ハウジングは、ガスパネル１４から漏洩する可能性のあるガスをガスパネルの すぐ近くに閉じ込め、ガスを効率的に除去するようになっている。ガスを封じ込 めるために、ガスパネル自体は、ガスパネルから延びてハウジング１６の上部の 上部壁２４に接触する複数の柱２０を備えている。また、ハウジングは、一対の 端部壁２６および２８、後部壁３０、および前部壁３２を含む。底部ハウジング １８は、底部壁３４を含み、底部壁は、そこに形成され、ガスパネル１４のその 他の部分に接続されるガス流動ラインを受けるように構成された複数の流入孔３ ６を備えている。孔３６は、ハウジング１２内への空気の通り抜けの流入口とし ても機能するように、ガス流動ラインの直径よりもかなり大きくなっている。通 り抜けた空気は、排気プレナム３８から排出され、このプレナムは、適切な低圧 源または真空源に接続されることもある。ガスパネル１４の一部に配線できるよ うに、底部壁３４には、複数の電気接続部４０も配置されている。 図２を参照すると最もよくわかるが、図２に示すガスパネル１４は、複数のプ ロセスガススティック、すなわちプロセスガスアセンブリ５０、５２、５４、５ ６、および５８を備えている。アルミニウム製プラットフォーム６２上には、窒 素ガスパージアセンブリ６０も配置されている。アルミニウム製プラットフォー ム６２は、各ガススティックの入口に接続するためにプラットフォームに形成さ れたチューブ入口穴７０、７２、７４、７６、および７８とパージガス穴８０と を備えている。プロセスガススティック５０、５２、５４、５６、および５８は 、 ほぼ同じものである。各スティックは、例としてあげたスティック５０に示すよ うに流入口１００を含む。流入口１００は、ＶＣＲ継手１０２のネジ付部分を接 続したＵ字状チューブを備えている。Ｕ字状チューブ１００は、チューブベース １０４に接続され、このベースは、流入マニホールド１１８に接続されている。 また、マニホールドは、端部壁部すなわち端面１２０を含む。各スティックは、 複数の活動装置、すなわちガスコンポーネントを含む。 シランなど、プロセスガスは、ナット１０２に接続したラインから、Ｕチュー ブ１００を介してベース１０４に送り込まれ、ここで流入マニホールドに供給さ れる。手動バルブ１３０は、活動装置、すなわちガスコンポーネントのいずれか １つを含み、かつベースに取り付けられており、このバルブを回転させてマニホ ールドを介したプロセスガスの供給を遮断することができる。マニホールドには 、複数の穴が形成され、この穴は、流入口１００およびバルブ１３０と連通して いる。ガスは、適当な空圧源から空圧ステム１３６を介して制御可能な空圧バル ブ１３４まで流れる。パージバルブ１４０は、ブリッジングＵチューブ１５０を 介して第２のマニホールド１５２に接続されている。 図５に示す長尺の矩形マニホールド１５２は、一対の側壁１６０および１６２ 、横方向底部壁１６４、横方向上部壁１６６、および端部壁１６８、１７０を含 む。マニホールドは、ほぼ一体になっており、流入ステーション１７０および流 入ステーションに沿って延びる複数の活動装置ステーション１７２ａ〜１７２ｆ を備え、マスフロー制御装置ステーション１７４、第２のマスフロー制御装置ス テーション１７６、および流出ステーション１８０を含む。一連のステーション は、ブロック、すなわちマニホールド１５２に加工した穴により接続されている と考えてよい。 屈曲可能要素１５０は、流入口１７０に接続され、穴１９０にガスを供給し、 この穴は、第１の活動装置ステーション１７２ａに達する流入チューブを形成す る第２の穴１９２に接続する。第１の活動装置ステーション１７２ａには、圧力 レギュレータ２００が取り付けてあり、このレギュレータは、穴１９２からガス を受け、圧力が低下したガスを穴１９４を介して戻し、ガスはさらに穴１９６に 供給される。ガスは、圧力トランスデューサ装置２０６を配置した第２のステー ション１７２ｂに供給される。圧力トランスデューサ２０６は、ユーザに対して 視覚表示、すなわち圧力を表示する読み取り可能なメータ２０７を備えている。 さらに圧力トランスデューサは、パネルから圧力信号を送る電気信号接続部を有 している。ガスの流れは、穴２０８を介して穴２１０に達し、フィルタ／浄化装 置２１２を取り付けた第３のステーション１７２ｃに供給される。 フィルタ／浄化装置は、ガスの流れから水分を除去し、穴２１３を介して乾燥 ガスの流れを穴２１４に戻す。穴２１４を介して活動装置ステーション１７２に 供給された乾燥ガスは、圧力トランスデューサ２２０に供給され、ついでこのト ランスデューサは、圧力測定後、ガスを穴２２２に供給し、ガスはこの穴から穴 ２２４に供給される。穴２２４は、孔２２６により、マスフロー制御装置２２８ の流入口に接続されている。マスフロー制御装置２２８は、受信した電気信号に したがってガスの流れを計測する。マスフロー制御装置は、計測したガス出力を 孔２３０に供給し、この孔は、前記出力を孔３２に供給する。穴３２は、流出口 １８０からガスを流す穴２３４にガスを供給するために接続されている。流出口 １８０には、空圧バルブ２４０が接続されており、このバルブは、一連の空圧バ ルブ２４２、２４４、２４６、および２４８を介してブリッジングコネクタによ り接続され、この空圧バルブは、ガスパネルからガスを供給する流出ライン２５ ０に選択的にガスを流す。 さらに、乾燥窒素やアルゴンなどのパージガスは、パージガス流入口２７０か ら流入し、Ｕチューブ２７２によりパージガス矩形マニホールド２７４に供給さ れる。このマニホールドは、横方向に延びる面を備え、この面は、マニホールド ２７４の残り部分を介した、窒素など、パージガスの移動の断続を行うために、 この面にある穴と連通して配置された手動バルブ２７６を含む。空圧バルブ２８ ０は、ガスを圧力トランスデューサ２８２に接続し、このトランスデューサは、 長尺Ｕチューブ２８４を介して、流出マニホールド２８６など、パージガスマニ ホールドシステム６０のその他の部分にガスを供給する。また、圧力トランスデ ューサは、複数の空圧バルブ２９０、２９２、２９４、２９６または空圧バルブ １４０を介してガスを供給する。これらの空圧バルブは、ガススティック５０、 ５２、５４、５６、および５８の中央マニホールド部分にパージガスを供給する ために、ブリッジング要素によって接続されている。空圧バルブは、複数の空圧 ライン３００によって制御され、このラインは、電気制御ブロック３０２から駆 動され、このブロックは、適当な外部信号源からの電気入力を受ける。 パージガスは、Ｕチューブを介してブロック２８６に供給され、ここで空圧バ ルブ３１０および圧力レギュレータ３１２を通って、流出口２５０に供給される 。バルブは、パージガスがバルブ２９０から２９６と１４０を含む流入バルブス ティック側およびバルブ２４０から２４８を含む流出スティック側の両方に流入 し、マニホールド１５２の両端から内側に向かってのパージガスの流れを生じさ せ、修理中にマニホールドを清浄な状態に保つように循環されることを理解され たい。 図７を見ると最もよくわかるように、流入マニホールドの別の実施形態は、第 １の活動装置サイト４００、第２の活動装置サイト４０２、および第３の活動装 置サイト４０４を含む。各サイト４００、４０２、および４０４は、外部エッジ タイプコネクタと掛合する外部周囲リング４０６、４０８、および４１０をそれ ぞれ含む。穴４１４を介してガスを第２の穴４１６に供給するために、Ｕチュー ブ流入口は、孔４１２に接続されている。第２の穴４１６は、流入口４２０にガ スを供給する。 続いてガスは、手動バルブ１３０を通って流れ、流出孔４１８に供給され、流 出孔は、穴４２０を介してガスを第２の傾斜穴４２２に供給する。この第２の傾 斜穴は、作動サイト４０２に接続されている。穴４２２は、空圧バルブ１３４に ガスを供給する孔４２４に接続されている。ガスは、開口部４３０を通って空圧 バルブ１３４から出る。開口部は、孔４３４に接続された孔４３２にガスを供給 する。 第２の空圧バルブは、サイト４０４で接続してもよい。第２の空圧バルブは、 三方向バルブであって、孔４３４から、シランなど、プロセスガスを受けること ができる。プロセスガスは、孔４４０からバルブに供給される。ある状態におい て、バルブは、プロセスガスを流出孔４４２に移動させる。この流出口は、ジャ ンパ１５０に接続されたマニホールド流出口４５０にガスを供給するために、穴 ４４４および穴４４６にガスを供給する。ところが、別のモードでは、パージガ スが、孔４６０から流入し、横方向穴４６２により、バルブに達する垂直穴４６ ４に供給され、したがって、穴４３４を介して逆方向に供給されるか、あるいは 大半の用途では、孔４４２を介して順方向に供給され、ラインのその他の部分の 洗浄が行われる。また、流入マニホールドブロックは、マニホールドブロックす べての代表例であるため、移動穴４６２は、ブロック全体にわたってガスを移動 するために使用され、したがって、窒素マニホールド６０から流れる窒素は、横 方向穴を介して流入ブロック全体にわたって移動する。 図６に示す流出マニホールド５００の別の実施形態は、マスフロー制御装置か らガスを受ける流入穴５０２を含む。制御されたガス流は、傾斜穴５０４を通っ て第２の傾斜穴５０６に移動し、バルブを接続した活動装置サイト５０８に供給 される。ガスは、バルブ２４０などのバルブに供給するために、孔５１０に供給 される。続いてガスは、垂直穴５１５を介して下向きに横方向穴５１４に供給さ れる。この横方向穴は、第１の穴カップリング５１６および第２の穴カップリン グ５１８で終端している。継手５２０および５２２は、それぞれガスを横方向に 供給する穴カップリングに接続され、したがって、選択されたガスは、パネルを 介して１つの流出口２５０に供給される。 図１５および図１６を見ると最もよくわかるように、空圧バルブ１１２など、 代表的な空圧バルブは、市販のバルブアクチュエータ１１４を含む。バルブアク チュエータは、空圧インタフェース継手５５２を介して連通するバルブコンポー ネントを備えている。空圧インタフェース継手は、空圧ラインにより空圧マニホ ールドに接続されている。バルブ１１２は、フランジ５５４に接続され、このフ ランジは、矩形ベース５５６とバルブ受けカラー５５８を備えている。複数のマ ニホールド取り付けボルト５６０が、ガスマニホールドブロックとの接続用の孔 ５６２を通って延びている。 バルブ１１２は、ほぼ矩形で、ボルト５６０が貫通した複数の孔５７２を含む 、事前組み立てしたキーパ５７０を使用して、シール要素を取り付けた状態で事 前に組み立てることもある。ボルト５６０は、ナイロン製スプリットリング５７ ４で捕捉され、このリングは、ボルトと軽く掛合するが、ボルトを穴５６２内で 保持し、したがって事前組立て後、ボルトが脱落することがなく、ユニットを併 せ てパッケージすることが可能である。 バルブとマニホールドの封止掛合を行うシールリング５８０は、リング５８２ を具備し、周囲に複数の半環状タブ５８６を配置した突起縁５８４を含む。タブ ５８６は、エッジ、すなわち肩部５９０と掛合し、この肩部は、孔５９２および キーパ５７０を画定する。キーパ５７０は、各孔５９６で、複数の小ボルト５９ ４を受ける。孔５９６は、フランジ５５４の矩形ベース５５６の底部に形成した 孔と一致しており、これがフランジ５５４の底部にキーパを止めている。ボルト ５９４は、フランジ５５４に形成したネジ付端ぐり孔５９５に掛合する。ネジ付 孔５９５は、キーパ５７０を、したがって、マニホールドブロックで組み立てる 前に、シールリング５８０をフランジ５５４の底部５５６に接続するホルダーま たはリテーナの役目をする。 シールリング５８０は、キーパ５７０のわずかに下方に延在するが、フランジ の底部で開口部６０２と整列して捕捉され、延在部分でキーパのわずかに下方に 延在している。せいぜい、ユニットを完全に事前組み立てし、マニホールドに即 座に追加することができる。フランジタイプベースは、マニホールドシステム全 体に使用する類似のフランジタイプベースの代表例であり、この場合、フランジ は、シールリングをキーパで確実に保持して事前組み立てされる。 このような構成の別の例を図１７から図１８に示す。図１７から図１８には、 ジャンパ１５０など、代表的なジャンパを示してある。ジャンパ１５０は、接続 用ステム７０４がチューブ７０６とガス導通接触した流入ブロック７０２を含む 。エルボ（ひじ継手）７０８は、チューブ７０６に溶接され、第２のエルボ７１ ０は、エルボ７０８からクロスピースチューブ７１２にガスを運ぶ。チューブ継 手７２０でブロック７２２に接続された流出チューブ７１８にガスを供給するた めに、第１のリターンエルボ７１４が第２のリターンエルボ７１６に接続されて いる。各ブロック７０２および７２２は、それぞれボルト７２６、７２８、７３ ０、および７３２を含み、これらのボルトは、ブロックを貫通して延びている。 ブロックの穴７４２の内部には、プラスチック製スプリットリング７４０でボル ト７２６が保持されている。また、ブロック７０２の穴７４６の内部には、スプ リットリング７４４でボルト７２８が保持されている。金属製キーパ７５４のリ ング キーパ穴７５２には、タブ付シールテーブルリング７５０が配置されている。キ ーパ７５４は、一対のキーパ取り付けボルト孔７５６および７５８を備え、この 孔は、キーパ取り付けボルト７６０および７６２を収容してキーパを保持すると ともに、チューブ７０４の開口部と一致させてシールリング５７０を捕捉し、キ ーパ内部、最終的にはマニホールド内部に押し込む。同様に、ボルト７３０が、 ボルト孔７７０を貫通して延びている。ボルト７３２は、ボルト孔７７２を通っ てキーパ７８０の孔７７４および７７６内部に延びている。組立て前に、ボルト はスナップリング７９０、７９２により軽く掛合させてあり、キーパ７８０は、 ボルト８００、８０２を介してシールリング７９４をブロックの底部と掛合状態 に保持している。ボルト８００、８０２は、キーパの孔８０４および８０６を貫 通して延びている。 Ａｐｔｅｃｈ３５５０、バルブ１４０、２９０、２９２、２９４、および２９ ６など、マルチプルポートあるいは三方向バルブを併用するフランジの代替実施 形態については、図２１および図２２を参照すれば最もよくわかる。バルブフラ ンジ８２０は、空圧バルブなどのバルブと接触する直立した円筒フランジ部分を 有するフランジベース８２０を含む。ガス接続孔８２８との間に第１の穴８２６ が延び、第２の穴８３０が、ガス接続孔８３２まで延びている。孔８２８および ８３２は、共に穴の底部端部で終端している。穴８２６の上部端部は、孔８３６ で終端している。穴８３０の上部端部は、孔８３８で終端している。穴８２８お よび８３２は、フランジ底８２２の底部８３２にある。 一対の金属製キーパ８５０、８５２は、ほぼ矩形であって、複数のエッジタイ プシール８５４、８５６、および８５８を保持している。シール８５４は、孔８ ５５ｃまで延びる穴８５５ｂの開口部８５５ａに位置している。シール８５６は 、孔８２８に位置し、シール８５８は、孔８３２に位置している。シール８５４ は、キーパ８５０のシール受け孔８６０に座り、シール８５６は、キーパ８５０ のシールリング受け孔８６２に座る。シールリング８５８は、キーパ８５２のキ ーパ受け孔８６４に座る。キーパ８６４も、その他の用途に使用する場合がある 余分な孔８６６を含む。 複数のキーパ保持ボルト８８０、８８２、および８８４は、それぞれキーパ８ ５２の孔８９０、８９２、および８９４を貫通して延び、フランジ８２２に接触 する。複数のスプリットリング９１０、９１２、９１４および９１６は、ガスパ ネルにフランジを取り付けるネジ付固定具８７０、８７２など、ネジ付固定具に 接触する。穴８７４、８７５など、ネジ付固定具穴内部にネジ付固定具を保持す るために、複数のキーパボルト９２４、９２６、および９２８が、孔９３０、９ ３２、９３４を通って延び、キーパ８５０および付属のシールリング８５４、８ ５６をフランジ８５２の底部に固定している。したがって、フランジアセンブリ 全体では、マニホールド本体との接続を行う、局所的にきわめて限定された孔が 形成されている。各孔は、各穴８３０、８２６、および８５５ｂとマニホールド との間の漏洩を防止する比較的小さいシールリングと関連している。このため、 漏洩を容易に検出することができる。 図８を見れば最もよくわかるように、例としてあげるマスフロー制御装置２２ ８は、ガスパネルと併用されている。マスフロー制御装置は、一対の本体ブロッ ク１０００および１００２を含み、ブロック１０００には、バイパス１００４が 取り付けられている。ガスは、ガス孔１００８を介して流入ブロック１００６に 流入し、穴１０１０を通って穴１０１２に供給される。穴１０１２の内部にはバ イパスが取り付けられている。ガス流れの一部は、流速を示す電気信号を回路１ ０１８に供給するセンサチューブ１０１６を流れる。制御信号が電磁バルブ１０ ２０に供給され、この電磁バルブは、ブロック１０２４の孔１０２２を介してガ スを受ける。バルブはブロックに取り付けてある。続いてガスは、穴１０２６を 介して孔１０２８に解放され、ガスパネルシステムのその他の部分に供給される 。 図９を見れば最もよくわかるが、明瞭化するために詳細を省いた単純なマスフ ロー制御装置２８は、作動サイト領域１０３２および１０３４を備えた第１のガ スパネルマニホールド１０３０を有するマニホールドシステムにマスフロー制御 装置を接続する様子を示している。マニホールド穴１０３６は、流入ブロック穴 １０１０に接続されている。流出穴１０２６は、第２の一体ガスパネルマニホー ルド１０４０にあるマニホールド穴１０４２に接続されている。 図１０および図１１に示すように、キーパ１０５０は、キーパ穴１０５４に取 り付けたシールリング１０５２を備え、孔１０３４に位置している。この孔は、 マスフロー制御装置への流入口になっている。同様に、キーパ１０６０は、穴１ ０６４に配置したシールリング１０６２を有し、マニホールド１０４０に取り付 けてあり、制御ブロック１０２４の流出孔１０２８をマニホールド１０４０に接 続している。制御装置は、一対のボルト１０７０および１０７２によりマニホー ルド１０３０および１０４０に取り付けられている。 エッジシール１０５０は、その周囲に延び、組立て前にキーパ内でシールを支 持する複数の半環状タブ１０８０を含むものと理解されたい。 図１２〜図１４を参照すると最もよくわかるように、別の構成では、マスフロ ー制御装置の流入ブロック１０１０とマニホールドブロック１０３０との間にＣ リングタイプのシール１０９８を使用することもある。Ｃリングシール１０９８ は、螺旋に巻いたスプリング１１０２を内部に配置したほぼドーナツ状のスプリ ットリング１１００を含む。このスプリングは、スプリットリング１１００を支 持するものである。キーパ１１０４は、スプリットリングアセンブリ１０９８と 接触する。キーパ１１０４は、スプリットリングのオープンスロット１１２０と の掛合を目的としてスプリットリングタブ１１１８を形成した第１の弓形部分１ １１６を含む。同様に、第２の波状弓形部分１１２２は、スプリットリングシー ル１０９８と掛合するタブ１１２４を備えている。肩部１１３０および１１３２ も、開口部１１２０をスプリットリング１０９８に掛合させる。このキーパは、 システム内のその他のキーパと同様の機能を果たす。マスフロー制御装置をマニ ホールドに取り付ける場合、キーパは、スプリットリング１０９８をマスフロー 制御装置の孔のいずれかに一致させる。 本発明の利点の１つは、アルミニウム製プラットフォーム上部の選択した高さ に、様々なガスマニホールドが取り付けられることである。図１９を見れば最も よくわかるように、スタンドオフ１２００には、流入マニホールド１１０が取り 付けてある。このスタンドオフは、その他のスタンドオフ１２００と同一で、プ ラットフォーム６２を貫通して延びている。スタンドオフ１２００は、底部穴１ ２０８のスリーブ１２０６とネジで掛合しているボルト部分１２０４を含む。ス リーブ１２０６は、上部穴１２１０を含み、上部穴は、この穴とネジで掛合する 第２のボルト、すなわち取り付けボルト１２１２を受ける。取り付けボルトは、 取り付けブラケット１２１４を貫通して延びている。 流入マニホールド５１の上部壁５１を支持する高さを調整し、その他の上部壁 と整合させて、連続したガススティック間にブリッジング接続箇所を取り付ける ほぼ平坦な、複数の壁面を設けることができるものと考えてよい。さらに、スリ ーブが位置する穴１２２６と、スリーブ自体との間にわずかな遊びを与えてマニ ホールド相互の若干の横方向移動を見込んで、マニホールド相互を容易に接続で きるようにしている。 図２０を参照すると最もよくわかるが、本発明の別の実施形態では、ガスマニ ホールドアセンブリ１３００が、ＶＣＲ流入口１３０２を含む。この流入口は、 ガスを受け入れるとともに、ジャンパ１３０４を介してガスを第１のガスマニホ ールド１３０６に送る。第１のマニホールドは、横方向に延びる上部壁１３０８ を備え、この上部壁の上には、作動サイト１３１０、１３１２、および１３１４ が配置されている。 マニホールドの形状を示すために、作動サイトはまばらに配置してある。しか し、例えばサイト１３１０には、手動バルブを、またサイト１３１２および１３ １４には、空圧バルブを接続してある場合もある。サイト間の位置は、流入穴１ ３２４および流出穴１３２６、対になった穴１３２８および１３３０サイト１３ １０と活動サイト１３１２などの間に延びている。相互接続箇所１３３４は、パ ージガスや窒素などのガスを穴１３３６で受け、第２の穴１３３８に導き、さら に穴１３４０に導く。穴１３４０は、作動サイト１３１２に接続され、この作動 サイトは、第２のガスマニホールド１３４６に接続された第２のジャンパ１３４ ４にガスを導くことができる。 第２のガスマニホールド１３４６は、対になったＶ接続穴により複数の作動サ イト１３５０、１３５２、１３５４、および１３５６に接続された上部壁１３４ ８を含む。Ｖ接続穴は、マスフロー制御装置１３６２に接続されている。マスフ ロー制御装置のブロックおよびハウジングのみを示す。マスフロー制御装置は、 ガスを受けるため流入ブロック１３６４を接続させ、第１の本体ブロック１３６ ６は、バイパス１３６８を内蔵し、バルブすなわち流出ブロック１３７０は、流 出マニホールド１３７２に接続されている。流出マニホールド１３７２は、穴１ ３７４で、マスフロー制御装置からくる調整済みガスを受け、バルブなどを含む 作動サイト１３７６にガスを流す。 別のマニホールドシステム１４００は、ガスやその他の蒸気の流れにのって運 ばれる微量の水分レベルを測定する水分サンプリングシステムで使用するように 特に構成されている。作動時、ガスは流入口１４０８に流入し、ポート１４２０ に収容され、第１の空圧バルブ１４２４を取り付けた第１のバルブステーション １４２２に供給される。 次にガスは、バルブ１４２４を介して、水分スクラバステーションに供給され ることもある。スクラバステーション１４２６には、水分スクラバとの接続用の 一対のチューブスタッブ１４３０および１４３２をもつスクラバコネクタ１４２ ８が接続されている。また、流入口には、空圧バルブ１４４２が接続されている 。この空圧バルブは、空圧バルブステーション１４４４で接続され、そこからく るガスを受ける。スクラバステーション１４２６は、空圧バルブ１４５２が接続 された第３のバルブステーション１４５０に接続されている。 空圧バルブ１４４２に同様、空圧バルブ１４５２を接続して、流入口から、制 御装置ステーション１４６２に取り付けたマスフロー制御装置１４６０にガスを 送ることができる。 通常作動時、バルブ１４４２を閉じたまま、バルブ１４２４、１４５２を開い て、名目上完全に乾燥したガスをマスフロー制御装置に供給する。これにより、 流入ガスが水分スクラバを介して供給され、このスクラバで水分が除去される。 次に乾燥ガスは、マスフロー制御装置に供給される。 ガス中の水分量を測定する場合、バルブ１４２４および１４５２を閉じる。バ ルブ１４４２を開くと、測定対象ガスがマスフロー制御装置に直接流入する。マ スフロー制御装置の下流には、ガスがマスフロー制御装置から流出した後で、微 量の水分をガスに供給するために浸透セル１４７０が接続された浸透サイト１４ ６８がある。次に、ガスは、バルブサイト１４９０および１４９２で、それぞれ 第１の空圧バルブ１４８６および第２の空圧バルブ１４８８に供給される。 バルブ１４８６からガスを受け、バルブ１４９８に供給するために、微量水分 センサ１４９６が接続されている。さらに、浸透セル１４７０から流れてくるガ スをバルブ１４８８に供給し、後に下流でその他の位置に供給する。流出口１５ ００はバルブ１４９８から設け、流出口は、バルブ１４８８から設ける。 スクラバをマスフロー制御装置と直列に接続した場合、ゼロモード作動により 、バルブ１４８６、１４８８、および１４９８が開き、水分を含むガスの一部は センサセル１４９６に流入し、別の一部はバルブ１４８８を介して排出される。 装置全体の移動機能を決めるのに必要なスパンモードでは、バルブ１４８６お よび１４９８が開いた状態になっており、ガスはすべてセンサ１４９６を通って 流れ、低流速でバルブＶ６から流出する。サンプル測定モードでは、バルブ１４ ８６、１４８８、および１４９８がすべて開いている。 本発明の実施形態について具体的に図示し、説明したが、当業者には様々な変 形、改良が可能であると考えられる。本発明の趣旨、範囲に入るあらゆる変形、 改良を添付の請求の範囲に記載する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，Ｆ Ｉ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ， ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，Ｍ Ｘ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ， ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 ブゥ，キム，エヌ. アメリカ合衆国 92886 カリフォルニア 州 ヨルバ リンダ ビア マーワー 20451

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．複数のプロセスガスを取り扱うガスパネルアセンブリ用プロセスガスライン であって、 プロセスガス源からプロセスガスを受け取るプロセスガス流入口と、 少なくとも１つの横方向に延びるマニホールド面を備え、プロセスガスを受け 取るガス流入口と連通するマニホールド流入口を備え、マニホールド流入口から マニホールド流出口へ大部分は横方向にプロセスガスを流す内部ガス経路を備え 、前記マニホールド面から延在しかつ接続ポートとガス流体連通する装置をマウ ントし、前記内部ガス経路と連通する複数の装置接続ポートを前記マニホールド 面に沿って備える一体型マニホールドと、 前記マニホールド流出口に接続されたプロセスガス流出口と、 を備えることを特徴とするプロセスガスライン。 ２．それぞれ少なくとも３つの同じコンポーネント収容ステーションを備え、前 記各コンポーネント収容ステーションが、ガス流入口とガス流出口とを備え、複 数の一体型マニホールド本体の第１のコンポーネント収容ステーションのガス流 出口が、マニホールド内にある永久接続箇所により、隣接するコンポーネント収 容ステーションのガス流入口に接続されている複数の一体型マニホールド本体と 、 前記マニホールドブロックの１つにある個々の収容ステーションにそれぞれ接 続され、少なくとも１つのバルブと少なくとも１つのマスフロー制御装置とを備 える複数のガスコンポーネントと、 を備えることを特徴とする複数のプロセスガスを取り扱うガスパネル。 ３．前記ガスコンポーネントのいずれか１つが、浄化装置を備えることを特徴と する請求項２に記載のガスパネル。 ４．前記ガスコンポーネントのいずれか１つが、フィルタを備えることを特徴と する請求項２に記載のガスパネル。 ５．前記ガスコンポーネントのいずれか１つが、圧力トランスデューサを備える ことを特徴とする請求項２に記載のガスパネル。 ６．前記バルブが、空圧バルブであることを特徴とする請求項２に記載のガスパ ネル。 ７．前記バルブが、手動バルブであることを特徴とする請求項２に記載のガスパ ネル。 ８．前記ガスコンポーネントのいずれか１つが、圧力レギュレータを備えること を特徴とする請求項２に記載のガスパネル。 ９．それぞれ少なくとも３つの同じコンポーネント収容ステーションを備え、前 記各コンポーネント収容ステーションが、ガス流入口とガス流出口とを備え、複 数の一体型マニホールド本体の第１のコンポーネント収容ステーションのガス流 出口が、マニホールドとの永久接続箇所により、隣接するコンポーネント収容ス テーションのガス流入口に接続されている複数の一体型マニホールド本体と、 前記マニホールドブロックの１つにある収容ステーションの１つに接続された ガス遮断バルブと、 前記ガス遮断バルブからガスを受けるように接続されたマスフロー制御装置と を備えることを特徴とするガスパネル。 １０．前記一体型マニホールド本体のいずれか１つに接続した浄化装置をさらに 備える請求項９に記載のガスパネル。 １１．前記一体型マニホールドのいずれか１つに接続したフィルタをさらに備え ることを特徴とする請求項９に記載のガスパネル。 １２．前記一体型マニホールドのいずれか１つに接続した圧力トランスデューサ をさらに備えることを特徴とする請求項９に記載のガスパネル。 １３．前記一体型マニホールドのいずれか１つに接続した圧力レギュレータをさ らに備えることを特徴とする請求項９に記載のガスパネル。 １４．床部と、 前記床部から上方に延び、それぞれ前記床部に対して調整可能である複数のロ ッドと、 前記床部に対する調整を行うためにロッド上に配置され、マニホールドの上面 の活動装置部分が、ガスパネル内に位置するその他のマニホールドと平面内で整 合するように複数の活動装置収容ステーションを備える、一体型ガスパネルマニ ホールドと、 を備えることを特徴とするガスパネル外囲い。 １５．複数のガス流入口と、 前記複数のガス流入口のそれぞれに接続され、それぞれほぼ横方向の貫通ガス 経路を画定し、その上面全体に複数の活動装置ステーションを配置した一体型ガ スパネルマニホールドと、 前記ガスを受ける各活動装置ステーションに、取り外し可能に接続され、それ ぞれ、活動装置ステーションの流入および流出ポートの両方に、１つの装置コネ クタで接続された複数の取り外し可能な活動装置と、 前記一体型マニホールドに接続された複数のガス流出口と、 を備えることを特徴とするガスパネル。 １６．前記取り外し可能な活動装置が、遮断バルブ、圧力レギュレータ、および マスフロー制御装置をさらに備えることを特徴とする請求項１５に記載のガスパ ネル。 １７．前記取り外し可能な活動装置が、手動遮断バルブをさらに備えることを特 徴とする請求項１６に記載のガスパネル。 １８．前記マニホールドと活動装置の間のインタフェース領域がほぼ平坦であり 、マニホールドの流入口からマニホールドの流出口に向かうガスの流れにほぼ平 行であることを特徴とする請求項１５に記載のガスパネル。 １９．シールと、 ベースと整列してシールを接続するリテーナと、一体型マニホールドの流入穴 からガスを受けるガス流入口および一体型マニホールドの流出口にガスを供給す るガス流出口を備える一対のガスポートと、を備えるベースと、 前記ベースに一体型マニホールドを組み付けるときに一体型マニホールドと接 続するベースで保持される固定具と、 を備えることを特徴とする一体型マニホールドの活動サイトへの接続を行うフ ランジ。 ２０．ベースと、 前記ベースに取り付けたキーパと、 前記キーパにより支持されるシールと、 前記ベースで保持され、ベースを貫通して延びる、ガスパネルのマニホールド との接続用固定具と、 マニホールド付ベースの組立て前にベースに固定具を保持するリテーナと、 を備えることを特徴とするガスパネルと併用する事前組立て済み活動装置。 ２１．少なくとも１つの横方向に延在するマニホールド面を備え、ガスを受ける マニホールド流入口を備え、マニホールド流入口からマニホールド流出口へ大部 分は横方向にプロセスガスを流す内部ガス経路を備え、前記マニホールド面から 延在しかつ接続ポートとガス流体連通する装置をマウントし、前記内部ガス経路 と連通する複数の装置接続ポートを前記マニホールド面に沿って備え、ツールに プロセスガスを供給するべく前記内部ガス経路とガス連通するガス流出口とを備 える一体型マニホールド本体を備えることを特徴とするガスを取り扱うガスパネ ルアセンブリ用の一体型マニホールド。 ２２．前記内部ガス経路が、角を成した対の穴を備え、該穴は前記装置接続ポー トから次の装置接続ポートにガスを運ぶための装置接続ポート間のＶ経路を画定 することを特徴とする請求項２１に記載のガスを取り扱うガスパネルアセンブリ 用の一体型マニホールド。