JP2001326503A - 非可逆回路素子及び通信装置 - Google Patents
非可逆回路素子及び通信装置Info
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- JP2001326503A JP2001326503A JP2000145121A JP2000145121A JP2001326503A JP 2001326503 A JP2001326503 A JP 2001326503A JP 2000145121 A JP2000145121 A JP 2000145121A JP 2000145121 A JP2000145121 A JP 2000145121A JP 2001326503 A JP2001326503 A JP 2001326503A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P1/00—Auxiliary devices
- H01P1/32—Non-reciprocal transmission devices
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- Non-Reversible Transmitting Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 永久磁石の厚みを薄くすることなく低背化が
できる非可逆回路素子及び通信装置を提供する。 【解決手段】 集中定数型アイソレータ1は、概略、金
属製下側ケース部12と、樹脂製端子ケース13と、中
心電極組立体14と、金属製上側ケース部15と、永久
磁石16と、絶縁性スペーサ17と、抵抗素子Rと、整
合用コンデンサC1〜C3を備えている。抵抗素子Rの
厚みは、0.1mm以上0.5mm以下に設定されてい
る。
できる非可逆回路素子及び通信装置を提供する。 【解決手段】 集中定数型アイソレータ1は、概略、金
属製下側ケース部12と、樹脂製端子ケース13と、中
心電極組立体14と、金属製上側ケース部15と、永久
磁石16と、絶縁性スペーサ17と、抵抗素子Rと、整
合用コンデンサC1〜C3を備えている。抵抗素子Rの
厚みは、0.1mm以上0.5mm以下に設定されてい
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、非可逆回路素子、
特に、マイクロ波帯で使用されるアイソレータやサーキ
ュレータ等の非可逆回路素子及び通信装置に関する。
特に、マイクロ波帯で使用されるアイソレータやサーキ
ュレータ等の非可逆回路素子及び通信装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、携帯電話等の移動通信機器に採
用される集中定数型アイソレータは、信号を伝送方向に
のみ通過させ、逆方向への伝送を阻止する機能を有して
いる。また、最近の移動通信機器では、その用途からし
て小型化及び低背化に対する要請が強くなっており、こ
れに伴って集中定数型アイソレータにおいても小型化及
び低背化が要請されている。
用される集中定数型アイソレータは、信号を伝送方向に
のみ通過させ、逆方向への伝送を阻止する機能を有して
いる。また、最近の移動通信機器では、その用途からし
て小型化及び低背化に対する要請が強くなっており、こ
れに伴って集中定数型アイソレータにおいても小型化及
び低背化が要請されている。
【0003】このような集中定数型アイソレータは、永
久磁石と、該永久磁石により直流磁界が印加されるフェ
ライトと、前記フェライトに配置された複数の中心電極
と、抵抗素子と、前記フェライトと前記中心電極と前記
抵抗素子を収容する樹脂ケースと、前記永久磁石と前記
フェライトと前記中心電極を収容する金属ケース等を備
えている。
久磁石と、該永久磁石により直流磁界が印加されるフェ
ライトと、前記フェライトに配置された複数の中心電極
と、抵抗素子と、前記フェライトと前記中心電極と前記
抵抗素子を収容する樹脂ケースと、前記永久磁石と前記
フェライトと前記中心電極を収容する金属ケース等を備
えている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、一般にアイ
ソレータは、その性能を最大限に発揮させるため、フェ
ライトや抵抗素子の全面に永久磁石が覆うように配設さ
れていることが多い。従来のアイソレータの場合は、樹
脂ケースに配置された抵抗素子の上面が、フェライトや
整合用コンデンサ上の絶縁性スペーサ上面よりも高かっ
たので、永久磁石と抵抗素子の合計の厚みがアイソレー
タ全体の高さを決める要因となっていた。
ソレータは、その性能を最大限に発揮させるため、フェ
ライトや抵抗素子の全面に永久磁石が覆うように配設さ
れていることが多い。従来のアイソレータの場合は、樹
脂ケースに配置された抵抗素子の上面が、フェライトや
整合用コンデンサ上の絶縁性スペーサ上面よりも高かっ
たので、永久磁石と抵抗素子の合計の厚みがアイソレー
タ全体の高さを決める要因となっていた。
【0005】ただし、実際には、抵抗素子と永久磁石の
合計の厚みにあわせて、絶縁性スペーサの厚みを本来必
要な寸法より余分に厚くし、絶縁性スペーサの上面が抵
抗素子と同じ高さになるようにしている。永久磁石をア
イソレータ内で安定して水平に配置するためである。こ
こで、永久磁石の厚みを薄くすることも考えられるが、
フェライトに印加する直流磁界の大きさが足りなくなる
という問題が生じ、薄型化することは難しい。
合計の厚みにあわせて、絶縁性スペーサの厚みを本来必
要な寸法より余分に厚くし、絶縁性スペーサの上面が抵
抗素子と同じ高さになるようにしている。永久磁石をア
イソレータ内で安定して水平に配置するためである。こ
こで、永久磁石の厚みを薄くすることも考えられるが、
フェライトに印加する直流磁界の大きさが足りなくなる
という問題が生じ、薄型化することは難しい。
【0006】そこで、本発明の目的は、永久磁石の厚み
を薄くすることなく低背化ができる非可逆回路素子及び
通信装置を提供することにある。
を薄くすることなく低背化ができる非可逆回路素子及び
通信装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段及び作用】前記目的を達成
するため、本発明に係る非可逆回路素子は、(a)永久
磁石と、(b)前記永久磁石により直流磁界が印加され
るフェライトと、(c)前記フェライトに配置された複
数の中心電極と、(d)基板の一方の主面上の両端部に
引出電極を設けるとともに、該引出電極間に抵抗体を設
け、厚みが0.1mm以上0.5mm以下である抵抗素
子と、(e)前記フェライトと前記中心電極と前記抵抗
素子を収容する樹脂ケースと、(f)前記永久磁石と前
記フェライトと前記中心電極を収容する金属ケースと、
を備えたことを特徴とする。
するため、本発明に係る非可逆回路素子は、(a)永久
磁石と、(b)前記永久磁石により直流磁界が印加され
るフェライトと、(c)前記フェライトに配置された複
数の中心電極と、(d)基板の一方の主面上の両端部に
引出電極を設けるとともに、該引出電極間に抵抗体を設
け、厚みが0.1mm以上0.5mm以下である抵抗素
子と、(e)前記フェライトと前記中心電極と前記抵抗
素子を収容する樹脂ケースと、(f)前記永久磁石と前
記フェライトと前記中心電極を収容する金属ケースと、
を備えたことを特徴とする。
【0008】以上の構成により、永久磁石の厚みを薄く
することなく、非可逆回路素子の低背化がなされる。
することなく、非可逆回路素子の低背化がなされる。
【0009】また、前記抵抗素子の引出電極を、基板の
側面に延在させたり、あるいは、基板の側面を介し他方
の主面に延在させたりすることで、抵抗素子の引出電極
と樹脂ケースに設けられた端子との接合部分が大きくな
り、はんだ付け等による接合強度が増し、信頼性が向上
する。
側面に延在させたり、あるいは、基板の側面を介し他方
の主面に延在させたりすることで、抵抗素子の引出電極
と樹脂ケースに設けられた端子との接合部分が大きくな
り、はんだ付け等による接合強度が増し、信頼性が向上
する。
【0010】また、本発明に係る通信装置は、前述の特
徴を有する非可逆回路素子を備えることにより、薄型化
され、高い信頼性が得られる。
徴を有する非可逆回路素子を備えることにより、薄型化
され、高い信頼性が得られる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る非可逆回路素
子及び通信装置の実施の形態について添付の図面を参照
して詳細に説明する。
子及び通信装置の実施の形態について添付の図面を参照
して詳細に説明する。
【0012】[第1実施形態、図1〜図5]本発明に係
る非可逆回路素子の一実施形態の構成を示す分解斜視図
を図1に示す。図2は、図1に示した非可逆回路素子1
の組立完成後の外観斜視図、図3は図2のIII−II
I断面図、図4は図2のIV−IV断面図をそれぞれ示
す。該非可逆回路素子1は、集中定数型アイソレータで
ある。
る非可逆回路素子の一実施形態の構成を示す分解斜視図
を図1に示す。図2は、図1に示した非可逆回路素子1
の組立完成後の外観斜視図、図3は図2のIII−II
I断面図、図4は図2のIV−IV断面図をそれぞれ示
す。該非可逆回路素子1は、集中定数型アイソレータで
ある。
【0013】図1に示すように、集中定数型アイソレー
タ1は、概略、金属製下側ケース部12と、樹脂製端子
ケース13と、中心電極組立体14と、金属製上側ケー
ス部15と、永久磁石16と、絶縁性スペーサ17と、
抵抗素子Rと、整合用コンデンサC1〜C3を備えてい
る。
タ1は、概略、金属製下側ケース部12と、樹脂製端子
ケース13と、中心電極組立体14と、金属製上側ケー
ス部15と、永久磁石16と、絶縁性スペーサ17と、
抵抗素子Rと、整合用コンデンサC1〜C3を備えてい
る。
【0014】中心電極組立体14は、円板状のマイクロ
波フェライト20の上面(一方の磁極面)に、中心電極
21〜23を電気的絶縁状態で略120度毎に互いに交
差させて配置している。ここで、フェライト20の上面
の中心部では中心電極21〜23と3枚の絶縁性シート
が積層され、フェライト20の上面の周囲部では中心電
極21〜23がそれぞれ1枚のみ配置されることにな
る。
波フェライト20の上面(一方の磁極面)に、中心電極
21〜23を電気的絶縁状態で略120度毎に互いに交
差させて配置している。ここで、フェライト20の上面
の中心部では中心電極21〜23と3枚の絶縁性シート
が積層され、フェライト20の上面の周囲部では中心電
極21〜23がそれぞれ1枚のみ配置されることにな
る。
【0015】これら中心電極21〜23は、各々の一端
側のポート部P1〜P3を水平に導出するとともに、他
端側の中心電極21〜23共通のシールド部をフェライ
ト20の下面(他方の磁極面)に当接させている。共通
シールド部は、フェライト20の下面を略覆っており、
樹脂製端子ケース13の窓部13aを通して、金属製下
側ケース部12の底壁12bにはんだ付け等の方法によ
り接続され、接地される。本第1実施形態の場合、フェ
ライト20の厚みT7は0.45mm、中心電極21〜
23の厚みT5はそれぞれ0.05mm、中心電極21
〜23と3枚の絶縁性シートの合計厚みは0.2mmで
ある。したがって、中心電極組立体14の厚みは0.7
mmである。
側のポート部P1〜P3を水平に導出するとともに、他
端側の中心電極21〜23共通のシールド部をフェライ
ト20の下面(他方の磁極面)に当接させている。共通
シールド部は、フェライト20の下面を略覆っており、
樹脂製端子ケース13の窓部13aを通して、金属製下
側ケース部12の底壁12bにはんだ付け等の方法によ
り接続され、接地される。本第1実施形態の場合、フェ
ライト20の厚みT7は0.45mm、中心電極21〜
23の厚みT5はそれぞれ0.05mm、中心電極21
〜23と3枚の絶縁性シートの合計厚みは0.2mmで
ある。したがって、中心電極組立体14の厚みは0.7
mmである。
【0016】樹脂製端子ケース13には、入出力端子5
1,52、アース端子53及び中継端子54(図3参
照)がインサートモールドされている。入出力端子51
は一端が樹脂製端子ケース13の外側壁に露出し、他端
が樹脂製端子ケース13の内側面に露出して入出力引出
電極部51aを形成している。入出力端子52は一端が
樹脂製端子ケース13の外側壁に露出し、他端が樹脂製
端子ケース13の内側面に露出して入出力引出電極部
(図示せず)を形成している。同様に、二つのアース端
子53はそれぞれ、一端が樹脂製端子ケース13の対向
する外側壁に露出し、他端が樹脂製端子ケース13の内
側面に露出してアース引出電極部53aを形成してい
る。本第1実施形態の場合、樹脂製端子ケース13の整
合用コンデンサC1〜C3搭載部分の厚み(端子53を
含む)T10は0.2mmである。
1,52、アース端子53及び中継端子54(図3参
照)がインサートモールドされている。入出力端子51
は一端が樹脂製端子ケース13の外側壁に露出し、他端
が樹脂製端子ケース13の内側面に露出して入出力引出
電極部51aを形成している。入出力端子52は一端が
樹脂製端子ケース13の外側壁に露出し、他端が樹脂製
端子ケース13の内側面に露出して入出力引出電極部
(図示せず)を形成している。同様に、二つのアース端
子53はそれぞれ、一端が樹脂製端子ケース13の対向
する外側壁に露出し、他端が樹脂製端子ケース13の内
側面に露出してアース引出電極部53aを形成してい
る。本第1実施形態の場合、樹脂製端子ケース13の整
合用コンデンサC1〜C3搭載部分の厚み(端子53を
含む)T10は0.2mmである。
【0017】整合用コンデンサC1〜C3(集中定数型
アイソレータ1の動作周波数により、比誘電率εrが9
〜200のものが使用される)は、ホット側コンデンサ
電極がポート部P1〜P3にそれぞれはんだ付けされ、
コールド側コンデンサ電極が樹脂製端子ケース13の内
側面に露出しているアース端子53のアース引出電極部
53aにそれぞれはんだ付けされている。本第1実施形
態の場合、整合用コンデンサC1〜C3のそれぞれの厚
みT9は0.2mmである。
アイソレータ1の動作周波数により、比誘電率εrが9
〜200のものが使用される)は、ホット側コンデンサ
電極がポート部P1〜P3にそれぞれはんだ付けされ、
コールド側コンデンサ電極が樹脂製端子ケース13の内
側面に露出しているアース端子53のアース引出電極部
53aにそれぞれはんだ付けされている。本第1実施形
態の場合、整合用コンデンサC1〜C3のそれぞれの厚
みT9は0.2mmである。
【0018】抵抗素子Rは、図3に示すように、絶縁性
基板4の一方の主面の両端部に厚膜印刷等で引出電極3
を形成し、その間にサーメット系やカーボン系やルテニ
ウム系等の厚膜あるいは金属薄膜の抵抗体2を配設して
いる。絶縁性基板4の材料は例えば、アルミナ等の誘電
体セラミックスが用いられる。また、抵抗体2の表面に
はガラス等の被膜が形成されていてもよい。抵抗素子R
の厚みT8は、0.1mm以上0.5mm以下に設定さ
れている。本第1実施形態の場合、抵抗素子Rの厚みT
8は0.5mmである。抵抗素子Rは、両端部の引出電
極3を、樹脂製端子ケース13の内側面に露出したアー
ス引出電極部53aと中継端子54とに電気的に接続す
るために、抵抗体2及び引出電極3を下方向に向けて配
設している。
基板4の一方の主面の両端部に厚膜印刷等で引出電極3
を形成し、その間にサーメット系やカーボン系やルテニ
ウム系等の厚膜あるいは金属薄膜の抵抗体2を配設して
いる。絶縁性基板4の材料は例えば、アルミナ等の誘電
体セラミックスが用いられる。また、抵抗体2の表面に
はガラス等の被膜が形成されていてもよい。抵抗素子R
の厚みT8は、0.1mm以上0.5mm以下に設定さ
れている。本第1実施形態の場合、抵抗素子Rの厚みT
8は0.5mmである。抵抗素子Rは、両端部の引出電
極3を、樹脂製端子ケース13の内側面に露出したアー
ス引出電極部53aと中継端子54とに電気的に接続す
るために、抵抗体2及び引出電極3を下方向に向けて配
設している。
【0019】抵抗素子Rの引出電極3の一端は中継端子
54を介して整合用コンデンサC3のホット側コンデン
サ電極に接続され、他端はアース端子53に接続され
る。つまり、整合用コンデンサC3と抵抗素子Rとは、
中心電極23のポート部P3とアースとの間に電気的に
並列に接続される。
54を介して整合用コンデンサC3のホット側コンデン
サ電極に接続され、他端はアース端子53に接続され
る。つまり、整合用コンデンサC3と抵抗素子Rとは、
中心電極23のポート部P3とアースとの間に電気的に
並列に接続される。
【0020】図1に示すように、絶縁性スペーサ17
は、中心電極組立体14の上面に配置されている。この
絶縁性スペーサ17には、図4に示すように、フェライ
ト20の上面中央部で重なり合う中心電極21,22と
3枚の絶縁性シートを収容するための孔17aが設けら
れている。絶縁性スペーサ17は、その厚みが場所によ
って異なっており、本第1実施形態の場合、フェライト
20上面の絶縁性スペーサ17の厚みT3は0.15m
m、コンデンサC1〜C3上部の厚みT4は0.25m
mである。
は、中心電極組立体14の上面に配置されている。この
絶縁性スペーサ17には、図4に示すように、フェライ
ト20の上面中央部で重なり合う中心電極21,22と
3枚の絶縁性シートを収容するための孔17aが設けら
れている。絶縁性スペーサ17は、その厚みが場所によ
って異なっており、本第1実施形態の場合、フェライト
20上面の絶縁性スペーサ17の厚みT3は0.15m
m、コンデンサC1〜C3上部の厚みT4は0.25m
mである。
【0021】金属製下側ケース部12は磁性体金属から
なり、左右の側壁12aと底壁12bとを有している。
この金属製下側ケース部12上に樹脂製端子ケース13
を配置するとともに、樹脂製端子ケース13内に中心電
極組立体14や整合用コンデンサC1〜C3等を収容
し、磁性体金属からなる金属製上側ケース部15を装着
している。金属製上側ケース部15の下面には永久磁石
16が貼着され、この永久磁石16により中心電極組立
体14に直流磁界を印加するようになっている。金属製
下側ケース部12と金属製上側ケース部15は磁気回路
を構成しており、ヨークとしても機能している。金属製
下側ケース部12、金属製上側ケース部15は、例えば
鉄やケイ素鋼などの高透磁率からなる板材を打ち抜き、
曲げ加工した後、表面に銅や銀をめっきしてなるもので
ある。本第1実施形態の場合、金属製下側ケース部12
の厚みT11は0.2mm、金属製上側ケース部15の
厚みT1は0.25mm、永久磁石16の厚みT2は
1.0mmである。
なり、左右の側壁12aと底壁12bとを有している。
この金属製下側ケース部12上に樹脂製端子ケース13
を配置するとともに、樹脂製端子ケース13内に中心電
極組立体14や整合用コンデンサC1〜C3等を収容
し、磁性体金属からなる金属製上側ケース部15を装着
している。金属製上側ケース部15の下面には永久磁石
16が貼着され、この永久磁石16により中心電極組立
体14に直流磁界を印加するようになっている。金属製
下側ケース部12と金属製上側ケース部15は磁気回路
を構成しており、ヨークとしても機能している。金属製
下側ケース部12、金属製上側ケース部15は、例えば
鉄やケイ素鋼などの高透磁率からなる板材を打ち抜き、
曲げ加工した後、表面に銅や銀をめっきしてなるもので
ある。本第1実施形態の場合、金属製下側ケース部12
の厚みT11は0.2mm、金属製上側ケース部15の
厚みT1は0.25mm、永久磁石16の厚みT2は
1.0mmである。
【0022】こうして、集中定数型アイソレータ1が得
られる。図5は、集中定数型アイソレータ1の電気等価
回路図である。
られる。図5は、集中定数型アイソレータ1の電気等価
回路図である。
【0023】以上の構成からなるアイソレータ1の、各
部品の厚みT1〜T11とアイソレータ全体の厚みT1
2を表1に示す。比較のために、従来のアイソレータの
厚みも併せて記載する。
部品の厚みT1〜T11とアイソレータ全体の厚みT1
2を表1に示す。比較のために、従来のアイソレータの
厚みも併せて記載する。
【0024】
【表1】
【0025】ここで、図4において、絶縁性スペーサ1
7の厚み(フェライト上部)T3は、中心電極21,2
2のそれぞれの厚みT5(=0.05mm)と、3枚分
の絶縁性シートの合計厚み(=0.05mm)とを合計
した厚み0.15mm以上必要である。一方、絶縁性ス
ペーサ17は中心電極21〜23と絶縁性シートの積層
により生じる段差を吸収できればよい。従って、アイソ
レータ1の低背化の観点から絶縁性スペーサ17の厚み
(フェライト上部)T3は0.15mmでよい。
7の厚み(フェライト上部)T3は、中心電極21,2
2のそれぞれの厚みT5(=0.05mm)と、3枚分
の絶縁性シートの合計厚み(=0.05mm)とを合計
した厚み0.15mm以上必要である。一方、絶縁性ス
ペーサ17は中心電極21〜23と絶縁性シートの積層
により生じる段差を吸収できればよい。従って、アイソ
レータ1の低背化の観点から絶縁性スペーサ17の厚み
(フェライト上部)T3は0.15mmでよい。
【0026】従って、フェライト20の部分での永久磁
石16の下面からアイソレータ1の底面までの厚みは、
以下の(1)式から算出される。
石16の下面からアイソレータ1の底面までの厚みは、
以下の(1)式から算出される。
【0027】 (金属製下側ケース部12の厚みT11)+(中心電極21〜23共通のシ ールド部の厚み)+(フェライト20の厚みT7)+(中心電極23の厚みT5 )+(フェライト20上部の絶縁性スペーサ17の厚みT3) =0.2mm+0.05mm+0.45mm+0.05mm+0.15mm =0.9mm…(1)
【0028】これに対して、図3において、抵抗素子R
の下面からアイソレータ1の底面までの厚みは、以下の
(2)式から算出される。
の下面からアイソレータ1の底面までの厚みは、以下の
(2)式から算出される。
【0029】 (金属製下側ケース部12の厚みT11)+(樹脂製端子ケース13の整合 用コンデンサC3搭載部分の厚みT10) =0.2mm+0.2mm =0.4mm…(2)
【0030】従って、抵抗素子Rの最大の厚みT8は、
(1)式−(2)式から、0.9mm−0.4mm=
0.5mmとなる。
(1)式−(2)式から、0.9mm−0.4mm=
0.5mmとなる。
【0031】抵抗素子Rの厚みT8がこの0.5mmを
越えた場合は、永久磁石16の下面から、アイソレータ
1の底面までの合計寸法は0.9mmを越えることとな
り、アイソレータ1の厚みが大きくなる。この場合、永
久磁石16の厚みT2を薄くする方法も考えられるが、
フェライト20に充分な直流磁界を印加させることがで
きなくなることから、永久磁石16の厚みT2を薄くす
ることはできない。従って、集中定数型アイソレータ1
の低背化の観点から、抵抗素子Rの厚みT8の上限値
は、0.5mmとなる。一方、抵抗素子Rには端子5
3,54にはんだ付けされる際に、熱応力等の応力が作
用する。また、抵抗体2の印刷時の圧力や焼成時の熱ス
トレスや組立時の加圧力に耐えるために、一定以上の厚
みが必要である。そこで、信頼性、加工性、組立容易性
の観点から、抵抗素子Rの厚みT8の下限値は0.1m
mとされる。
越えた場合は、永久磁石16の下面から、アイソレータ
1の底面までの合計寸法は0.9mmを越えることとな
り、アイソレータ1の厚みが大きくなる。この場合、永
久磁石16の厚みT2を薄くする方法も考えられるが、
フェライト20に充分な直流磁界を印加させることがで
きなくなることから、永久磁石16の厚みT2を薄くす
ることはできない。従って、集中定数型アイソレータ1
の低背化の観点から、抵抗素子Rの厚みT8の上限値
は、0.5mmとなる。一方、抵抗素子Rには端子5
3,54にはんだ付けされる際に、熱応力等の応力が作
用する。また、抵抗体2の印刷時の圧力や焼成時の熱ス
トレスや組立時の加圧力に耐えるために、一定以上の厚
みが必要である。そこで、信頼性、加工性、組立容易性
の観点から、抵抗素子Rの厚みT8の下限値は0.1m
mとされる。
【0032】また、図3に示すように、抵抗素子Rと整
合用コンデンサC1〜C3は、樹脂製端子ケース13の
内側の同一高さ面(言い換えると、端子51〜54の露
出面)に配置されている。そして、抵抗素子Rの厚みT
8(=0.5mm)に対して、整合用コンデンサC3
(C1,C2)の部分の厚みを、 (整合用コンデンサC3の厚みT9)+(中心電極23の厚みT5)+(整 合用コンデンサC3上部の絶縁性スペーサ17の厚みT4) =0.2mm+0.05mm+0.25mm =0.5mm に設定し、永久磁石16をアイソレータ1内で安定して
水平に配置するようにしている。
合用コンデンサC1〜C3は、樹脂製端子ケース13の
内側の同一高さ面(言い換えると、端子51〜54の露
出面)に配置されている。そして、抵抗素子Rの厚みT
8(=0.5mm)に対して、整合用コンデンサC3
(C1,C2)の部分の厚みを、 (整合用コンデンサC3の厚みT9)+(中心電極23の厚みT5)+(整 合用コンデンサC3上部の絶縁性スペーサ17の厚みT4) =0.2mm+0.05mm+0.25mm =0.5mm に設定し、永久磁石16をアイソレータ1内で安定して
水平に配置するようにしている。
【0033】この結果、本第1実施形態のアイソレータ
1の全体の厚みT12は、例えば、以下の(3)式から
算出される。
1の全体の厚みT12は、例えば、以下の(3)式から
算出される。
【0034】 (金属製下側ケース部12の厚みT11)+(樹脂製端子ケース13の厚み T10)+(抵抗素子Rの厚みT8)+(永久磁石16の厚みT2)+(金属製 上側ケース部15の厚みT1) =0.2mm+0.2mm+0.5mm+1.0mm+0.25mm =2.15mm…(3)
【0035】これに対して、従来のアイソレータの全体
の厚みは前記(3)式と同様にして算出すると、2.2
8mmであった。
の厚みは前記(3)式と同様にして算出すると、2.2
8mmであった。
【0036】こうして、本第1実施形態の集中定数型ア
イソレータ1は永久磁石16の厚みを薄くすることな
く、低背化することができる。
イソレータ1は永久磁石16の厚みを薄くすることな
く、低背化することができる。
【0037】[第2実施形態、図6]図6に示すよう
に、第2実施形態の集中定数型アイソレータ1aは、前
記第1実施形態の抵抗素子Rの代わりに抵抗素子Raを
用いたものである。抵抗素子Raは、絶縁性基板4の一
方の主面の両端部に絶縁性基板4の側面に延在させた状
態で引出電極7を形成し、その間に抵抗体2を配設して
いる。第2実施形態において、抵抗素子Raは抵抗素子
Rと同様、抵抗体2を下方向に向けて配設している。
に、第2実施形態の集中定数型アイソレータ1aは、前
記第1実施形態の抵抗素子Rの代わりに抵抗素子Raを
用いたものである。抵抗素子Raは、絶縁性基板4の一
方の主面の両端部に絶縁性基板4の側面に延在させた状
態で引出電極7を形成し、その間に抵抗体2を配設して
いる。第2実施形態において、抵抗素子Raは抵抗素子
Rと同様、抵抗体2を下方向に向けて配設している。
【0038】この抵抗素子Raは、引出電極7が絶縁性
基板4の側面に延在しているので、引出電極7と端子5
3,54との接続面積が大きくなるとともに、はんだフ
ィレットができる。従って、はんだ付け強度が増し、信
頼性が向上する。
基板4の側面に延在しているので、引出電極7と端子5
3,54との接続面積が大きくなるとともに、はんだフ
ィレットができる。従って、はんだ付け強度が増し、信
頼性が向上する。
【0039】[第3実施形態、図7]図7に示すよう
に、第3実施形態の集中定数型アイソレータ1bは、前
記第1実施形態の抵抗素子Rの代わりに抵抗素子Rbを
用いたものである。抵抗素子Rbは、絶縁性基板4の一
方の主面の両端部に絶縁性基板4の一方の主面に対向す
る他方の主面に延在させた状態で引出電極8を形成し、
その間に抵抗体2を配設している。本第3実施形態にお
いて、抵抗素子Rbは抵抗素子Rと逆に抵抗体2を上面
に向けて配設している。
に、第3実施形態の集中定数型アイソレータ1bは、前
記第1実施形態の抵抗素子Rの代わりに抵抗素子Rbを
用いたものである。抵抗素子Rbは、絶縁性基板4の一
方の主面の両端部に絶縁性基板4の一方の主面に対向す
る他方の主面に延在させた状態で引出電極8を形成し、
その間に抵抗体2を配設している。本第3実施形態にお
いて、抵抗素子Rbは抵抗素子Rと逆に抵抗体2を上面
に向けて配設している。
【0040】この抵抗素子Rbは、引出電極8が絶縁性
基板4の側面を介して他方の主面まで延在しているの
で、引出電極8と端子53,54との接続面積が大きく
なるとともに、はんだフィレットができる。従って、は
んだ付け強度が増し、信頼性が向上する。
基板4の側面を介して他方の主面まで延在しているの
で、引出電極8と端子53,54との接続面積が大きく
なるとともに、はんだフィレットができる。従って、は
んだ付け強度が増し、信頼性が向上する。
【0041】[第4実施形態、図8]第4実施形態は、
本発明に係る通信装置として、携帯電話を例にして説明
する。
本発明に係る通信装置として、携帯電話を例にして説明
する。
【0042】図8は携帯電話120のRF部分の電気回
路ブロック図である。図8において、122はアンテナ
素子、123はデュプレクサ、131は送信側アイソレ
ータ、132は送信側増幅器、133は送信側段間用バ
ンドパスフィルタ、134は送信側ミキサ、135は受
信側増幅器、136は受信側段間用バンドパスフィル
タ、137は受信側ミキサ、138は電圧制御発振器
(VCO)、139はローカル用バンドパスフィルタで
ある。
路ブロック図である。図8において、122はアンテナ
素子、123はデュプレクサ、131は送信側アイソレ
ータ、132は送信側増幅器、133は送信側段間用バ
ンドパスフィルタ、134は送信側ミキサ、135は受
信側増幅器、136は受信側段間用バンドパスフィル
タ、137は受信側ミキサ、138は電圧制御発振器
(VCO)、139はローカル用バンドパスフィルタで
ある。
【0043】ここに、送信側アイソレータ131とし
て、前記第1〜3実施形態の集中定数型アイソレータ1
〜1bを使用することができる。この集中定数型アイソ
レータ1〜1bを実装することにより、挿入損失が抑え
られ、かつ、高い信頼性を有する薄型の携帯電話を実現
することができる。
て、前記第1〜3実施形態の集中定数型アイソレータ1
〜1bを使用することができる。この集中定数型アイソ
レータ1〜1bを実装することにより、挿入損失が抑え
られ、かつ、高い信頼性を有する薄型の携帯電話を実現
することができる。
【0044】[他の実施形態]なお、本発明に係る非可
逆回路素子及び通信装置は前記実施形態に限定するもの
ではなく、その要旨の範囲内で種々に変更することがで
きる。
逆回路素子及び通信装置は前記実施形態に限定するもの
ではなく、その要旨の範囲内で種々に変更することがで
きる。
【0045】例えば、図6及び図7に示した抵抗素子R
a,Rbにおいて、引出電極7や引出電極8は両側に設
ける必要はなく、片側は図3に示した抵抗素子Rの引出
電極3を用いてもよい。
a,Rbにおいて、引出電極7や引出電極8は両側に設
ける必要はなく、片側は図3に示した抵抗素子Rの引出
電極3を用いてもよい。
【0046】また、本発明は、3ポートのサーキュレー
タを応用したアイソレータのほかに、中心電極が2本で
構成されるジャイレータに抵抗を接続してなるアイソレ
ータにも適用することができる。さらに、中心電極は、
金属板を打抜き、曲げ加工して形成するものの他に、基
板(誘電体基板や磁性体基板や積層基板等)にパターン
電極を設けることによっても形成することができる。ま
た、3本の中心電極は必ずしも120度毎に互いに交差
させて配置する必要がなく、110〜140度の範囲で
お互いに交差させて配置されていればよい。更に、金属
ケースは前記実施形態のように分割されている必要はな
いし、また、逆に3以上に分割されていてもよい。
タを応用したアイソレータのほかに、中心電極が2本で
構成されるジャイレータに抵抗を接続してなるアイソレ
ータにも適用することができる。さらに、中心電極は、
金属板を打抜き、曲げ加工して形成するものの他に、基
板(誘電体基板や磁性体基板や積層基板等)にパターン
電極を設けることによっても形成することができる。ま
た、3本の中心電極は必ずしも120度毎に互いに交差
させて配置する必要がなく、110〜140度の範囲で
お互いに交差させて配置されていればよい。更に、金属
ケースは前記実施形態のように分割されている必要はな
いし、また、逆に3以上に分割されていてもよい。
【0047】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、抵抗素子の厚みを0.1mm以上0.5mm
以下にしたので、永久磁石の厚みを薄くすることなく、
非可逆回路素子の低背化ができる。また、抵抗素子の引
出電極を、基板の側面に延在させたり、あるいは、基板
の側面を介し他方の主面に延在させたりすることで、抵
抗素子の引出電極と樹脂ケースに設けられた端子との接
合部分が大きくなり、はんだ付け等による接合強度が増
し、信頼性を向上させることができる。この結果、高い
信頼性を有した薄型の非可逆回路素子や通信装置が得ら
れる。
によれば、抵抗素子の厚みを0.1mm以上0.5mm
以下にしたので、永久磁石の厚みを薄くすることなく、
非可逆回路素子の低背化ができる。また、抵抗素子の引
出電極を、基板の側面に延在させたり、あるいは、基板
の側面を介し他方の主面に延在させたりすることで、抵
抗素子の引出電極と樹脂ケースに設けられた端子との接
合部分が大きくなり、はんだ付け等による接合強度が増
し、信頼性を向上させることができる。この結果、高い
信頼性を有した薄型の非可逆回路素子や通信装置が得ら
れる。
【図1】本発明に係る非可逆回路素子の第1実施形態の
構成を示す分解斜視図。
構成を示す分解斜視図。
【図2】図1に示した非可逆回路素子の組立完成後の外
観斜視図。
観斜視図。
【図3】図2のIII−III断面図。
【図4】図2のIV−IV断面図。
【図5】図2に示した非可逆回路素子の電気等価回路
図。
図。
【図6】本発明に係る非可逆回路素子の第2実施形態を
示す断面図。
示す断面図。
【図7】本発明に係る非可逆回路素子の第3実施形態を
示す断面図。
示す断面図。
【図8】本発明に係る通信装置の一実施形態を示すブロ
ック図。
ック図。
1,1a,1b…アイソレータ 3,7,8…引出電極 4…絶縁性基板 12…金属製下側ケース部 13…樹脂製端子ケース 14…中心電極組立体 15…金属製上側ケース部 16…永久磁石 20…フェライト 21〜23…中心電極 120…携帯電話 131…送信側アイソレータ C1〜C3…整合用コンデンサ R,Ra,Rb…抵抗素子
Claims (4)
- 【請求項1】 永久磁石と、 前記永久磁石により直流磁界が印加されるフェライト
と、 前記フェライトに配置された複数の中心電極と、 基板の一方の主面上の両端部に引出電極を設けるととも
に、該引出電極間に抵抗体を設け、厚みが0.1mm以
上0.5mm以下である抵抗素子と、 前記フェライトと前記中心電極と前記抵抗素子を収容す
る樹脂ケースと、 前記永久磁石と前記フェライトと前記中心電極を収容す
る金属ケースと、 を備えたことを特徴とする非可逆回路素子。 - 【請求項2】 前記抵抗素子の引出電極が基板の側面に
延在していることを特徴とする請求項1記載の非可逆回
路素子。 - 【請求項3】 前記抵抗素子の引出電極が基板の側面を
介して他方の主面に延在していることを特徴とする請求
項1記載の非可逆回路素子。 - 【請求項4】 請求項1ないし請求項3記載の非可逆回
路素子の少なくともいずれか一つを備えたことを特徴と
する通信装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000145121A JP2001326503A (ja) | 2000-05-17 | 2000-05-17 | 非可逆回路素子及び通信装置 |
US09/858,765 US6657511B2 (en) | 2000-05-17 | 2001-05-16 | Nonreciprocal circuit device and communication apparatus including the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000145121A JP2001326503A (ja) | 2000-05-17 | 2000-05-17 | 非可逆回路素子及び通信装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001326503A true JP2001326503A (ja) | 2001-11-22 |
Family
ID=18651674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000145121A Pending JP2001326503A (ja) | 2000-05-17 | 2000-05-17 | 非可逆回路素子及び通信装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6657511B2 (ja) |
JP (1) | JP2001326503A (ja) |
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---|---|---|---|---|
JP2003273610A (ja) * | 2002-03-14 | 2003-09-26 | Alps Electric Co Ltd | 非可逆回路素子 |
US9412521B2 (en) | 2005-04-07 | 2016-08-09 | American Radionic Company, Inc. | Capacitor with multiple elements for multiple replacement applications |
US11183336B2 (en) | 2005-04-07 | 2021-11-23 | Amrad Manufacturing, Llc | Capacitor with multiple elements for multiple replacement applications |
US11183338B2 (en) | 2005-04-07 | 2021-11-23 | Amrad Manufacturing, Llc | Capacitor with multiple elements for multiple replacement applications |
US7203053B2 (en) | 2005-04-07 | 2007-04-10 | American Radionic Company, Inc. | Capacitor for multiple replacement applications |
US11183337B1 (en) | 2005-04-07 | 2021-11-23 | Amrad Manufacturing, Llc | Capacitor with multiple elements for multiple replacement applications |
USD818959S1 (en) | 2005-12-23 | 2018-05-29 | American Radionic Company, Inc. | Capacitor |
US7952854B2 (en) | 2006-12-29 | 2011-05-31 | American Radionic Company, Inc. | Electrolytic capacitor |
WO2014190072A1 (en) | 2013-05-21 | 2014-11-27 | American Radionic Company, Inc. | Power factor correction capacitors |
US11195663B2 (en) | 2017-05-12 | 2021-12-07 | Amrad Manufacturing, Llc | Capacitor with multiple elements for multiple replacement applications |
US11424077B1 (en) * | 2017-12-13 | 2022-08-23 | Amrad Manufacturing, Llc | Hard start kit for multiple replacement applications |
US10586655B1 (en) | 2018-12-28 | 2020-03-10 | American Radionic Company, Inc. | Capacitor with multiple elements for multiple replacement applications |
USD906247S1 (en) | 2019-07-11 | 2020-12-29 | American Radionic Company, Inc. | Capacitor |
US11575298B2 (en) | 2021-04-30 | 2023-02-07 | Amrad Manufacturing, Llc | Hard start kit for multiple replacement applications |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09116308A (ja) * | 1995-08-11 | 1997-05-02 | Taiyo Yuden Co Ltd | 非可逆回路素子 |
JPH10200307A (ja) | 1997-01-10 | 1998-07-31 | Murata Mfg Co Ltd | 非可逆回路素子 |
JP3646532B2 (ja) * | 1997-10-13 | 2005-05-11 | 株式会社村田製作所 | 非可逆回路素子 |
JPH11239009A (ja) * | 1998-02-23 | 1999-08-31 | Hitachi Metals Ltd | 非可逆回路素子の広帯域化構造 |
-
2000
- 2000-05-17 JP JP2000145121A patent/JP2001326503A/ja active Pending
-
2001
- 2001-05-16 US US09/858,765 patent/US6657511B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020030548A1 (en) | 2002-03-14 |
US6657511B2 (en) | 2003-12-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040330 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040727 |