JP2001326150A - 部品保守管理システム - Google Patents
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- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数の部品から構成される装置側で、部品の
保守時期を管理して通知できる部品保守管理システムを
提供する。 【解決手段】 各部品毎の実際の装置の利用度に関連し
ない第１の保守インターバルを格納する第１の保守イン
ターバル格納部３１３と、各部品毎の実際の装置の利用
度に関連付けられた第２の保守インターバルを格納する
第２の保守インターバル格納部３１４と、前記第１の保
守インターバルに達したことに基いて、当該部品の保守
を要求する保守要求発生部３１６と、第１の保守インタ
ーバルに達したことに基いて、前記第２の保守インター
バルに達したかを判断し、第２の保守インターバルに達
していない場合には、前記保守要求発生部３１５による
保守要求を一時禁止し、前記第１の保守インターバルを
延長する保守インターバル延長部３１７とを有する。
保守時期を管理して通知できる部品保守管理システムを
提供する。 【解決手段】 各部品毎の実際の装置の利用度に関連し
ない第１の保守インターバルを格納する第１の保守イン
ターバル格納部３１３と、各部品毎の実際の装置の利用
度に関連付けられた第２の保守インターバルを格納する
第２の保守インターバル格納部３１４と、前記第１の保
守インターバルに達したことに基いて、当該部品の保守
を要求する保守要求発生部３１６と、第１の保守インタ
ーバルに達したことに基いて、前記第２の保守インター
バルに達したかを判断し、第２の保守インターバルに達
していない場合には、前記保守要求発生部３１５による
保守要求を一時禁止し、前記第１の保守インターバルを
延長する保守インターバル延長部３１７とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、多くの
消耗部品を有する半導体装置製造装置に設けられ、各部
品の保守時期を管理する部品保守管理システムに関する
ものである。
消耗部品を有する半導体装置製造装置に設けられ、各部
品の保守時期を管理する部品保守管理システムに関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、半導体デバイスの製造工程に
は、半導体ウェハ（以下ウェハという）にレジスト膜を
形成し、フォト技術を用いて回路パターン等を縮小して
レジスト膜を露光し、これを現像処理する、フォトリソ
グラフイといわれる一連の工程がある。このフォトリソ
グラフィ工程を実施するための自動装置として、例え
ば、前記レジストの塗布及び現像を行なう塗布現像処理
装置がある。
は、半導体ウェハ（以下ウェハという）にレジスト膜を
形成し、フォト技術を用いて回路パターン等を縮小して
レジスト膜を露光し、これを現像処理する、フォトリソ
グラフイといわれる一連の工程がある。このフォトリソ
グラフィ工程を実施するための自動装置として、例え
ば、前記レジストの塗布及び現像を行なう塗布現像処理
装置がある。
【０００３】この塗布現像処理装置は、ウエハを回転駆
動するための回転駆動用モータやレジスト液から不純物
を取り除くためのフィルタ等の多くの消耗部品を用いて
いる。これらの消耗部品は、それらの製造業者によって
推奨交換時期が設定されており、利用者は、この交換時
期が到来したことに基いて消耗品業者に連絡をして当該
消耗品の交換を行なうようにしている。
動するための回転駆動用モータやレジスト液から不純物
を取り除くためのフィルタ等の多くの消耗部品を用いて
いる。これらの消耗部品は、それらの製造業者によって
推奨交換時期が設定されており、利用者は、この交換時
期が到来したことに基いて消耗品業者に連絡をして当該
消耗品の交換を行なうようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の消耗
品管理は、装置の利用者に任されており、独自の管理方
法で管理する必要がある。また、単純な交換時期に基い
た消耗品交換は、当該消耗品が十分に使用可能な場合で
も部品交換されてしまうことになり、環境上も経済上も
好ましくない。一方、利用者における勝手な判断は、装
置全体の故障に繋がるため危険である。
品管理は、装置の利用者に任されており、独自の管理方
法で管理する必要がある。また、単純な交換時期に基い
た消耗品交換は、当該消耗品が十分に使用可能な場合で
も部品交換されてしまうことになり、環境上も経済上も
好ましくない。一方、利用者における勝手な判断は、装
置全体の故障に繋がるため危険である。
【０００５】この発明はこのような事情に鑑みてなされ
たものであり、複数の部品から構成される装置側で、部
品の保守時期を管理して通知できる部品保守管理システ
ムを提供することを目的とする。
たものであり、複数の部品から構成される装置側で、部
品の保守時期を管理して通知できる部品保守管理システ
ムを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の主要な観点によれば、複数の部品からな
る装置における各部品の保守インターバルを管理するた
めの部品保守管理システムであって、各部品毎の実際の
装置の利用度に関連しない第１の保守インターバルを格
納する第１の保守インターバル格納部と、各部品毎の実
際の装置の利用度に関連付けられた第２の保守インター
バルを格納する第２の保守インターバル格納部と、前記
第１の保守インターバルに達したことに基いて、当該部
品の保守を要求する保守要求発生手段と、第１の保守イ
ンターバルに達したことに基いて、前記第２の保守イン
ターバルに達したかを判断し、第２の保守インターバル
に達していない場合には、前記保守要求発生手段による
保守要求を一時禁止し、前記第１の保守インターバルを
延長する保守インターバル延長手段とを有する部品保守
管理システムが提供される。
め、この発明の主要な観点によれば、複数の部品からな
る装置における各部品の保守インターバルを管理するた
めの部品保守管理システムであって、各部品毎の実際の
装置の利用度に関連しない第１の保守インターバルを格
納する第１の保守インターバル格納部と、各部品毎の実
際の装置の利用度に関連付けられた第２の保守インター
バルを格納する第２の保守インターバル格納部と、前記
第１の保守インターバルに達したことに基いて、当該部
品の保守を要求する保守要求発生手段と、第１の保守イ
ンターバルに達したことに基いて、前記第２の保守イン
ターバルに達したかを判断し、第２の保守インターバル
に達していない場合には、前記保守要求発生手段による
保守要求を一時禁止し、前記第１の保守インターバルを
延長する保守インターバル延長手段とを有する部品保守
管理システムが提供される。
【０００７】このような構成によれば、装置側で部品の
保守インターバルを管理することができ、この場合、実
際の装置動作に関係なく設定された第１の保守インター
バルと実際の装置動作に基いて設定された第２の保守イ
ンターバルとを参照して、第１の保守インターバルを適
宜延長できる。
保守インターバルを管理することができ、この場合、実
際の装置動作に関係なく設定された第１の保守インター
バルと実際の装置動作に基いて設定された第２の保守イ
ンターバルとを参照して、第１の保守インターバルを適
宜延長できる。
【０００８】なお、この部品保守管理システムにおい
て、前記第２の保守インターバルに関連付けられた装置
の実際の動作は、部品に応じて、装置の実稼動時間、移
動距離、稼動回数等であることが好ましい。また、この
部品保守管理システムは、部品の実際の保守頻度を格納
する保守頻度格納部と、所定期間経過後に、前記保守頻
度格納部に格納された修理頻度を取り出し、その頻度の
うち最も短いものを第１の保守インターバルとして前記
第１の保守インターバル格納部の第１保守インターバル
を更新する第１の保守インターバル更新手段とをさらに
有することが望ましい。
て、前記第２の保守インターバルに関連付けられた装置
の実際の動作は、部品に応じて、装置の実稼動時間、移
動距離、稼動回数等であることが好ましい。また、この
部品保守管理システムは、部品の実際の保守頻度を格納
する保守頻度格納部と、所定期間経過後に、前記保守頻
度格納部に格納された修理頻度を取り出し、その頻度の
うち最も短いものを第１の保守インターバルとして前記
第１の保守インターバル格納部の第１保守インターバル
を更新する第１の保守インターバル更新手段とをさらに
有することが望ましい。
【０００９】なお、この発明の他の特徴と顕著な効果
は、次の発明の実施の形態の項と添付した図面とによ
り、より明確に理解される。
は、次の発明の実施の形態の項と添付した図面とによ
り、より明確に理解される。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施形態に係
る部品保守管理システムを、レジスト膜の塗布及び現像
を行なうための塗布現像処理システムに適用した場合を
例にとって説明する。
る部品保守管理システムを、レジスト膜の塗布及び現像
を行なうための塗布現像処理システムに適用した場合を
例にとって説明する。
【００１１】図１〜図３は、この塗布現像処理システム
を示す全体構成図である。
を示す全体構成図である。
【００１２】図１に示すように、この塗布現像処理シス
テム１０１は、ウェハＷを例えば２５枚のカセットＣ単
位で外部から塗布現像処理システム１０１に対して搬入
出したり、カセットＣに対してウェハＷを搬入出したり
するためのカセットステーション１０２と、塗布現像処
理工程の中で１枚ずつウェハＷに所定の処理を施す枚葉
式の各種処理装置を多段配置している処理ステーション
１０３と、この処理ステーション１０３に隣接して設け
られる露光装置（図示せず）との間でウェハＷの受け渡
しをするためのインターフェイス部１０４とを一体に接
続した構成を有している。
テム１０１は、ウェハＷを例えば２５枚のカセットＣ単
位で外部から塗布現像処理システム１０１に対して搬入
出したり、カセットＣに対してウェハＷを搬入出したり
するためのカセットステーション１０２と、塗布現像処
理工程の中で１枚ずつウェハＷに所定の処理を施す枚葉
式の各種処理装置を多段配置している処理ステーション
１０３と、この処理ステーション１０３に隣接して設け
られる露光装置（図示せず）との間でウェハＷの受け渡
しをするためのインターフェイス部１０４とを一体に接
続した構成を有している。
【００１３】カセットステーション１０２では、載置部
となるカセット載置台１０５上の位置決め突起１０５ａ
の位置に複数個、例えば４個の各カセットＣがウェハＷ
の出入口を処理ステーション１０３側に向けてＸ方向
（図１中の上下方向）一列に載置されている。そして、
このカセットＣ配列方向（Ｘ方向）及びカセットＣに収
容されたウェハＷのウェハＷ配列方向（Ｚ方向；垂直方
向）に移動可能なウェハ搬送体１１０が搬送路１１０ａ
に沿って移動自在であり、各カセットＣに選択的にアク
セスできるようになっている。
となるカセット載置台１０５上の位置決め突起１０５ａ
の位置に複数個、例えば４個の各カセットＣがウェハＷ
の出入口を処理ステーション１０３側に向けてＸ方向
（図１中の上下方向）一列に載置されている。そして、
このカセットＣ配列方向（Ｘ方向）及びカセットＣに収
容されたウェハＷのウェハＷ配列方向（Ｚ方向；垂直方
向）に移動可能なウェハ搬送体１１０が搬送路１１０ａ
に沿って移動自在であり、各カセットＣに選択的にアク
セスできるようになっている。
【００１４】このウェハ搬送体１１０はθ方向にも回転
自在に構成されており、後述するように処理ステーショ
ン１０３側の第３の処理装置群Ｇ3の多段ユニット部に
属するアライメントユニット（ＡＬＩＭ）及びエクステ
ンションユニット（ＥＸＴ）にもアクセスできるように
構成されている。
自在に構成されており、後述するように処理ステーショ
ン１０３側の第３の処理装置群Ｇ3の多段ユニット部に
属するアライメントユニット（ＡＬＩＭ）及びエクステ
ンションユニット（ＥＸＴ）にもアクセスできるように
構成されている。
【００１５】処理ステーション１０３では、その中心部
に主搬送装置１２０が配置されており、その周囲にはユ
ニットとしての各種処理装置が１組または複数の組にわ
たって多段集積配置されて処理装置群を構成している。
この塗布現像処理システム１０１においては、５つの処
理装置群Ｇ1、Ｇ2、Ｇ3、Ｇ4、Ｇ5が配置可能に構成さ
れており、第１及び第２の処理装置群Ｇ1、Ｇ2は塗布現
像処理システム１０１正面側に配置されており、第３の
処理装置群Ｇ3はカセットステーション１０２に隣接し
て配置されており、第４の処理装置群Ｇ4はインターフ
ェイス部１０４に隣接して配置されており、破線で示し
た第５の処理装置群Ｇ5は背面側に配置されている。
に主搬送装置１２０が配置されており、その周囲にはユ
ニットとしての各種処理装置が１組または複数の組にわ
たって多段集積配置されて処理装置群を構成している。
この塗布現像処理システム１０１においては、５つの処
理装置群Ｇ1、Ｇ2、Ｇ3、Ｇ4、Ｇ5が配置可能に構成さ
れており、第１及び第２の処理装置群Ｇ1、Ｇ2は塗布現
像処理システム１０１正面側に配置されており、第３の
処理装置群Ｇ3はカセットステーション１０２に隣接し
て配置されており、第４の処理装置群Ｇ4はインターフ
ェイス部１０４に隣接して配置されており、破線で示し
た第５の処理装置群Ｇ5は背面側に配置されている。
【００１６】第１の処理装置群Ｇ1では図２に示すよう
に、カップＣＰ内でウェハＷをスピンチャックに載せて
所定の処理を行う２台のスピンナ型処理装置、例えば図
１に示したレジスト塗布装置（ＣＯＴ）及び現像処理装
置（ＤＥＶ）が下から順に２段に重ねられている。そし
て第１の処理装置群Ｇ1と同様に、第２の処理装置群Ｇ2
においても、２台のスピンナ型処理装置、例えばレジス
ト塗布装置（ＣＯＴ）及び現像処理装置（ＤＥＶ）が下
から順に２段に重ねられている。
に、カップＣＰ内でウェハＷをスピンチャックに載せて
所定の処理を行う２台のスピンナ型処理装置、例えば図
１に示したレジスト塗布装置（ＣＯＴ）及び現像処理装
置（ＤＥＶ）が下から順に２段に重ねられている。そし
て第１の処理装置群Ｇ1と同様に、第２の処理装置群Ｇ2
においても、２台のスピンナ型処理装置、例えばレジス
ト塗布装置（ＣＯＴ）及び現像処理装置（ＤＥＶ）が下
から順に２段に重ねられている。
【００１７】第３の処理装置群Ｇ3では図３に示すよう
に、例えば冷却処理を行う冷却処理装置（ＣＯＬ）、レ
ジストとウェハＷとの定着性を高めるための疎水化処理
装置（ＡＤ）、ウェハＷの位置合わせを行うアライメン
ト装置（ＡＬＩＭ）、ウェハＷを待機させるエクステン
ション装置（ＥＸＴ）、加熱処理を行うプリベーキング
装置（ＰＲＥＢＡＫＥ）、ポストベーキング装置（ＰＯ
ＢＡＫＥ）及びポストエキスポ-ジャーベーク装置（Ｐ
ＥＢ）等が８段に重ねられている。第４の処理装置群Ｇ
4では、冷却処理装置（ＣＯＬ）、エクステンション冷
却装置（ＥＸＴＣＯＬ）、エクステンション装置（ＥＸ
Ｔ）、冷却処理装置（ＣＯＬ）、プリベーキング装置
（ＰＲＥＢＡＫＥ）、ポストベーキング装置（ＰＯＢＡ
ＫＥ）等が８段に重ねられている。
に、例えば冷却処理を行う冷却処理装置（ＣＯＬ）、レ
ジストとウェハＷとの定着性を高めるための疎水化処理
装置（ＡＤ）、ウェハＷの位置合わせを行うアライメン
ト装置（ＡＬＩＭ）、ウェハＷを待機させるエクステン
ション装置（ＥＸＴ）、加熱処理を行うプリベーキング
装置（ＰＲＥＢＡＫＥ）、ポストベーキング装置（ＰＯ
ＢＡＫＥ）及びポストエキスポ-ジャーベーク装置（Ｐ
ＥＢ）等が８段に重ねられている。第４の処理装置群Ｇ
4では、冷却処理装置（ＣＯＬ）、エクステンション冷
却装置（ＥＸＴＣＯＬ）、エクステンション装置（ＥＸ
Ｔ）、冷却処理装置（ＣＯＬ）、プリベーキング装置
（ＰＲＥＢＡＫＥ）、ポストベーキング装置（ＰＯＢＡ
ＫＥ）等が８段に重ねられている。
【００１８】インターフェイス部１０４では図１に示す
ように、その背面部に周辺露光装置１２５（ＷＥＥ）
が、中央部にウェハ搬送体１２６がそれぞれ設けられて
いる。このウェハ搬送体１２６はＸ方向、Ｚ方向（垂直
方向）の移動及びθ方向の回転が自在にできるように構
成されており、処理ステーション１０３側の第４の処理
装置群Ｇ4に属するエクステンション装置（ＥＸＴ）や
露光装置（図示せず）側のウェハ受け渡し台（図示せ
ず）にもアクセスできるように構成されている。
ように、その背面部に周辺露光装置１２５（ＷＥＥ）
が、中央部にウェハ搬送体１２６がそれぞれ設けられて
いる。このウェハ搬送体１２６はＸ方向、Ｚ方向（垂直
方向）の移動及びθ方向の回転が自在にできるように構
成されており、処理ステーション１０３側の第４の処理
装置群Ｇ4に属するエクステンション装置（ＥＸＴ）や
露光装置（図示せず）側のウェハ受け渡し台（図示せ
ず）にもアクセスできるように構成されている。
【００１９】次に、以上のように構成された塗布現像処
理システム１０１における処理工程について説明する。
理システム１０１における処理工程について説明する。
【００２０】塗布現像処理システム１０１において、カ
セットＣ内に収容された未処理のウェハＷはカセットス
テーション１０２のウェハ搬送体１１０によって取り出
された後、処理ステーション１０３の第３の処理群Ｇ3
のアライメント装置（ＡＬＩＭ）内に搬送され、位置合
わせが行われる。そして、主搬送装置１２０を反対側か
ら搬入させ、ウェハＷはアライメント装置（ＡＬＩＭ）
内から搬出され搬送される。そして、ウェハＷは、第３
の処理群Ｇ3の疎水化処理装置（ＡＤ）にて疎水化処理
され、第３の処理群Ｇ3又は第４の処理群Ｇ4の冷却処理
装置（ＣＯＬ）にて冷却された後に、第１の処理群Ｇ1
又は第２の処理群Ｇ2のレジスト塗布装置（ＣＯＴ）に
てフォトレジスト膜すなわち感光膜を塗布形成される。
セットＣ内に収容された未処理のウェハＷはカセットス
テーション１０２のウェハ搬送体１１０によって取り出
された後、処理ステーション１０３の第３の処理群Ｇ3
のアライメント装置（ＡＬＩＭ）内に搬送され、位置合
わせが行われる。そして、主搬送装置１２０を反対側か
ら搬入させ、ウェハＷはアライメント装置（ＡＬＩＭ）
内から搬出され搬送される。そして、ウェハＷは、第３
の処理群Ｇ3の疎水化処理装置（ＡＤ）にて疎水化処理
され、第３の処理群Ｇ3又は第４の処理群Ｇ4の冷却処理
装置（ＣＯＬ）にて冷却された後に、第１の処理群Ｇ1
又は第２の処理群Ｇ2のレジスト塗布装置（ＣＯＴ）に
てフォトレジスト膜すなわち感光膜を塗布形成される。
【００２１】そして、感光膜を形成した後、第３の処理
群Ｇ3又は第４の処理群Ｇ4のプリベーキング装置（ＰＲ
ＥＢＡＫＥ）にて加熱処理を行い、ウェハＷ上の感光膜
から残存溶剤を蒸発除去する。そして、第４の処理群Ｇ
4のエクステンション冷却装置（ＥＸＴＣＯＬ）で冷却
された後に、第４の処理群Ｇ4のエクステンション装置
（ＥＸＴ）内に載置される。そして、ウェハ搬送体１２
６を反対側から搬入させ、ウェハＷは搬出される。
群Ｇ3又は第４の処理群Ｇ4のプリベーキング装置（ＰＲ
ＥＢＡＫＥ）にて加熱処理を行い、ウェハＷ上の感光膜
から残存溶剤を蒸発除去する。そして、第４の処理群Ｇ
4のエクステンション冷却装置（ＥＸＴＣＯＬ）で冷却
された後に、第４の処理群Ｇ4のエクステンション装置
（ＥＸＴ）内に載置される。そして、ウェハ搬送体１２
６を反対側から搬入させ、ウェハＷは搬出される。
【００２２】搬出されたウェハＷは、順次周辺露光ユニ
ット（ＷＥＥ）により、ウェハ周縁部を例えば２ｍｍの
幅で周辺露光処理される。周辺露光されたウェハは、第
２のウェハ搬送体１２６によって順次バッファカセット
（ＢＵＣＲ）内に収納される。その後、図示しない露光
装置より受け取り信号が出されるとバッファカセット
（ＢＵＣＲ）に収納されたウェハは、順次ウェハ搬送体
１２８によって露光装置に受け渡される。
ット（ＷＥＥ）により、ウェハ周縁部を例えば２ｍｍの
幅で周辺露光処理される。周辺露光されたウェハは、第
２のウェハ搬送体１２６によって順次バッファカセット
（ＢＵＣＲ）内に収納される。その後、図示しない露光
装置より受け取り信号が出されるとバッファカセット
（ＢＵＣＲ）に収納されたウェハは、順次ウェハ搬送体
１２８によって露光装置に受け渡される。
【００２３】この露光装置による露光が終了したなら
ば、周辺露光処理された後のウェハＷは、前記とは逆に
第４の処理ユニット群Ｇ４を介して主搬送装置１２０に
受け渡され、この主搬送装置１２０によってポストエキ
スポージャーベーキングユニット（ＰＥＢ）に受け渡さ
れる。このことで、前記ウェハＷは加熱処理され、その
後、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて所定の温度に冷
却処理される。
ば、周辺露光処理された後のウェハＷは、前記とは逆に
第４の処理ユニット群Ｇ４を介して主搬送装置１２０に
受け渡され、この主搬送装置１２０によってポストエキ
スポージャーベーキングユニット（ＰＥＢ）に受け渡さ
れる。このことで、前記ウェハＷは加熱処理され、その
後、クーリングユニット（ＣＯＬ）にて所定の温度に冷
却処理される。
【００２４】次に、ウェハＷは、主搬送装置１２０に受
け渡され、そして、第１の処理群Ｇ1又は第２の処理群
Ｇ2の現像処理装置（ＤＥＶ）内に搬送され、現像液に
より現像された後にリンス液により現像液を洗い流し、
現像処理を完了する。
け渡され、そして、第１の処理群Ｇ1又は第２の処理群
Ｇ2の現像処理装置（ＤＥＶ）内に搬送され、現像液に
より現像された後にリンス液により現像液を洗い流し、
現像処理を完了する。
【００２５】その後、ウェハＷは主搬送装置１２０によ
って現像処理装置（ＤＥＶ）内から搬出される。そし
て、ウェハＷは、第３の処理群Ｇ3又は第４の処理群Ｇ4
のポストベーキング装置（ＰＯＢＡＫＥ）で加熱処理さ
れ、第３の処理群Ｇ3又は第４の処理群Ｇ4の冷却処理装
置で（ＣＯＬ）で冷却した後に、第３の処理群Ｇ3のエ
クステンション装置（ＥＸＴ）内に載置される。そし
て、ウェハ搬送体１１０を反対側から搬入させウェハＷ
は搬出され、カセットステーション１０２に載置された
処理済みウェハ収納用のカセットＣにウェハＷが搬入さ
れる。
って現像処理装置（ＤＥＶ）内から搬出される。そし
て、ウェハＷは、第３の処理群Ｇ3又は第４の処理群Ｇ4
のポストベーキング装置（ＰＯＢＡＫＥ）で加熱処理さ
れ、第３の処理群Ｇ3又は第４の処理群Ｇ4の冷却処理装
置で（ＣＯＬ）で冷却した後に、第３の処理群Ｇ3のエ
クステンション装置（ＥＸＴ）内に載置される。そし
て、ウェハ搬送体１１０を反対側から搬入させウェハＷ
は搬出され、カセットステーション１０２に載置された
処理済みウェハ収納用のカセットＣにウェハＷが搬入さ
れる。
【００２６】この実施形態に係る部品保守管理システム
は、この塗布現像処理システムの中央制御装置内に接続
されているものである。以下、この部品保守管理システ
ムの構成及び動作を、上記塗布現像処理システムのう
ち、前記レジスト膜を形成するためのレジスト塗布装置
（ＣＯＴ）の部品保守を行なう場合を例にとって説明す
る。
は、この塗布現像処理システムの中央制御装置内に接続
されているものである。以下、この部品保守管理システ
ムの構成及び動作を、上記塗布現像処理システムのう
ち、前記レジスト膜を形成するためのレジスト塗布装置
（ＣＯＴ）の部品保守を行なう場合を例にとって説明す
る。
【００２７】図４は、この塗布装置（ＣＯＴ）及び部品
保守管理システム３００の制御系統を示す概略構成図で
ある。
保守管理システム３００の制御系統を示す概略構成図で
ある。
【００２８】先ず塗布処理装置（ＣＯＴ）の部分につい
て説明する。
て説明する。
【００２９】図４において、符号３０１は基板保持部で
あるスピンチャックであり、真空吸着によりウェハＷを
水平に保持するように構成されている。スピンチャック
３０１のまわりには、これを囲むように固定カップ３０
２が設けられている。固定カップ３０２の側面及び底面
には夫々排気口３０３及び廃液口３０４が形成されてい
る。固定カップ３０２の上面開口部はレジスト液の塗布
時には開放されている。
あるスピンチャックであり、真空吸着によりウェハＷを
水平に保持するように構成されている。スピンチャック
３０１のまわりには、これを囲むように固定カップ３０
２が設けられている。固定カップ３０２の側面及び底面
には夫々排気口３０３及び廃液口３０４が形成されてい
る。固定カップ３０２の上面開口部はレジスト液の塗布
時には開放されている。
【００３０】スピンチャック３０１は回転軸と昇降軸を
同軸に組み合わせた駆動軸３０５の頂部に設けられてお
り、この駆動軸３０５はプーリ及びベルトを含む伝達機
構３０６を介してモータＭ１により回転すると共に昇降
機構３０７（駆動シリンダ）により昇降できるように構
成されている。
同軸に組み合わせた駆動軸３０５の頂部に設けられてお
り、この駆動軸３０５はプーリ及びベルトを含む伝達機
構３０６を介してモータＭ１により回転すると共に昇降
機構３０７（駆動シリンダ）により昇降できるように構
成されている。
【００３１】固定カップ３０２の上方側には、スピンチ
ャック３０１に保持されたウェハＷの中心部にレジスト
液を滴下して供給するためのレジスト液ノズル３０９が
設けられており、このノズル３０９は、図示しないアー
ムによりウェハＷの中心部上方と固定カップ３０２の側
方外側との間で移動できるように構成されている。また
レジスト液ノズル３０９は、フィルタ３１０及び図示し
ないレジスト液供給管を介して図示しないレジスト液タ
ンクに接続されており、例えばレジスト液タンク内を加
圧することにより所定量のレジスト液が吐出する。
ャック３０１に保持されたウェハＷの中心部にレジスト
液を滴下して供給するためのレジスト液ノズル３０９が
設けられており、このノズル３０９は、図示しないアー
ムによりウェハＷの中心部上方と固定カップ３０２の側
方外側との間で移動できるように構成されている。また
レジスト液ノズル３０９は、フィルタ３１０及び図示し
ないレジスト液供給管を介して図示しないレジスト液タ
ンクに接続されており、例えばレジスト液タンク内を加
圧することにより所定量のレジスト液が吐出する。
【００３２】次に検出・制御系に関して説明する。図４
に示す制御部３１１（回転速度設定部）には、この発明
の要旨に関係する構成のみについて述べると、装置の動
作を監視するための装置モニター部３１２と、各部品の
実際の装置動作に関連しない第１の保守インターバル情
報を格納する第１の保守インターバル格納部３１３と、
各部品の実際の装置動作に関連付けられた第２の保守イ
ンターバル情報を格納する第２の保守インターバル格納
部３１４と、前記第１、第２の保守インターバル情報を
入力するための保守インターバル入力部３１５と、前記
第１の保守インターバルに達したことに基いて、当該部
品の保守を要求する保守要求発生部３１６と、第１の保
守インターバルに達したことに基いて、前記第２の保守
インターバルに達したかを判断し、第２の保守インター
バルに達していない場合には、前記保守要求発生部３１
６による保守要求を一時禁止し、前記第１の保守インタ
ーバルを延長する保守インターバル延長部３１７と、過
去の部品保守の履歴を保守頻度情報として格納する部品
保守頻度格納部３１８と、この保守頻度に応じて第１の
保守インターバルを更新するための第１の保守インター
バル更新部３１９とを有する。
に示す制御部３１１（回転速度設定部）には、この発明
の要旨に関係する構成のみについて述べると、装置の動
作を監視するための装置モニター部３１２と、各部品の
実際の装置動作に関連しない第１の保守インターバル情
報を格納する第１の保守インターバル格納部３１３と、
各部品の実際の装置動作に関連付けられた第２の保守イ
ンターバル情報を格納する第２の保守インターバル格納
部３１４と、前記第１、第２の保守インターバル情報を
入力するための保守インターバル入力部３１５と、前記
第１の保守インターバルに達したことに基いて、当該部
品の保守を要求する保守要求発生部３１６と、第１の保
守インターバルに達したことに基いて、前記第２の保守
インターバルに達したかを判断し、第２の保守インター
バルに達していない場合には、前記保守要求発生部３１
６による保守要求を一時禁止し、前記第１の保守インタ
ーバルを延長する保守インターバル延長部３１７と、過
去の部品保守の履歴を保守頻度情報として格納する部品
保守頻度格納部３１８と、この保守頻度に応じて第１の
保守インターバルを更新するための第１の保守インター
バル更新部３１９とを有する。
【００３３】以下、これらの構成を、その機能に基いて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００３４】まず、前記装置モニター部３１２は、この
塗布現像装置全体の動作の他、図に３２２で示すエアフ
ィルタ、前記レジストフィルタ３１０、駆動シリンダ３
０７及び駆動モータＭ１の動作状況を受け取る機能を有
している。
塗布現像装置全体の動作の他、図に３２２で示すエアフ
ィルタ、前記レジストフィルタ３１０、駆動シリンダ３
０７及び駆動モータＭ１の動作状況を受け取る機能を有
している。
【００３５】前記第１の保守インターバル格納部３１３
は、図６に示すように、装置の消耗部品について、実際
の装置動作とは関係なく設定された保守インターバル情
報３２４を格納する。この例では、レジストフィルタ３
１０の保守時期及びエアフィルタ３２２の保守時期、前
記モータＭ１のグリスアップ時期、及び駆動シリンダ３
０７の保守点検時期についての保守インターバルを格納
する。また、この第１の保守インターバル格納部３１３
は、この第１の保守インターバルが第２の保守インター
バルに基いて延長可能かの情報を格納する延長フィール
ド３２５を有する。この延長フィールド３２５には、延
長可能な場合、何％延長可能かの単位が格納されてい
る。
は、図６に示すように、装置の消耗部品について、実際
の装置動作とは関係なく設定された保守インターバル情
報３２４を格納する。この例では、レジストフィルタ３
１０の保守時期及びエアフィルタ３２２の保守時期、前
記モータＭ１のグリスアップ時期、及び駆動シリンダ３
０７の保守点検時期についての保守インターバルを格納
する。また、この第１の保守インターバル格納部３１３
は、この第１の保守インターバルが第２の保守インター
バルに基いて延長可能かの情報を格納する延長フィール
ド３２５を有する。この延長フィールド３２５には、延
長可能な場合、何％延長可能かの単位が格納されてい
る。
【００３６】第２の保守インターバル格納部３１４は、
図７に示すように、装置の実際の稼動状況に応じた各消
耗部品の保守インターバル情報３２７を格納する。例え
ば、レジストフィルタは装置運転時間で、エアフィルタ
は１２か月で、モータグリスＵＰはモータ回転距離（回
転時間×回転数）で、駆動シリンダは作動回数で設定さ
れる。
図７に示すように、装置の実際の稼動状況に応じた各消
耗部品の保守インターバル情報３２７を格納する。例え
ば、レジストフィルタは装置運転時間で、エアフィルタ
は１２か月で、モータグリスＵＰはモータ回転距離（回
転時間×回転数）で、駆動シリンダは作動回数で設定さ
れる。
【００３７】これら、第１、第２の保守インターバル
は、前記保守インターバル入力部３１５を通じて入力・
設定されるようになっている。
は、前記保守インターバル入力部３１５を通じて入力・
設定されるようになっている。
【００３８】次に、図５を参照して前記保守要求発生部
３１６による処理手順を説明する。
３１６による処理手順を説明する。
【００３９】まず、この保守要求発生部３１６は、前記
第１の保守インターバル格納部内３１３に格納された情
報に基いて、各部品が実際の装置動作とは関係のない前
記第１の保守インターバルに達したかを判断する（ステ
ップＳ１）。例えば、前記駆動シリンダ３０７の例でい
えば、前回の保守から６か月が経過したかを判断する。
この第１の保守インターバルに達していない場合には、
この工程（ステップＳ１）を繰り返す。
第１の保守インターバル格納部内３１３に格納された情
報に基いて、各部品が実際の装置動作とは関係のない前
記第１の保守インターバルに達したかを判断する（ステ
ップＳ１）。例えば、前記駆動シリンダ３０７の例でい
えば、前回の保守から６か月が経過したかを判断する。
この第１の保守インターバルに達していない場合には、
この工程（ステップＳ１）を繰り返す。
【００４０】一方、第１の保守インターバルに達した場
合には、ついで、第２の保守インターバルに達したかを
判断する（ステップＳ２）。この判断は、前記装置モニ
ター部３１２から、実際の装置の動作を受け取って、こ
れを前記第２の保守インターバルに適用することで行な
う。例えば、前記駆動シリンダ３０７の例でいえば、駆
動シリンダ３０７の作動回数が所定の回数に達している
かを判断する。この判断で、第２の保守インターバルに
も達していると判断した場合には、オペレータに対して
保守の通知を発生する。一方、第２の保守インターバル
に達していないと判断された場合には、前記延長フィー
ルド３２５に格納された条件に基いて前記第１の保守イ
ンターバルを延長し、これを新たな第１の保守インター
バル格納部３１３に格納する（ステップＳ４）。
合には、ついで、第２の保守インターバルに達したかを
判断する（ステップＳ２）。この判断は、前記装置モニ
ター部３１２から、実際の装置の動作を受け取って、こ
れを前記第２の保守インターバルに適用することで行な
う。例えば、前記駆動シリンダ３０７の例でいえば、駆
動シリンダ３０７の作動回数が所定の回数に達している
かを判断する。この判断で、第２の保守インターバルに
も達していると判断した場合には、オペレータに対して
保守の通知を発生する。一方、第２の保守インターバル
に達していないと判断された場合には、前記延長フィー
ルド３２５に格納された条件に基いて前記第１の保守イ
ンターバルを延長し、これを新たな第１の保守インター
バル格納部３１３に格納する（ステップＳ４）。
【００４１】なお、前記通知に基いて実際に保守がなさ
れたならば、この時の実際の保守インターバルを前記保
守頻度格納部３１８に格納する（ステップＳ５）。そし
て、前記第１の保守インターバル更新部３１９は、適当
な時期に、前記部品保守頻度格納部３１８に格納された
過去の保守インターバルを取り出し、過去の保守インタ
ーバルのうち、最も短いものを新たな第１の保守インタ
ーバルとして前記第１の保守インターバル格納部３１３
を更新する。
れたならば、この時の実際の保守インターバルを前記保
守頻度格納部３１８に格納する（ステップＳ５）。そし
て、前記第１の保守インターバル更新部３１９は、適当
な時期に、前記部品保守頻度格納部３１８に格納された
過去の保守インターバルを取り出し、過去の保守インタ
ーバルのうち、最も短いものを新たな第１の保守インタ
ーバルとして前記第１の保守インターバル格納部３１３
を更新する。
【００４２】以上説明した構成によれば、複数の部品か
ら構成される装置側で、部品の保守時期を管理して通知
できる部品保守管理システムを提供することができる。
ら構成される装置側で、部品の保守時期を管理して通知
できる部品保守管理システムを提供することができる。
【００４３】すなわち、従来の装置では、消耗品管理
は、装置の利用者に任されており、独自の管理方法で管
理する必要がある。また、単純な交換時期に基いた消耗
品交換は、当該消耗品が十分に使用可能な場合でも部品
交換されてしまうことになり、環境上も経済上も好まし
くない。一方、利用者における勝手な判断は、装置全体
の故障に繋がるため危険である。
は、装置の利用者に任されており、独自の管理方法で管
理する必要がある。また、単純な交換時期に基いた消耗
品交換は、当該消耗品が十分に使用可能な場合でも部品
交換されてしまうことになり、環境上も経済上も好まし
くない。一方、利用者における勝手な判断は、装置全体
の故障に繋がるため危険である。
【００４４】これに対して、この装置では、実際の装置
動作に基いて設定された第２の保守インターバルを参照
して、第１の保守インターバルを適宜延長でき、この延
長も予め設定された値に基いて行なわれるので、上記の
ような問題点はない。
動作に基いて設定された第２の保守インターバルを参照
して、第１の保守インターバルを適宜延長でき、この延
長も予め設定された値に基いて行なわれるので、上記の
ような問題点はない。
【００４５】なお、この発明は上記一実施形態に限定さ
れるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲で種々
変形可能である。
れるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲で種々
変形可能である。
【００４６】例えば、前記一実施形態では、装置とし
て、多数の部品を有する装置として塗布現像装置を例に
挙げて説明したが、これに限定されるものではない。ま
た、消耗部品及びそれぞれの保守条件も上述したものに
限定されることなく、種々変形可能である。
て、多数の部品を有する装置として塗布現像装置を例に
挙げて説明したが、これに限定されるものではない。ま
た、消耗部品及びそれぞれの保守条件も上述したものに
限定されることなく、種々変形可能である。
【００４７】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、複数の部品から構成される装置側で、部品の保守時
期を管理して通知できる部品保守管理システムを提供す
ることができる。
ば、複数の部品から構成される装置側で、部品の保守時
期を管理して通知できる部品保守管理システムを提供す
ることができる。
【図１】本発明の実施の形態にかかる現像処理装置を備
えた現像塗布処理システムの平面図。
えた現像塗布処理システムの平面図。
【図２】図１の現像塗布処理システムの正面図。
【図３】図１の現像塗布処理システムの背面図。
【図４】塗布膜形成装置及びこの発明に係る制御系統の
一実施形態を示す概略構成図。
一実施形態を示す概略構成図。
【図５】保守要求発生部による処理工程を示すフローチ
ャート。
ャート。
【図６】第１の保守インターバルを示す図。
【図７】第２の保守インターバルを示す図。
Ｗ…ウェハ Ｃ…カセット Ｍ１…モータ（部品） ３００…部品保守管理システム ３０１…スピンチャック ３０２…固定カップ ３０３…排気口 ３０４…廃液口 ３０５…駆動軸 ３０６…伝達機構 ３０７…昇降機構（部品） ３０９…レジスト液ノズル ３１０…レジストフィルタ（部品） ３１１…制御部 ３１２…装置モニター部 ３１３…第１の保守インターバル格納部 ３１４…第２の保守インターバル格納部 ３１５…保守インターバル入力部 ３１６…保守要求発生部 ３１７…保守インターバル延長部 ３１８…部品保守頻度格納部 ３１９…第１の保守インターバル更新部 ３２２…エアフィルタ（部品） ３２４…第１の保守インターバル ３２５…延長フィールド ３２７…第２の保守インターバル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 建山 正規 熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地 東京 エレクトロン九州株式会社熊本事業所内 Ｆターム(参考） 5B049 BB07 CC31 EE01 FF07 GG09 5F046 AA28
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の部品からなる装置における各部品
の保守タイミングを管理するための部品保守管理システ
ムであって、 各部品毎の実際の装置の利用度に関連しない第１の保守
インターバルを格納する第１の保守インターバル格納部
と、 各部品毎の実際の装置の利用度に関連付けられた第２の
保守インターバルを格納する第２の保守インターバル格
納部と、 前記第１の保守インターバルに達したことに基いて、当
該部品の保守を要求する保守要求発生手段と、 第１の保守インターバルに達したことに基いて、前記第
２の保守インターバルに達したかを判断し、第２の保守
インターバルに達していない場合には、前記保守要求発
生手段による保守要求を一時禁止し、前記第１の保守イ
ンターバルを延長する保守インターバル延長手段とを有
する部品保守管理システム。 - 【請求項２】 請求項１記載の部品保守管理システムに
おいて、 前記第２の保守インターバルに関連付けられた装置の実
際の動作は、部品に応じて、装置の実稼動時間、移動距
離、稼動回数等であることを特徴とする部品保守管理シ
ステム。 - 【請求項３】 請求項１記載の部品保守管理システムに
おいて、 部品の実際の保守頻度を格納する保守頻度格納部と、 所定期間経過後に、前記保守頻度格納部に格納された修
理頻度を取り出し、その頻度のうち最も短いものを第１
の保守インターバルとして前記第１の保守インターバル
格納部の第１保守インターバルを更新する第１の保守イ
ンターバル更新手段とをさらに有することを特徴とする
部品保守管理システム。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000142518A JP2001326150A (ja) | 2000-05-15 | 2000-05-15 | 部品保守管理システム |
| KR1020010026221A KR100646071B1 (ko) | 2000-05-15 | 2001-05-14 | 부품 보수관리 시스템 및 보수관리 방법 |
| TW090111489A TW554384B (en) | 2000-05-15 | 2001-05-14 | Parts maintenance managing system |
| US09/853,748 US6394670B2 (en) | 2000-05-15 | 2001-05-14 | Parts maintenance managing system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000142518A JP2001326150A (ja) | 2000-05-15 | 2000-05-15 | 部品保守管理システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001326150A true JP2001326150A (ja) | 2001-11-22 |
Family
ID=18649460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000142518A Pending JP2001326150A (ja) | 2000-05-15 | 2000-05-15 | 部品保守管理システム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6394670B2 (ja) |
| JP (1) | JP2001326150A (ja) |
| KR (1) | KR100646071B1 (ja) |
| TW (1) | TW554384B (ja) |
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| WO2006025302A1 (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Nikon Corporation | 露光装置、動作決定方法、基板処理システム及びメンテナンス管理方法、並びにデバイス製造方法 |
| US7065725B2 (en) | 2002-03-05 | 2006-06-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor manufacturing apparatus, management apparatus therefor, component management apparatus therefor, and semiconductor wafer storage vessel transport apparatus |
| KR100929158B1 (ko) | 2007-02-07 | 2009-12-01 | 캐논 가부시끼가이샤 | 처리장치 및 디바이스 제조 방법 |
| WO2010058606A1 (ja) * | 2008-11-21 | 2010-05-27 | 株式会社ニコン | 保持部材管理装置、積層半導体製造装置および保持部材管理方法 |
| JP2014209300A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-11-06 | 三菱電機株式会社 | データ処理装置及びデータ処理方法及びプログラム |
| JP2021501413A (ja) * | 2017-10-31 | 2021-01-14 | ノードソン コーポレーションＮｏｒｄｓｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 液体分配システム及び関連機器における適応的予防保守のためのシステム及び方法 |
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| GB0412623D0 (en) * | 2004-06-07 | 2004-07-07 | Boc Group Plc | Method controlling operation of a semiconductor processing system |
| US7611124B2 (en) | 2004-12-22 | 2009-11-03 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing apparatus |
| JP4874606B2 (ja) * | 2005-09-12 | 2012-02-15 | 株式会社東芝 | 用力設備設計装置、自動用力設備設計方法及び用力設備設計プログラム |
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| KR0177099B1 (ko) * | 1996-06-24 | 1999-04-01 | 김광호 | 화상 형성장치의 상태메세지 출력방법 |
| US5888381A (en) * | 1997-05-16 | 1999-03-30 | United States Filter Corporation | Water filter with pressure actuated flow monitor |
-
2000
- 2000-05-15 JP JP2000142518A patent/JP2001326150A/ja active Pending
-
2001
- 2001-05-14 TW TW090111489A patent/TW554384B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-05-14 US US09/853,748 patent/US6394670B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-14 KR KR1020010026221A patent/KR100646071B1/ko active IP Right Grant
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| JP2021501413A (ja) * | 2017-10-31 | 2021-01-14 | ノードソン コーポレーションＮｏｒｄｓｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 液体分配システム及び関連機器における適応的予防保守のためのシステム及び方法 |
| JP7330958B2 (ja) | 2017-10-31 | 2023-08-22 | ノードソン コーポレーション | 液体分配システム及び関連機器における適応的予防保守のためのシステム及び方法 |
Also Published As
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