JP2001278870A - アルキル化法及び新規ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール - Google Patents
アルキル化法及び新規ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 先行技術のものよりもより経済的な、紫外線
吸収に有効な２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾ
ールのアルキル化法を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ）〔式中、Ｒ1は、アルキ
ル；Ｒ2〜Ｒ6は、独立に水素など；Ｘは、水素など；点
線の結合は、場合により存在する結合である〕の化合物
の製造方法であって、ａ）一般式（III）の化合物と、
一般式（IV）の化合物とを反応させて、一般式（II）の
化合物を得る工程；ｂ）工程ａ）で得られる一般式（I
I）の化合物を加熱して、一般式（ＩＡ）の化合物の化
合物を生成させる工程；そして所望であれば、ｃ）一般
式（ＩＡ）の化合物中の二重結合を水素化して、点線の
結合が存在しない、一般式（Ｉ）の化合物を得る工程を
含むことを特徴とする方法。 【化１４】
吸収に有効な２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾ
ールのアルキル化法を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ）〔式中、Ｒ1は、アルキ
ル；Ｒ2〜Ｒ6は、独立に水素など；Ｘは、水素など；点
線の結合は、場合により存在する結合である〕の化合物
の製造方法であって、ａ）一般式（III）の化合物と、
一般式（IV）の化合物とを反応させて、一般式（II）の
化合物を得る工程；ｂ）工程ａ）で得られる一般式（I
I）の化合物を加熱して、一般式（ＩＡ）の化合物の化
合物を生成させる工程；そして所望であれば、ｃ）一般
式（ＩＡ）の化合物中の二重結合を水素化して、点線の
結合が存在しない、一般式（Ｉ）の化合物を得る工程を
含むことを特徴とする方法。 【化１４】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線吸収に有効
な２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾールのアル
キル化法に関する。更に別の側面において、本発明は、
新規なアルキル化２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリ
アゾール、アルキル化２−ヒドロキシフェニル−ベンゾ
トリアゾールを含む新規な化粧品用又は皮膚用の日焼け
止め組成物、及びＵＶ遮蔽剤としてのこれらの使用に関
する。
な２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾールのアル
キル化法に関する。更に別の側面において、本発明は、
新規なアルキル化２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリ
アゾール、アルキル化２−ヒドロキシフェニル−ベンゾ
トリアゾールを含む新規な化粧品用又は皮膚用の日焼け
止め組成物、及びＵＶ遮蔽剤としてのこれらの使用に関
する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第４５８７３４６号は、触媒の
存在下でのアルケン化合物イオンとの反応による２−
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾールのアルキル化法を開示している。この方
法では、異性体のランダムな混合物が生成する。
存在下でのアルケン化合物イオンとの反応による２−
（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾールのアルキル化法を開示している。この方
法では、異性体のランダムな混合物が生成する。
【０００３】２−ヒドロキシフェニル−ベンゾトリアゾ
ールを含むＵＶ遮蔽性組成物は、EP0,711,778-A及びEP
0,392,883-A、米国特許第４３１６０３３号及び４３４
９６０２号、並びにWO94/06404に記載されている。
ールを含むＵＶ遮蔽性組成物は、EP0,711,778-A及びEP
0,392,883-A、米国特許第４３１６０３３号及び４３４
９６０２号、並びにWO94/06404に記載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】アルキル化２−（２−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾールを、実質的に純粋な形で入手できることが見い
出された。更に、ある新規な２−ヒドロキシフェニル−
ベンゾトリアゾールでは、溶解度と吸光度が改善されて
おり、上に引用されている先行技術のものよりも、より
経済的に製造できることが見い出された。
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾールを、実質的に純粋な形で入手できることが見い
出された。更に、ある新規な２−ヒドロキシフェニル−
ベンゾトリアゾールでは、溶解度と吸光度が改善されて
おり、上に引用されている先行技術のものよりも、より
経済的に製造できることが見い出された。
【０００５】
【課題を解決するための手段】よって１つの側面におい
て、本発明は、一般式（Ｉ）：
て、本発明は、一般式（Ｉ）：
【０００６】
【化７】
【０００７】〔式中、Ｒ1は、アルキルであり；Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立に水素、アルキル又はアル
ケニルであり；Ｘは、水素、ハロゲン、アルキル又はア
ルコキシであり；そして点線の結合は、場合により存在
する結合である〕で示される化合物の製造方法に関する
ものであり、この方法は、 ａ）一般式（III）：
3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立に水素、アルキル又はアル
ケニルであり；Ｘは、水素、ハロゲン、アルキル又はア
ルコキシであり；そして点線の結合は、場合により存在
する結合である〕で示される化合物の製造方法に関する
ものであり、この方法は、 ａ）一般式（III）：
【０００８】
【化８】
【０００９】で示される化合物と、一般式（IV）：
【００１０】
【化９】
【００１１】で示される化合物とを反応させて、一般式
（II）：
（II）：
【００１２】
【化１０】
【００１３】で示される化合物を得る工程、 ｂ）工程ａ）で得られる一般式（II）の化合物を加熱し
て、一般式（ＩＡ）：
て、一般式（ＩＡ）：
【００１４】
【化１１】
【００１５】で示される化合物を生成させる工程、及び
所望であれば、 ｃ）一般式（ＩＡ）の化合物中の二重結合を水素化し
て、点線の結合が存在しない、一般式（Ｉ）の化合物を
得る工程、〔ここで、上記式（ＩＡ）、（II）、（II
I）及び（IV）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ
6、Ｘ及び点線の結合は、式（Ｉ）と同義であり、そし
てＹは、離脱基である〕を含むことを特徴とする。
所望であれば、 ｃ）一般式（ＩＡ）の化合物中の二重結合を水素化し
て、点線の結合が存在しない、一般式（Ｉ）の化合物を
得る工程、〔ここで、上記式（ＩＡ）、（II）、（II
I）及び（IV）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ
6、Ｘ及び点線の結合は、式（Ｉ）と同義であり、そし
てＹは、離脱基である〕を含むことを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】上の一般式（Ｉ）の化合物の中
で、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6並びに点線の
結合が、請求項１と同義である（ただし、点線の結合が
存在するならば、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6の１つは、アル
ケニルであり、そして点線の結合が存在しないならば、
Ｒ2及びＲ6の１つは、アルケニル又は分岐アルキルであ
る）もの；更には化合物：２−（ベンゾトリアゾール−
２−イル）−４−メチル−６−（１−オクテン−３−イ
ル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３−オクテン−２−イル）−
フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−
（１−ヘキセン−３−イル）−フェノール、２−（ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（１−
デセン−３−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリア
ゾール−２−イル）−４−メチル−６−（１−ヘキセン
−３−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール
−２−イル）−４−メチル−６−（１−ドデセン−３−
イル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−
イル）−４−メチル−６−（１−ヘキサデセン−３−イ
ル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３−オクチル）−フェノー
ル、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（３−
ヘキシル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−
２−イル）−４−メチル−６−（３−ヘキシル）−フェ
ノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
メチル−６−（３−デシル）−フェノール、２−（ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３−
ドデシル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−
２−イル）−４−メチル−６−（３−ヘキサデシル）−
フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−メチル−６−（３，７−ジメチル−２−オクテニ
ル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３，７−ジメチル−３−オク
チル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−
イル）−４−メチル−６−（３，７−ジメチル−１−オ
クテン−３−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリア
ゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，７−ジメ
チル−３−オクチル）−フェノール、２−（ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，７−ジ
メチル−３−オクテン−２−イル）−フェノール、及び
２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−
６−（３，７−ジメチル−２−オクチル）−フェノール
は、新規な化合物であり、かつこれら自体もまた本発明
の目的である。本発明の新規な化合物の更に別の例は、
２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−
６−（３，７−ジメチル−２，６−オクタジエニル）−
フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−メチル−６−（３，７−ジメチル−１，６−オクタ
ジエニル）−フェノール、及び２−（ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−４−メチル−６−（３，７−ジメチル
−３，６−オクタジエニル）−フェノールである。
で、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6並びに点線の
結合が、請求項１と同義である（ただし、点線の結合が
存在するならば、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6の１つは、アル
ケニルであり、そして点線の結合が存在しないならば、
Ｒ2及びＲ6の１つは、アルケニル又は分岐アルキルであ
る）もの；更には化合物：２−（ベンゾトリアゾール−
２−イル）−４−メチル−６−（１−オクテン−３−イ
ル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３−オクテン−２−イル）−
フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−
（１−ヘキセン−３−イル）−フェノール、２−（ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（１−
デセン−３−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリア
ゾール−２−イル）−４−メチル−６−（１−ヘキセン
−３−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール
−２−イル）−４−メチル−６−（１−ドデセン−３−
イル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−
イル）−４−メチル−６−（１−ヘキサデセン−３−イ
ル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３−オクチル）−フェノー
ル、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（３−
ヘキシル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−
２−イル）−４−メチル−６−（３−ヘキシル）−フェ
ノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
メチル−６−（３−デシル）−フェノール、２−（ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３−
ドデシル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−
２−イル）−４−メチル−６−（３−ヘキサデシル）−
フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−メチル−６−（３，７−ジメチル−２−オクテニ
ル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３，７−ジメチル−３−オク
チル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−
イル）−４−メチル−６−（３，７−ジメチル−１−オ
クテン−３−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリア
ゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，７−ジメ
チル−３−オクチル）−フェノール、２−（ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，７−ジ
メチル−３−オクテン−２−イル）−フェノール、及び
２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−
６−（３，７−ジメチル−２−オクチル）−フェノール
は、新規な化合物であり、かつこれら自体もまた本発明
の目的である。本発明の新規な化合物の更に別の例は、
２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−
６−（３，７−ジメチル−２，６−オクタジエニル）−
フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−メチル−６−（３，７−ジメチル−１，６−オクタ
ジエニル）−フェノール、及び２−（ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−４−メチル−６−（３，７−ジメチル
−３，６−オクタジエニル）−フェノールである。
【００１７】また別の側面において、本発明は、Ｘ、Ｒ
1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6並びに点線の結合が、請
求項１と同義である（ただし、Ｒ4及びＲ5の１つは、少
なくとも２個の炭素原子を有するアルキルであるか、又
はアルケニルである）、上記式（Ｉ）の２−ヒドロキシ
フェニルベンゾトリアゾールを含む、新規な化粧品用又
は皮膚用のＵＶ光遮蔽組成物に関する。さらに別の側面
において、本発明は、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及
びＲ6並びに点線の結合が、請求項１と同義である（た
だし、Ｒ4及びＲ5の１つは、少なくとも２個の炭素原子
を有するアルキルであるか、又はアルケニルである）、
上記一般式（Ｉ）の２−ヒドロキシフェニル−ベンゾト
リアゾール；並びに少なくとも１つの追加のＵＶ−Ａ及
び／又はＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含む、新規なＵＶ光遮蔽性組
成物に関する。最後に、本発明は、ＵＶ光遮蔽剤として
の、前記と同義の一般式（Ｉ）の新規な２−ヒドロキシ
フェニル−ベンゾトリアゾールの使用に関する。
1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6並びに点線の結合が、請
求項１と同義である（ただし、Ｒ4及びＲ5の１つは、少
なくとも２個の炭素原子を有するアルキルであるか、又
はアルケニルである）、上記式（Ｉ）の２−ヒドロキシ
フェニルベンゾトリアゾールを含む、新規な化粧品用又
は皮膚用のＵＶ光遮蔽組成物に関する。さらに別の側面
において、本発明は、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及
びＲ6並びに点線の結合が、請求項１と同義である（た
だし、Ｒ4及びＲ5の１つは、少なくとも２個の炭素原子
を有するアルキルであるか、又はアルケニルである）、
上記一般式（Ｉ）の２−ヒドロキシフェニル−ベンゾト
リアゾール；並びに少なくとも１つの追加のＵＶ−Ａ及
び／又はＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含む、新規なＵＶ光遮蔽性組
成物に関する。最後に、本発明は、ＵＶ光遮蔽剤として
の、前記と同義の一般式（Ｉ）の新規な２−ヒドロキシ
フェニル−ベンゾトリアゾールの使用に関する。
【００１８】ＵＶ光遮蔽剤としての使用に特に好ましい
化合物は、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４
−メチル−６−（１−オクテン−３−イル）−フェノー
ル、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（１−
ヘキセン−３−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３−オクチ
ル）−フェノール、及び２−（ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−６−（３−ヘキシル）−フェノールである。
化合物は、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４
−メチル−６−（１−オクテン−３−イル）−フェノー
ル、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（１−
ヘキセン−３−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３−オクチ
ル）−フェノール、及び２−（ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−６−（３−ヘキシル）−フェノールである。
【００１９】最も好ましいのは、２−（ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４−メチル−６−（１−オクテン−
３−イル）−フェノールである。
ール−２−イル）−４−メチル−６−（１−オクテン−
３−イル）−フェノールである。
【００２０】本明細書において使用されるとき、アルキ
ルという用語は、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、sec−ブチル、イソブチル、ペンチル、
ネオペンチル、ヘキシル、２−エチル−ヘキシル、及び
オクチルのような、１〜２１個、好ましくは１〜８個の
炭素原子を含む、飽和の直鎖又は分岐鎖炭化水素基を意
味する。同様に、アルコキシという用語は、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、se
c−ブトキシ、イソブトキシ、ペンチルオキシ、ネオペ
ンチルオキシ、ヘキシルオキシ、２−エチル−ヘキシル
オキシ及びオクチルオキシのような、酸素原子を介して
結合しており、かつ１〜２１個、好ましくは１〜８個の
炭素原子を含む、飽和の直鎖又は分岐鎖炭化水素基を意
味する。アルケニルという用語は、少なくとも１つの二
重結合及び２〜２１個、好ましくは２〜８個の炭素原子
を含む、直鎖又は分岐鎖炭化水素基を意味する。このよ
うなアルケニル基の例は、プロペン−２−イル、プロペ
ン−３−イル、ブテン−３−イル、ブテン−４−イル、
ペンテン−４−イル、及びペンテン−５−イルである。
ハロゲンという用語は、フルオロ、クロロ、ブロモ及び
ヨードを意味する。
ルという用語は、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、sec−ブチル、イソブチル、ペンチル、
ネオペンチル、ヘキシル、２−エチル−ヘキシル、及び
オクチルのような、１〜２１個、好ましくは１〜８個の
炭素原子を含む、飽和の直鎖又は分岐鎖炭化水素基を意
味する。同様に、アルコキシという用語は、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、se
c−ブトキシ、イソブトキシ、ペンチルオキシ、ネオペ
ンチルオキシ、ヘキシルオキシ、２−エチル−ヘキシル
オキシ及びオクチルオキシのような、酸素原子を介して
結合しており、かつ１〜２１個、好ましくは１〜８個の
炭素原子を含む、飽和の直鎖又は分岐鎖炭化水素基を意
味する。アルケニルという用語は、少なくとも１つの二
重結合及び２〜２１個、好ましくは２〜８個の炭素原子
を含む、直鎖又は分岐鎖炭化水素基を意味する。このよ
うなアルケニル基の例は、プロペン−２−イル、プロペ
ン−３−イル、ブテン−３−イル、ブテン−４−イル、
ペンテン−４−イル、及びペンテン−５−イルである。
ハロゲンという用語は、フルオロ、クロロ、ブロモ及び
ヨードを意味する。
【００２１】式（Ｉ）内の化合物の好ましい群は、点線
の結合が存在するものである。また、Ｒ5及びＲ6が水素
である、式（Ｉ）の化合物も好ましい。更に別の好まし
いものは、Ｒ2〜Ｒ4の１つが少なくとも３個の炭素原子
を有するアルキルであり、かつＲ2〜Ｒ4の他の２つが水
素である化合物である。Ｒ2〜Ｒ6における炭素原子の総
数は、好ましくは３〜２１個、特に３〜９個の炭素原
子、最も好ましくは３〜５個である。特に好ましいの
は、Ｒ2及びＲ3が水素であり、そしてＲ4が３〜５個の
炭素原子を有するアルキルである、式（Ｉ）の化合物で
ある。Ｒ1は、好ましくはメチル又は１，１，３，３−
テトラメチルブチルである。Ｘは、好ましくは水素、メ
トキシ又はクロロであり、そして最も好ましくは水素で
ある。
の結合が存在するものである。また、Ｒ5及びＲ6が水素
である、式（Ｉ）の化合物も好ましい。更に別の好まし
いものは、Ｒ2〜Ｒ4の１つが少なくとも３個の炭素原子
を有するアルキルであり、かつＲ2〜Ｒ4の他の２つが水
素である化合物である。Ｒ2〜Ｒ6における炭素原子の総
数は、好ましくは３〜２１個、特に３〜９個の炭素原
子、最も好ましくは３〜５個である。特に好ましいの
は、Ｒ2及びＲ3が水素であり、そしてＲ4が３〜５個の
炭素原子を有するアルキルである、式（Ｉ）の化合物で
ある。Ｒ1は、好ましくはメチル又は１，１，３，３−
テトラメチルブチルである。Ｘは、好ましくは水素、メ
トキシ又はクロロであり、そして最も好ましくは水素で
ある。
【００２２】本発明の新規な方法により、一般式（Ｉ）
の化合物は、以下のスキーム１に示されるように調製さ
れる： スキーム１
の化合物は、以下のスキーム１に示されるように調製さ
れる： スキーム１
【００２３】
【化１２】
【００２４】第１反応工程において、ベンゾトリアゾリ
ルフェノールは、ハロゲン（例えば、クロロ、ブロモ）
又はスルホニルオキシ基（例えば、トシルオキシ又はメ
シルオキシ）のような、脱離基Ｙを有するアルケン化合
物と反応させる。本反応は、フェノール性ヒドロキシ基
のアルケニル化のためのそれ自体既知の方法で、即ち、
アルカリ炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム）、アルカリ
水酸化物又はアルカリアルコラート（例えば、ナトリウ
ムメチラート）；トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノピリジン若しくは１，４−ジアザビシクロ〔２．
２．２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）のようなアミンなどの
塩基の存在下で；極性溶媒、例えば、ｎ−ブタノールの
ようなアルコール；ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン若しくはジオキサンのよう
なエーテル；又はジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレン尿素若しくは１
−メチルピロリドン中で、あるいは同時に塩基として役
立つ溶媒（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンなど）中
で、室温から反応混合物の沸点までの温度で行うことが
できる。得られるフェノールエーテルは、所望であれば
溶媒中で、適切にはクライゼン転位に通常使用される溶
媒中で（例えば、ジエチルアニリン又はトリクロロベン
ゼン中で）適切には５０〜３００℃の温度まで加熱する
ことにより転位させて、点線の結合が存在する式（Ｉ）
の対応する化合物を得ることができる。オレフィン性二
重結合は、それ自体既知の方法で、例えば、Ｐｄのよう
な貴金属触媒の存在下で元素の水素により、又はラニー
Ｎｉにより、好ましくはトリアゾール環を攻撃しない適
切な触媒（例えば、リンドラー触媒のような部分的に不
活化した貴金属触媒）の存在下で元素の水素により水素
化することができる。
ルフェノールは、ハロゲン（例えば、クロロ、ブロモ）
又はスルホニルオキシ基（例えば、トシルオキシ又はメ
シルオキシ）のような、脱離基Ｙを有するアルケン化合
物と反応させる。本反応は、フェノール性ヒドロキシ基
のアルケニル化のためのそれ自体既知の方法で、即ち、
アルカリ炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム）、アルカリ
水酸化物又はアルカリアルコラート（例えば、ナトリウ
ムメチラート）；トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノピリジン若しくは１，４−ジアザビシクロ〔２．
２．２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）のようなアミンなどの
塩基の存在下で；極性溶媒、例えば、ｎ−ブタノールの
ようなアルコール；ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン若しくはジオキサンのよう
なエーテル；又はジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレン尿素若しくは１
−メチルピロリドン中で、あるいは同時に塩基として役
立つ溶媒（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンなど）中
で、室温から反応混合物の沸点までの温度で行うことが
できる。得られるフェノールエーテルは、所望であれば
溶媒中で、適切にはクライゼン転位に通常使用される溶
媒中で（例えば、ジエチルアニリン又はトリクロロベン
ゼン中で）適切には５０〜３００℃の温度まで加熱する
ことにより転位させて、点線の結合が存在する式（Ｉ）
の対応する化合物を得ることができる。オレフィン性二
重結合は、それ自体既知の方法で、例えば、Ｐｄのよう
な貴金属触媒の存在下で元素の水素により、又はラニー
Ｎｉにより、好ましくはトリアゾール環を攻撃しない適
切な触媒（例えば、リンドラー触媒のような部分的に不
活化した貴金属触媒）の存在下で元素の水素により水素
化することができる。
【００２５】式（III）及び（IV）の出発化合物は、既
知であるか、又はそれ自体既知の方法若しくは後述の方
法により調製することができる。例えば、式（III）の
化合物は、Ｘ置換ｏ−ニトロアニリンを、亜硝酸ナトリ
ウムとの反応により対応するジアゾニウム塩に変換し、
次にＲ１置換フェノールとのジアゾ化反応により、ジア
ゾ化合物を形成し、そして残りのニトロ基を同時環化に
より還元してトリアゾール環を形成することを特徴とす
る一連の反応により調製することができる。式（IV）の
化合物は、スキーム２により調製することができる： スキーム２
知であるか、又はそれ自体既知の方法若しくは後述の方
法により調製することができる。例えば、式（III）の
化合物は、Ｘ置換ｏ−ニトロアニリンを、亜硝酸ナトリ
ウムとの反応により対応するジアゾニウム塩に変換し、
次にＲ１置換フェノールとのジアゾ化反応により、ジア
ゾ化合物を形成し、そして残りのニトロ基を同時環化に
より還元してトリアゾール環を形成することを特徴とす
る一連の反応により調製することができる。式（IV）の
化合物は、スキーム２により調製することができる： スキーム２
【００２６】
【化１３】
【００２７】第１反応工程において得られる式（II）の
フェノールエーテル誘導体は、新規な化合物であり、そ
れ自体もまた本発明の目的である。
フェノールエーテル誘導体は、新規な化合物であり、そ
れ自体もまた本発明の目的である。
【００２８】一般式（Ｉ）の新規な化合物は、ＵＶ−Ａ
及びＵＶ−Ｂ両方の領域において吸収極大を持つ。これ
らは、良好な脂溶性及び光安定性を有する。
及びＵＶ−Ｂ両方の領域において吸収極大を持つ。これ
らは、良好な脂溶性及び光安定性を有する。
【００２９】日常化粧品のための皮膚保護及び日焼け止
め処方のような、特に皮膚用又は化粧品に使用するため
の調剤の光遮蔽剤の調製には、式（Ｉ）の化合物は、こ
のような処方のために通常使用される助剤（例えば、化
粧品用基剤）中に配合することができる。適宜、他の通
常のＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ遮蔽剤を加えてもよ
い。該光遮蔽剤の調剤は、この分野の当業者には周知で
ある。一般式（Ｉ）の化合物及び他の既知のＵＶフィル
ターの量は、決定的に重要ではない。適切な量は、約
０．５〜約１２％の活性成分、即ち、一般式（Ｉ）の化
合物、及び所望であれば、任意の追加のＵＶ−Ａ又はＵ
Ｖ−Ｂ遮蔽剤である。
め処方のような、特に皮膚用又は化粧品に使用するため
の調剤の光遮蔽剤の調製には、式（Ｉ）の化合物は、こ
のような処方のために通常使用される助剤（例えば、化
粧品用基剤）中に配合することができる。適宜、他の通
常のＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ遮蔽剤を加えてもよ
い。該光遮蔽剤の調剤は、この分野の当業者には周知で
ある。一般式（Ｉ）の化合物及び他の既知のＵＶフィル
ターの量は、決定的に重要ではない。適切な量は、約
０．５〜約１２％の活性成分、即ち、一般式（Ｉ）の化
合物、及び所望であれば、任意の追加のＵＶ−Ａ又はＵ
Ｖ−Ｂ遮蔽剤である。
【００３０】本発明の化合物との組合せが考慮される、
ＵＶ−Ｂ遮蔽剤、即ち、約２９０〜３２０nmの間に吸収
極大を持つ物質の例は、例えば以下の有機及び無機化合
物である：
ＵＶ−Ｂ遮蔽剤、即ち、約２９０〜３２０nmの間に吸収
極大を持つ物質の例は、例えば以下の有機及び無機化合
物である：
【００３１】− アクリル酸エステル類、例えば、２−
シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキ
シル（オクトクリレン（octocrylene）、パラソル（PAR
SOL）（登録商標）３４０）、２−シアノ−３，３−ジ
フェニルアクリル酸エチルなど；
シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキ
シル（オクトクリレン（octocrylene）、パラソル（PAR
SOL）（登録商標）３４０）、２−シアノ−３，３−ジ
フェニルアクリル酸エチルなど；
【００３２】− ショウノウ誘導体、例えば、４−メチ
ルベンジリデンショウノウ（パラソル（登録商標）５０
００）、３−ベンジリデンショウノウ、ショウノウベン
ザルコニウムメトスルファート、ポリアクリルアミドメ
チルベンジリデンショウノウ、スルホベンジリデンショ
ウノウ、スルホメチルベンジリデンショウノウ、テレフ
タリデンジショウノウスルホン酸など；
ルベンジリデンショウノウ（パラソル（登録商標）５０
００）、３−ベンジリデンショウノウ、ショウノウベン
ザルコニウムメトスルファート、ポリアクリルアミドメ
チルベンジリデンショウノウ、スルホベンジリデンショ
ウノウ、スルホメチルベンジリデンショウノウ、テレフ
タリデンジショウノウスルホン酸など；
【００３３】− ケイ皮酸エステル誘導体、例えば、メ
トキシケイ皮酸オクチル（パラソル（登録商標）ＭＣ
Ｘ）、メトキシケイ皮酸エトキシエチル、メトキシケイ
皮酸ジエタノールアミン（パラソル（登録商標）ヒドロ
（Hydro））、メトキシケイ皮酸イソアミルなど、更に
はシロキサンに結合したケイ皮酸誘導体；
トキシケイ皮酸オクチル（パラソル（登録商標）ＭＣ
Ｘ）、メトキシケイ皮酸エトキシエチル、メトキシケイ
皮酸ジエタノールアミン（パラソル（登録商標）ヒドロ
（Hydro））、メトキシケイ皮酸イソアミルなど、更に
はシロキサンに結合したケイ皮酸誘導体；
【００３４】− ベンゾマロナート基を含むオルガノシ
ロキサン化合物（EP 0,358,584 B1、EP 0,538,431 B1及
びEP 0,709,080 A1に記載されている）；
ロキサン化合物（EP 0,358,584 B1、EP 0,538,431 B1及
びEP 0,709,080 A1に記載されている）；
【００３５】− 顔料、例えば、微粒化ＴｉＯ2など。
「微粒化」という用語は、約５nm〜約２００nm、特に約
１５nm〜約１００nmの粒径を意味する。ＴｉＯ2粒子は
また、例えば、酸化アルミニウム若しくは酸化ジルコニ
ウムのような金属酸化物、又は例えば、ポリオール、メ
チコーン（methicone）、ステアリン酸アルミニウム、
アルキルシランのような有機被覆剤により被覆してもよ
い。このような被覆剤は、当該分野において周知であ
る。
「微粒化」という用語は、約５nm〜約２００nm、特に約
１５nm〜約１００nmの粒径を意味する。ＴｉＯ2粒子は
また、例えば、酸化アルミニウム若しくは酸化ジルコニ
ウムのような金属酸化物、又は例えば、ポリオール、メ
チコーン（methicone）、ステアリン酸アルミニウム、
アルキルシランのような有機被覆剤により被覆してもよ
い。このような被覆剤は、当該分野において周知であ
る。
【００３６】− イミダゾール誘導体、例えば、２−フ
ェニルベンゾイミダゾールスルホン酸及びその塩（パラ
ソル（登録商標）ＨＳ）。２−フェニルベンゾイミダゾ
ールスルホン酸の塩は、例えば、ナトリウム−若しくは
カリウム塩のようなアルカリ塩、アンモニウム塩、モル
ホリン塩；モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミ
ン塩などのような第１級、第２級及び第３級アミン類の
塩である。
ェニルベンゾイミダゾールスルホン酸及びその塩（パラ
ソル（登録商標）ＨＳ）。２−フェニルベンゾイミダゾ
ールスルホン酸の塩は、例えば、ナトリウム−若しくは
カリウム塩のようなアルカリ塩、アンモニウム塩、モル
ホリン塩；モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミ
ン塩などのような第１級、第２級及び第３級アミン類の
塩である。
【００３７】− サリチル酸エステル誘導体、例えば、
サリチル酸イソプロピルベンジル、サリチル酸ベンジ
ル、サリチル酸ブチル、サリチル酸オクチル（ネオ・ヘ
リオパン（NEO HELIOPAN）ＯＳ）、サリチル酸イソオク
チル又はサリチル酸ホモメンチル（ホモサラート（homo
salate）、ヘリオパン）など；
サリチル酸イソプロピルベンジル、サリチル酸ベンジ
ル、サリチル酸ブチル、サリチル酸オクチル（ネオ・ヘ
リオパン（NEO HELIOPAN）ＯＳ）、サリチル酸イソオク
チル又はサリチル酸ホモメンチル（ホモサラート（homo
salate）、ヘリオパン）など；
【００３８】− トリアゾン誘導体、例えば、オクチル
トリアゾン（ユヴィヌル（UVINUL）Ｔ−１５０）、ジオ
クチルブタミドトリアゾン（ウヴァソルブ（UVASORB）
ＨＥＢ）など。
トリアゾン（ユヴィヌル（UVINUL）Ｔ−１５０）、ジオ
クチルブタミドトリアゾン（ウヴァソルブ（UVASORB）
ＨＥＢ）など。
【００３９】本発明の化合物との組合せが考慮される、
ＵＶ Ａ遮蔽剤、即ち、約３２０〜４００nmの間に吸収
極大を持つ物質の例は、例えば、以下の有機及び無機化
合物である：
ＵＶ Ａ遮蔽剤、即ち、約３２０〜４００nmの間に吸収
極大を持つ物質の例は、例えば、以下の有機及び無機化
合物である：
【００４０】− ジベンゾイルメタン誘導体、例えば、
４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン
（パラソル（登録商標）１７８９）、ジメトキシジベン
ゾイルメタン、イソプロピルジベンゾイルメタンなど；
４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン
（パラソル（登録商標）１７８９）、ジメトキシジベン
ゾイルメタン、イソプロピルジベンゾイルメタンなど；
【００４１】− ベンゾトリアゾール誘導体、例えば、
２，２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−フェノール（ティノソルブ（TINOSOR
B）Ｍ）など；
２，２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−フェノール（ティノソルブ（TINOSOR
B）Ｍ）など；
【００４２】− 顔料、例えば、微粒化ＺｎＯなど。
「微粒化」という用語は、約５nm〜約２００nm、特に約
１５nm〜約１００nmの粒径を意味する。ＺｎＯ粒子はま
た、例えば、酸化アルミニウム若しくは酸化ジルコニウ
ムのような金属酸化物、又は例えば、ポリオール、メチ
コーン（methicone）、ステアリン酸アルミニウム、ア
ルキルシランのような有機被覆剤により被覆してもよ
い。このような被覆剤は、当該分野において周知であ
る。
「微粒化」という用語は、約５nm〜約２００nm、特に約
１５nm〜約１００nmの粒径を意味する。ＺｎＯ粒子はま
た、例えば、酸化アルミニウム若しくは酸化ジルコニウ
ムのような金属酸化物、又は例えば、ポリオール、メチ
コーン（methicone）、ステアリン酸アルミニウム、ア
ルキルシランのような有機被覆剤により被覆してもよ
い。このような被覆剤は、当該分野において周知であ
る。
【００４３】ジベンゾイルメタン誘導体は光に不安定で
あるため、これらのＵＶ−Ａ遮蔽剤は、光安定化するこ
とが望まれる。即ち、「通常のＵＶ−Ａ遮蔽剤」という
用語はまた、例えば、 − ３，３−ジフェニルアクリラート誘導体（EP 0,51
4,491 B1及びEP 0,780,119 A1に記載されている）； − ベンジリデンショウノウ誘導体（米国特許第５６０
５６８０号に記載されている）； − ベンゾマロナート基を含むオルガノシロキサン類
（EP 0,358,584 B1、EP0,538,431 B1及びEP 0,709,080
A1に記載されている）により安定化された、パラソル
（登録商標）１７８９のようなジベンゾイルメタン誘導
体をも意味する。
あるため、これらのＵＶ−Ａ遮蔽剤は、光安定化するこ
とが望まれる。即ち、「通常のＵＶ−Ａ遮蔽剤」という
用語はまた、例えば、 − ３，３−ジフェニルアクリラート誘導体（EP 0,51
4,491 B1及びEP 0,780,119 A1に記載されている）； − ベンジリデンショウノウ誘導体（米国特許第５６０
５６８０号に記載されている）； − ベンゾマロナート基を含むオルガノシロキサン類
（EP 0,358,584 B1、EP0,538,431 B1及びEP 0,709,080
A1に記載されている）により安定化された、パラソル
（登録商標）１７８９のようなジベンゾイルメタン誘導
体をも意味する。
【００４４】本発明の範囲における光遮蔽性組成物に通
常の化粧品用基剤として、化粧品としての要件に一致す
る任意の通常の調剤、例えば、クリーム剤、ローション
剤、乳剤、軟膏剤、ゲル剤、液剤、噴霧剤、粘着剤及び
ミルクを使用することができる；また、「日焼け止め、
開発、評価及び規制の側面（Sunscreens, Development,
Evaluation and Regulatory Aspects）」、N.Y. Lowe,
N.A. Shaath編、マーセルデッカー社（Marcel Dekker,
Inc.）、ニューヨークとバーゼル、１９９０年を参照
のこと。これらの良好な親油性に着目すると、一般式
（Ｉ）の化合物は、油及び脂肪含有化粧品用調剤に良好
に配合することができる。
常の化粧品用基剤として、化粧品としての要件に一致す
る任意の通常の調剤、例えば、クリーム剤、ローション
剤、乳剤、軟膏剤、ゲル剤、液剤、噴霧剤、粘着剤及び
ミルクを使用することができる；また、「日焼け止め、
開発、評価及び規制の側面（Sunscreens, Development,
Evaluation and Regulatory Aspects）」、N.Y. Lowe,
N.A. Shaath編、マーセルデッカー社（Marcel Dekker,
Inc.）、ニューヨークとバーゼル、１９９０年を参照
のこと。これらの良好な親油性に着目すると、一般式
（Ｉ）の化合物は、油及び脂肪含有化粧品用調剤に良好
に配合することができる。
【００４５】以下の実施例は、本発明を更に詳細に説明
するものであり、その範囲をなんら限定するものではな
い。実施例において、ｔｌｃ．は、薄層クロマトグラフ
ィーを意味する。
するものであり、その範囲をなんら限定するものではな
い。実施例において、ｔｌｃ．は、薄層クロマトグラフ
ィーを意味する。
【００４６】実施例１ ａ）１−メチル−ピロリドン３５ml中の２−（ベンゾト
リアゾール−２−イル）−４−メチル−６−フェノール
（ティヌヴィン（Tinuvin）（登録商標）Ｐ、チバ社（C
IBA SA.））７ｇ、無水炭酸ナトリウム８．２ｇ及びヨ
ウ化カリウム２mgの混合物に、１−ブロモ−２−オクテ
ン（L. MiginiacとB. Mauzeの方法（Bull.Soc. Chim. F
rance 1968, 2544, 2547）により１−オクテン−３−オ
ールから調製）８．５ｇ（４４．７mmol）を窒素雰囲気
下ゆっくり加えた。反応混合物は、室温で２時間及び１
００℃で１８時間撹拌させておいた。反応はｔｌｃ．
（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）により追跡した。次
に反応混合物を２０℃に冷却し、水に注ぎ入れて、酢酸
エチルで抽出（３×）した。合わせた有機相は、水、２
N ＮａＯＨ（２×）及びブラインで洗浄して、硫酸ナ
トリウムで乾燥した。高真空で濃縮及び乾燥後、ＮＭＲ
及びＭＳにより同定された粗液体の２−（２−オクタ−
２−エニルオキシ−５−メチル−フェニル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール１０．７ｇを得た。
リアゾール−２−イル）−４−メチル−６−フェノール
（ティヌヴィン（Tinuvin）（登録商標）Ｐ、チバ社（C
IBA SA.））７ｇ、無水炭酸ナトリウム８．２ｇ及びヨ
ウ化カリウム２mgの混合物に、１−ブロモ−２−オクテ
ン（L. MiginiacとB. Mauzeの方法（Bull.Soc. Chim. F
rance 1968, 2544, 2547）により１−オクテン−３−オ
ールから調製）８．５ｇ（４４．７mmol）を窒素雰囲気
下ゆっくり加えた。反応混合物は、室温で２時間及び１
００℃で１８時間撹拌させておいた。反応はｔｌｃ．
（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）により追跡した。次
に反応混合物を２０℃に冷却し、水に注ぎ入れて、酢酸
エチルで抽出（３×）した。合わせた有機相は、水、２
N ＮａＯＨ（２×）及びブラインで洗浄して、硫酸ナ
トリウムで乾燥した。高真空で濃縮及び乾燥後、ＮＭＲ
及びＭＳにより同定された粗液体の２−（２−オクタ−
２−エニルオキシ−５−メチル−フェニル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール１０．７ｇを得た。
【００４７】ｂ）Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン５ml中の上
述のように調製された２−（２−オクタ−２−エニルオ
キシ−５−メチル−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール４ｇ（１１．９mmol）を窒素雰囲気下、加熱還流
（２３０℃）した。反応はｔｌｃ．（ヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１）により追跡した。１６５分後反応が終了
し、２N ＨＣｌの溶液を冷反応混合物に加え、続いて
エーテルで抽出（３×）した。合わせた有機相は、１０
％ ＫＯＨ溶液で洗浄し、そして後者を５N ＨＣｌでp
H３〜４まで酸性にして、エーテルで抽出した。合わせ
たエーテル相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して、褐
色の液体３．７５ｇ（９４％）を得たが、これは、８％
の２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル
−６−（３−オクテン−２−イル）−フェノールを含ん
でいた。これら８％の副産物は、ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3）：0.87 ppm (Tr/3Pr); 1.26-1.4 (M/7Pr); 2.05
(D x Tr/2Pr);2.38 (S/3Pr); 4.03 (Q x D/1Pr); 5.57
(D x Tr/1Pr); 5.72 (D x D x Tr/1Pr); 7.05 (D/1Pr);
7.46 (M/2Pr); 7.90 (M/2Pr); 8.07 (D/1Pr)及び11.4
(S/1Pr)、ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）306及び344 nmにより同定
した。ヘキサン／ジエチルエーテルによるシリカゲル
（メルク（Merck））のクロマトグラフィー後、主生成
物のわずかに黄色の結晶が生成した。融点３７〜３８
℃。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）306nm（16'800）及び344 nm（1
6'555）；ＭＳ：335 (M+)、264、145 (100%)、117；Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ3）：0.87 ppm (Tr/3Pr); 1.26-1.4 (M/
6Pr); 1.77 (D x Tr/2Pr); 2.38 (S/3Pr); 3.90 (D x T
r/1Pr); 5.05 (D/1Pr); 5.10 (D/1Pr); 6.04 (D x D x
D/1Pr); 7.05 (D/1Pr); 7.46 (M/2Pr); 7.90 (M/2Pr);
8.07 (D/1Pr)及び11.4 (S/1Pr)。
述のように調製された２−（２−オクタ−２−エニルオ
キシ−５−メチル−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール４ｇ（１１．９mmol）を窒素雰囲気下、加熱還流
（２３０℃）した。反応はｔｌｃ．（ヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１）により追跡した。１６５分後反応が終了
し、２N ＨＣｌの溶液を冷反応混合物に加え、続いて
エーテルで抽出（３×）した。合わせた有機相は、１０
％ ＫＯＨ溶液で洗浄し、そして後者を５N ＨＣｌでp
H３〜４まで酸性にして、エーテルで抽出した。合わせ
たエーテル相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して、褐
色の液体３．７５ｇ（９４％）を得たが、これは、８％
の２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル
−６−（３−オクテン−２−イル）−フェノールを含ん
でいた。これら８％の副産物は、ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ3）：0.87 ppm (Tr/3Pr); 1.26-1.4 (M/7Pr); 2.05
(D x Tr/2Pr);2.38 (S/3Pr); 4.03 (Q x D/1Pr); 5.57
(D x Tr/1Pr); 5.72 (D x D x Tr/1Pr); 7.05 (D/1Pr);
7.46 (M/2Pr); 7.90 (M/2Pr); 8.07 (D/1Pr)及び11.4
(S/1Pr)、ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）306及び344 nmにより同定
した。ヘキサン／ジエチルエーテルによるシリカゲル
（メルク（Merck））のクロマトグラフィー後、主生成
物のわずかに黄色の結晶が生成した。融点３７〜３８
℃。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）306nm（16'800）及び344 nm（1
6'555）；ＭＳ：335 (M+)、264、145 (100%)、117；Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ3）：0.87 ppm (Tr/3Pr); 1.26-1.4 (M/
6Pr); 1.77 (D x Tr/2Pr); 2.38 (S/3Pr); 3.90 (D x T
r/1Pr); 5.05 (D/1Pr); 5.10 (D/1Pr); 6.04 (D x D x
D/1Pr); 7.05 (D/1Pr); 7.46 (M/2Pr); 7.90 (M/2Pr);
8.07 (D/1Pr)及び11.4 (S/1Pr)。
【００４８】別の反応において、上記出発物質１ｇを溶
媒なしでクーゲルロール（Kugelrohr）オーブン中で２
７０分間で２２０℃まで加熱した。実質的に純粋な２−
ベンゾトリアゾール−２−イル−４−メチル−６−（１
−オクテン−３−イル）−フェノールを定量的収量で得
た。
媒なしでクーゲルロール（Kugelrohr）オーブン中で２
７０分間で２２０℃まで加熱した。実質的に純粋な２−
ベンゾトリアゾール−２−イル−４−メチル−６−（１
−オクテン−３−イル）−フェノールを定量的収量で得
た。
【００４９】本生成物は、例えば、セチオール（Cetio
l）ＬＣ（ココイルカプリラートカプラート（Cocoyl ca
prylate caprate））のような化粧品用溶媒と容易に混
合可能である。高希釈でヘーラウス（Heraeus）１５０
Ｗ Ｈｇ灯で照射するとき、本生成物は光安定性である
ことが示された。
l）ＬＣ（ココイルカプリラートカプラート（Cocoyl ca
prylate caprate））のような化粧品用溶媒と容易に混
合可能である。高希釈でヘーラウス（Heraeus）１５０
Ｗ Ｈｇ灯で照射するとき、本生成物は光安定性である
ことが示された。
【００５０】実施例２ ａ）１−メチル−ピロリドン４０ml中の２−（ベンゾト
リアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テト
ラメチル−ブチル）−６−フェノール（アルドリッチ
（Aldrich））７．９８ｇ（２４．７mmol）及び無水炭
酸ナトリウム６．５ｇに、１−ブロモ−２−ヘキセン
（L. MiginiacとB. Mauzeの方法（Bull. Soc.Chim. Fra
nce 1968, 2544, 2547）により１−ヘキセン−３−オー
ルから調製）を窒素雰囲気下ゆっくり加えた。反応混合
物を室温で２時間及び８０℃で１８時間撹拌させておい
た。反応はｔｌｃ．（ヘキサン：エーテル：ＣＨ2Ｃｌ2
＝３：１：１）により追跡した。次に反応混合物を２０
℃に冷却し、水と酢酸エチルとに分配（３×）した。合
わせた有機相は、水、２N ＮａＯＨ（２×）及びブラ
インで洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、
粗結晶性生成物を得たが、これをヘキサンから再結晶し
て、２−（２−ヘキサ−２−エニルオキシ−５−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）−２Ｈ
−ベンゾトリアゾール６．１７ｇを得た；融点８０〜８
１℃；ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：287 nm（16'305）；ＭＳ：
405 (M+)、323、252 (100%)。
リアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テト
ラメチル−ブチル）−６−フェノール（アルドリッチ
（Aldrich））７．９８ｇ（２４．７mmol）及び無水炭
酸ナトリウム６．５ｇに、１−ブロモ−２−ヘキセン
（L. MiginiacとB. Mauzeの方法（Bull. Soc.Chim. Fra
nce 1968, 2544, 2547）により１−ヘキセン−３−オー
ルから調製）を窒素雰囲気下ゆっくり加えた。反応混合
物を室温で２時間及び８０℃で１８時間撹拌させておい
た。反応はｔｌｃ．（ヘキサン：エーテル：ＣＨ2Ｃｌ2
＝３：１：１）により追跡した。次に反応混合物を２０
℃に冷却し、水と酢酸エチルとに分配（３×）した。合
わせた有機相は、水、２N ＮａＯＨ（２×）及びブラ
インで洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。濃縮後、
粗結晶性生成物を得たが、これをヘキサンから再結晶し
て、２−（２−ヘキサ−２−エニルオキシ−５−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）−２Ｈ
−ベンゾトリアゾール６．１７ｇを得た；融点８０〜８
１℃；ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：287 nm（16'305）；ＭＳ：
405 (M+)、323、252 (100%)。
【００５１】ｂ）Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン１００ml中
の上述のように調製された２−（２−ヘキサ−２−エニ
ルオキシ−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール５．６ｇ
（１３．８mmol）を加熱還流した。反応はｔｌｃ．（ヘ
キサン：酢酸エチル＝７：３）により追跡した。２２時
間後反応が終了した。Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンを留去
し、高真空で生成物から残留アミンを除去して、２−
（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）−６−（１−ヘキセン−
３−イル）−フェノール４．７ｇ（８４％）を橙色の液
体として得た。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：305 nm（16'007）
及び343 nm（14'359）；ＭＳ：405 (M+)、334 (100%)。
の上述のように調製された２−（２−ヘキサ−２−エニ
ルオキシ−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール５．６ｇ
（１３．８mmol）を加熱還流した。反応はｔｌｃ．（ヘ
キサン：酢酸エチル＝７：３）により追跡した。２２時
間後反応が終了した。Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンを留去
し、高真空で生成物から残留アミンを除去して、２−
（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）−６−（１−ヘキセン−
３−イル）−フェノール４．７ｇ（８４％）を橙色の液
体として得た。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：305 nm（16'007）
及び343 nm（14'359）；ＭＳ：405 (M+)、334 (100%)。
【００５２】本生成物は、例えば、セチオール（Cetio
l）ＬＣ（ココイルカプリラートカプラート（Cocoyl ca
prylate caprate））のような化粧品用溶媒と容易に混
合可能である。高希釈でヘーラウス（Heraeus）１５０
Ｗ Ｈｇ灯で照射するとき、本生成物は光安定性である
ことが示された。
l）ＬＣ（ココイルカプリラートカプラート（Cocoyl ca
prylate caprate））のような化粧品用溶媒と容易に混
合可能である。高希釈でヘーラウス（Heraeus）１５０
Ｗ Ｈｇ灯で照射するとき、本生成物は光安定性である
ことが示された。
【００５３】実施例３ ヘキサン２０ml中の２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（１−オクテン−３−イル）−
フェノール０．５ｇ及び「リンドラー触媒」（フルカ
（Fluka））痕跡量を常圧の水素下で４時間水素化し
た。次に反応混合物を濾過及び濃縮して、２−（ベンゾ
トリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３−オ
クチル）−フェノールを黄色の液体として（定量的に）
得た。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：306 nm（14'602）及び346
nm（13'850）；ＭＳ：337 (M+)、308、266、238 (100
%)。
ル）−４−メチル−６−（１−オクテン−３−イル）−
フェノール０．５ｇ及び「リンドラー触媒」（フルカ
（Fluka））痕跡量を常圧の水素下で４時間水素化し
た。次に反応混合物を濾過及び濃縮して、２−（ベンゾ
トリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３−オ
クチル）−フェノールを黄色の液体として（定量的に）
得た。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：306 nm（14'602）及び346
nm（13'850）；ＭＳ：337 (M+)、308、266、238 (100
%)。
【００５４】本生成物は、例えば、セチオール（Cetio
l）ＬＣ（ココイルカプリラートカプラート（Cocoyl ca
prylate caprate））のような化粧品用溶媒と容易に混
合可能である。高希釈でヘーラウス（Heraeus）１５０
Ｗ Ｈｇ灯で照射するとき、本生成物は光安定性である
ことが示された。
l）ＬＣ（ココイルカプリラートカプラート（Cocoyl ca
prylate caprate））のような化粧品用溶媒と容易に混
合可能である。高希釈でヘーラウス（Heraeus）１５０
Ｗ Ｈｇ灯で照射するとき、本生成物は光安定性である
ことが示された。
【００５５】実施例４ ヘキサン２５ml中の２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−（１−ヘキセン−３−イル）−フェノール２ｇ及び
「リンドラー触媒」（フルカ（Fluka））痕跡量を常圧
の水素下で５時間水素化した。次に反応混合物を濾過及
び濃縮して、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−
（３−ヘキシル）−フェノール２ｇを橙色の液体として
得た。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：306 nm（15'121）及び346
nm（13'120）；ＭＳ：407 (M+)、336 (100%)。
ル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−（１−ヘキセン−３−イル）−フェノール２ｇ及び
「リンドラー触媒」（フルカ（Fluka））痕跡量を常圧
の水素下で５時間水素化した。次に反応混合物を濾過及
び濃縮して、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−
（３−ヘキシル）−フェノール２ｇを橙色の液体として
得た。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：306 nm（15'121）及び346
nm（13'120）；ＭＳ：407 (M+)、336 (100%)。
【００５６】本生成物は、例えば、セチオール（Cetio
l）ＬＣ（ココイルカプリラートカプラート（Cocoyl ca
prylate caprate））のような化粧品用溶媒と容易に混
合可能である。高希釈でヘーラウス（Heraeus）１５０
Ｗ Ｈｇ灯で照射するとき、本生成物は光安定性である
ことが示された。
l）ＬＣ（ココイルカプリラートカプラート（Cocoyl ca
prylate caprate））のような化粧品用溶媒と容易に混
合可能である。高希釈でヘーラウス（Heraeus）１５０
Ｗ Ｈｇ灯で照射するとき、本生成物は光安定性である
ことが示された。
【００５７】 実施例５ Ｏ／Ｗ型アニオン性日焼け止めローションＵＶ−Ｂ及びＵＶ−Ａの調製： ４％の実施例４の化合物を含む広域日焼け止めローション。 重量％ 化合物 供給元 化学名 パートＡ 3 パラソル(R)ＭＣＸ 1) メトキシケイ皮酸オクチル 4 実施例４の生成物 3 パラソル(R)500 1) ４−メチルベンジリデン− ショウノウ 4 パラソル(R)1789 1) ４−ｔ−ブチル−４′−メトキシ −ジベンゾイル−メタン 2 モノステアリン酸グリセリン ステアリン酸グリセリン 2 セチルアルコール特級 セチルアルコール 2 ガネックス（Ganex）V-220 2) ＰＶＰ／エイコセンコポリマー 4 セラフィル（Ceraphyl）375 2) ネオペンタン酸イソステアリル 4 セラフィル（Ceraphyl）847 2) オクチルドデシルステアロイル− ステアラート 2 アンフィソル（Amphisol）K 1) セチルリン酸カリウム 0.1 エデタ（Edeta）ＢＤ ＥＤＴＡ二ナトリウム 0.6 フェノニップ（Phenonip） 3) フェノキシエタノール並びに メチル−、エチル−、プロピル− 及びブチル−パラベン パートＢ 11.15 脱イオン水 脱イオン水 50 カルボポール（Carbopol） 4) カルボマー（Carbomer） 934 １％溶液 5 プロピレングリコール １，２−プロパンジオール 0.15 ニパジン（Nipagin）Ｍ 3) メチルパラベン 3 ＫＯＨ（１０％） 水酸化カリウム 適量 香油 香水 （上記で(R)は、登録商標を意味する。）
【００５８】パートＡを反応器中で８５℃に加熱した。
均質になったら、パートＢを加え、次に前もって加熱し
たＫＯＨ（７５℃）を加え、この乳剤を冷却して脱気し
た。
均質になったら、パートＢを加え、次に前もって加熱し
たＫＯＨ（７５℃）を加え、この乳剤を冷却して脱気し
た。
【００５９】 実施例６ Ｏ／Ｗ型日焼け止めローションＵＶ−Ｂ及びＵＶ−Ａの調製： ２％の実施例３の化合物を含む広域日焼け止めローション。 重量％ 化合物 供給元 化学名 パートＡ 2 パラソル(R)ＭＣＸ 1) メトキシケイ皮酸オクチル 2 実施例３の生成物 3 パラソル(R)1789 1) ４−ｔ−ブチル−４′−メトキシ −ジベンゾイル−メタン 12 セチオール（Cetiol）LC 6) ココイル−カプリラート／ カプラート 4 ダーモル（Dermol）185 6) ネオペンタン酸イソステアリル 0.25 モノステアリン酸 ＰＥＧ−２−ステアラート ジエチレングリコール 1 セチルアルコール セチルアルコール 0.25 ＭＰＯＢ／ＰＰＯＢ メチル−プロピルパラベン 0.1 ＥＤＴＡ ＢＤ ＥＤＴＡ−ナトリウム塩 1 アンフィソル（Amphisol） 1) セチルリン酸ジエタノールアミン ＤＥＡ パートＢ 20 パーミュレン（Permulene） 4) アクリラートC10-C30アルキル− ＴＲ−１（＋％） アクリラート 48.6 脱イオン水 脱イオン水 5 プロピレングリコール １，２−プロパンジオール 0.8 ＫＯＨ（１０％） 水酸化カリウム
【００６０】パートＡを反応器中で８５℃に加熱した。
パートＢを１０分以内にゆっくり加え、次にＫＯＨを加
え、この乳剤を冷却して脱気した。
パートＢを１０分以内にゆっくり加え、次にＫＯＨを加
え、この乳剤を冷却して脱気した。
【００６１】供給元 １） エフ・ホフマン−ラ・ロシュ社（F. HOFFMANN -
LA ROCHE LTD）、ＣＨ−４０７０ バーゼル／スイス ２） 国際特殊製品（International Specialty Produc
ts）ＩＳＰ ３） ニパ・ラボラトリーズ社（NIPA LABORATORIES LT
D）、ミッドグラモーガン−ＣＦ３８ ２ＳＮ／イング
ランド ４） ビー・エフ・グッドリッチ社（B.F. GOODRICH CO
MPANY）、ブレックスヴィル−ＯＨ４４１４１／米国 ５） ヘンケル・ケー・ジー（HENKEL K.G.）、デュッ
セルドルフ／ドイツ ６） バーネルケミカル社（BERNEL Chemical Co. IN
C.）、エングルウッド、ニュージャージー州、米国
LA ROCHE LTD）、ＣＨ−４０７０ バーゼル／スイス ２） 国際特殊製品（International Specialty Produc
ts）ＩＳＰ ３） ニパ・ラボラトリーズ社（NIPA LABORATORIES LT
D）、ミッドグラモーガン−ＣＦ３８ ２ＳＮ／イング
ランド ４） ビー・エフ・グッドリッチ社（B.F. GOODRICH CO
MPANY）、ブレックスヴィル−ＯＨ４４１４１／米国 ５） ヘンケル・ケー・ジー（HENKEL K.G.）、デュッ
セルドルフ／ドイツ ６） バーネルケミカル社（BERNEL Chemical Co. IN
C.）、エングルウッド、ニュージャージー州、米国
【００６２】本発明の実施態様は、以下の通りである。 １． 一般式（Ｉ）：〔式中、Ｒ1は、アルキルであ
り；Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立に水素、アル
キル又はアルケニルであり；Ｘは、水素、ハロゲン、ア
ルキル又はアルコキシであり；そして点線の結合は、場
合により存在する結合である〕で示される化合物の製造
方法であって、 ａ）一般式（III）で示される化合物と、一般式（IV）
で示される化合物とを反応させて、一般式（II）で示さ
れる化合物を得る工程、 ｂ）工程ａ）で得られる一般式（II）の化合物を加熱し
て、一般式（ＩＡ）で示される化合物を生成させる工
程、そして所望であれば、 ｃ）一般式（ＩＡ）の化合物中の二重結合を水素化し
て、点線の結合が存在しない、一般式（Ｉ）の化合物を
得る工程、〔ここで、上記式（ＩＡ）、（II）、（II
I）及び（IV）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ
6、Ｘ及び点線の結合は、式（Ｉ）と同義であり、そし
てＹは、離脱基である〕を含むことを特徴とする方法。 ２． Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6並びに点線
の結合が、上記１と同義である（ただし、点線の結合が
存在するならば、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6の１つは、アル
ケニルであり、そして点線の結合が存在しないならば、
Ｒ2及びＲ6の１つは、アルケニル又は分岐アルキルであ
る）、上記１の一般式（Ｉ）の化合物。 ３． 点線の結合が、存在する、上記２の化合物。 ４． Ｒ2〜Ｒ6における炭素原子の総数が、３〜５であ
る、上記２又は３の化合物。 ５． Ｒ2〜Ｒ4の１つが、少なくとも３個の炭素原子を
有するアルキルであり、かつＲ2〜Ｒ4の他の２つが、水
素である、上記２〜４のいずれか１の化合物。 ６． Ｒ2及びＲ3が、水素である、上記２〜５のいずれ
か１の化合物。 ７． Ｒ4が、３〜５個の炭素原子を有するアルキルで
ある、上記２〜６のいずれか１の化合物。 ８． Ｒ1が、メチル又は１，１，３，３−テトラメチ
ルブチルである、上記２〜７のいずれか１の化合物。 ９． Ｘが、水素である、上記２〜８のいずれか１の化
合物。 １０． 点線の結合が、存在しない、上記２の化合物。 １１． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
メチル−６−（１−オクテン−３−イル）−フェノー
ル。 １２． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
メチル−６−（３−オクテン−２−イル）−フェノー
ル。 １３． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（１−
ヘキセン−３−イル）−フェノール。 １４． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
メチル−６−（３−オクチル）−フェノール。 １５． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（３−
ヘキシル）−フェノール。 １６． 一般式（II）〔式中、Ｒ1〜Ｒ6及びＸは、上記
１の式（Ｉ）と同義である〕で示される化合物。 １７． Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6並びに点
線の結合が、上記１と同義である（ただし、Ｒ4及びＲ5
の１つは、少なくとも２個の炭素原子を有するアルキル
であるか、又はアルケニルである）、上記１の一般式
（Ｉ）の化合物；並びに担体物質を含む、化粧品用又は
皮膚用の光遮蔽性組成物。 １８． 式（Ｉ）の化合物が、２−（ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−４−メチル−６−（１−オクテン−３
−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−−６−（１−ヘキセン−３−イル）−フェノー
ル、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチ
ル−６−（３−オクチル）−フェノール又は２−（ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）−６−（３−ヘキシル）−フェノ
ールである、上記１７の組成物。 １９． 化合物：２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３−オクテン−２−イル）−
フェノールを含む、化粧品用又は皮膚用の光遮蔽性組成
物。 ２０． 少なくとも１つの追加のＵＶ−Ａ及び／又はＵ
Ｖ−Ｂ遮蔽剤を含む、上記１７〜１９のいずれか１の組
成物。 ２１． ＵＶ遮蔽剤としての、上記２〜１５のいずれか
１の化合物の使用。
り；Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、独立に水素、アル
キル又はアルケニルであり；Ｘは、水素、ハロゲン、ア
ルキル又はアルコキシであり；そして点線の結合は、場
合により存在する結合である〕で示される化合物の製造
方法であって、 ａ）一般式（III）で示される化合物と、一般式（IV）
で示される化合物とを反応させて、一般式（II）で示さ
れる化合物を得る工程、 ｂ）工程ａ）で得られる一般式（II）の化合物を加熱し
て、一般式（ＩＡ）で示される化合物を生成させる工
程、そして所望であれば、 ｃ）一般式（ＩＡ）の化合物中の二重結合を水素化し
て、点線の結合が存在しない、一般式（Ｉ）の化合物を
得る工程、〔ここで、上記式（ＩＡ）、（II）、（II
I）及び（IV）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ
6、Ｘ及び点線の結合は、式（Ｉ）と同義であり、そし
てＹは、離脱基である〕を含むことを特徴とする方法。 ２． Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6並びに点線
の結合が、上記１と同義である（ただし、点線の結合が
存在するならば、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6の１つは、アル
ケニルであり、そして点線の結合が存在しないならば、
Ｒ2及びＲ6の１つは、アルケニル又は分岐アルキルであ
る）、上記１の一般式（Ｉ）の化合物。 ３． 点線の結合が、存在する、上記２の化合物。 ４． Ｒ2〜Ｒ6における炭素原子の総数が、３〜５であ
る、上記２又は３の化合物。 ５． Ｒ2〜Ｒ4の１つが、少なくとも３個の炭素原子を
有するアルキルであり、かつＲ2〜Ｒ4の他の２つが、水
素である、上記２〜４のいずれか１の化合物。 ６． Ｒ2及びＲ3が、水素である、上記２〜５のいずれ
か１の化合物。 ７． Ｒ4が、３〜５個の炭素原子を有するアルキルで
ある、上記２〜６のいずれか１の化合物。 ８． Ｒ1が、メチル又は１，１，３，３−テトラメチ
ルブチルである、上記２〜７のいずれか１の化合物。 ９． Ｘが、水素である、上記２〜８のいずれか１の化
合物。 １０． 点線の結合が、存在しない、上記２の化合物。 １１． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
メチル−６−（１−オクテン−３−イル）−フェノー
ル。 １２． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
メチル−６−（３−オクテン−２−イル）−フェノー
ル。 １３． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（１−
ヘキセン−３−イル）−フェノール。 １４． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
メチル−６−（３−オクチル）−フェノール。 １５． ２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（３−
ヘキシル）−フェノール。 １６． 一般式（II）〔式中、Ｒ1〜Ｒ6及びＸは、上記
１の式（Ｉ）と同義である〕で示される化合物。 １７． Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6並びに点
線の結合が、上記１と同義である（ただし、Ｒ4及びＲ5
の１つは、少なくとも２個の炭素原子を有するアルキル
であるか、又はアルケニルである）、上記１の一般式
（Ｉ）の化合物；並びに担体物質を含む、化粧品用又は
皮膚用の光遮蔽性組成物。 １８． 式（Ｉ）の化合物が、２−（ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−４−メチル−６−（１−オクテン−３
−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾール−２
−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−−６−（１−ヘキセン−３−イル）−フェノー
ル、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチ
ル−６−（３−オクチル）−フェノール又は２−（ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）−６−（３−ヘキシル）−フェノ
ールである、上記１７の組成物。 １９． 化合物：２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３−オクテン−２−イル）−
フェノールを含む、化粧品用又は皮膚用の光遮蔽性組成
物。 ２０． 少なくとも１つの追加のＵＶ−Ａ及び／又はＵ
Ｖ−Ｂ遮蔽剤を含む、上記１７〜１９のいずれか１の組
成物。 ２１． ＵＶ遮蔽剤としての、上記２〜１５のいずれか
１の化合物の使用。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｐ 17/16 Ａ６１Ｐ 17/16 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｃ
Claims (21)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 〔式中、 Ｒ1は、アルキルであり；Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ
6は、独立に水素、アルキル又はアルケニルであり；Ｘ
は、水素、ハロゲン、アルキル又はアルコキシであり；
そして点線の結合は、場合により存在する結合である〕
で示される化合物の製造方法であって、 ａ）一般式（III）： 【化２】 で示される化合物と、一般式（IV）： 【化３】 で示される化合物とを反応させて、一般式（II）： 【化４】 で示される化合物を得る工程、 ｂ）工程ａ）で得られる一般式（II）の化合物を加熱し
て、一般式（ＩＡ）： 【化５】 で示される化合物を生成させる工程、そして所望であれ
ば、 ｃ）一般式（ＩＡ）の化合物中の二重結合を水素化し
て、点線の結合が存在しない、一般式（Ｉ）の化合物を
得る工程、〔ここで、上記式（ＩＡ）、（II）、（II
I）及び（IV）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ
6、Ｘ及び点線の結合は、式（Ｉ）と同義であり、そし
てＹは、離脱基である〕を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項２】 Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6並
びに点線の結合が、請求項１と同義である（ただし、点
線の結合が存在するならば、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6の１
つは、アルケニルであり、そして点線の結合が存在しな
いならば、Ｒ2及びＲ6の１つは、アルケニル又は分岐ア
ルキルである）、請求項１記載の一般式（Ｉ）の化合
物。 - 【請求項３】 点線の結合が、存在する、請求項２記載
の化合物。 - 【請求項４】 Ｒ2〜Ｒ6における炭素原子の総数が、３
〜５である、請求項２又は３記載の化合物。 - 【請求項５】 Ｒ2〜Ｒ4の１つが、少なくとも３個の炭
素原子を有するアルキルであり、かつＲ2〜Ｒ4の他の２
つが、水素である、請求項２〜４のいずれか１項記載の
化合物。 - 【請求項６】 Ｒ2及びＲ3が、水素である、請求項２〜
５のいずれか１項記載の化合物。 - 【請求項７】 Ｒ4が、３〜５個の炭素原子を有するア
ルキルである、請求項２〜６のいずれか１項記載の化合
物。 - 【請求項８】 Ｒ1が、メチル又は１，１，３，３−テ
トラメチルブチルである、請求項２〜７のいずれか１項
記載の化合物。 - 【請求項９】 Ｘが、水素である、請求項２〜８のいず
れか１項記載の化合物。 - 【請求項１０】 点線の結合が、存在しない、請求項２
記載の化合物。 - 【請求項１１】 ２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（１−オクテン−３−イル）−
フェノール。 - 【請求項１２】 ２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３−オクテン−２−イル）−
フェノール。 - 【請求項１３】 ２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−（１−ヘキセン−３−イル）−フェノール。 - 【請求項１４】 ２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−メチル−６−（３−オクチル）−フェノー
ル。 - 【請求項１５】 ２−（ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−
６−（３−ヘキシル）−フェノール。 - 【請求項１６】 一般式（II）： 【化６】 〔式中、Ｒ1〜Ｒ6及びＸは、請求項１の式（Ｉ）と同義
である〕で示される化合物。 - 【請求項１７】 Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6
並びに点線の結合が、請求項１と同義である（ただし、
Ｒ4及びＲ5の１つは、少なくとも２個の炭素原子を有す
るアルキルであるか、又はアルケニルである）、請求項
１記載の一般式（Ｉ）の化合物；並びに担体物質を含
む、化粧品用又は皮膚用の光遮蔽性組成物。 - 【請求項１８】 式（Ｉ）の化合物が、２−（ベンゾト
リアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（１−オク
テン−３−イル）−フェノール、２−（ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）−−６−（１−ヘキセン−３−イル）−フェ
ノール、２−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−
メチル−６−（３−オクチル）−フェノール又は２−
（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）−６−（３−ヘキシル）
−フェノールである、請求項１７記載の組成物。 - 【請求項１９】 化合物：２−（ベンゾトリアゾール−
２−イル）−４−メチル−６−（３−オクテン−２−イ
ル）−フェノールを含む、化粧品用又は皮膚用の光遮蔽
性組成物。 - 【請求項２０】 少なくとも１つの追加のＵＶ−Ａ及び
／又はＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含む、請求項１７〜１９のいず
れか１項記載の組成物。 - 【請求項２１】 ＵＶ遮蔽剤としての、請求項２〜１５
のいずれか１項記載の化合物の使用。
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