JP2000034214A - 化粧用光遮蔽組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い太陽光線保護指数を示す化粧用光遮蔽組
成物の提供。 【解決手段】 水相に約０．５〜１０重量％の２−フェ
ニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有
し、約１〜３０重量％の所定構造の直鎖又は環状ポリシ
ロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有す
る、化粧用光遮蔽組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、２８０〜３２０nmの間の波長の
紫外線（ＵＶ−Ｂ）に対するヒトの表皮の保護のための
光安定性化粧用光遮蔽組成物に関する。

【０００２】詳細には本発明は、親油性ポリシロキサン
型ＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び親水性ベンゾイミダゾール型ＵＶ
−Ｂ遮蔽剤を含有する化粧用光遮蔽組成物に関する。

【０００３】ヨーロッパ特許公報ＥＰ−０８１３８５７
には、水相；第１油相；第２油相；水中油型乳剤のため
の皮膚軟化剤及び油中水型乳剤のための別の皮膚軟化
剤；例えばベンゾフェノン誘導体のような親水性ＵＶ−
Ａフィルター又は例えばベンゾイミダゾール誘導体のよ
うな親水性ＵＶ−Ｂフィルター、及び例えば４−tert−
ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン（パラソル
１７８９（PARSOL 1789）（登録商標））のような親油
性ＵＶ−Ａフィルター又は例えばオクトクリレン（octo
crylene）（ウヴィヌルＮ−５３９（UVINUL N-539）
（登録商標））のような親油性ＵＶ−Ｂフィルター、若
しくはＷＯ９３／０４６６５に記載されるオルガノシロ
キサンフィルター若しくはＷＯ９４／０６４０４に記載
されるベンゾトリアゾール型のオルガノシロキサンフィ
ルターを含むことを特徴とする、相乗作用性ＵＶ保護活
性を有する太陽光線保護組成物（該太陽光線保護組成物
は、第１及び第２油相が不相溶性であることを特徴とす
る）が記載されている。

【０００４】上述のヨーロッパ特許公報は、組合せたフ
ィルター物質が、相乗作用性紫外線保護活性を有するこ
とを一般的に言及しているだけであり、特異的な相乗作
用に到達するための特異的なフィルターの組合せを選択
するための指標を何ら示していない。更には、ＷＯ９３
／０４６６５又はＷＯ９４／０６４０４に記載されるオ
ルガノシロキサンは、ベンゾマロナート型の発色団残基
を含有するオルガノシロキサンに具体的に言及していな
い。

【０００５】今や、親油性ＵＶ−Ｂ遮蔽剤としてベンゾ
マロナート型の発色団残基を有するポリシロキサン及び
親水性ベンゾイミダゾール型ＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含有する
日焼け止め組成物が、相乗作用的に保護指数を強化する
ことを見い出した。

【０００６】更に詳細には本発明は、水相に約０．５〜
１０重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホ
ン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ又はＩｂ：

【０００７】

【化３】

【０００８】〔式中、Ｘは、Ｒ又はＡを表し；Ａは、式
IIａ、IIｂ又はIIｃ：

【０００９】

【化４】

【００１０】で示される基を表し；Ｒは、水素、Ｃ_{1 - 6}
アルキル又はフェニルを表し；Ｒ¹及びＲ²は、各々独立
に、水素、ヒドロキシ、Ｃ_{1 - 6}−アルキル又はＣ_{1 - 6}−ア
ルコキシを表し；Ｒ³は、Ｃ_{1 - 6}−アルキルを表し；Ｒ⁴
は、水素又はＣ_{1 - 6}−アルキルを表し；Ｒ⁵及びＲ⁶は、
各々独立に、水素又はＣ_{1 - 6}−アルキルを表し；ｒは、
０〜２５０の値を有し；ｓは、０〜２０の値を有し；ｒ
＋ｓは、少なくとも３の値を有し；ｔは、０〜１０の値
を有し；ｖは、０〜１０の値を有し；そしてｖ＋ｔは、
少なくとも３の値を有し；ｎは、１〜６の値を有する
（ただし、ｓが０であるとき、少なくとも１つのＸは、
Ａである）〕で示される約１〜３０重量％の直鎖又は環
状ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相
を含有する、化粧用光遮蔽組成物に関する。

【００１１】「Ｃ_{1 - 6}−アルキル」という用語は、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−
ブチル、イソブチル、ペンチル及びネオペンチルのよう
な基を意味する。「Ｃ_{1 - 6}−アルコキシ」という用語
は、その対応するアルコキシ基を意味する。

【００１２】Ｒ残基は、好ましくはメチルである。

【００１３】Ｒ¹及びＲ²残基は、好ましくは水素、メト
キシ若しくはエトキシ、更に好ましくは水素であるか、
又はＲ¹及びＲ²の一方は、水素であり、かつもう一方
は、メチル、メトキシ若しくはエトキシである。

【００１４】Ｒ³残基は、好ましくはメチル又はエチ
ル、更に好ましくはエチルである。

【００１５】好ましくは、Ｒ⁴は、水素又はメチルであ
り、Ｒ⁵及びＲ⁶は、水素であり、そしてｎは、１であ
る。

【００１６】２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホ
ン酸の適切な塩は、ナトリウム−又はカリウム塩のよう
なアルカリ塩、アンモニウム塩、モルホリン塩、第一
級、第二級及び第三級アミンの塩（例えば、モノエタノ
ールアミン塩、ジエタノールアミン塩など）である。

【００１７】一般式IIａ及びIIｂのＡ基を有するポリシ
ロキサン化合物及びその調製法は、ヨーロッパ特許ＥＰ
０５３８４３１ Ｂ１に記載されている。これらのポリ
シロキサン化合物は好ましい。

【００１８】一般式IIｃのＡ基を有するポリシロキサン
化合物及びその調製法は、ヨーロッパ特許ＥＰ ０３５
８５８４ Ｂ１に記載されている。

【００１９】式Ｉａの直鎖ポリシロキサン化合物におい
て、残基Ａを担持する発色団は、ポリシロキサンの末端
基に連結されていても（Ｘ＝Ａ）、又は統計学的に分布
していてもよい。

【００２０】残基Ａを担持する発色団が統計学的に分布
している、直鎖ポリシロキサン化合物が好ましい。該好
ましいポリシロキサン化合物は、発色団残基を担持する
少なくとも１つの単位（ｓ＝１）を有し、好ましくはｓ
は、約２〜約１０の値、更に好ましくは約４の統計学的
平均を有する。ポリシロキサン化合物に存在するもう一
方のシリコーン単位のｒの数は、好ましくは約５〜約１
５０、更に好ましくは約６０の統計学的平均である。

【００２１】総シロキサン単位の２０％以下、好ましく
は１０％未満が、発色団残基を担持する単位であるポリ
シロキサン化合物が、化粧品の性質に関して好ましい。

【００２２】式IIａの発色団残基Ａを有するポリシロキ
サン単位対式IIｂの発色団残基Ａを有するものの比は、
決定的に重要ではない。該比は、約１：１〜約１９：
１、好ましくは約２：１〜約９：１、更に好ましくは約
４：１であろう。

【００２３】化粧用光遮蔽組成物中のポリシロキサン化
合物の濃度は、好ましくは約２〜２０重量％、更に好ま
しくは約５重量％である。

【００２４】２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン
酸又はその塩の濃度は、好ましくは約０．５〜５重量
％、更に好ましくは約１〜２重量％である。

【００２５】２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン
酸又はその塩対上記と同義のポリシロキサン化合物の比
は、決定的に重要ではない。例えばこの比は、約１：１
〜約１：２０、好ましくは約１：５である。

【００２６】即ち、好ましい化粧用光遮蔽組成物は、水
相に約０．５〜５重量％の２−フェニルベンゾイミダゾ
ール−スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ
〔式中、Ｘは、メチルを表し；Ａは、式IIａ又はIIｂの
基を表し；Ｒは、メチルを表し；Ｒ¹及びＲ²は、水素、
メトキシ若しくはエトキシを表すか、又はＲ¹及びＲ²の
一方は、水素であり、かつもう一方は、メチル、メトキ
シ若しくはエトキシであり；Ｒ³は、メチル又はエチル
を表し；Ｒ⁴は、水素又はメチルを表し；Ｒ⁵及びＲ
⁶は、水素を表し；ｒは、約５〜約１５０であり；ｓ
は、約２〜約１０であり；ｎは、１の値を有する〕で示
される約２〜２０重量％の直鎖ポリシロキサン化合物を
含む少なくとも１つの脂肪相を含有する。

【００２７】更に好ましい化粧用光遮蔽組成物は、水相
に約１〜２重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−
スルホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ〔式
中、Ｘは、メチルを表し；Ａは、式IIａ又はIIｂの基を
表し；Ｒは、メチルを表し；Ｒ¹及びＲ²は、水素を表
し；Ｒ³は、エチルを表し；Ｒ⁴は、水素を表し；Ｒ⁵及
びＲ⁶は、水素を表し；ｒは、約４の統計学的平均であ
り；ｓは、約６０の統計学的平均であり；ｎは、１の値
を有する〕で示される約５重量％の直鎖ポリシロキサン
化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する。

【００２８】Ａが、式IIａ又はIIｂの残基である、ポリ
シロキサン化合物Ｉａ又はＩｂは、ＥＰ ０５３８４３
１ Ｂ１に記載されているように、下記反応スキーム：

【００２９】

【化５】

【００３０】〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は、上記と同
義である〕により対応するベンザルマロナートのシリル
化により調製することができる。

【００３１】４−（２−プロピニルオキシ）フェニルメ
チレンジエチルエステルのシリル化は、脂肪族不飽和を
含有する基へのケイ素結合水素原子の付加のための既知
の方法を利用して行うことができる。このような反応
は、一般に白金属金属又はこのような金属の錯体により
触媒される。利用することができる触媒の例は、白金担
持炭素、クロロ白金酸、白金アセチルアセトナト、白金
化合物と不飽和化合物（例えば、オレフィン及びジビニ
ルジシロキサン）との錯体、ロジウム及びパラジウム化
合物の錯体並びに無機基質上に支持された白金化合物の
錯体である。付加反応は、減圧、常圧又は加圧下で行わ
れる。反応混合物中の溶媒（例えば、トルエン又はキシ
レン）を使用することができるが、溶媒の存在は必須で
はない。また、反応は高い反応温度（例えば、約５０℃
〜１５０℃）で行うことが好ましい。

【００３２】この新規な光遮蔽組成物の製造は、上記と
同義のポリシロキサン化合物及び２−フェニル−ベンゾ
イミダゾール−スルホン酸又はその塩を、場合により他
の既知のＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂフィルターと組合
せて、光遮蔽剤について一般的な化粧品基剤に組み込む
ことを特徴とする。

【００３３】適切なＵＶ−Ｂフィルター、即ち、約２９
０〜３２０nmの間に最大吸収を有する物質は、例えば、
物質の広い分類に属する下記の有機化合物である： − ｐ−アミノ安息香酸エチル、プロピル、ブチル、及
びイソブチルなどのような、ｐ−アミノ安息香酸誘導
体； − ２−エチルヘキシル２−シアノ−３，３−ジフェニ
ルアクリラート（オクトクリレン（octocrylene））、
エチル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラートな
どのようなアクリラート； − メチルアニリニウムメトスルファートなどのような
アニリン誘導体； − アントラニル酸メンチルなどのようなアントラニル
酸誘導体； − ベンゾフェノン−３、ベンゾフェノン−４などのよ
うなベンゾフェノン誘導体； − メチルベンジリデンショウノウ（パラソル５０００
（PARSOL 5000））、３−ベンジリデンショウノウ、シ
ョウノウベンザルコニウムメトスルファート、ポリアク
リルアミドメチルベンジリデンショウノウ、スルファベ
ンジリデンショウノウ、スルホメチルベンジリデンショ
ウノウ、テレフタリデン二ショウノウスルホン酸などの
ようなショウノウ誘導体； − メトキシケイ皮酸オクチル（パラソルＭＣＸ（PARS
OL MCX））又はメトキシケイ皮酸エトキシエチルなどの
ようなシンナマート誘導体、更にはシロキサンに結合し
たケイ皮酸誘導体； − トリオレイン酸ジガロイルなどのような没食子酸； − サリチル酸イソプロピルベンジル、サリチル酸ベン
ジル、サリチル酸ブチル、サリチル酸オクチル（ネオ・
ヘリオパンＯＳ（Neo Heliopan OS））、サリチル酸イ
ソオクチル又はサリチル酸ホモメンチル（ホモサレート
（homosalate）、ヘリオパン（Heliopan））などのよう
なサリチラート誘導体； − ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、２，２′
−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール
−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−フェノール）（ティノソルブＭ（TINOSORB
M））などのようなトリアゾール誘導体； − オクチルトリアゾン（ウヴィヌルＴ−１５０（Uvin
ul T-150））、ジオクチルブタミドトリアゾン（ウヴァ
ソルブＨＥＢ（Uvasorb HEB））などのようなトリアゾ
ン誘導体； − 微粒化ＴｉＯ₂、ＺｎＯなどのような顔料。

【００３４】「微粒化」という用語は、約５nm〜約２０
０nm、特に約１５nm〜約１００nmの粒径を意味する。Ｔ
ｉＯ₂粒子はまた、例えば酸化アルミニウム若しくはジ
ルコニウムのような金属酸化物により、又は例えばポリ
オール、メチコーン（methicone）、ステアリン酸アル
ミニウム、アルキルシランのような有機コーティング剤
によりコーティングしてもよい。このようなコーティン
グは、当該分野でよく知られている。

【００３５】本処方は、更に、 − ４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイル−
メタンなどのようなジベンゾイルメタン誘導体； − ヨーロッパ特許公報ＥＰ ０６９３４８３ Ａ１、Ｅ
Ｐ ０７０４４３７ Ａ２、ＥＰ ０７０４４４４ Ａ１及
びＥＰ ０７８０３８２ Ａ１に記載されたトリアジン化
合物（例えば、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ・
ホールディング・スイス（Ciba Speciality Chemicals
Holding Switzerland）から商品名ティノソルブＳ（TIN
OSORB S）の下で入手可能な２，２′−〔６−（４−メ
トキシフェニル）−１，３，５−トリアジン−２，４−
ジイル〕ビス〔５−（２−エチルヘキシル）オキシ〕
−）、のようなＵＶ−Ａフィルターを含有してもよい。

【００３６】本発明の範囲における光遮蔽組成物につい
て一般的な化粧品基剤としては、化粧品の要求に対応す
る任意の従来調製物を使用することができる（例えば、
クリーム、ローション、乳液、軟膏、ゲル、液剤、スプ
レー、スティック及びミルク）；「日焼け止め剤、開
発、評価及び規制の側面（Sunscreens, Development, E
valuation and Regulatory Aspects）」、N.Y. Lowe、
N.A. Shaath編、マーセル・デッカー社（Marcel Dekke
r, Inc.）、ニューヨーク及びバーゼル、１９９０年も
参照のこと。

【００３７】以上のように、本発明は、水相に約０．５
〜１０重量％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スル
ホン酸又はその塩を含有し、かつ一般式Ｉａ又はＩｂ：

【００３８】

【化６】

【００３９】〔式中、Ｘは、Ｒ又はＡを表し；Ａは、式
IIａ、IIｂ又はIIｃ：

【００４０】

【化７】

【００４１】で示される基を表し；Ｒは、水素、Ｃ_{1 - 6}
アルキル又はフェニルを表し；Ｒ¹及びＲ²は、各々独立
に、水素、ヒドロキシ、Ｃ_{1 - 6}−アルキル又はＣ_{1 - 6}−ア
ルコキシを表し；Ｒ³は、Ｃ_{1 - 6}−アルキルを表し；Ｒ⁴
は、水素又はＣ_{1 - 6}−アルキルを表し；Ｒ⁵及びＲ⁶は、
各々独立に、水素又はＣ_{1 - 6}−アルキルを表し；ｒは、
０〜２５０の値を有し；ｓは、０〜２０の値を有し；ｒ
＋ｓは、少なくとも３の値を有し；ｔは、０〜１０の値
を有し；ｖは、０〜１０の値を有し；そしてｖ＋ｔは、
少なくとも３の値を有し；ｎは、１〜６の値を有する
（ただし、ｓが０であるとき、少なくとも１つのＸは、
Ａである）〕で示される約１〜３０重量％の直鎖又は環
状ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相
を含有する、化粧用光遮蔽組成物に関する（１）。

【００４２】また、本発明は、Ａが、式IIａ又はIIｂの
残基である、前記（１）記載の化粧用光遮蔽組成物に関
する（２）。

【００４３】更に、本発明は、式IIａの発色団残基を有
するオルガノシロキサン化合物対式IIｂの発色団残基を
有するオルガノシロキサン化合物の比が、約１：１〜約
１９：１、好ましくは約２：１〜約９：１、更に好まし
くは約４：１である、前記（１）又は（２）記載の化粧
用光遮蔽組成物に関する（３）。

【００４４】また、本発明は、Ｒが、メチルである、前
記（１）〜（３）のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組
成物に関する（４）。

【００４５】更に、本発明は、Ｒ¹及びＲ²が、水素、メ
トキシ若しくはエトキシであるか、又はＲ¹及びＲ²の一
方が、水素であり、かつもう一方が、メチル、メトキシ
若しくはエトキシである、前記（１）〜（４）のいずれ
か１項記載の化粧用光遮蔽組成物に関する（５）。

【００４６】また、本発明は、Ｒ³が、メチル又はエチ
ルである、前記（１）〜（５）のいずれか１項記載の化
粧用光遮蔽組成物に関する（６）。

【００４７】更に、本発明は、Ｒ⁴が、水素又はメチル
であり；Ｒ⁵及びＲ⁶が、水素であり；そしてｎが、１で
ある、前記（１）〜（６）のいずれか１項記載の化粧用
光遮蔽組成物に関する（７）。

【００４８】また、本発明は、水相に約０．５〜５重量
％の２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又は
その塩を含有し、かつ一般式Ｉａ〔式中、Ｘは、メチル
を表し；Ａは、式IIａ又はIIｂの基を表し；Ｒは、メチ
ルを表し；Ｒ¹及びＲ²は、水素、メトキシ若しくはエト
キシを表すか、又はＲ¹及びＲ²の一方は、水素であり、
かつもう一方は、メチル、メトキシ若しくはエトキシで
あり；Ｒ³は、メチル又はエチルを表し；Ｒ⁴は、水素又
はメチルを表し；Ｒ⁵及びＲ⁶は、水素を表し；ｒは、約
５〜約１５０であり；ｓは、約２〜約１０であり；ｎ
は、１の値を有する〕で示される約２〜２０重量％の直
鎖ポリシロキサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相
を含有する、前記（１）〜（７）のいずれか１項記載の
化粧用光遮蔽組成物に関する（８）。

【００４９】更に、本発明は、水相に約１〜２重量％の
２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその
塩を含有し、かつ一般式Ｉａ〔式中、Ｒ¹及びＲ²は、水
素を表し；Ｒ³は、エチルを表し；Ｒ⁴は、水素を表し；
ｒは、約４の統計学的平均であり；ｓは、約６０の統計
学的平均である〕で示される約５重量％の直鎖ポリシロ
キサン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有す
る、前記（８）記載の化粧用光遮蔽組成物に関する
（９）。

【００５０】また、本発明は、該組成物が、更に普通の
ＵＶ−Ａフィルター及び／又はＵＶ−Ｂフィルターを含
有する、前記（１）〜（９）のいずれか１項記載の化粧
用光遮蔽組成物に関する（１０）。

【００５１】更に、本発明は、紫外線の吸収剤としての
前記（１）〜（１０）のいずれか１項記載の化粧用光遮
蔽組成物の使用に関する（１１）。

【００５２】下記実施例により本発明を更に詳細に説明
する。

【００５３】実施例１ ＥＰ ０５３８４３１ Ｂ１に記載されているプロパン二
酸｛〔４−（２−プロピニルオキシ）フェニル〕メチレ
ン｝ジエチルエステルの調製。アセトン（２．９６ml）
中の４−ヒドロキシベンズアルデヒド（４２５．８ｇ）
及びＫ₂ＣＯ₃（８０７．６ｇ）の撹拌懸濁液に、約６０
℃の還流温度で窒素雰囲気下、２時間かけて３−ブロモ
−プロピン（５０２．４ｇ）を滴下により加えた。反応
物を３時間以上加熱還流した。室温に冷却後、反応混合
物を濾過し、過剰のＫ₂ＣＯ₃を除去してアセトンで数回
洗浄した。濾液を、ＮａＨＣＯ₃とＮａＣｌの飽和水溶
液で洗浄した。水相をジエチルエーテルで抽出した。合
わせた有機抽出物をＮａ₂ＳＯ₄で乾燥し、濾過して１l
の容量まで濃縮した。この溶液を冷蔵庫に一晩保存し
た。結晶を濾取して、冷ジエチルエーテルで洗浄した。
濾液を冷蔵庫に一晩保存して、更に幾らかを結晶化させ
て取り出した。この操作を３回繰り返して、４−（２−
プロピニルオキシ）ベンズアルデヒド１，３８５ｇを収
率８３％で得た。この物質をガスクロマトグラフィーに
より分析すると、純度９９．９％であることが判った。
生じた化合物（４４９．２ｇ）を少量ずつ、マロン酸ジ
エチル（４４８．５ｇ）、ピペリジン（２３．８４
ｇ）、トルエン（１，４００ml）及び酢酸（５９ｇ）の
撹拌溶液に約５０℃で加えた。酢酸は、３等分してそれ
ぞれ１、１．５、及び２時間後に加えた。反応混合物を
加熱還流した。４時間後、混合物を室温まで冷却させ
て、ＮａＨＣＯ₃とＮａＣｌの飽和水溶液で洗浄して、
Ｎａ₂ＳＯ₄で乾燥し、濾過して濃縮し、暗褐色の油状生
成物８５３．４ｇを得た。ジエチルエーテル（４５８m
l）及びｈ−ヘキサン（３５８ml）を加えて、溶液を冷
蔵庫に一晩保存した。溶液を濾過して、４５．５〜４８
℃の融点を有する明褐色の結晶５６４．８ｇ（収率６７
％）を得た。エタノール及びｎ−ヘキサン中で再結晶し
て、明褐色の結晶として標題化合物５４３ｇを得た。こ
の物質をガスクロマトグラフィーにより分析すると、純
度９９．９％であることが判った。

【００５４】実施例２ ＥＰ ０５３ ４３１ Ｂ１に記載されている一般式Ｉａ
〔式中、Ｒはメチルを意味し、ｓは０であり、ｒは２０
であり、ＸはＡであり、そしてＡは式IIａ及びIIｂ（式
中、Ｒ¹及びＲ²は水素であり、Ｒ³はエチルであり、そ
してＲ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は水素であり、ｎは１である）の
ベンザルマロナート残基を意味する〕のオルガノシロキ
サン化合物の調製。｛〔４−（２−プロピニルオキシ）
フェニル〕メチレン｝−ジエチルエステル５ｇをトルエ
ン２０ｇに溶解して、窒素下で約８０℃に加熱した。次
に２０の重合度及び１０mpc ＳｉＨ基（ＳｉＨ ３．
６２％）を有するヒドロシロキサン１３．２ｇを滴下に
より加え、その前に白金−ジビニル−テトラメチル−ジ
シロキサン錯体も加えて、ヒドロシロキサンのＳｉＨ
１モル当たりＰｔ １０^{- 4}モルにした。混合物を加熱還
流し、赤外分光分析で全てのＳｉＨが消失するまで維持
した。次にこれを室温まで冷却させた。次いでトルエン
を蒸発させて、洗浄後、平均構造Ａ−〔（ＣＨ₃)₂Ｓｉ
Ｏ〕_{2 0}−Ａ〔式中、Ａは、式II_{a 1}及びII_{b 1}：

【００５５】

【化８】

【００５６】で示される残基である〕を有する僅かに褐
色のポリマー１６．５ｇを得た。

【００５７】実施例３ ヨーロッパ特許公報ＥＰ ０７０９０８０ Ａ１に記載さ
れている一般式Ｉａ〔式中、Ｒはメチルを意味し、ｒは
５９であり、ｓは４であり、Ｘはメチルであり、そして
Ａは式IIａ及びIIｂ（式中、Ｒ¹及びＲ²は水素であり、
Ｒ³はエチルであり、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は水素である）の
ベンザルマロナート残基を意味する〕を有するオルガノ
シロキサン化合物の調製。｛〔４−（２−プロピニルオ
キシ）フェニル〕メチレン｝−ジエチルエステル１３．
２８ｇをトルエン７５ｇに溶解して、窒素下で約７０℃
に加熱した。次に６５の重合度及び６mpc ＳｉＨ基
（ＳｉＨ ２．３６％）を有するヒドロシロキサン４４
ｇを滴下により加え、その前に白金−ジビニル−テトラ
メチル−ジシロキサン錯体も加えて、ヒドロシロキサン
のＳｉＨ １モル当たりＰｔ １０^{- 4}モルにした。混合
物を加熱還流し、赤外分光分析で全てのＳｉＨが消失す
るまで維持した。次にこれを室温まで冷却させた。次い
でトルエンを蒸発させて、洗浄後、平均構造（ＣＨ₃)₃
ＳｉＯ−〔（ＣＨ₃)₂ＳｉＯ〕_{5 9}−〔（ＣＨ₃）ＡＳｉ
Ｏ〕₄−Ｓｉ（ＣＨ₃)₃〔式中、Ａは、式II_{a 1}及びII_{b 1}：

【００５８】

【化９】

【００５９】を有する〕を有する褐色の粘性ポリマー５
２ｇを得た。残基II_{a 1}を有する化合物対残基II_{b 1}を有す
る化合物の比は、約４：１である。

【００６０】実施例４ 適切な化粧用光遮蔽組成物 実施例３の式Ｉａのポリシロキサン５重量％及び２−フ
ェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸１重量％を含む
ことを特徴とする日焼け止めＯ／Ｗローションを下記成
分により調製した：

【００６１】

【表１】

【００６２】ＣＴＦＡ：化粧品、洗面用化粧品及び香水
協会（Cosmetic, Toiletry and Fragrance Associatio
n）。 パートＡ：反応容器に加え、その中で融解した。 パートＢ：混合し、中和してホットプレートで８５℃に
加熱した。 パートＣ：５０℃で加えた。

【００６３】実施例５ 太陽光線保護指数（Sun Protection Factor）の測定 太陽光線保護指数の測定は、ＣＯＬＩＰＡプロトコール
（ヨーロッパ化粧品、洗面用化粧品及び香水協会（the
European Cosmetic, Toiletry and PerfumeryAssociati
on）、太陽光線保護指数試験法（Sun Protection Facto
r Test method）、１９９４年１０月）により実施し
た。

【００６４】５．０〜５．５mW/cm²の範囲のランプ輝度
を有する太陽光線シミュレーターＳＵ２０００を使用し
た。照射面積６×１cm²；線量進行（dose progressio
n）２５％。

【００６５】実施例４に記載されているのと同じ化粧品
基剤を使用して、下記のフィルターの組合せを処方し
て、同一の分布特性を有する安定な日焼け止めローショ
ンが生成した。

【００６６】ヒトのインビボＳＰＦ測定のためのＣＯＬ
ＩＰＡプロトコールにより、５０cm²の適用面積に、２m
g/cm²の適用線量を使用した。

【００６７】比較として下記の日焼け止め組成物を試験
した：

【００６８】実施例３のポリシロキサン化合物及び第２
の既知の親油性ＵＶ−Ｂフィルター（即ち２−エチルヘ
キシル−ｐ−メトキシシンナマート（ＯＭＣ）（商品名
パラソルＭＣＸ（PARSOL MCX）の下で入手可能））を含
有する日焼け止め組成物。

【００６９】実施例３のポリシロキサン化合物及び第２
の既知の親水性ＵＶ−Ｂフィルター（即ちｐ−メトキシ
ケイ皮酸のジエタノールアミン塩（ＭＣ−ＤＥＡ）（商
品名パラソルヒドロ（PARSOL Hydro）の下で入手可
能））を含有する日焼け止め組成物。

【００７０】結果は下記の表に示す。

【００７１】

【表２】

【００７２】Ｐ３：実施例３のポリシロキサン。 ＰＢＳＡ：２−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン
酸 ＯＭＣ：２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナマー
ト ＭＣ−ＤＥＡ：ｐ−メトキシケイ皮酸のジエタノールア
ミン塩。

【００７３】インビボＳＰＦ：ボランティア５名の測定
の平均値。 予測ＳＰＦ：１０重量％ Ｐ３のインビボＳＰＦ値
（４．７）を他のフィルターの２重量％の対応する値の
インビボＳＰＦ値に加えて２で割った計算値。 相乗作用性：予測（計算）ＳＰＦからのインビボＳＰＦ
の偏差％。

【００７４】本発明のＰＢＳＡとポリシロキサンの組合
せが、ＳＰＦの不均衡な増大を示した。通常、フィルタ
ー組合せのＳＰＦは、単一フィルターの性能からの計算
値に非常に近いため、この組合せにおける相乗作用が証
明された。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウルリッヒ・フーバー スイス国、ツェーハー−8703 エルレンバ ッハ、フェーレンシュトラーセ 12 (72)発明者 ロルフ・シュヴァルツェンバッハ スイス国、ツェーハー−8405 ヴァンター テュア、コールベルクシュトラーセ １

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 水相に約０．５〜１０重量％の２−フェ
   ニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有
   し、かつ一般式Ｉａ又はＩｂ： 【化１】 〔式中、 Ｘは、Ｒ又はＡを表し；Ａは、式IIａ、IIｂ又はIIｃ： 【化２】 で示される基を表し；Ｒは、水素、Ｃ_{1 - 6}アルキル又は
   フェニルを表し；Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に、水素、ヒ
   ドロキシ、Ｃ_{1 - 6}−アルキル又はＣ_{1 - 6}−アルコキシを表
   し；Ｒ³は、Ｃ_{1 - 6}−アルキルを表し；Ｒ⁴は、水素又は
   Ｃ_{1 - 6}−アルキルを表し；Ｒ⁵及びＲ⁶は、各々独立に、
   水素又はＣ_{1 - 6}−アルキルを表し；ｒは、０〜２５０の
   値を有し；ｓは、０〜２０の値を有し；ｒ＋ｓは、少な
   くとも３の値を有し；ｔは、０〜１０の値を有し；ｖ
   は、０〜１０の値を有し；そしてｖ＋ｔは、少なくとも
   ３の値を有し；ｎは、１〜６の値を有する（ただし、ｓ
   が０であるとき、少なくとも１つのＸは、Ａである）〕
   で示される約１〜３０重量％の直鎖又は環状ポリシロキ
   サン化合物を含む少なくとも１つの脂肪相を含有する、
   化粧用光遮蔽組成物。
2. 【請求項２】 水相に約０．５〜５重量％の２−フェニ
   ルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有
   し、かつ一般式Ｉａ〔式中、 Ｘは、メチルを表し；Ａは、式IIａ又はIIｂの基を表
   し；Ｒは、メチルを表し；Ｒ¹及びＲ²は、水素、メトキ
   シ若しくはエトキシを表すか、又はＲ¹及びＲ²の一方
   は、水素であり、かつもう一方は、メチル、メトキシ若
   しくはエトキシであり；Ｒ³は、メチル又はエチルを表
   し；Ｒ⁴は、水素又はメチルを表し；Ｒ⁵及びＲ⁶は、水
   素を表し；ｒは、約５〜約１５０であり；ｓは、約２〜
   約１０であり；ｎは、１の値を有する〕で示される約２
   〜２０重量％の直鎖ポリシロキサン化合物を含む少なく
   とも１つの脂肪相を含有する、請求項１記載の化粧用光
   遮蔽組成物。
3. 【請求項３】 水相に約１〜２重量％の２−フェニルベ
   ンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩を含有し、か
   つ一般式Ｉａ〔式中、 Ｒ¹及びＲ²は、水素を表し；Ｒ³は、エチルを表し；Ｒ⁴
   は、水素を表し；ｒは、約４の統計学的平均であり；ｓ
   は、約６０の統計学的平均である〕で示される約５重量
   ％の直鎖ポリシロキサン化合物を含むことを特徴とす
   る、少なくとも１つの脂肪相を含有する、請求項２項記
   載の化粧用光遮蔽組成物。
4. 【請求項４】 該組成物が、更に普通のＵＶ−Ａフィル
   ター及び／又はＵＶ−Ｂフィルターを含有する、請求項
   １〜３のいずれか１項記載の化粧用光遮蔽組成物。