JP2001278520A - 高分子シート体の変形修正方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】種々の高分子シート体の変形を確実に修正する
とともに、前記高分子シート体の品質低下を阻止するこ
とを可能にする。 【解決手段】高分子支持体ウエブ１４を接触させてこの
高分子支持体ウエブ１４に加熱処理を施す加熱手段２４
と、前記高分子支持体ウエブ１４の品種に基づいて該高
分子支持体ウエブ１４の加熱温度および加熱時間を含む
変形修正用加熱条件を設定する加熱条件決定回路７２
と、前記高分子支持体ウエブ１４の切り口写り位置情報
およびロール径情報に基づいて、該高分子支持体ウエブ
１４の切り口写り位置を算出する切り口写り位置演算回
路８６とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ロール状に巻回さ
れた高分子シート体の変形を修正し、前記高分子シート
体を平坦化するための高分子シート体の変形修正方法お
よび装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】通常、写真感光材料等のような高分子支
持体（高分子シート体）を有する記録媒体では、取り扱
い作業の容易性等の要請から前記高分子支持体をロール
状態で取り扱う場合が多い。例えば、ロール状に巻回さ
れた高分子支持体（以下、ロール状支持体という）から
支持体ウエブを巻き戻し、前記支持体ウエブに記録層
（写真乳剤層）を塗布した後、再度、ロール状に巻回す
る作業が広く行われている。

【０００３】ところで、この種のロール状支持体には、
ロール状態での経時変形等により巻芯付近で数周にわた
って変形してしまう、所謂、切り口写りが発生し易い。
この切り口写りは、上記の記録層の塗布工程に影響を与
えており、前記記録層の塗布むらが惹起されて品質が低
下するという問題がある。このため、一般的には、加工
工程において、巻芯付近の数周部分を廃棄しており、歩
留まりが低下して経済的ではないという不具合がある。

【０００４】そこで、例えば、特開平８−１４２２０９
号公報に開示されているように、フイルムウエブを遠赤
外線ヒータと加熱ローラで加熱しつつ搬送して平坦にす
るローラ加熱工程と、該ローラ加熱工程を終了直後のフ
イルムローラを冷却ローラで冷却しつつ搬送して固化さ
せるローラ冷却工程とを連続的に通過させるとともに、
前記ローラ加熱工程の遠赤外線ヒータを幅方向に区分し
てフイルムの平面性に対応して個別に温度設定する熱可
塑性フイルムの平面性改良方法が知られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術では、フイルムの材質や厚さが変化する際や、
加減速度を含むフイルム速度が変化したり、ラインの停
止が発生したりする際に、前記フイルムの加熱条件を迅
速に変更することが困難となっている。このため、フイ
ルムに過度の加熱を与えてしまい、前記フイルムに伸び
等が発生するおそれがある。

【０００６】本発明はこの種の問題を解決するものであ
り、高分子シート体の種類や運転状況の変化等に影響さ
れることがなく、前記高分子シート体を確実に平坦化す
ることが可能な高分子シート体の変形修正方法および装
置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る高分子シー
ト体の変形修正方法および装置では、高分子シート体の
品種に基づいて、この高分子シート体の加熱温度および
加熱時間を含む変形修正用加熱条件が設定される。そし
て、高分子シート体の変形位置情報および残量情報に基
づいて、前記高分子シート体の変形位置が算出され、こ
の算出された前記変形位置が変形修正位置に至る際、設
定された前記変形修正用加熱条件に基づいて前記高分子
シート体に加熱処理が施される。

【０００８】従って、高分子シート体は、品種の変更に
影響されることがなく、その変形位置のみが所定の条件
で均一に加熱処理されるため、前記高分子シート体全体
を確実に平坦化することが可能になる。これにより、歩
留まりが向上して経済的なものになるとともに、高分子
シート体が必要以上に加熱されて伸び等が発生すること
がなく、所望の品質を確実に維持することができる。

【０００９】また、高分子シート体を周面にラップさせ
る加熱ローラを有し、算出された変形位置が前記加熱ロ
ーラに至る際、スイングローラを介して前記加熱ローラ
の周面に前記高分子シート体をラップさせるラップ角度
が制御される。このため、高分子シート体の加熱時間の
制御は、スイングローラを加熱ローラの周面に対して所
定の角度位置に配置させるだけでよく、構成および制御
が一挙に簡素化される。

【００１０】さらにまた、高分子シート体のライン速度
と設定された加熱時間とに基づいて、スイングローラに
よるラップ角度が算出される。これにより、処理速度の
変化によらず高分子シート体の変形修正用加熱条件が一
定に保持され、常に安定した高分子シート体の平坦化処
理が効率的に遂行可能になる。

【００１１】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施形態に係る
高分子シート体の変形修正装置１０を組み込む高分子支
持体加工システム１２の概略構成説明図である。

【００１２】この高分子支持体加工システム１２は、原
反、例えば、高分子支持体（高分子シート体）ウエブ１
４を巻回したロール状支持体１６が装着され、このロー
ル状支持体１６から前記高分子支持体ウエブ１４を送り
出すウエブ送り出し部１８と、前記ウエブ送り出し部１
８から前記高分子支持体ウエブ１４を所定の速度で送り
出すメインフィード用サクションドラム２０と、本実施
形態に係る変形修正装置１０とを備え、前記ウエブ送り
出し部１８と前記サクションドラム２０との間には、複
数のガイドローラ２２が配設される。

【００１３】変形修正装置１０は、加熱手段２４を構成
し誘導加熱されて高分子支持体ウエブ１４を加熱する加
熱ローラ３０を備え、図２および図３に示すように、前
記加熱ローラ３０の両端部３２ａ、３２ｂが支持台３４
ａ、３４ｂに回転自在に支持される。加熱ローラ３０の
端部３２ａには、ベルト・プーリ３６を介して第１サー
ボモータ３８の駆動軸３８ａが連結される。加熱ローラ
３０の外周には、この加熱ローラ３０の周囲に高分子支
持体ウエブ１４をラップさせるとともに、前記高分子支
持体ウエブ１４の前記加熱ローラ３０の周面に対するラ
ップ角度（ラップ時間）を変更可能なスイングローラ４
０が配置される。

【００１４】スイングローラ４０は、加熱時間および高
分子支持体ウエブ１４の搬送速度（ライン速度）に基づ
いて、前記高分子支持体ウエブ１４の加熱ローラ３０の
周面に対するラップ角度を変更させるスイングローラ駆
動手段４２を介し、前記加熱ローラ３０に対して所定の
角度位置に旋回可能に配置される。スイングローラ駆動
手段４２は第２サーボモータ４４を備え、この第２サー
ボモータ４４の駆動軸４４ａが減速機４６に連結されて
おり、この減速機４６の出力軸４８が回転軸５０に連結
されるとともに、前記回転軸５０が支持台５２ａ、５２
ｂに回転自在に支持される。

【００１５】回転軸５０の両端には、ベルト・プーリ５
４ａ、５４ｂを介して旋回板５６ａ、５６ｂが連結さ
れ、この旋回板５６ａ、５６ｂが加熱ローラ３０の両端
部３２ａ、３２ｂに回転自在に配置される。旋回板５６
ａ、５６ｂの外周部に取り付け板５８ａ、５８ｂが固着
され、この取り付け板５８ａ、５８ｂにスイングローラ
４０の両端６０ａ、６０ｂが回転自在に支持される。加
熱ローラ３０の内部には、図１に示すように、この加熱
ローラ３０の温度を検出するための温度検出センサ６２
が配置されている。

【００１６】図１に示すように、変形修正装置１０は、
高分子支持体ウエブ１４の品種情報が入力される生産情
報管理回路７０を備え、この生産情報管理回路７０から
前記品種情報が加熱条件決定回路（加熱条件決定手段）
７２に送られる。加熱条件決定回路７２は、高分子支持
体ウエブ１４の品種に基づいてこの高分子支持体ウエブ
１４の加熱温度および加熱時間を含む変形修正用加熱条
件を予め設定する機能を有する。

【００１７】スイングローラ位置制御回路（スイングロ
ーラ位置制御手段）８４には、ウエブ送り出し部１８に
配置されているロール状支持体１６から繰り出される高
分子支持体ウエブ１４の搬送速度（ライン速度）を検出
するライン速度検出回路７４が接続される。ライン速度
検出回路７４には、例えば、ロータリエンコーダ７６が
接続され、このロータリエンコーダ７６が高分子支持体
ウエブ１４に摺接して回転するガイドローラ２２の回転
軸（図示せず）に軸着されている。

【００１８】加熱条件決定回路７２は、生産情報管理回
路７０から送られる品種情報に基づいて加熱ローラ３０
の加熱温度を制御する加熱温度制御回路（加熱温度制御
手段）７８と、高分子支持体ウエブ１４を加熱ローラ３
０の周面にラップさせるラップ時間（加熱時間）を制御
する加熱時間制御回路（加熱時間制御手段）８２とを備
える。加熱条件決定回路７２は、予め設定された加熱温
度情報を加熱ローラ３０に送るとともに、温度検出セン
サ６２により検出されるこの加熱ローラ３０の温度に基
づいて前記加熱ローラ３０のフィードバック制御を行
う。

【００１９】加熱条件決定回路７２には、スイングロー
ラ位置制御回路８４が接続され、このスイングローラ位
置制御回路８４に加熱時間情報が送られる。スイングロ
ーラ位置制御回路８４には、切り口写り位置演算回路
（変形位置演算手段）８６からスイングローラ動作指令
が入力される。この切り口写り位置演算回路８６には、
生産情報管理回路７０からロール状支持体１６の切り口
写り位置情報が送られるとともに、ロール径検出回路８
８からロール径情報が送られる。このロール径検出回路
８８は、ロール状支持体１６の外周側に配置され、前記
ロール状支持体１６のロール径を検出するためのセン
サ、例えば、距離センサ９０に接続される。

【００２０】切り口写り位置演算回路８６は、ロール状
支持体１６の切り口写り位置情報（変位位置情報）およ
びロール径情報（残量情報）に基づいて、前記ロール状
支持体１６の切り口写り位置（変形位置）を算出し、高
分子支持体ウエブ１４の切り口写り位置が加熱ローラ３
０に至るタイミングで、スイングローラ位置制御回路８
４にスイングローラ動作指令を送る。このスイングロー
ラ位置制御回路８４は、第２サーボモータ４４を駆動制
御してスイングローラ４０の角度位置を制御する。

【００２１】このように構成される変形修正装置１０の
動作について、これを組み込む高分子支持体加工システ
ム１２との関連で、図４乃至図６に示すフローチャート
を参照しながら以下に説明する。

【００２２】まず、加熱条件決定回路７２には、ロール
状支持体１６の品種（材質や厚さ等）に基づいて、品種
−加熱条件の対応情報が予め登録されている。そこで、
ロール状支持体１６の品種情報が、生産情報管理回路７
０から加熱条件決定回路７２に送られる（ステップＳ
１）。加熱条件決定回路７２では、送られてきた品種情
報からロール状支持体１６の品種が変更されているか否
かを判断し（ステップＳ２）、異なる品種のロール状支
持体１６であると判断すると（ステップＳ２中、ＹＥ
Ｓ）、ステップ３に進んで前記ロール状支持体１６の品
種に対応した加熱ローラ３０の加熱温度が決定される。

【００２３】この加熱温度情報が加熱ローラ３０に送ら
れ、前記加熱ローラ３０の加熱処理が行われる（ステッ
プＳ４）。加熱ローラ３０の加熱温度は、温度検出セン
サ６２を介して検出されており、加熱温度制御回路７８
は、この温度検出センサ６２からの検出信号に基づいて
フィードバック制御を行い、前記加熱ローラ３０を所定
の設定温度に加熱する（ステップＳ５）。

【００２４】加熱ローラ３０が設定温度に至ると（ステ
ップＳ５中、ＹＥＳ）、ステップＳ６に進んで高分子支
持体ウエブ１４の加熱時間が決定されるとともに、その
加熱時間情報が加熱時間制御回路８２からスイングロー
ラ位置制御回路８４に送られる（ステップＳ７）。一
方、生産情報管理回路７０から切り口写り位置演算回路
８６に切り口写り位置情報が送信される（ステップＳ
８）。

【００２５】図５に示すように、切り口写り位置演算回
路８６では、切り口写り位置情報が受信されるとともに
（ステップＳ１１）、ロール径検出回路８８からロール
状支持体１６のロール径（残量）情報が送られる（ステ
ップＳ１２）。切り口写り位置演算回路８６は、切り口
写り位置情報およびロール径情報に基づいて、ロール状
支持体１６の切り口写り位置、すなわち、加熱ローラ３
０上での切り口写り部位到達タイミングが算出される
（ステップ１３）。そして、加熱ローラ３０上に高分子
支持体ウエブ１４の変形部位である切り口写り部位が至
る際（ステップＳ１４中、ＹＥＳ）、ステップ１５に進
んでスイングローラ位置制御回路８４にスイングローラ
動作指令が送信される。

【００２６】図６に示すように、スイングローラ位置制
御回路８４では、加熱条件決定回路７２から加熱時間情
報が受信されるとともに（ステップＳ２１）、切り口写
り位置演算回路８６からスイングローラ動作指令が受信
されると（ステップＳ２２）、ステップＳ２３に進ん
で、ライン速度検出回路７４からライン速度情報が入力
される。次に、このライン速度と予め受信済の加熱時間
情報とに基づいて、加熱ローラ３０への高分子支持体ウ
エブ１４のラップ角度（ラップ量）が演算され（ステッ
プＳ２４）、第２サーボモータ４４にモータ動作指令が
送信される（ステップＳ２５）。

【００２７】加熱ローラ３０では、サクションドラム２
０の回転に同期して第１サーボモータ３８が駆動されて
おり、図２および図３に示すように、第２サーボモータ
４４が駆動されると、駆動軸４４ａ、減速機４６および
出力軸４８を介して回転軸５０が回転される。この回転
軸５０には、ベルト・プーリ５４ａ、５４ｂを介して旋
回板５６ａ、５６ｂが連結されており、前記回転軸５０
の回転作用下に前記旋回板５６ａ、５６ｂに支持された
スイングローラ４０が、加熱ローラ３０の外周に対して
所定の角度位置に配置される（図１中、位置Ｐ２および
位置Ｐ３参照）。

【００２８】このため、スイングローラ４０の外周に保
持されている高分子支持体ウエブ１４は、切り口写り部
位が加熱ローラ３０の周面に所定のラップ角度でラップ
される。さらに、上記の作業がウエブ送り出し部１８か
ら送り出される高分子支持体ウエブ１４の全長にわたっ
て行われ、前記高分子支持体ウエブ１４の変形修正処理
が遂行される（図４中、ステップＳ９）。

【００２９】この場合、本実施形態では、ロール状支持
体１６の品種情報に基づいて加熱ローラ３０の加熱温度
および加熱時間を含む変形修正用加熱条件が設定され
る。次いで、切り口写り位置演算回路８６で演算された
切り口写り位置、すなわち、切り口写り到達タイミング
によって、スイングローラ位置制御回路８４が駆動さ
れ、高分子支持体ウエブ１４に変形修正処理が施されて
いる。

【００３０】従って、高分子支持体ウエブ１４の材質や
厚さが異なる際にも、この高分子支持体ウエブ１４に発
生している切り口写り位置を確実に検出すことができ
る。このため、切り口写り部位のみを所望の条件で均一
に加熱して、高分子支持体ウエブ１４全体を容易かつ確
実に平坦化することが可能になるという効果が得られ
る。

【００３１】しかも、巻き芯近傍の数周部分を廃棄する
必要がなく、歩留まりが有効に向上して経済的なものと
なるとともに、高分子支持体ウエブ１４が過度に加熱さ
れることが阻止されるため、伸び等が惹起することがな
い。その上、高分子支持体ウエブ１４に記録層を塗布す
る際に、切り口写りによる塗布むらが発生することがな
く、高品質な記録媒体を効率的に得ることができるとい
う利点がある。

【００３２】さらにまた、本実施形態では、スイングロ
ーラ位置制御回路８４が、高分子支持体ウエブ１４のラ
イン速度情報と予め設定されている加熱時間情報とに基
づいて第２サーボモータ４４を駆動制御するようにして
いる。このため、ライン速度の変化やライン停止等に対
応して、高分子支持体ウエブ１４の加熱条件を迅速に変
更することが可能になり、前記高分子支持体ウエブ１４
を過度に加熱させる等の不具合を阻止して該高分子支持
体ウエブ１４の品質低下を惹起することがない。

【００３３】さらに、ロール状支持体１６の品種に応じ
てスイングローラ４０の角度位置を制御するだけでよ
く、変形修正装置１０の運転状況に影響されることがな
く、高分子支持体ウエブ１４に対する加熱時間を高応答
でかつ高精度に制御することが可能になり、前記高分子
支持体ウエブ１４の変形修正処理が確実に遂行されると
いう利点が得られる。その際、スイングローラ４０の揺
動軸が加熱ローラ３０の回転軸と同軸に設定されてい
る。これにより、スイングローラ４０の角度位置制御が
一挙に簡素化するという利点がある。

【００３４】しかも、応答性や精度の面で制御が困難で
ある加熱ローラ３０の加熱温度を一定温度に維持してい
る。このため、変形修正装置１０全体の制御が容易かつ
効率的に遂行されるとともに、前記変形修正装置１０の
構成が簡素化し、経済的であるという効果がある。

【００３５】なお、本実施形態では、ロール状支持体１
６の残量を検出するために、距離センサ９０を介してこ
のロール状支持体１６のロール径を検出しているが、前
記ロール状支持体１６の回転速度の変化等から該ロール
状支持体１６の残量を検出することができる。また、本
実施形態では、ロール状支持体１６を用いて説明した
が、これに限定されるものではなく、種々の高分子シー
ト体に適応することが可能である。

【００３６】

【発明の効果】本発明に係る記録媒体の変形修正方法お
よび装置では、高分子シート体の変形位置情報および残
量情報に基づいてこのシート体の変形位置が算出され、
算出された前記変形位置が変形修正位置に至る際、予め
設定された変形修正用加熱条件に基づいて前記高分子シ
ート体に加熱処理が施される。このため、高分子シート
体の変形位置を確実に検出し、この変形位置に対して所
望の加熱処理が円滑に施され、該高分子シート体全体を
平坦化することができる。これにより、高分子シート体
の変形部分を廃棄する必要がなく、歩留まりを有効に向
上させるとともに、種々の高分子シート体に対して最適
な加熱条件による処理が施され、伸び等の品質低下を確
実に阻止することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る変形修正装置を組み込
む高分子支持体加工システムの概略構成説明図である。

【図２】前記変形修正装置を構成する加熱ローラおよび
スイングローラの斜視説明図である。

【図３】前記加熱ローラおよび前記スイングローラの側
面説明図である。

【図４】本発明に係る変形修正方法を説明するフローチ
ャートである。

【図５】前記変形修正方法において、切り口写り位置演
算回路の動作を説明するフローチャートである。

【図６】前記変形修正方法において、スイングローラ位
置制御回路の動作を説明するフローチャートである。

【符号の説明】

１０…変形修正装置 １２…高分子支持体加
工システム １４…高分子支持体ウエブ １６…ロール状支持体 １８…ウエブ送り出し部 ２０…サクションドラ
ム ２４…加熱手段 ３０…加熱ローラ ４０…スイングローラ ４２…スイングローラ
駆動手段 ７０…生産情報管理回路 ７２…加熱条件決定回
路 ７４…ライン速度検出回路 ７８…加熱温度制御回
路 ８２…加熱時間制御回路 ８４…スイングローラ
位置制御回路 ８６…切り口写り位置演算回路 ８８…ロール径検出回
路

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ロール状に巻回された高分子シート体の変
   形を修正し、前記高分子シート体を平坦化するための高
   分子シート体の変形修正方法であって、 前記高分子シート体の品種に基づいて、該高分子シート
   体の加熱温度および加熱時間を含む変形修正用加熱条件
   を設定する工程と、 前記高分子シート体の変形位置情報および残量情報に基
   づいて、該高分子シート体の変形位置を算出する工程
   と、 算出された前記変形位置が変形修正位置に至る際、前記
   変形修正用加熱条件に基づいて前記高分子シート体に加
   熱処理を施す工程と、 を有することを特徴とする高分子シート体の変形修正方
   法。
2. 【請求項２】請求項１記載の変形修正方法において、前
   記高分子シート体を周面にラップさせる加熱ローラを有
   し、 算出された前記変形位置が前記加熱ローラに至る際、ス
   イングローラを介して前記加熱ローラの周面に前記高分
   子シート体をラップさせるラップ角度を制御することを
   特徴とする高分子シート体の変形修正方法。
3. 【請求項３】請求項２記載の変形修正方法において、前
   記高分子シート体のライン速度と前記設定された加熱時
   間とに基づいて、前記スイングローラによるラップ角度
   を算出することを特徴とする高分子シート体の変形修正
   方法。
4. 【請求項４】ロール状に巻回された高分子シート体の変
   形を修正し、前記高分子シート体を平坦化するための高
   分子シート体の変形修正装置であって、 前記高分子シート体を接触させて該高分子シート体に加
   熱処理を施す加熱手段と、 前記高分子シート体の品種に基づいて、該高分子シート
   体の加熱温度および加熱時間を含む変形修正用加熱条件
   を設定する加熱条件決定手段と、 前記高分子シート体の変形位置情報および残量情報に基
   づいて、該高分子シート体の変形位置を算出する変形位
   置演算手段と、 を備えることを特徴とする高分子シート体の変形修正装
   置。
5. 【請求項５】請求項４記載の変形修正装置において、前
   記加熱手段は、前記高分子シート体を周面にラップさせ
   る加熱ローラと、 前記加熱ローラの周面に前記高分子シート体をラップさ
   せるスイングローラと、 算出された前記変形位置が前記加熱ローラに至る際、前
   記スイングローラによる前記高分子シート体の前記加熱
   ローラの周面に対するラップ角度を変更させるスイング
   ローラ駆動手段と、 を備えることを特徴とする高分子シート体の変形修正装
   置。
6. 【請求項６】請求項５記載の変形修正装置において、前
   記高分子シート体のライン速度と前記設定された加熱時
   間とに基づいて、前記スイングローラによるラップ角度
   を算出するスイングローラ位置制御手段を備えることを
   特徴とする高分子シート体の変形修正装置。