JP2001255476A

JP2001255476A - レーザ描画装置

Info

Publication number: JP2001255476A
Application number: JP2000068432A
Authority: JP
Inventors: Masaki Yoshioka; 正喜吉岡; Akira Kuwabara; 章桑原
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2000-03-13
Filing date: 2000-03-13
Publication date: 2001-09-21

Abstract

(57)【要約】【課題】描画信号を広い範囲にわたってしかも高精度
に遅延する構成を簡単な構成で実現でき高精度に描画可
能なレーザ描画装置を提供する。【解決手段】走査開始信号に同期させた描画クロック
で読み出されるラスターデータから生成される描画信号
に基づいてレーザビームを音響光学変調器５３で変調
し、この変調されたレーザビームを主走査方向に偏向さ
せて描画ステージ上の基板Ｓに照射させるとともに、描
画ステージを副走査方向に移動させてパターンを描画す
るレーザ描画装置において、走査開始信号ａを微小単位
補正データに応じて描画クロック単位以下の分解能で遅
延する微小ディレイ回路１３１と、この微小遅延した走
査開始信号ｃに同期させた同期クロック信号ｅから生成
する描画クロック信号ｆの出力開始をドット単位の補正
データに応じて描画クロック単位で遅延する描画クロッ
クドットディレイ回路１３３とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線基板
などの処理対象物に対してレーザビームを照射して所望
のパターンを描画するレーザ描画装置に係り、特に、高
精度に所定の位置に描画を行うための描画開始タイミン
グ制御に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のレーザ描画装置としては、例え
ば、特開平10-62702号公報に示すようなものがある。こ
の装置は、感光材料が被着されたプリント配線基板を載
置するテーブルと、描画用のレーザビームを主走査方向
に偏向させるポリゴンミラーやｆθレンズなどを含む結
像光学系と、テーブルを副走査方向に移動させる移動機
構と、テーブルに載置されたプリント配線基板が基準位
置からどれだけずれて載置されているかを主走査方向お
よび副走査方向それぞれについて算出する位置読み取り
部とを備えている。

【０００３】プリント配線基板の副走査方向のずれは、
テーブルの移動制御により補正している。具体的には、
位置読み取り部で検出したプリント配線基板の副走査方
向のずれ量に応じて、移動機構によるテーブルの移動量
を調節し、副走査方向における描画開始位置を補正して
いる。

【０００４】また、主走査方向におけるプリント配線基
板とテーブルとの位置ずれは、ラスターデータ（描画デ
ータ）の描き出しのタイミングを変更することにより補
正している。具体的には、この装置は、主走査方向の位
置ずれを補正するために、ＣＰＵ（中央演算処理装置）
からの指示に従ってラスターデータを画素単位にシフト
して記憶し主走査方向の位置ずれを画素単位で補正する
バッファメモリと、描画クロック信号が入力されるとこ
の入力信号を基準として描画クロック信号の一周期より
短い所定時間（例えば、１０ｎｓｅｃ）ずつ順次遅延し
た複数のクロック信号を出力するディレイラインと、こ
のように位相が順次シフトされた複数のクロック信号の
うちでＣＰＵから指示された所望の遅延量のクロック信
号を出力するマルチプレクサと、バッファメモリとマル
チプレクサとに位置読み取り部で検出したプリント配線
基板の主走査方向の位置ずれ量に応じた指示を与えるＣ
ＰＵとを備えている。

【０００５】バッファメモリは、ＣＰＵからの指示に応
じてラスターデータを画素単位にシフトして記憶してお
り、主走査方向の位置ずれを画素単位に補正している。
また、マルチプレクサは、前述の複数のクロック信号の
中から所望の遅延量のクロック信号をＣＰＵからの指示
に従って選択し、この選択したクロック信号を描画クロ
ック信号として用いるよう出力している。このようにラ
スターデータの描き出しのタイミングを変更し、主走査
方向における描画開始位置を補正している。このように
して、プリント配線基板のテーブルに対する載置ずれ量
を補正し、近年におけるプリント配線基板のパターン微
細化に対応することができるようにしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。プリント配線基板の主走査方向の載置ずれを調整
するに際して、画素単位の調整は、ラスターデータ（描
画データ）をシフトさせてバッファメモリに書き込むこ
とにより行い、１画素以下の単位での調整は、所定時間
ずつ順次に位相シフト（遅延）させた複数種類のクロッ
ク信号を生成しこの中から所望の遅延量であるクロック
信号を１つ選択して出力することにより行っているの
で、位相シフト（遅延）させた複数種類のクロック信号
が必要になるという問題がある。また、さらに高精度化
を図ろうとすると、遅延量をより細かく設定したクロッ
ク信号がさらに複数種類必要になるという問題がある。
また、１走査内において複数本のレーザビームで同時に
描画するマルチビーム描画に、この従来例の装置を使用
する場合を考えてみると、バッファメモリやディレイラ
インやマルチプレクサなどを制御する制御回路が複雑に
なり、実現コストが高くなるという問題がある。

【０００７】またここで、前述とは別の構成の従来例に
ついて説明する。この装置として、例えば、特開平8-11
4760号公報に示すようなものがある。この装置は、主走
査方向への走査開始を示す走査開始信号が入力されると
ランプ電圧を生成するランプ電圧生成手段と、位置補正
データに応じて定電圧を生成する定電圧生成手段と、ラ
ンプ電圧が定電圧に達したかどうかを比較する電圧比較
手段とで構成される遅延時間生成手段を備えている。こ
の装置では、遅延時間生成手段で走査開始信号を位置補
正データに応じて遅延させ、この遅延させた走査開始信
号に同期させて書き込みタイミング信号（クロック信
号）を生成し、この書き込みタイミング信号を用いてレ
ーザ描画することで、レーザビームの主走査方向のずれ
を補正している。しかし、遅延時間生成手段において、
走査開始信号を位置補正データに応じて遅延する処理を
一括して行っているので、２０画素程度までなら精度良
く遅延を実現できるが、これ以上大きく遅延させる場合
には、分解能・精度が悪くなるという問題がある。即
ち、遅延させようとする量が大きくなるにしたがって、
分解能・精度が低下してしまうという問題がある。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、描画クロックを広い範囲にわたってし
かも高精度に遅延する構成を簡単に実現でき高精度に描
画可能なレーザ描画装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載のレーザ描画装置は、走査開始信号
に応答して発生する描画クロックで読み出されるラスタ
ーデータに基づいて生成される描画信号によりレーザビ
ームを変調し、この変調されたレーザビームを偏向手段
で主走査方向に偏向させて載置台上の処理対象物に照射
させるとともに、副走査方向にレーザビームと載置台と
を移動手段で相対的に移動させることにより所望のパタ
ーンを前記処理対象物に描画するレーザ描画装置におい
て、前記走査開始信号を微小単位補正データに応じて描
画クロック単位以下の分解能で遅延する微小遅延手段
と、前記描画クロックの発生開始をドット単位補正デー
タに応じて描画クロック単位で遅延するドット遅延手段
とを備えていることを特徴とするものである。

【００１０】また、請求項２に記載のレーザ描画装置
は、請求項１に記載のレーザ描画装置において、前記ド
ット遅延手段と前記微小遅延手段とを、同時走査描画す
る複数本のレーザビームごとに備えていることを特徴と
するものである。

【００１１】また、請求項３に記載のレーザ描画装置
は、請求項１に記載のレーザ描画装置において、前記載
置台上に載置された処理対象物の主走査方向に対する位
置ずれを検出する位置ずれ検出手段と、この検出した位
置ずれに応じて前記ドット遅延手段と前記微小遅延手段
との遅延量を制御する制御手段とを備えていることを特
徴とするものである。

【００１２】また、請求項４に記載のレーザ描画装置
は、請求項１に記載のレーザ描画装置において、前記載
置台上に載置された処理対象物の副走査方向に対する傾
きを検出する傾斜検出手段と、この検出した傾きに応じ
てレーザビームの走査ラインの傾きを調整するビーム傾
斜調整手段と、この検出した傾きに応じて前記ドット遅
延手段と前記微小遅延手段との遅延量を制御する制御手
段とを備えていることを特徴とするものである。

【００１３】また、請求項５に記載のレーザ描画装置
は、請求項１に記載のレーザ描画装置において、副走査
方向にレーザビームと載置台とを相対的に移動させる際
の主走査方向の揺らぎを予め検出しておく揺らぎ検出手
段と、この検出しておいた揺らぎに応じて前記ドット遅
延手段と前記微小遅延手段との遅延量を制御する制御手
段とを備えていることを特徴とするものである。

【００１４】また、請求項６に記載のレーザ描画装置
は、請求項１に記載のレーザ描画装置において、前記載
置台上に載置された処理対象物の副走査方向に対する傾
きを検出する傾斜検出手段と、この検出した傾きに応じ
てレーザビームの走査ラインの傾きを調整するビーム傾
斜調整手段と、副走査方向にレーザビームと載置台とを
相対的に移動させる際の主走査方向の揺らぎを予め検出
しておく揺らぎ検出手段と、この検出しておいた傾きと
揺らぎに応じて前記ドット遅延手段と前記微小遅延手段
との遅延量を制御する制御手段とを備えていることを特
徴とするものである。

【００１５】また、請求項７に記載のレーザ描画装置
は、請求項４または６に記載のレーザ描画装置におい
て、前記ビーム傾斜調整手段は、長手方向が主走査方向
に沿って配置されたシリンドリカルレンズと、前記シリ
ンドリカルレンズの両端部に配設され、それぞれ独立し
て副走査方向に前記シリンドリカルレンズを移動する駆
動手段とを備えていることを特徴とするものである。

【００１６】また、請求項８に記載のレーザ描画装置
は、請求項１に記載のレーザ描画装置において、前記走
査開始信号の検出から、レーザビームが描画基準位置に
照射したことを示す描画基準位置信号の検出までの時間
差を計測する計測部と、今回の時間差と前回の時間差と
の差に応じて前記走査開始信号の遅延量を再設定する調
整手段とを備えていることを特徴とするものである。

【００１７】

【作用】請求項１に記載の装置発明の作用は次のとおり
である。微小遅延手段は、走査開始信号を描画クロック
単位以下の分解能で微小遅延する。ドット遅延手段は、
描画クロックの発生開始をクロック単位で遅延する。そ
の結果、描画クロックを広い範囲にわたってしかも高精
度に遅延させることができ、描画信号を高精度に遅延す
ることにより描画開始位置が高精度に補正される。

【００１８】また、請求項２に記載の装置発明によれ
ば、ドット遅延手段と微小遅延手段とは、同時走査描画
する複数本のレーザビームごとに備えられている。した
がって、複数本のレーザビームを用いるマルチビーム描
画において、各チャンネルにおける描画クロックおよび
描画信号を高精度に遅延することができ、各レーザビー
ムの描画開始位置が高精度に補正される。

【００１９】また、請求項３に記載の装置発明によれ
ば、位置ずれ検出手段は、載置台上に載置された処理対
象物の主走査方向に対する位置ずれを検出し、制御手段
は、この検出した位置ずれに応じてドット遅延手段と微
小遅延手段との遅延量を制御する。その結果、処理対象
物が主走査方向にずれて載置台に載置されている場合で
あっても、処理対象物の所定位置から描画が開始される
よう補正される。

【００２０】また、請求項４に記載の装置発明によれ
ば、傾斜検出手段は、載置台上に載置された処理対象物
の副走査方向に対する傾きを検出し、ビーム傾斜調整手
段は、この検出した傾きに応じてレーザビームの走査ラ
インの傾きを調整し、制御手段は、この検出した傾きに
応じてドット遅延手段と微小遅延手段との遅延量を制御
する。その結果、処理対象物が副走査方向に対して傾い
て載置台上に載置されている場合であっても、良好な直
交度で描画するように傾き補正される。

【００２１】また、請求項５に記載の装置発明によれ
ば、揺らぎ検出手段は、副走査方向にレーザビームと載
置台とを相対的に移動させる際の主走査方向の揺らぎを
予め検出し、制御手段は、この検出しておいた揺らぎに
応じてドット遅延手段と微小遅延手段との遅延量を制御
する。その結果、副走査方向にレーザビームと載置台と
を相対的に移動させる際の主走査方向の揺らぎがある場
合であっても、良好な真直度で描画するように揺らぎ補
正される。

【００２２】また、請求項６に記載の装置発明によれ
ば、前述の請求項４に記載の傾斜検出手段とビーム傾斜
調整手段と、前述の請求項５に記載の揺らぎ検出手段と
を備えており、制御手段は、前記傾斜検出手段で検出済
みの傾きと、前記揺らぎ検出手段で検出済みの揺らぎと
に応じて、ドット遅延手段と微小遅延手段との遅延量を
制御する。その結果、処理対象物が副走査方向に対して
傾いて載置台上に載置され、副走査方向にレーザビーム
と載置台とを相対的に移動させる際の主走査方向の揺ら
ぎがある場合であっても、良好な直交度で、かつ良好な
真直度で描画するように傾き補正および揺らぎ補正され
る。

【００２３】また、請求項７に記載の装置発明によれ
ば、長手方向が主走査方向に沿って配置されたシリンド
リカルレンズの両端部に配備した駆動手段をそれぞれ独
立して駆動することにより、このレンズの両端部を独立
して副走査方向に移動させることができるので、レーザ
ビームの走査ラインの傾きを調整することができる。

【００２４】また、請求項８に記載の装置発明によれ
ば、計測部は、走査開始信号の検出から描画基準位置信
号の検出までの時間差を計測し、調整手段は、今回の時
間差と前回の時間差との差に応じて走査開始信号の遅延
量を再設定する。走査開始信号を検出する検出系などに
位置ずれが生じることにより、走査開始信号の検出から
描画基準位置信号の検出までの時間差が前回と比べて変
化してしまった場合でも、現状の時間差に応じて遅延量
を再設定することができ、現状に応じた校正を実現する
ことができる。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照しながら説明する。本発明に係るレーザ描画装置の一
例であるプリント配線基板製造装置は、以下に示すよう
な第１〜第５補正機能を備えている。（１）第１補正機能は、マルチビーム描画で用いる各ビ
ーム間隔を補正する機能である。（第１補正例）（２）第２補正機能は、スタートセンサ光学系の位置ず
れを補正する機能である。（第２補正例）（３）第３補正機能は、プリント配線基板のアライメン
トずれを補正する機能である。（第３補正例）（４）第４補正機能は、載置されたプリント配線基板の
副走査方向に対する傾きを補正する機能である。（第４
補正例）（５）第５補正機能は、副走査方向にレーザビームと載
置台とを相対的に移動させる際の主走査方向の揺らぎを
補正する機能である。（第５補正例）このような第１〜第５補正機能を備えたプリント配線基
板製造装置は、以下の通りに構成されている。

【００２６】図１は、本発明に係るレーザ描画装置の一
例であるプリント配線基板製造装置の概略構成を示す斜
視図であり、図２はその平面図、図３はその側面図であ
る。また、図４は位置補正機構の概略構成を示す側面図
であり、図５はその側面図であり、図６はその正面図で
ある。

【００２７】本実施例に係るプリント配線基板製造装置
は、図１に示すように、大きく分けて、感光材料が被着
されたプリント配線基板（処理対象物）Ｓを載置する描
画ステージ５と、描画用のレーザビームＬＢを主走査方
向（ｘ方向）に偏向させるポリゴンミラー６７やｆθレ
ンズ６８などを含む結像光学系２１と、描画ステージ５
を副走査方向（ｙ方向）に移動させる移動機構と、ＣＡ
Ｄ（Computer Aided Design ）を使って設計されたプリ
ント配線基板のアートワークデータを処理するデータ処
理部１０１と、データ処理部１０１からのデータに基づ
いて描画制御する描画制御部１０２とで構成されてい
る。

【００２８】描画ステージ５の移動機構は以下のように
構成されている。この装置の基台１の上面には、一対の
ガイドレール３が配設されており、それらのガイドレー
ル３の間には、サーボモータ７によって回転される送り
ネジ９が配備されている。この送りネジ９には、描画ス
テージ５がその下部で螺合されている。図３に示すよう
に、描画ステージ５は、送りネジ９が螺合され、ガイド
レール３に沿って摺動自在に取り付けられたステージ基
台１０と、鉛直のｚ軸周りに回転させるための回転機構
１１と、鉛直のｚ方向に昇降させるための昇降機構１３
とを下から順に備え、最上部にプリント配線基板Ｓを吸
着載置するための載置テーブル１５を備えている。

【００２９】なお、上述したガイドレール３と、サーボ
モータ７と、送りネジ９とで構成される移動機構が本発
明における移動手段に相当する。

【００３０】描画ステージ５がサーボモータ７の駆動に
より移動されるｙ方向（副走査方向）には、処理位置Ｐ
Ｙにて描画用のレーザビームＬＢをｘ方向（主走査方
向）に偏向しながら下方に向けて照射する結像光学系２
１が配設されている。この結像光学系２１は門型状のフ
レームによって基台１の上部に配設されており、サーボ
モータ７が駆動されると描画ステージ５が結像光学系２
１に対して進退するようになっている。

【００３１】基台１には、図３に示すように待機位置に
ある描画ステージ５の上方を覆うようにアライメントス
コープユニット３１が配設されている。このアライメン
トスコープユニット３１は、水平面内でそれぞれ独立に
移動可能な４台のアライメントスコープ３３，３５，３
７，３９を備えている。各アライメントスコープ３３，
３５，３７，３９は、ＣＣＤ（charge coupled device
）カメラ３３ａ，３５ａ，３７ａ，３９ａとレンズ部
３３ｂ，３５ｂ，３７ｂ，３９ｂとを備えている。これ
らのアライメントスコープ３３，３５，３７，３９は、
描画ステージ５に載置されたプリント配線基板Ｓの四隅
に形成されている位置合わせ穴（アライメントマーク）
Ａの位置を計測して、描画ステージ５に載置されたプリ
ント配線基板Ｓの位置ずれ量を求めてその「ずれ」を補
正するために利用される。

【００３２】次に、結像光学系２１について説明する。
レーザ光源４１は、例えば、半導体を励起光源とした波
長５３２μｍの固体レーザである。このレーザ光源４１
から射出されたレーザビームＬＢａは、コーナーミラー
４３によって方向をほぼ９０°変えられ、ビームエキス
パンダー４５に入射される。このビームエキスパンダー
４５によって所定のビーム径に調整されたレーザビーム
ＬＢａは、ビームスプリッタ４７によって例えば８本の
レーザビームＬＢｂに分割される（図１中では省略して
ある）。８本に分割されたレーザビームＬＢｂは、集光
レンズ４９およびコーナーミラー５１によって各々、音
響光学変調器（acousto optical modulator ：ＡＯＭ）
５３に対して平行に入射されるとともに、音響光学変調
器５３内の結晶中で結像し、後述する描画制御部１０２
からの制御信号により各々が独立して描画信号に基づき
変調されるようになっている。

【００３３】音響光学変調器５３で変調されたレーザビ
ームＬＢｃは、コーナーミラー５５で反射されてリレー
レンズ系５７に入射される。リレーレンズ系５７から射
出されたレーザビームＬＢｃは、シリンドリカルレンズ
５９と、コーナーミラー６１と、球面レンズ６３と、コ
ーナーミラー６５とを介してポリゴンミラー６７に導か
れる。そして、ポリゴンミラー６７の各面上で主走査方
向（ｘ方向）に長い線状のスポットを形成する。

【００３４】本発明の偏向手段に相当するポリゴンミラ
ー６７の回転によって水平面内で偏向走査された線状の
レーザビームＬＢｃは、ｆθレンズ６８を通った後、主
走査方向に長尺の折り返しミラー６９で下方に向けて折
り返される。そして、露光面への入射角がほぼ垂直にな
るようにフィールドレンズ７１で補正された後、シリン
ドリカルレンズ７３を通して載置テーブル１５に向けて
照射されるようになっている。シリンドリカルレンズ７
３は、主走査方向に長尺であり、副走査方向にのみパワ
ーを有している。

【００３５】上述したポリゴンミラー６７上の線状スポ
ットは、ｆθレンズ６８と、フィールドレンズ７１と、
シリンドリカルレンズ７３との作用によって、載置テー
ブル１５上で所定径のスポットを形成して結像し、ポリ
ゴンミラー６７が回転することにより主走査方向（ｘ方
向）に移動するレーザビームＬＢ（最大８本のレーザビ
ームからなる）を形成する。

【００３６】なお、ポリゴンミラー６７のミラー面と結
像面とは、ｆθレンズ６８，フィールドレンズ７１およ
びシリンドリカルレンズ７３により、副走査方向におい
て光学的に共役な位置関係となっており、ポリゴンミラ
ー６７の各ミラー面の加工誤差などに起因してミラー面
が鉛直軸から傾く面倒れによるレーザビームの走査位置
ずれを補正している。

【００３７】また、上述したフィールドレンズ７１とシ
リンドリカルレンズ７３との間には、図６に示すように
スタートセンサ７５へレーザビームを導くためのミラー
７７が配設されている。より具体的に説明すると、ミラ
ー７７は、フィールドレンズ７１を保持しているフィー
ルドレンズホルダー７１ａの下部から懸垂した状態で取
り付けられており、フィールドレンズ７１を通過したレ
ーザビームをスタートセンサ７５が配設されている斜め
上方に向けて導くように構成されている。

【００３８】ここでこのスタートセンサ７５について図
７を用いて説明する。図７（ａ）はスタートセンサの構
成を示す斜視図であり、図７（ｂ）はこのスタートセン
サでの検出波形を示す図である。スタートセンサ７５の
受光面７５ａには、図７（ａ）に示すように、レーザビ
ームを受光する２つのセンサ部７６ａ，７６ｂと、これ
らのセンサ部７６ａ，７６ｂに挟まれた遮光部７６ｃと
が形成されている。センサ部７６ａ，７６ｂのレーザビ
ームが通過するｘ方向の幅は、例えば、レーザビームの
スポット径（２０μｍ）より大きく形成されており、遮
光部７６ｃのｘ方向の幅は、例えば、５μｍに形成され
ている。レーザビームはセンサ部７６ａから遮光部７６
ｃを経てセンサ部７６ｂの順に入射される。このときの
各センサ部７６ａ，７６ｂは、図７（ｂ）に示すような
電圧波形を出力する。スタートセンサ７５は、この電圧
波形のクロスポイントＰｃを検出して走査開始信号ａを
生成している。このようにすることで、レーザビームの
光量変動などの影響を受けにくくすることができ、高精
度で安定して走査開始信号ａを生成することができる。
スタートセンサ７５から出力される走査開始信号ａは、
後述する描画制御部１０２に与えられて、その時点から
所定時間後に描画が開始されるようになっている。

【００３９】シリンドリカルレンズ７３は、その円柱面
が上向きの状態でシリンドリカルレンズホルダー７３ａ
に取り付けられ、このシリンドリカルレンズホルダー７
３ａが平面視コの字状のシリンドリカルレンズプレート
７３ｂに嵌め込まれ、その両端部でシリンドリカルレン
ズプレート７３ｂに対して取り付けられている（図
５）。ベースプレート７９には、シリンドリカルレンズ
プレート７３ｂを副走査方向に移動させるための位置補
正機構８１が、シリンドリカルレンズプレート７３ｂの
両端部に配備されている。

【００４０】位置補正機構８１について説明する。ベー
スプレート７９にはガイドレール８３が配備されてお
り、これには移動台８５が副走査方向に摺動自在に取り
付けられている。また、ガイドレール８３の延長上には
ステッピングモータ８７が配設されており、ステッピン
グモータ８７を駆動することにより移動台８５がガイド
レール８３上を摺動してベースプレート７９に対して副
走査方向に移動するようになっている（図５中に二点鎖
線で示す）。

【００４１】ところで、ベースプレート７９の両端部に
配設された位置補正機構８１を独立して異なる駆動量で
作動させた場合、特に互いに逆方向に駆動した場合に
は、シリンドリカルレンズプレート７３ｂの両端部が平
面視で弧を描くように移動することになるが、実質的に
必要な移動量が僅かな距離（最大でも基準位置から±
０．５ｍｍ程度）であるので移動時に弧を描いたとして
もガイドレール８３と移動台８５との間の「ギャップ」
で吸収できるようになっている。なお、ギャップで吸収
するのではなく、積極的に吸収するための機構を両端部
付近に配備するようにしてもよい。

【００４２】なお、シリンドリカルレンズ７３と位置補
正機構８１とが本発明のビーム傾斜調整手段に相当す
る。

【００４３】描画ステージ５の最下層に配備されている
ステージ基台１０の結像光学系２１側には、検出部９１
が主走査方向に並んで二つ配設されている。各検出部９
１は、ステージ基台１０から処理位置ＰＹに向けて立設
されたアーム９３と、このアーム９３の上部に配備され
た描画基準位置センサ９５とを備えている。このアーム
９３は、描画基準位置センサ９５が載置テーブル１５の
高さ位置とほぼ同じ高さ位置となるようにするものであ
る。

【００４４】この描画基準位置センサ９５の構成を図８
に示す。この描画基準位置センサ９５は、この受光面９
５ａに照射されたレーザビームの主走査方向および副走
査方向の位置が検出可能なセンサである。この描画基準
位置センサ９５として、例えば、受光面９５ａに画素部
９５ｂが二次元状に配設されたＣＣＤ型二次元撮像素子
を用いている。描画基準位置センサ９５は、描画ステー
ジ５が待機位置にある際には、そのｘ方向の中央部分が
描画基準位置ＰＸに位置するとともに、そのｙ方向の中
央部分が処理位置ＰＹに位置するように上述したアーム
９３の上部に配設されている。

【００４５】図８に示すように、レーザビームＬＢが処
理位置ＰＹにて副走査方向に対してずれることなく正常
に走査されている場合には、そのスポットＬＢｓが処理
位置ＰＹ上を真っ直ぐに移動して行く。その一方、温度
変化などに起因してレーザビームＬＢが副走査方向にず
れた場合には、例えば、そのスポットＬＢｓが図８中に
点線で示すような位置、つまり基準位置である処理位置
ＰＹから結像光学系２１側へ距離Δｄだけずれた位置を
移動することになる。描画基準位置センサ９５は、レー
ザビームＬＢのスポットＬＢｓの位置ずれ量Δｄを判断
することができる。この実施例装置では、スポットＬＢ
ｓが処理位置ＰＹ上を真っ直ぐに移動して行くように、
上述した位置補正機構８１を介してシリンドリカルレン
ズ７３を移動させてレーザビームの位置を基準位置であ
る処理位置ＰＹに保持するようにしている。また、この
描画基準位置センサ９５は、その受光面９５ａに画素部
９５ｂが二次元状に配設されて構成されているので、受
光面９５ａのいずれの位置においてもレーザビームの検
出が可能であるが、描画動作時には、描画基準位置ＰＸ
をレーザビーム検出位置としこの描画基準位置ＰＸにレ
ーザビームが照射されるとこれを検出して描画基準位置
信号ｈを出力するものとする。なお、描画基準位置信号
ｈは、撮像素子からの画像信号を処理することで得られ
るビームスポットの重心座標値と、スポット光量値を示
すものである。ビームの位置、ずれ量は描画制御部１０
２において、重心座標値、スポット光量値に基づいて計
算される。

【００４６】また、上述した検出部９１を、複数本のレ
ーザビームを順に照射して描画基準位置センサ９５の出
力を比較しその結果を音響光学変調器５３にフィードバ
ックして、全てのビームの光量を同一にするために利用
するようにしてもよい。これにより複数本のレーザビー
ムによって描画を行っても均一に処理を施すことができ
る。

【００４７】次に、データ処理部１０１と描画制御部１
０２とについて、図９を用いて説明する。図９は、プリ
ント配線基板製造装置の概略構成を示すブロック図であ
る。データ処理部１０１は、ＣＡＤを使って設計された
プリント配線基板のアートワークデータが入力され、ラ
スター走査描画のためのランレングスデータに変換す
る。このデータ処理部１０１として、例えば、ワークス
テーションやパーソナルコンピュータなどを用いてい
る。

【００４８】描画制御部１０２は、アライメントデータ
演算部１１１と、ランレングスデータバッファ１１２
と、ラスタ変換回路１１３と、描画データバッファメモ
リ１１４と、描画処理部１１５とで構成されている。

【００４９】アライメントデータ演算部１１１には、各
アライメントスコープ３３，３５，３７，３９のＣＣＤ
カメラ３３ａ，３５ａ，３７ａ，３９ａが全て接続され
ている。アライメントデータ演算部１１１は、各ＣＣＤ
カメラ３３ａ，３５ａ，３７ａ，３９ａから集められた
各映像信号を演算処理して、プリント配線基板Ｓの姿勢
を求めており、この求めた姿勢をデータ処理部１０１と
メインコントローラ１２１とに出力している。なお、こ
のアライメントデータ演算部１１１には、描画ステージ
５を副走査方向に移動する際の一連の主走査方向の揺ら
ぎを演算して取得する機能も備えている。具体的には、
載置テーブル１５を副走査方向に移動させながらこの載
置テーブル１５上の基準マスクパターンＭ（図１参照）
をＣＣＤカメラ３３ａで読み取り、アライメントデータ
演算部１１１はこのＣＣＤカメラ３３ａで読み取られた
データに基づいて前記揺らぎを演算して取得している。

【００５０】ランレングスデータバッファ１１２は、デ
ータ処理部１０１で変換されたランレングスデータ全て
を一旦記憶する。ラスタ変換回路１１３は、順次読み出
されたランレングスデータを画素単位のラスターデータ
に変換する。描画データバッファメモリ１１４は、１走
査毎にラスターデータを記憶する。描画処理部１１５
は、ラスタ変換回路１１３にラスタ変換指示を与え、描
画データバッファメモリ１１４に記憶されているラスタ
ーデータを、後述する描画開始位置補正制御部１２３で
生成した描画クロックｆで読み出して音響光学変調器５
３に出力する。音響光学変調器５３は、この読み出され
たラスターデータ（描画信号ｇ）に基づいてレーザビー
ムを変調する。

【００５１】この描画処理部１１５は、メインコントロ
ーラ１２１と、基準クロック生成部１２２と、描画開始
位置補正制御部１２３と、ポリゴン回転制御部１２４
と、Ｙ軸同期制御部１２５とで構成されている。

【００５２】メインコントローラ１２１は、位置補正機
構８１と基準クロック生成部１２２と描画開始位置補正
制御部１２３とポリゴン回転制御部１２４とＹ軸同期制
御部１２５とを制御する。このメインコントローラ１２
１には、アライメントデータ演算部１１１で求めたプリ
ント配線基板Ｓの姿勢などのデータや、スタートセンサ
７５で１走査毎に検出される走査開始信号ａや、描画基
準位置センサ９５で検出した描画基準位置信号ｈや、２
センサ信号時間差計測部１４１で検出した走査開始信号
ａの検出から描画基準位置信号ｈの検出までの時間差デ
ータなどが入力される。このメインコントローラ１２１
の内部には、全チャンネルのレーザビームの描画開始位
置を一括して調整する全ＣＨ描画開始位置同時調整部１
４２を備えている。

【００５３】基準クロック生成部１２２は、基準クロッ
クｄを生成して描画開始位置補正制御部１２３に出力す
る。ポリゴン回転制御部１２４は、メインコントローラ
１２１からの指示に従ってポリゴンミラー６７を回転制
御する。Ｙ軸同期制御部１２５は、メインコントローラ
１２１からの指示に従って、レーザ描画に同期させて描
画ステージ５をｙ軸方向に駆動制御する。

【００５４】描画開始位置補正制御部１２３は、図１０
に示すように、各レーザビーム毎に設けられている。図
１０は、描画制御部の要部の構成を示すブロック図であ
る。これらの描画開始位置補正制御部１２３は、スター
トセンサ７５からの走査開始信号ａを微小単位補正デー
タ（設定値）に応じて描画クロック単位以下の分解能で
遅延する微小ディレイ回路１３１と、この微小遅延した
走査開始信号ｃに同期させて同期クロック信号ｅを生成
する同期化処理部１３２と、この同期クロック信号ｅを
ドット単位補正データ（設定値）に応じて、走査毎の描
画クロック信号の発生開始を描画クロック単位で遅延す
る描画クロックドットディレイ回路１３３とで構成され
ている。なお、このように描画開始位置補正制御部１２
３で生成された各チャンネル毎の描画クロックｆに従っ
て、描画データバッファメモリ１１４から各レーザビー
ム毎のラスターデータがそれぞれ読み出され、ラスター
データに対応する描画信号が遅延される。

【００５５】図１１に示すように、微小ディレイ回路１
３１で走査開始信号ａを微小単位補正データに応じて微
小遅延し、同期化処理部１３２でこの微小遅延した走査
開始信号ｃに同期させて同期クロック信号ｅを生成し、
描画クロックドットディレイ回路１３３でこの同期クロ
ック信号ｅをドット単位補正データに応じてクロック単
位に発生開始を遅延させて描画クロック信号ｆを生成し
ている。この描画クロック信号ｆに基づいてラスターデ
ータが読み出され、描画信号が音響光学変調器５３に出
力される。

【００５６】この微小ディレイ回路１３１は、図１２に
示すように、走査開始信号ａが入力されると描画クロッ
クの一周期内において振幅が第１レベルから第２レベル
に変化する波形を生成するランプ発生器１３１ｂと、こ
の波形が第１レベルから第２レベルの間に設定された閾
値に到達すると走査開始信号ｃを出力する比較器として
のコンパレータ１３１ｃとで構成されている。なお、ト
リガ回路１３１ａは、走査開始信号ａが入力されるとラ
ンプ発生器１３１ｂにトリガを出力する。Ｄ／Ａコンバ
ータ１３１ｄは、８ビットデータで指示される前記閾値
をコンパレータ１３１ｃに出力する。この閾値が走査開
始信号ａの微小遅延時間を設定する微小単位補正データ
である。

【００５７】例えば、描画クロック周波数が６４ＭＨｚ
の場合は、その周期は15.625nSecであり、１／１０相当
の精度で調整しようとすると、微小ディレイ分解能は1
5.625nSec／10≒1.5nSec （0.48μｍ）となる。なお、
この0.48μｍは、5 μｍ（１画素ピッチ）×1.5nSec ／
15.625nSecから求められる。ランプ発生器１３１ｂは、
描画クロックの一周期（15.625nSec）内において振幅が
第１レベルから第２レベルに変化するランプ波形を生成
する。Ｄ／Ａコンバータ１３１ｄには、第１レベルから
第２レベルの間を1.5nSec 刻みで１０分割した複数個の
レベルのうちの何れかのレベルを所望の閾値として設定
されている。また、コンパレータ１３１ｃは、ランプ波
形がこの閾値に到達すると、走査開始信号ｃを出力す
る。したがって、微小ディレイ回路１３１は、微小ディ
レイ分解能1.5nSec を満たすように構成されている。

【００５８】この微小ディレイ回路１３１としては、例
えば、アナログ・デバイセズ社製のデジタル・プログラ
マブル遅延発生器（ＡＤ９５０１）のようなＩＣ（集積
回路）などがある。

【００５９】描画クロックドットディレイ回路１３３
は、図１３に示すように、描画クロック単位で遅延する
ように、ダウンカウンタ１３３ａと、フリップフロップ
回路（Ｆ／Ｆ）１３３ｂと、アンド回路１３３ｃとで構
成されている。具体的には、微小ディレイ回路１３１で
微小遅延された走査開始信号ｃがダウンカウンタ１３３
ａに入力されると、ダウンカウンタ１３３ａは、１０ビ
ットデータで設定されたクロック数分だけ同期クロック
信号ｅが入力されたことを検出して、フリップフロップ
回路１３３ｂを介してハイレベルをアンド回路１３３ｃ
の一方の入力端子に出力する。アンド回路１３３ｃの他
方の入力端子には同期クロック信号ｅが入力されてお
り、このようにアンド回路１３３ｃの一方の入力端子に
前記ハイレベルが入力されると、同期クロック信号ｅを
描画クロック信号ｆとして出力する。なお、フリップフ
ロップ回路１３３ｂは、１走査が終了する毎に入力され
るリセットパルスを受けることで、ダウンカウンタ１３
３ａの出力をローレベルにしてアンド回路１３３ｃに出
力しアンド回路１３３ｃの出力をローレベルにリセット
する。上記設定されたクロック数が描画クロックの描画
クロック単位の遅延時間を設定するドット単位補正デー
タである。なお、本実施例では、設定時間だけ同期クロ
ック信号の出力を禁止するという簡易な構成で、描画ク
ロックの発生を遅延させ、ラスターデータの読み出し、
すなわち、描画信号の遅延を実現している。

【００６０】なお、上述した微小ディレイ回路１３１が
本発明における微小遅延手段に相当し、上述した描画ク
ロックドットディレイ回路１３３が本発明におけるドッ
ト遅延手段に相当する。

【００６１】続いて、以上の構成を有する実施例のプリ
ント配線基板製造装置において、前述の第１〜第５補正
機能の実施例に対応する第１〜第５補正例について順に
説明する。〈第１補正例〉ここでは、以上の構成を有す
る実施例のプリント配線基板製造装置において、マルチ
ビーム描画で用いる各ビームの間隔を補正する動作（第
１補正機能）について説明する。

【００６２】図１４は、この実施例装置での描画座標系
を示す図である。図１５（ａ）は、マルチビーム配列と
そのビーム間隔を示す図であり、図１５（ｂ）は、描画
ベクトルを示す図である。レーザ光の相互干渉を排除す
るために、マルチビームは、図１４に示すように、走査
ラインに対して斜めになるように配置されている。即
ち、図１５（ａ）に示すように、隣接するビーム間の主
走査方向（ｘ方向）の距離は１００μｍ前後、隣接する
ビーム間の副走査方向（ｙ方向）の距離はラスター描画
の画素単位数５μｍになるように調整されている。従っ
て、８本ビームでｃｈ（チャンネル）１〜ｃｈ８のビー
ム中心間距離は、ｘ方向間隔は約７００μｍ、ｙ方向間
隔は３５μｍとなっている。

【００６３】また、マルチビームを主走査方向に１走査
しながら描画ステージを副走査方向に４０μｍ連続駆動
して描画するので、図１４，図１５（ｂ）に示すよう
に、走査線を描画座標のｘ軸に対して傾けておくことに
より、矩形パターンを基板に描画したときに、ｘ方向の
線とｙ方向の線とが直角になるようにしている。この走
査線の傾き角度θは、有効描画幅４００ｍｍ、有効走査
効率（１走査時間（スタートパルス周期）に対する有効
描画時間割合）５０％とすると、次に示す演算式（１）
から求められる。 θ＝ｔａｎ^-1｛（40μｍ／400 ｍｍ）×0.5 ｝＝ｔａｎ^-1（5 ×10^-5）・・・（１）この演算式（１）で求めたθとなるように、シリンドリ
カルレンズ７３を傾けて調整している。

【００６４】最初に、ｃｈ１〜ｃｈ８の各レーザビーム
を描画基準位置センサ９５に順次照射して、各レーザビ
ーム間の主走査方向の距離を計測する。例えば、図８に
示した描画基準位置センサ９５の受光面９５ａにｃｈ１
のレーザビームを照射し、この描画基準位置センサ９５
によりｃｈ１のレーザビームの照射位置を検出する。次
に、ｃｈ１とは主走査方向に約100 μｍ程度シフトして
照射されるｃｈ２のレーザビームを受光面９５ａに照射
してｃｈ２のレーザビームの照射位置を検出する。検出
したｃｈ１とｃｈ２の照射位置の主走査方向の間隔を算
出することで、ｃｈ１，ｃｈ２のレーザビーム間の主走
査方向の間隔を計測する。このようにして残りのｃｈ２
〜ｃｈ８の各レーザビーム間の主走査方向の間隔を計測
する。なおこのときの各ｃｈ１〜ｃｈ８の描画クロック
ドットディレイ回路１３３の設定値（ドット単位補正デ
ータ）と、各ｃｈ１〜ｃｈ８の微小ディレイ回路１３１
の設定値（微小単位補正データ）とは、全て「0 」に設
定しているものとする。また、説明を簡単にするため
に、スタートセンサ７５と描画開始位置との距離は「0
」と設定する。実際に距離がある場合は、全ての設定
値にその距離をオフセット値として加算すれば良い。

【００６５】なおここでは、描画基準位置センサ９５の
受光面９５ａは、ｃｈ１〜ｃｈ８の全てのレーザビーム
が同時に受光可能なように、そのｘ方向の大きさを700
μｍを上回る程度としている。しかし、隣接する２つの
ビームを少なくとも同時に受光可能なように、受光面９
５ａのｘ方向の大きさを100 μｍを上回る程度とし、描
画基準位置センサ９５をｘ方向に移動させるなどして各
レーザビーム間の主走査方向の間隔を計測してもよい。

【００６６】または、予めビーム間隔の予想値に基づい
て以下のように遅延量を設定して、１チャンネル毎に点
灯させ、基準位置との差に基づいて各チャンネルの位置
ずれを検知し、それらに基づいてビーム間隔を計測する
こともできる。隣接するビーム間の主走査方向の距離は
約100 μｍで、画素のピッチは5 μｍであるから、100
μｍ／5 μｍ＝20と計算して、ｃｈ１〜ｃｈ８の描画ク
ロックドットディレイ回路１３３の設定値は、順に、
「0 」，「20」，「40」，・・・，「140 」に設定し、
ｃｈ１〜ｃｈ８の微小ディレイ回路１３１の設定値は全
て「0 」に設定する。ビーム間の距離が全て100 μｍで
あれば、全て基準位置で点灯するはずである。これによ
れば、１のビームを受光可能なセンサを用いてビーム間
隔を計測できる。次に、計測された主走査方向のビーム
間隔に基づいて、その間隔を補正する手順を説明する。
なお、描画クロックドットディレイ回路１３３の設定値
の最小単位は5 μｍ、微小ディレイ回路１３１の設定値
の最小単位は0.48μｍである。基本的には、主走査方向
に間隔を有する複数のビームを同時に走査して所定の位
置に描画するには、各チャンネルの描画信号をビーム間
隔分遅延して出力すれば良い。例えば、ｃｈ１とｃｈ２
とのビーム間隔が102 μｍであったとすると、画素ピッ
チが5 μｍなので、102 μｍ／5 μｍ＝20余り2 μｍ、
2 μｍ／0.48μｍ＝4 余り0.08μｍと計算して、ｃｈ２
に対して、描画クロックドットディレイ回路１３３の設
定値は「20」、微小ディレイ回路１３１の設定値は「4
」とすれば良い。また、ｃｈ１とｃｈ３との間隔が203
μｍであるとすると、同様に計算して、ｃｈ３に対し
て、描画クロックドットディレイ回路１３３の設定値は
「40」、微小ディレイ回路１３１の設定値は「6 」とな
る。

【００６７】このように、全チャンネルの描画クロック
ドットディレイ回路１３３と微小ディレイ回路１３１と
の設定値を、前述のように適切な値に設定し、各チャン
ネルごとの描画データの出力タイミングを調整すること
により、チャンネル間隔ずれを高精度に補正することが
でき、高精度にマルチビーム描画を行うレーザ描画装置
を得ることができる。

【００６８】具体的には、微小ディレイ回路１３１によ
り走査開始信号ａを描画クロック単位以下の分解能で細
かく遅延することができ、この微小遅延した走査開始信
号ｃに同期して生成される同期クロック信号ｅを描画ク
ロックドットディレイ回路１３３によりクロック単位で
遅延した描画クロック信号ｆを生成することができるの
で、描画信号を広い範囲にわたってしかも高精度に遅延
させることができる。したがって、高精度に所定の位置
に描画を行う描画開始タイミング制御を簡単な構成で実
現できる。微小ディレイ回路１３１を、画素の約１／１
０の精度で遅延可能なように構成しているので、画素の
約１／１０の精度で正確にパターン描画が行える。ま
た、この微小ディレイ回路１３１を、画素の１／２０な
どさらに高い精度に遅延可能なように構成した場合で
は、さらに高精度にパターン描画が行える。

【００６９】〈第２補正例〉続いて、スタートセンサ光
学系の位置ずれを補正する動作（第２補正機能）につい
て説明する。本実施例装置は、スタートセンサ光学系の
位置ずれを補正するために、図９，図１０に示すよう
に、走査開始信号ａの検出から、レーザビームが描画基
準位置ＰＸに照射したことを示す描画基準位置信号ｈの
検出までの時間差を計測する２センサ信号時間差計測部
１４１と、今回の時間差と前回の時間差との差に応じて
走査開始信号ａの遅延量を再設定する全ＣＨ描画開始位
置同時調整部１４２とを備えている。また、レーザビー
ムが描画基準位置ＰＸを照射したことを検出するセンサ
としては、スタートセンサ７５と同等のものを用いる。

【００７０】なお、この２センサ信号時間差計測部１４
１が本発明における計測部に相当し、この全ＣＨ描画開
始位置同時調整部１４２が本発明における調整手段に相
当する。

【００７１】続いて、以上の構成を有する実施例のプリ
ント配線基板製造装置において、スタートセンサ光学系
の位置ずれを補正する動作について説明する。

【００７２】例えば、スタートセンサ光学系が長時間の
使用により経時変化したり、温度変化したりすることに
より、スタートセンサ光学系が数μｍ位置ずれが生じる
ことがある。このスタートセンサ光学系の位置ずれは、
描画品質を劣化させる原因になっている。ここでは、こ
のような場合に校正を行う。

【００７３】２センサ信号時間差計測部１４１は、初期
調整時に、走査開始信号ａと描画基準位置信号ｈとの間
の時間間隔を計測する。具体的には、ポリゴンミラー６
７からのレーザビームをスタートセンサ７５で検出する
ことで出力される走査開始信号ａから、このレーザビー
ムが検出センサによって描画基準位置ＰＸに照射された
ことを検出して出力される描画基準位置信号ｈまでの時
間間隔を計測する。この計測した時間を、メインコント
ローラ１２１に記憶させておく。校正を行うときに再
度、２センサ信号時間差計測部１４１によって、走査開
始信号ａと描画基準位置信号ｈとの間の時間間隔を計測
する。前回の時間間隔と今回の時間間隔との差をメイン
コントローラ１２１で計算する。全ＣＨ描画開始位置同
時調整部１４２は、この差に応じて走査開始信号ａの遅
延量を再設定する。この全ＣＨ描画開始位置同時調整部
１４２としては、例えば、前述の微小ディレイ回路１３
１に相当するものがあり、設定値（微小単位補正デー
タ）は以下のように設定されている。

【００７４】全ＣＨ描画開始位置同時調整部１４２は、
プラス方向とマイナス方向とに調整が必要なので、２画
素分の遅延初期値「21」が設定されている。これは、２
（２画素分）×5 μｍ／0.48μｍ＝20.83 ≒21から求め
られたものである。校正時には、この遅延初期値21に補
正値を加減算した値を設定値とする。

【００７５】例えば、前回計測した時間間隔と、今回計
測した時間間隔との差が、12nSec（3.84μｍ）長くなっ
ていたとすると、12nSec／1.5nSec ＝8 、21＋8 ＝29と
計算して、全ＣＨ描画開始位置同時調整部１４２には、
全チャンネル同時遅延量としてこの「29」を設定する。
全ＣＨ描画開始位置同時調整部１４２の設定値をこのよ
うに設定することにより、全チャンネルの描画タイミン
グを12nSec遅れさせることができる。

【００７６】具体的には、スタートセンサ７５からの走
査開始信号ａは、図１６に示すように、全ＣＨ描画開始
位置同時調整部１４２により時間ｔ１だけ遅延され、こ
の遅延された走査開始信号ｂが各ｃｈの微小ディレイ回
路１３１に出力される。各ｃｈの微小ディレイ回路１３
１では、この遅延された走査開始信号ｂを自己に設定さ
れた微小遅延時間だけさらに遅延している。例えば、ｃ
ｈ１の微小ディレイ回路１３１では、時間ｔ１だけ遅延
された走査開始信号ｂを自己に設定された微小遅延時間
ｔ２だけさらに遅延している。ｃｈ１の同期化処理部１
３２では、このｃｈ１の微小ディレイ回路１３１で遅延
した走査開始信号ｃに同期してｃｈ１の同期クロック信
号ｅが生成される。ｃｈ１の描画クロックドットディレ
イ回路１３３では、ｃｈ１の同期クロック信号ｅを自己
に設定された描画クロック単位の遅延時間ｔ３だけ発生
開始を遅延して出力している。このｃｈ１の描画クロッ
クドットディレイ回路１３３で遅延したｃｈ１の描画ク
ロック信号ｆで描画データバッファメモリ１１４のｃｈ
１のラスターデータを読み出し、描画信号を生成して音
響光学変調器５３に出力する。

【００７７】したがって、スタートセンサ光学系の位置
ずれを高精度に補正することができ、前回調整済みの所
定の位置と同じ位置から描画開始できる。なお、この校
正は、描画直前に毎回行っても構わない。

【００７８】〈第３補正例〉続いて、プリント配線基板
Ｓのアライメントずれを補正する動作（第３補正機能）
について説明する。なおここでは、描画ステージ５上に
載置されたプリント配線基板Ｓは、図１７（ａ）に示す
ように、破線で示す基準位置Ｐに対してｘｙ方向に平行
にシフトして載置されているものとする。

【００７９】本実施例装置は、描画ステージ５上に載置
されたプリント配線基板Ｓの主走査方向に対する位置ず
れを検出するアライメントデータ演算部１１１と、この
検出した位置ずれに応じて微小ディレイ回路１３１と描
画ドットディレイ回路１３３との遅延量を制御するメイ
ンコントローラ１２１とを備えている。なお、このアラ
イメントデータ演算部１１１が本発明における位置ずれ
検出手段に相当し、このメインコントローラ１２１が本
発明における制御手段に相当する。

【００８０】図１７（ａ）に破線で示す基準位置Ｐから
の基板搭載時許容位置ずれ量を±２ｍｍとすると、各ｃ
ｈの描画クロックドットディレイ回路１３３の設定値に
は、初期値としての2000μｍ／5 μｍ＝400 に、ｃｈ間
補正値（100 μｍ／5 μｍ＝20）を必要とする分だけ加
算した値を設定し、また、微小ディレイ回路１３１に
は、プラス方向とマイナス方向とに調整が必要なので、
２画素分の遅延初期値「21」を設定している。具体的に
は、各ｃｈの描画クロックドットディレイ回路１３３の
設定値は、ｃｈ順に、「400 」，「420 」，「440 」，
・・・，「540 」に設定している。このように設定して
いる時にアライメントずれが０で描画原点から正確に描
画できるように調整されている。

【００８１】図１４に示すように、載置テーブル１５に
載置されたプリント配線基板Ｓの位置合わせ穴Ａを、描
画前にＣＣＤカメラ３３ａ，３５ａ，３７ａ，３９ａで
読み取り、これによりプリント配線基板Ｓの基準位置Ｐ
に対する座標位置ずれ量を計算しておく。座標を計算処
理した結果、例えば、本来描画すべき原点位置からｘ方
向では1.837 ｍｍ、ｙ方向では1.354 ｍｍずれていたと
する。

【００８２】ｙ方向については、Ｙ軸同期制御部１２５
に設定されるｙ方向描画開始位置座標設定値に1.354 ｍ
ｍを与えることにより、描画前に描画ステージ５を原点
から1.354 ｍｍに近づけるように移動させ、描画ステー
ジ５のｙ座標が1.354 ｍｍになったところからラスター
描画が開始されるようにすることで補正している。（図
１８に示す描画ステージ５のｙ方向のずれ補正期間Ｔ）

【００８３】ｘ方向については、描画ドットディレイ回
路１３３の設定値（ドット単位補正データ）と微小ディ
レイ回路１３１の設定値（微小単位補正データ）を以下
のように再設定することで、このｘ方向のずれを調整し
ている。

【００８４】具体的には、ｘ方向に1.837 ｍｍずれてい
ることから、1.837 ｍｍ／5 μｍ＝367 余り2 μｍ、2
μｍ／0.48μｍ＝４余り0.08μｍとなり、ｃｈ１の描画
ドットディレイ回路１３３には、400 ＋367 ＝「767 」
を設定し、微小ディレイ回路１３１には、21＋4 ＝「2
5」を設定する。なお、ｃｈ２〜ｃｈ８の各描画ドット
ディレイ回路１３３には、｛767 ＋ｃｈ間補正値（20×
（ch番号−1 ））｝を設定する。このように微小ディレ
イ回路１３１と描画ドットディレイ回路１３３との遅延
量を設定することにより、描画開始位置をｘ方向に1.83
7 ｍｍずれた位置に補正している。図１８に示すよう
に、走査開始信号ａは微小ディレイ回路１３１により微
小単位補正データに応じて微小遅延され、この微小遅延
された走査開始信号ｃに同期して生成される同期クロッ
ク信号ｅは描画ドットディレイ回路１３３によりドット
単位補正データに応じて描画クロック単位で遅延されて
いる。このように発生開始が遅延された描画クロックｆ
で描画データバッファメモリ１１４のラスターデータを
読み出し、描画信号を生成して音響光学変調器５３に出
力することで、描画開始位置をｘ方向に所望の距離だけ
ずらすことができる。ここでは、ｘ方向に1.837 ｍｍず
らした位置を描画開始位置として調整している。

【００８５】したがって、プリント配線基板Ｓが基準位
置Ｐに対して平行にシフトして載置されている場合で
も、プリント配線基板Ｓが基準位置Ｐに位置するように
プリント配線基板Ｓや描画ステージ５を主走査方向に移
動させたりする位置調整が不要で、基準位置Ｐに対して
シフトした状態のままでプリント配線基板Ｓの所望の位
置から高精度に描画を開始することができる。

【００８６】なお、画素単位のずれ量調整分は、描画ド
ットディレイ回路１３３の設定値を変える代わりに、描
画前にランレングスデータにずれ量分のデータを追加し
て実質的に描画位置をシフトさせることも可能である。

【００８７】〈第４補正例〉続いて、描画ステージ５上
に載置されたプリント配線基板Ｓの副走査方向に対する
傾きを補正する動作（第４補正機能）について説明す
る。本実施例装置は、載置されたプリント配線基板Ｓの
副走査方向に対する傾きを補正するために、描画ステー
ジ５上に載置されたプリント配線基板Ｓの副走査方向に
対する傾きを検出するアライメントデータ演算部１１１
と、この検出した傾きに応じてレーザビームの主走査方
向を調整するシリンドリカルレンズ７３と位置補正機構
８１と、この検出した傾きに応じて微小ディレイ回路１
３１と描画ドットディレイ回路１３３との遅延量を制御
するメインコントローラ１２１とを備えている。

【００８８】なお、このアライメントデータ演算部１１
１が本発明における傾斜検出手段に相当し、このシリン
ドリカルレンズ７３と位置補正機構８１とが本発明にお
けるビーム傾斜調整手段に相当し、このメインコントロ
ーラ１２１が本発明における制御手段に相当する。

【００８９】続いて、この実施例装置において、副走査
方向に対して傾いて描画ステージ５に載置されたプリン
ト配線基板Ｓに対して、良好な直交度で描画する動作に
ついて説明する。

【００９０】まず描画前に、ＣＣＤカメラ３３ａ，３５
ａ，３７ａ，３９ａは、プリント配線基板Ｓの基準穴位
置を読み取り計測する。アライメントデータ演算部１１
１は、ＣＣＤカメラ３３ａ，３５ａ，３７ａ，３９ａで
採取したデータから、プリント配線基板Ｓの副走査方向
に対する傾き角度を計算する。位置補正機構８１は、こ
の傾き分だけシリンドリカルレンズ７３をステージ面と
平行に傾けて、レーザ走査線を傾けておく。

【００９１】さらに、描画時に描画ステージ５が副走査
方向に所定距離移動する毎に、微小ディレイ回路１３１
の設定値（微小単位補正データ）を「１」ずつ変化させ
ていき、描画開始位置を微小単位ずつ主走査方向にシフ
トさせて描画していく。プリント配線基板Ｓの副走査方
向に対する傾きとして、例えば、主走査方向が2.4 μｍ
で、副走査方向が100 ｍｍである勾配（傾き）があった
とすると、描画ステージ５が副走査方向に100 ｍｍ／
（2.4 μｍ／0.48μｍ）＝20ｍｍの距離移動する毎に、
微小ディレイ回路１３１の設定値を「１」ずつ変化させ
ていく、即ち、描画開始位置を0.48μｍずつ主走査方向
にシフトさせて描画していく。

【００９２】このようにプリント配線基板Ｓが傾いて載
置されている場合には、従来では、図１９（ｂ）に示す
ように、その傾き角度分描画ステージを逆方向に回転さ
せて描画系に対して平行状態にする回転機構が必要であ
った。しかし、この実施例装置では、このような回転機
構を必要とすることなく、図１９（ｃ）に示すようにプ
リント配線基板Ｓが傾いたままで、良好な直交度で正し
く描画できる。

【００９３】〈第５補正例〉続いて、副走査方向にレー
ザビームと載置台とを相対的に移動させる際の一連の主
走査方向の揺らぎを補正する動作（第５補正機能）につ
いて説明する。なお、ここでは、描画ステージ５を副走
査方向（ｙ方向）に移動させる際の主走査方向（ｘ方
向）の揺らぎを補正する動作について説明するものとす
る。

【００９４】本実施例装置は、描画ステージ５をｙ方向
に移動させる際のｘ方向の揺らぎを補正するために、こ
の揺らぎ（ヨーイング誤差量：描画ステージ５のｙ座標
に対するｘ方向ずれ量）を予め検出しておく機能を持た
せたアライメントデータ演算部１１１と、この検出した
揺らぎに応じて微小ディレイ回路１３１と描画ドットデ
ィレイ回路１３３との遅延量を制御するメインコントロ
ーラ１２１とを備えている。

【００９５】なお、このアライメントデータ演算部１１
１が本発明における揺らぎ検出手段に相当し、このメイ
ンコントローラ１２１が本発明における制御手段に相当
する。

【００９６】続いて、描画ステージ５をｙ方向に移動す
る際にｘ方向に揺らぎが生じるこの描画ステージ５に載
置されたプリント配線基板Ｓに対して、良好な真直度で
描画する動作について説明する。なお、描画ステージ５
のヨーイング誤差量は無視できない程の大きいものとす
る。

【００９７】まず描画前に、ＣＣＤカメラ３３ａは、描
画ステージ５上にｙ方向に沿って所定の間隔に形成され
ている基準マスクパターンＭ（図１参照）を、この描画
ステージ５をｙ方向に移動させながら予め読み取り計測
する。アライメントデータ演算部１１１は、ＣＣＤカメ
ラ３３ａで採取したデータから、描画ステージ５をｙ方
向に移動させる際の一連の揺らぎ（ヨーイング誤差量）
を予め演算して取得しておく。例えば、図１９に示すよ
うに、描画ステージ５を一点鎖線で示す方向（ｙ方向）
に所定距離移動させるごとのｘ方向のずれ量を、ｙ座標
に対応させて演算して取得している。Δ１〜Δｎは、描
画ステージ５がｙ座標のｙ１〜ｙｎに位置しているとき
のｘ方向のずれ量である。

【００９８】次に、描画ステージ５の基準位置にプリン
ト配線基板Ｓを載置する。メインコントローラ１２１
は、アライメントデータ演算部１１１に取得しておいた
揺らぎに応じて、微小ディレイ回路１３１と描画ドット
ディレイ回路１３３との遅延量を制御する。即ち、微小
ディレイ回路１３１の微小単位補正データと描画ドット
ディレイ回路１３３のドット単位補正データを制御す
る。

【００９９】具体的には、描画時に描画ステージ５がｙ
方向に所定距離移動する毎に、取得済みの揺らぎに応じ
て、微小ディレイ回路１３１の設定値（微小単位補正デ
ータ）を「±１」ずつ変化させていき、揺らぎに応じて
描画開始位置をｘ方向にシフトさせて描画していく。例
えば、ｙ方向に１００ｍｍ進む間にｘ方向に−１．２μ
ｍ〜＋１．２μｍに揺らぐとすると、描画ステージ５が
ｙ方向に100 ｍｍ／（2.4 μｍ／0.48μｍ）＝20ｍｍの
距離移動する毎に、微小ディレイ回路１３１の設定値を
「１」ずつ変化させていく、即ち、描画開始位置を0.48
μｍずつｘ方向にシフトさせて描画していく。なお、ｙ
方向の移動に際してｘ方向の揺らぎが無視できる程度に
小さい場合は、微小ディレイ回路１３１の設定値は変更
しない。

【０１００】したがって、副走査方向に移動する際に主
走査方向に揺らぎが生じる描画ステージ５を用いる場合
であっても、描画ステージ５のヨーイング誤差量を適宜
補正することができ、良好な真直度で正しく描画でき
る。描画ステージの揺らぎ自体を無視できる程度に抑え
る調整作業や、揺らぎが極めて小さくなるよう構成した
特殊な描画ステージを不必要にすることができる。

【０１０１】なお、アライメントデータ演算部１１１等
に替えて、レーザ測長器等を用いることで、描画ステー
ジ５を副走査方向に移動させながら主走査方向の揺らぎ
を計測してもよい。

【０１０２】なお、プリント配線基板Ｓが副走査方向に
対して傾いて載置され、かつ主走査方向に揺らぎながら
搬送されるような場合であっても、メインコントローラ
１２１でプリント配線基板Ｓの傾きと描画ステージ５の
揺らぎに応じて微小ディレイ回路１３１と描画ドットデ
ィレイ回路１３３との遅延量を制御するので、良好な直
交度で、かつ良好な真直度で正しく描画することができ
る。

【０１０３】なお、本発明は以下のように変形実施する
ことも可能である。

【０１０４】（１）描画基準位置センサ９５は、レーザ
ビームの主，副走査方向への位置ずれを検出できるもの
であればよく、二次元のＰＳＤ（位置検出素子：Positi
on Sensitive Device ）、スタートセンサ７５と同等の
複数の分割センサなどを採用してもよい。

【０１０５】（２）レーザビームを副走査方向に移動さ
せる位置補正手段としては、シリンドリカルレンズ７３
を移動させる代わりに、ポリゴンミラー６７に入射する
レーザビームの副走査方向の入射角を調節するようにし
てもよい。そのレーザビームの副走査方向の入射角は、
ポリゴンミラー６７の前段に設けたミラーあるいはレン
ズ系をアクチュエータで駆動して変えることができる。

【０１０６】（３）実施例では、ポリゴンミラー６７の
面倒れ補正用に配設されているシリンドリカルレンズ７
３をレーザビームの位置ずれ補正用に兼用しているが、
別に位置ずれ補正用のレンズを配設し、これだけを移動
させてレーザビームの位置を補正するようにしてもよ
い。

【０１０７】（４）上述した実施例装置では、レーザ光
源４１と音響光学変調器５３を使用しているが、これら
に代えてレーザダイオードを使用してもよい。この場合
には、レーザダイオードを直接オンオフ制御すればよ
く、構造的に簡易化を図ることができる。

【０１０８】（５）上述した実施例では、結像光学系２
１が固定で描画ステージ５が移動する構成であったが、
逆に結像光学系２１が移動する構成であっても本発明を
適用可能である。

【０１０９】（６）上述した実施例ではプリント配線基
板製造装置を例に採って説明したが、本発明はこのよう
な装置に限定されるものではなく、レーザビーム走査に
よって露光処理を行う装置に適用できる。

【０１１０】（７）上述した実施例のうち、第３、４、
５補正例では、微小ディレイ回路１３１の設定値を調整
したが、全チャンネルとも共通の遅延量であるならば、
全ＣＨ描画開始位置同時調整部１４２を用いて補正する
ことができる。

【０１１１】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の装置発明によれば、微小遅延手段により走査
開始信号を描画クロック単位以下の分解能で細かく遅延
することができ、描画クロックの発生開始をドット遅延
手段によりクロック単位で遅延することができるので、
描画信号を広い範囲にわたってしかも高精度に遅延させ
ることができる。したがって、高精度に所定の位置に描
画を行う描画開始タイミング制御を簡単な構成で実現で
き、高精度に描画可能なレーザ描画装置を提供できる。

【０１１２】また、請求項２に記載の装置発明によれ
ば、ドット遅延手段と微小遅延手段とを、同時走査描画
する複数本のレーザビームごとに備えているので、複数
本のレーザビームを用いるマルチビーム描画において
も、高精度に所定の位置に描画を行う描画開始タイミン
グ制御を簡単な構成で実現できる。

【０１１３】また、請求項３に記載の装置発明によれ
ば、載置台上に載置された処理対象物の主走査方向に対
する位置ずれを検出する位置ずれ検出手段と、この検出
した位置ずれに応じてドット遅延手段と微小遅延手段と
の遅延量を制御する制御手段とを備えていることによ
り、処理対象物が主走査方向にずれて載置台に載置され
ている場合であっても、処理対象物の所定位置から描画
を開始することができる。

【０１１４】また、請求項４に記載の装置発明によれ
ば、載置台上に載置された処理対象物の副走査方向に対
する傾きを検出する傾斜検出手段と、この検出した傾き
に応じてレーザビームの走査ラインの傾きを調整するビ
ーム傾斜調整手段と、この検出した傾きに応じてドット
遅延手段と微小遅延手段との遅延量を制御する制御手段
とを備えていることにより、処理対象物が副走査方向に
対して傾いて載置台上に載置されている場合であって
も、良好な直交度で描画することができる。

【０１１５】また、請求項５に記載の装置発明によれ
ば、副走査方向にレーザビームと載置台とを相対的に移
動させる際の主走査方向の揺らぎを予め検出しておく揺
らぎ検出手段と、この検出しておいた揺らぎに応じてド
ット遅延手段と微小遅延手段との遅延量を制御する制御
手段とを備えていることにより、副走査方向にレーザビ
ームと載置台とを相対的に移動させる際の主走査方向の
揺らぎがある場合であっても、良好な真直度で描画する
ことができる。

【０１１６】また、請求項６に記載の装置発明によれ
ば、前記の傾斜検出手段とビーム傾斜調整手段と揺らぎ
検出手段とに加え、検出済みの傾きと揺らぎに応じてド
ット遅延手段と微小遅延手段との遅延量を制御する制御
手段とを備えていることにより、前記の傾きと揺らぎと
がある場合であっても、良好な直交度で、かつ良好な真
直度で描画することができる。

【０１１７】また、請求項７に記載の装置発明によれ
ば、長手方向が主走査方向に沿って配置されたシリンド
リカルレンズの両端部に配備した駆動手段をそれぞれ独
立して駆動することにより、このレンズの両端部を独立
して副走査方向に移動させることができるので、レーザ
ビームの走査ラインの傾きを調整することができる。

【０１１８】また、請求項８に記載の装置発明によれ
ば、走査開始信号の検出から描画基準位置信号の検出ま
での時間差を計測する計測部と、今回の時間差と前回の
時間差との差に応じて走査開始信号の遅延量を再設定す
る調整手段とを備えているので、走査開始信号を検出す
る検出系などに位置ずれが生じることにより、走査開始
信号の検出から描画基準位置信号の検出までの時間差が
前回と比べて変化してしまった場合でも、現状の時間差
に応じて遅延量を再設定することができ、現状に応じた
校正を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るレーザ描画装置の一例であるプリ
ント配線基板製造装置の概略構成を示す斜視図である。

【図２】プリント配線基板製造装置の詳細な平面図であ
る。

【図３】プリント配線基板製造装置の詳細な側面図であ
る。

【図４】位置補正機構の概略構成を示す側面図である。

【図５】位置補正機構の概略構成を示す平面図である。

【図６】位置補正機構の概略構成を示す正面図である。

【図７】（ａ）はスタートセンサの構成を示す斜視図で
あり、（ｂ）はこのスタートセンサでの検出波形を示す
図である。

【図８】描画基準位置センサの構成を示す平面図であ
る。

【図９】実施例のプリント配線基板製造装置の概略構成
を示すブロック図である。

【図１０】描画制御部の要部の構成を示すブロック図で
ある。

【図１１】描画制御部による遅延を説明するためのタイ
ミングチャート図である。

【図１２】微小ディレイ回路の構成を示すブロック図で
ある。

【図１３】描画クロックドットディレイ回路の構成を示
すブロック図である。

【図１４】第１実施例装置での描画座標系を示す図であ
る。

【図１５】（ａ）は、マルチビーム配列とそのビーム間
隔を示す図であり、（ｂ）は、描画ベクトルを示す図で
ある。

【図１６】描画データの出力タイミングを説明するため
の図である。

【図１７】描画ステージに載置したプリント配線基板の
姿勢を示す図である。

【図１８】描画タイミングチャート図である。

【図１９】描画ステージのｙ座標の各位置に対するｘ方
向のずれ量を説明するための図である。

【符号の説明】

１ … 基台３ … ガイドレール（移動手段）５ … 描画ステージ（載置台）７ … サーボモータ（移動手段）９ … 送りネジ（移動手段）１５ … 載置テーブル２１ … 結像光学系３１ … アライメントスコープユニット４１ … レーザ光源５３ … 音響光学変調器（変調手段）６７ … ポリゴンミラー（偏向手段）７３ … シリンドリカルレンズ（ビーム傾斜調整手
段）７５ … スタートセンサ８１ … 位置補正機構（ビーム傾斜調整手段）９１ … 検出部（検出手段）９５ … 描画基準位置センサ１１１ … アライメントデータ演算部（位置ずれ検出手段，傾斜検出手段，揺らぎ検出手段）１２１ … メインコントローラ（制御手段）１２２ … 基準クロック生成部１２３ … 描画開始位置補正制御部１３１ … 微小ディレイ回路（微小遅延手段）１３３ … 描画クロックドットディレイ回路（ドット
遅延手段）１３１ｂ … ランプ発生器１３１ｃ … コンパレータ（比較器）１４１ … ２センサ信号時間差計測部（計測部）１４２ … 全ＣＨ描画開始位置同時調整部（調整手
段）Ｓ … プリント配線基板（処理対象物）ＬＢ … レーザビーム

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ４１Ｊ 2/44 Ｇ０３Ｆ 7/20 Ｇ０３Ｆ 7/20 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｍ (72)発明者桑原章京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町１番地の１大日本スクリーン製造株式会社内Ｆターム(参考） 2C362 BA69 BA70 BA71 BA86 BA89 BB30 BB32 BB38 BB46 CB67 DA09 2H045 AA01 BA26 BA32 CA02 CA44 CA88 CA98 DA02 DA04 2H097 AA03 AB05 BA10 BB10 CA17 LA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】走査開始信号に応答して発生する描画ク
ロックで読み出されるラスターデータに基づいて生成さ
れる描画信号によりレーザビームを変調し、この変調さ
れたレーザビームを偏向手段で主走査方向に偏向させて
載置台上の処理対象物に照射させるとともに、副走査方
向にレーザビームと載置台とを移動手段で相対的に移動
させることにより所望のパターンを前記処理対象物に描
画するレーザ描画装置において、前記走査開始信号を微小単位補正データに応じて描画ク
ロック単位以下の分解能で遅延する微小遅延手段と、前記描画クロックの発生開始をドット単位補正データに
応じて描画クロック単位で遅延するドット遅延手段とを
備えていることを特徴とするレーザ描画装置。
【請求項２】請求項１に記載のレーザ描画装置におい
て、前記ドット遅延手段と前記微小遅延手段とを、同時走査
描画する複数本のレーザビームごとに備えていることを
特徴とするレーザ描画装置。
【請求項３】請求項１に記載のレーザ描画装置におい
て、前記載置台上に載置された処理対象物の主走査方向に対
する位置ずれを検出する位置ずれ検出手段と、この検出した位置ずれに応じて前記ドット遅延手段と前
記微小遅延手段との遅延量を制御する制御手段とを備え
ていることを特徴とするレーザ描画装置。
【請求項４】請求項１に記載のレーザ描画装置におい
て、前記載置台上に載置された処理対象物の副走査方向に対
する傾きを検出する傾斜検出手段と、この検出した傾きに応じてレーザビームの走査ラインの
傾きを調整するビーム傾斜調整手段と、この検出した傾きに応じて前記ドット遅延手段と前記微
小遅延手段との遅延量を制御する制御手段とを備えてい
ることを特徴とするレーザ描画装置。
【請求項５】請求項１に記載のレーザ描画装置におい
て、副走査方向にレーザビームと載置台とを相対的に移動さ
せる際の主走査方向の揺らぎを予め検出しておく揺らぎ
検出手段と、この検出しておいた揺らぎに応じて前記ドット遅延手段
と前記微小遅延手段との遅延量を制御する制御手段とを
備えていることを特徴とするレーザ描画装置。
【請求項６】請求項１に記載のレーザ描画装置におい
て、前記載置台上に載置された処理対象物の副走査方向に対
する傾きを検出する傾斜検出手段と、この検出した傾きに応じてレーザビームの走査ラインの
傾きを調整するビーム傾斜調整手段と、副走査方向にレーザビームと載置台とを相対的に移動さ
せる際の主走査方向の揺らぎを予め検出しておく揺らぎ
検出手段と、この検出しておいた傾きと揺らぎに応じて前記ドット遅
延手段と前記微小遅延手段との遅延量を制御する制御手
段とを備えていることを特徴とするレーザ描画装置。
【請求項７】請求項４または６に記載のレーザ描画装
置において、前記ビーム傾斜調整手段は、長手方向が主走査方向に沿
って配置されたシリンドリカルレンズと、前記シリンドリカルレンズの両端部に配設され、それぞ
れ独立して副走査方向に前記シリンドリカルレンズを移
動する駆動手段とを備えていることを特徴とするレーザ
描画装置。
【請求項８】請求項１に記載のレーザ描画装置におい
て、前記走査開始信号の検出から、レーザビームが描画基準
位置に照射したことを示す描画基準位置信号の検出まで
の時間差を計測する計測部と、今回の時間差と前回の時間差との差に応じて前記走査開
始信号の遅延量を再設定する調整手段とを備えているこ
とを特徴とするレーザ描画装置。