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処理チャンバ中のガス制御
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JP6507953B2
(ja)
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2015-09-08 |
2019-05-08 |
東京エレクトロン株式会社 |
基板処理装置及び基板処理方法
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JP6548586B2
(ja)
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2016-02-03 |
2019-07-24 |
東京エレクトロン株式会社 |
成膜方法
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WO2017145261A1
(ja)
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2016-02-23 |
2017-08-31 |
株式会社日立国際電気 |
基板処理装置、半導体装置の製造方法およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体
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JP6708167B2
(ja)
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2016-08-03 |
2020-06-10 |
東京エレクトロン株式会社 |
成膜装置、成膜方法及び記憶媒体
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KR101861008B1
(ko)
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2016-08-26 |
2018-05-25 |
한양대학교 산학협력단 |
원자층 증착 장비 및 그를 이용한 원자층 증착 방법
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JP6767844B2
(ja)
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2016-11-11 |
2020-10-14 |
東京エレクトロン株式会社 |
成膜装置及び成膜方法
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JP6733516B2
(ja)
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2016-11-21 |
2020-08-05 |
東京エレクトロン株式会社 |
半導体装置の製造方法
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JP7325313B2
(ja)
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2019-12-11 |
2023-08-14 |
東京エレクトロン株式会社 |
回転駆動装置、基板処理装置及び回転駆動方法
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