JP2001240757A - 感放射線性樹脂組成物、それから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 層間絶縁膜マイクロレンズパター
ンの形成後、高温処理を施しても、十分な透明性、耐溶
剤性、密着性を維持し、かつ必要な解像度、保存安定性
を具備した感放射線性樹脂組成物、およびそれから得ら
れる層間絶縁膜、マイクロレンズを提供する。 【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］
フェノール性水酸基および／またはカルボキシル基を含
有する重合体と、［Ｂ］１，２−キノンジアジド−６−
スルホン酸エステル化合物、１，２−キノンジアジド−
７−スルホン酸エステル化合物、および１，２−キノン
ジアジド−８−スルホン酸エステル化合物からなる群か
ら選ばれる少なくとも一つの化合物を含有する。層間絶
縁膜、マイクロレンズは上記から得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感放射線性樹脂組
成物に関する。詳しくは、フォトリソグラフィー法によ
る層間絶縁膜およびマイクロレンズの作製に適するポジ
型感放射線性樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、層
間絶縁膜およびマイクロレンズを形成するための材料、
特に、液晶表示素子、集積回路素子、磁気ヘッド素子、
固体撮像素子などにおいて、高温処理を必須としたうえ
で高い透明性を必要とする層間絶縁膜の作製に好適な感
放射線性樹脂組成物に関する。さらに本発明は、上記感
放射線性樹脂組成物より形成された層間絶縁膜およびマ
イクロレンズに関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、薄膜トランジスタ（以下、「Ｔ
ＦＴ」と記す。）型液晶表示素子や磁気ヘッド素子、集
積回路素子、固体撮像素子などの電子部品には、層状に
配置される配線の間を絶縁するために層間絶縁膜が設け
られている。層間絶縁膜を形成する際には、必要とする
パターン形状の層間絶縁膜を得るための工程数が少なく
しかも十分な平坦性を有する層間絶縁膜が得られる、感
放射線性樹脂組成物を用いるフォトリソグラフィー法が
使用されている。このように形成された層間絶縁膜は、
その最上部に透明電極を形成して使用されることが多
い。層間絶縁膜の上部に透明電極を形成する際には、ス
パッタリング等の手法によることが便利であるが、その
際、層間絶縁膜が高温にさらされることになる。そのた
め、層間絶縁膜用材料には十分な耐熱性が要求される。

【０００３】一方、５〜２０μｍ程度のレンズ径を有す
るマイクロレンズあるいはそれらのマイクロレンズを規
則的に配列したマイクロレンズアレイは、ファクシミ
リ、電子複写機、固体撮像素子等オンチップカラーフィ
ルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタの光学
系に応用されている。近年半導体集積回路用ポジ型フォ
トレジスト等を用いて、レンズパターンを形成した後、
加熱処理することによってパターンをメルトフローさ
せ、そのままレンズとして利用する方法や、メルトフロ
ーさせた感光性樹脂組成物をマスクにしてドライエッチ
ングにより下地にレンズ形状を転写させる方法により望
みの曲率半径を有するマイクロレンズを得る手法が試み
られている。このようにマイクロレンズを形成する際、
メルトフローさせる工程において材料が高温にさらされ
ることになるため、マイクロレンズ用材料にも十分な耐
熱性が必要である。

【０００４】このような、感放射線性樹脂組成物より得
られた層間絶縁膜上に透明電極を形成する工程、または
感放射線性樹脂組成物より得られたマイクロレンズパタ
ーンを硬化させる工程において、材料は２３０℃以上の
高温にさらされる場合がある。しかしながら、層間絶縁
膜またはマイクロレンズパターンの形成後、高温処理を
実施しても十分な透明性、耐溶剤性、密着性等の諸物性
を維持し、かつ組成物として必要な解像度、保存安定性
等を具備する感放射線性樹脂組成物は未だ提案されてい
ない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
層間絶縁膜またはマイクロレンズパターンの形成後、高
温処理を実施しても十分な透明性、耐溶剤性、密着性等
の諸物性を維持し、かつ組成物として必要な解像度、保
存安定性等を具備する感放射線性樹脂組成物を提供する
ことにある。本発明の別の目的は、上記感放射線性樹脂
組成物より形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズ
を提供することにある。本発明のさらに他の目的および
利点は、以下の説明から明らかになろう。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明であ
る ［Ａ］フェノール性水酸基および／またはカルボキシル
基を含有する重合体と、［Ｂ］１，２−キノンジアジド
−６−スルホン酸エステル化合物、１，２−キノンジア
ジド−７−スルホン酸エステル化合物、および１，２−
キノンジアジド−８−スルホン酸エステル化合物からな
る群から選ばれる少なくとも一つの化合物を含有するこ
とを特徴とする感放射線性樹脂組成物により達成され
る。本発明の別の目的は、上記感放射線性樹脂組成物よ
り形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズにより達
成される。なお、本発明でいう「放射線」は、紫外線、
遠紫外線、Ｘ線、電子線、分子線、γ線、シンクロトロ
ン放射線、プロトンビ−ム等を含むものを意味する。

【０００７】以下、本発明の感放射線性樹脂組成物につ
いて詳述する。本発明の感放射線性樹脂組成物は、
［Ａ］フェノール性水酸基および／またはカルボキシル
基を含有する重合体と、［Ｂ］１，２−キノンジアジド
−６−スルホン酸エステル化合物、１，２−キノンジア
ジド−７−スルホン酸エステル化合物、および１，２−
キノンジアジド−８−スルホン酸エステル化合物からな
る群から選ばれる少なくとも一つの化合物を含有するこ
とを特徴とする。

【０００８】本発明で用いられる［Ａ］成分は、フェノ
ール性水酸基および／またはカルボキシル基を含有する
重合体である限り、適宜の材料を使用することができる
が、たとえば、フェノール性水酸基および／またはカル
ボキシル基を含有する単量体、並びに必要に応じてその
他の単量体とを共重合することによって得ることができ
る。

【０００９】上記フェノール性水酸基および／またはカ
ルボキシル基を含有する単量体としては、たとえばアク
リル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン
酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン
酸、イタコン酸などのジカルボン酸；これらジカルボン
酸の無水物；およびビニルフェノールといったフェノー
ル類を挙げることができる。上記のフェノール性水酸基
および／またはカルボキシル基を含有する単量体として
モノカルボン酸、ジカルボン酸、またはジカルボン酸の
無水物を使用する場合、共重合する際に使用する全単量
体当たり、好ましくは１０〜５０重量％、特に好ましく
は１０〜３５重量％使用することができる。この場合、
モノカルボン酸、ジカルボン酸、またはジカルボン酸の
無水物の使用量が１０重量％未満であると、感放射線性
樹脂組成物を露光後の現像性が低下することがあり、一
方、これらの使用量が５０重量％を越えると、所定の残
膜率が得られない場合がある。

【００１０】また、上記のフェノール性水酸基および／
またはカルボキシル基を含有する単量体としてフェノー
ル類を使用する場合には、共重合する際に使用する全単
量体当たり、好ましくは３０〜１００重量％、特に好ま
しくは５０〜１００重量％使用することができる。この
場合、フェノール類の使用量が３０重量％未満の場合
は、アルカリ可溶性重合体の現像性が低下する傾向にあ
る。

【００１１】必要に応じて使用できるその他の単量体と
しては、たとえばメチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチル
メタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレートなどのメタ
クリル酸アルキルエステル；アクリル酸グリシジル、メ
タクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジ
ル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−
ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３,４−エ
ポキシブチル、メタクリル酸−３,４−エポキシブチ
ル、アクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、メタクリ
ル酸−６,７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル
酸−６,７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグ
リシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエー
テル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、（メ
タ）アクリル酸-β-メチルグリシジル、（メタ）アクリ
ル酸-β-エチルグリシジル、（メタ）アクリル酸-β-プ
ロピルグリシジル、α-エチルアクリル酸-β-メチルグ
リシジル、（メタ）アクリル酸-３-メチル-３，４-エポ
キシブチル、（メタ）アクリル酸-３-エチル-３，４-エ
ポキシブチル、（メタ）アクリル酸-４-メチル-４，５-
エポキシペンチル、（メタ）アクリル酸-５-メチル-
５，６-エポキシヘキシル、３−エチル−３−オキセタ
ニルメタクリレート、３−エチル−３−オキセタニルア
クリレートなどの不飽和二重結合を有する環状エーテル
類；

【００１２】メチルアクリレート、イソプロピルアクリ
レートなどのアクリル酸アルキルエステル；シクロヘキ
シルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルメタク
リレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−
８−イル メタクリレート（当該技術分野で慣用名とし
て「ジシクロペンタニルメタクリレート」といわれてい
る）、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレー
ト、イソボロニルメタクリレートなどのメタクリル酸環
状アルキルエステル；シクロヘキシルアクリレート、２
−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ
［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル アクリレー
ト（当該技術分野で慣用名として「ジシクロペンタニル
アクリレート」といわれている）、ジシクロペンタニル
オキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート
などのアクリル酸環状アルキルエステル；

【００１３】フェニルメタクリレート、ベンジルメタク
リレートなどのメタクリル酸アリールエステル；フェニ
ルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのアクリル
酸アリールエステル；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジ
エチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエス
テル；２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレートなどのヒドロキシアルキ
ルエステル；およびスチレン、α−メチルスチレン、ｍ
−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエ
ン、ｐ−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリル
アミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタ
ジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタ
ジエン、フェニルマレイイミド、エチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチル
グリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレン
グリコールジメタクリレート、トリエチレングリコール
ジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリ
レート、グリセロールジメタクリレートなどが挙げられ
る。

【００１４】これらのうち、スチレン、ｔ−ブチルメタ
クリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ｐ−
メトキシスチレン、２−メチルシクロヘキシルアクリレ
ート、フェニルマレイイミド、１，３−ブタジエン、エ
チレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレー
ト、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸-β-メチル
グリシジル、３−エチル−３−オキセタニルメタクリレ
ートなどが共重合反応性、分子量分布のコントロール性
およびアルカリ水溶液に対する溶解性の点から好まし
い。これらは、単独であるいは組み合わせて用いられ
る。

【００１５】［Ａ］成分の合成に用いられる溶媒として
は、具体的には、例えばメタノール、エタノールなどの
アルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル類；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル
類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブア
セテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルア
セテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチ
ルエーテルなどのジエチレングリコール類；

【００１６】プロピレングリコールメチルエーテル、プ
ロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコ
ールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエ
ーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテ
ル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートプロ
ピレングリコールブチルエーテルアセテート、などのプ
ロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プ
ロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、
プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートな
どのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート
類；

【００１７】トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒド
ロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；
および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチ
ル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳
酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３
−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロ
ピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロチ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキ
シ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、
メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ
酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチ
ル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロ
ポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ
酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メ
チル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、

【００１８】ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピ
オン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−
メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオ
ン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エ
トキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸
プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブト
キシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エ
チル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキ
シプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプ
ロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチ
ル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプ
ロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピ
ル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシ
プロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポ
キシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メ
チル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシ
プロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチ
ル、などのエステル類が挙げられる。

【００１９】［Ａ］成分の合成に用いられる重合開始剤
としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られて
いるものが使用でき、例えば２，２′−アゾビスイソブ
チロニトリル、２，２′−アゾビス−（２，４−ジメチ
ルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス−（４−メト
キシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化
合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシ
ド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１′−ビス
−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機
過酸化物；および過酸化水素が挙げられる。ラジカル重
合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物を
還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよ
い。

【００２０】［Ａ］成分の合成においては、分子量を調
整するために分子量調整剤を使用することができる。そ
の具体例としては、クロロホルム、四臭化炭素等のハロ
ゲン化炭化水素類；ｎ−ヘキシルメルカプタン、ｎ−オ
クチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔｅ
ｒｔ−ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメ
ルカプタン類；ジメチルキサントゲンスルフィド、ジイ
ソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン
類；ターピノーレン、α−メチルスチレンダイマー等が
挙げられる。

【００２１】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、ポ
リスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」とい
う）が、通常、２×１０³〜１×１０⁵、好ましくは５×
１０³〜５×１０⁴であることが望ましい。Ｍｗが２×１
０³未満であると、得られる被膜は、現像性、残膜率な
どが低下したり、またパターン形状、耐熱性などに劣る
ことがあり、一方１×１０⁵を超えると、感度が低下し
たりパターン形状に劣ることがある。

【００２２】上記のように本発明における［Ａ］成分
は、フェノール性水酸基および／またはカルボキシル基
を含有する重合体であり、アルカリ水溶液に対して適切
な溶解性を有する。このような［Ａ］成分を含む本発明
の感放射線性樹脂組成物は、現像する際に現像残りを生
じることなく、また膜べりすることなく、容易に所定パ
ターンの塗膜を形成することができる。

【００２３】本発明の感放射線性樹脂組成物は［Ｂ］
１，２−キノンジアジド−６−スルホン酸エステル化合
物、１，２−キノンジアジド−７−スルホン酸エステル
化合物、および１，２−キノンジアジド−８−スルホン
酸エステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも一
つの化合物を含有する。

【００２４】上記［Ｂ］成分の具体例としては、２，
３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフ
トキノンアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４
−トリヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノ
ンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，３，４−ト
リヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンア
ジド−８−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒド
ロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド
−６−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキ
シベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−７
−スルホン酸エステル、２，４，６−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−ス
ルホン酸エステル等のトリヒドロキシベンゾフェノンの
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類；

【００２５】２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−ス
ルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−
７−スルホン酸エステル、２，２’，４，４’−テトラ
ヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−８−スルホン酸エステル、２，３，４，３’−テ
トラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノン
ジアジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４，３’
−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキ
ノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，３，４，
３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフ
トキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，３，
４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，２−
ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、２，
３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−１，
２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、
２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−
１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステ
ル、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチ
ルベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６
−スルホン酸エステル、２，３，４，２’−テトラヒド
ロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１，２−ナフト
キノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，３，
４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェ
ノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸
エステル、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’
−メトキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−６−スルホン酸エステル、２，３，４，４’−テ
トラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１，
２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、
２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシ
ベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−
スルホン酸エステル等のテトラヒドロキシベンゾフェノ
ンの１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル；２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾ
フェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホ
ン酸エステル、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロ
キシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−
７−スルホン酸エステル、２，３，４，２’，６’−ペ
ンタヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノン
ジアジド−８−スルホン酸エステル等のペンタヒドロキ
シベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸エステル；

【００２６】２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒ
ドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−６−スルホン酸エステル、２，４，６，３’，
４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２
−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、
２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベン
ゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スル
ホン酸エステル、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキ
サヒドロキシベンゾフェノン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−６−スルホン酸エステル、３，４，５，３’，
４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１，２
−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、
３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベン
ゾフェノン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スル
ホン酸エステル等のヘキサヒドロキシベンゾフェノンの
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；

【００２７】ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メ
タン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸
エステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エ
ステル、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン
−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エス
テル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２
−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、ビ
ス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフト
キノンジアジド−７−スルホン酸エステル、ビス（ｐ−
ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−８−スルホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−
６−スルホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スル
ホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エ
ステル、

【００２８】１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニ
ル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−スル
ホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフ
ェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−
スルホン酸エステル、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）エタン−１，２−ナフトキノンジアジド−
８−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリヒド
ロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−６−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−トリ
ヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−７−スルホン酸エステル、ビス（２，３，４−
トリヒドロキシフェニル）メタン−１，２−ナフトキノ
ンジアジド−８−スルホン酸エステル、２，２−ビス
（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−
１，２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステ
ル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニ
ル）プロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−ス
ルホン酸エステル、２，２−ビス（２，３，４−トリヒ
ドロキシフェニル）プロパン−１，２−ナフトキノンジ
アジド−８−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス
（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−
フェニルプロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−６
−スルホン酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプ
ロパン−１，２−ナフトキノンジアジド−７−スルホン
酸エステル、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−
１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステ
ル、

【００２９】４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒド
ロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチ
リデン〕ビスフェノール−１，２−ナフトキノンジアジ
ド−６−スルホン酸エステル、４，４’−〔１−〔４−
〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチ
ル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール−１，２−
ナフトキノンジアジド−７−スルホン酸エステル、４，
４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕
−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェ
ノール−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン
酸エステル、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１，２−
ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル、ビス
（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−
ヒドロキシフェニルメタン−１，２−ナフトキノンジア
ジド−７−スルホン酸エステル、ビス（２，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニ
ルメタン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホ
ン酸エステル、

【００３０】３，３，３’，３’−テトラメチル−１，
１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，
７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノンジアジド−
６−スルホン酸エステル、３，３，３’，３’−テトラ
メチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，
５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２−ナフトキノ
ンジアジド−７−スルホン酸エステル、３，３，３’，
３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−
５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール−１，２
−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エステル、
２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロ
キシフラバン−１，２−ナフトキノンジアジド−６−ス
ルホン酸エステル、２，２，４−トリメチル−７，
２’，４’−トリヒドロキシフラバン−１，２−ナフト
キノンジアジド−７−スルホン酸エステル、２，２，４
−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバ
ン−１，２−ナフトキノンジアジド−８−スルホン酸エ
ステル等の（ポリヒドロキシフェニル）アルカンの１，
２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルが挙げら
れる。これらの化合物は単独でまたは２種類以上を組み
合わせて用いることができる。

【００３１】［Ｂ］成分の使用割合は、［Ａ］成分１０
０重量部に対して５〜１００重量部、好ましくは１０〜
５０重量部である。この割合が５重量部未満の場合に
は、放射線の照射によって生成する酸量が少ないため、
放射線の照射部分と未照射部分との現像液となるアルカ
リ水溶液に対する溶解度の差が小さく、パターニングが
困難となる。一方、この割合が１００重量部を超える場
合には、短時間の放射線の照射では、未反応の［Ｂ］成
分が多量に残存するため、前記アルカリ水溶液への不溶
化効果が高すぎて現像することが困難となる。

【００３２】本発明においては、所望により、［Ｃ］架
橋されうる感応基を少なくとも１個含有する化合物を含
有させることもできる。［Ｃ］架橋されうる官能基を少
なくとも１個含有する化合物としては、エポキシ樹脂、
オキセタン樹脂、アルコキシメチル化メラミン樹脂、ア
ルコキシメチル化グリコールウリル樹脂、アルコキシメ
チル化ベンゾグアナミン樹脂、アルコキシメチル化尿素
樹脂、イソシアネート樹脂、シアネート樹脂、オキサゾ
リン樹脂、オキサジン樹脂等を挙げることができる。

【００３３】上記エポキシ樹脂としては、ビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、
脂肪族ポリグリシジルエーテルを挙げることができる。
それらの市販品として、ビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂としては、エピコート１００１、同１００２、同１０
０３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１
０、同８２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等
を、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、エピコ
ート８０７（油化シェルエポキシ（株）製）等を、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピコート
１５２、同１５４（以上、油化シェルエポキシ（株）
製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬
（株）製）等を、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
としては、ＥＯＣＮ−１０２、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、Ｅ
ＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１
０２５、ＥＯＣＮ−１０２７（以上、日本化薬（株）
製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポキシ
（株）製）等を、環式脂肪族エポキシ樹脂としては、Ｃ
Ｙ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ−
ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ製）、ＥＲＬ−４２３４、ＥＲＬ−
４２９９、ＥＲＬ−４２２１、ＥＲＬ−４２０６（以
上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工
（株）製）、アラルダイトＣＹ−１８２、同ＣＹ−１９
２、同ＣＹ−１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ
Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日
本インキ工業（株）製）、エピコート８７１、同８７２
（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６
１、ＥＤ−５６６２（以上、セラニーズコーティング
（株）製）等を、脂肪族ポリグリシジルエーテルとして
は、エポライト１００ＭＦ（共栄社油脂化学工業（株）
製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等を挙げ
ることができる。

【００３４】これらのうち好ましいものとしては、ビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型
エポキシ樹脂およびクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂が挙げられる。

【００３５】以上、例示した化合物の大部分は高分子量
体であるが、上記エポキシ樹脂の分子量は、特に制限さ
れるものではなく、例えばビスフェノールＡまたはビス
フェノールＦのグリシジルエーテル等の低分子量体等を
エポキシ樹脂として使用することもできる。

【００３６】上記オキセタン樹脂としては、ビス〔（３
−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼ
ン（商品名「ＸＤＯ」東亜合成社製）、ビス〔（３−エ
チル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕
メタン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキ
シ）メチル−フェニル〕エーテル、ビス〔（３−エチル
−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕プロ
パン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキ
シ）メチル−フェニル〕スルホン、ビス〔（３−エチル
−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕ケト
ン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）
メチル−フェニル〕ヘキサフロロプロパン、トリ〔（３
−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼ
ン、テトラ〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキ
シ）メチル〕ベンゼン等を挙げることができる。

【００３７】上記アルコキシメチル化メラミン樹脂、ア
ルコキシメチル化ベンゾグアナミン樹脂、アルコキシメ
チル化グリコールウリル樹脂およびアルコキシメチル化
尿素樹脂は、それぞれメチロール化メラミン樹脂、メチ
ロール化ベンゾグアナミン樹脂、メチロール化グリコー
ルウリル樹脂およびメチロール化尿素樹脂のメチロール
基をアルコキシメチル基に変換することにより得られ
る。このアルコキシメチル基の種類については特に限定
されるものではなく、例えばメトキシメチル基、エトキ
シメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等
を挙げることができる。これらの樹脂のうち、アルコキ
シメチル化メラミン樹脂およびアルコキシメチル化ベン
ゾグアナミン樹脂が好ましく使用される。

【００３８】これらの市販品としては、ＣＹＭＥＬ３０
０、同３０１、同３０３、同３７０、同３２５、同３２
７、同７０１、同２６６、同２６７、同２３８、同１１
４１、同２７２、同２０２、同１１５６、同１１５８、
同１１２３、同１１７０、同１１７４、同ＵＦＲ６５、
同３００（以上、三井サイメック社製）、ニカラックＭ
ｘ−７５０、同Ｍｘ−０３２、同Ｍｘ−７０６、同Ｍｘ
−７０８、同Ｍｘ−４０、同Ｍｘ−３１、同Ｍｓ−１
１、同Ｍｗ−３０（以上、三和ケミカル（株）製）等が
挙げられる。

【００３９】上記イソシアネート樹脂としては、例えば
フェニレン−１，３−ジイソシアネート、フェニレン−
１，４−ジイソシアネート、１−メトキシフェニレン−
２，４−ジイソシアネート、１−メチルフェニレン−
２，４−ジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシ
アネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３
−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジ
イソシアネート、ビフェニレン−４，４’−ジイソシア
ネート、３，３’−ジメトキシビフェニレン−４，４’
−ジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニレン
−４，４’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−
２，４’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，
４’−ジイソシアネート、３，３’−ジメトキシジフェ
ニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、３，３’−
ジメチルジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネー
ト、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、シクロブ
チレン−１，３−ジイソシアネート、シクロペンチレン
−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，
３−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−１，４−ジ
イソシアネート、１−メチルシクロヘキシレン−２，４
−ジイソシアネート、１−メチルシクロヘキシレン−
２，６−ジイソシアネート、１−イソシアネート−３，
３，５−トリメチル−５−イソシアネートメチルシクロ
ヘキサン、シクロヘキサン−１，３−ビス（メチルイソ
シアネート）、シクロヘキサン−１，４−ビス（メチル
イソシアネート）、イソホロンジイソシアネート、ジシ
クロヘキシルメタン−２，４’−ジイソシアネート、ジ
シクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、
エチレンジイソシアネート、テトラメチレン−１，４−
ジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシ
アネート、ドデカメチレン−１，１２−ジイソシアネー
ト、リジンジイソシアネートメチルエステル等や、これ
らの有機ジイソシアネートの化学量論的過剰量と２官能
性活性水素含有化合物との反応により得られる両末端イ
ソシアネートプレポリマー等を挙げることができる。

【００４０】また、場合により有機ジイソシアネートと
ともに他の有機ポリイソシアネートを併用することもで
きる。他の有機ポリイソシアネートとしては、例えばフ
ェニル−１，３，５−トリイソシアネート、ジフェニル
メタン−２，４，４’−トリイソシアネート、ジフェニ
ルメタン−２，５，４’−トリイソシアネート、トリフ
ェニルメタン−２，４’，４”−トリイソシアネート、
トリフェニルメタン−４，４’，４”−トリイソシアネ
ート、ジフェニルメタン−２，４，２’，４’−テトラ
イソシアネート、ジフェニルメタン−２，５，２’，
５’−テトライソシアネート、シクロヘキサン−１，
３，５−トリイソシアネート、シクロヘキサン−１，
３，５−トリス（メチルイソシアネート）、３，５−ジ
メチルシクロヘキサン−１，３，５−トリス（メチルイ
ソシアネート）、１，３，５−トリメチルシクロヘキサ
ン−１，３，５−トリス（メチルイソシアネート）、ジ
シクロヘキシルメタン−２，４，２’−トリイソシアネ
ート、ジシクロヘキシルメタン−２，４，４’−トリイ
ソシアネート等の３官能以上の有機ポリイソシアネート
や、これらの３官能以上の有機ポリイソシアネートの化
学量論的過剰量と２官能以上の多官能性活性水素含有化
合物との反応により得られる末端イソシアネートプレポ
リマー等を挙げることができる。

【００４１】上記シアネート樹脂としては、1,3-ジシア
ナートベンゼン、1,4-ジシアナートベンゼン、1,3,5-ト
リシアナートベンゼン、1,3-、1,4-、1,6-、1.8-、2.6
-、または2,7-ジシアナートナフタレン、1,3,6-トリシ
アナートナフタレン、2,2'-または4,4'-ジシアナートビ
フェニル、ビス（4-シアナートフェニル）メタン、2,2-
ビス（4-シアナートフェニル）プロパン、2,2'-ビス
（3,5−ジクロロ-4-シアナートフェニル）プロパン、2,
2-ビス（4-シアナートフェニル）エタン、ビス（4-シア
ナートフェニル）エーテル、ビス（4-シアナートフェニ
ル）チオエーテル、ビス（4-シアナートフェニル）スル
ホン、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2,2-ビス（4-シア
ナートフェニル）プロパン、トリス（4-シアナートフェ
ニル）ホスファイト、トリス（4-シアナートフェニル）
ホスフェート、およびフェノール樹脂とハロゲン化シア
ンの反応より得られるベンゼン多核体のポリイソシアネ
ート化合物（例えば、特公昭45-11712号および55-9433
号公報）などを挙げることができる。入手が容易であり
かつ、成形性および最終硬化物に良好な性質を与えると
いう点から、2,2-ビス（4-シアナートフェニル）プロパ
ンのようなビスフェノールから誘導された２価のシアン
酸エステル化合物は、特に良好に使用される。また、フ
ェノールとホルムアルデヒドとの初期縮合物にハロゲン
化シアンを反応させて得られるポリシアナートも有用で
ある。

【００４２】上記オキサゾリン樹脂としては、２，２
‘−ビス（２−オキサゾリン）、４−フラン−２−イル
メチレン−２−フェニル−４Ｈ−オキサゾール−５−オ
ン、１，４−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサゾリ
ル）ベンゼン、１，３−ビス（４，５−ジヒドロ−２−
オキサゾリル）ベンゼン、２，３−ビス（４−イソプロ
ペニル−２−オキサゾリン−２−イル）ブタン、２，２
‘−ビス−４−ベンジル−２−オキサゾリン、２，６−
ビス（イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル）ピ
リジン、２，２‘−イソプロピリデンビス（４−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−２−オキサゾリン）、２，２‘−イソプロ
ピリデンビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）、
２，２‘−メチレンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−
オキサゾリン）、２，２‘−メチレンビス（４−フェニ
ル−２−オキサゾリン）等が挙げられる。

【００４３】上記オキサジン樹脂としては、２，２‘−
ビス（２−オキサジン）、４−フラン−２−イルメチレ
ン−２−フェニル−４Ｈ−オキサジル−５−オン、１，
４−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサジル）ベンゼ
ン、１，３−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサジ
ル）ベンゼン、２，３−ビス（４−イソプロペニル−２
−オキサジン−２−イル）ブタン、２，２‘−ビス−４
−ベンジル−２−オキサジン、２，６−ビス（イソプロ
ピル−２−オキサジン−２−イル）ピリジン、２，２
‘−イソプロピリデンビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２
−オキサジン）、２，２‘−イソプロピリデンビス（４
−フェニル−２−オキサジン）、２，２‘−メチレンビ
ス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサジン）、２，２
‘−メチレンビス（４−フェニル−２−オキサジン）等
が挙げられる。

【００４４】［Ｃ］成分の使用割合は、［Ａ］成分１０
０重量部に対して１００重量部以下、特に５〜５０重量
部であることが好ましい。［Ｃ］成分の使用割合が
［Ａ］成分１００重量部に対して１００重量部を超える
場合には、当該組成物全体のアルカリ溶解性が過大とな
って、現像処理後における残膜率が低下する傾向があ
る。これら［Ｃ］架橋されうる官能基を少なくとも１個
含有する化合物は、単独でまたは２種以上を組み合わせ
て用いることができる。

【００４５】＜その他の成分＞本発明の感放射線性樹脂
組成物においては、上記の［Ａ］、［Ｂ］成分および
［Ｃ］成分の他に、必要に応じて、［Ｄ］感熱性酸生成
化合物、［Ｅ］少なくとも１個のエチレン性不飽和二重
結合を有する重合性化合物、［Ｆ］界面活性剤、および
［Ｇ］密着助剤を含有させることができる。

【００４６】上記［Ｄ］成分である感熱性酸生成化合物
は、耐熱性や硬度を向上させるために用いることがで
き、その具体例としては、フッ化アンチモン類が挙げら
れ、市販品としては、サンエイドＳＩ−Ｌ８０、サンエ
イドＳＩ−Ｌ１１０、サンエイドＳＩ−Ｌ１５０（以
上、三新化学工業（株）製）等が挙げられる。

【００４７】［Ｄ］成分の使用割合は、［Ａ］成分１０
０重量部に対して２０重量部以下、特に５重量部以下で
あることが好ましい。この割合が２０重量部を超える場
合には、析出物が発生し、パターニングが困難となる。

【００４８】上記［Ｅ］成分である少なくとも１個のエ
チレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物として
は、単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アク
リレートまたは３官能以上の（メタ）アクリレートを好
適に用いることができる。上記単官能（メタ）アクリレ
ートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソ
ボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル
（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキ
シエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙
げられ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−
１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（東亞合成(株)
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２
０Ｓ（日本化薬(株)製）、ビスコート１５８、同２３１
１（大阪有機化学工業(株)製）が挙げられる。

【００４９】上記２官能（メタ）アクリレートとして
は、例えばエチレングリコール（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、
１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェ
ノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げ
られ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−２
１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（東亞合成(株)
製）、ＫＡＹＡＲＡＤＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ
−６０４（日本化薬(株)製）、ビスコート２６０、同３
１２、同３３５ＨＰ（大阪有機化学工業(株)製）などが
挙げられる。

【００５０】上記３官能以上の（メタ）アクリレートと
しては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォ
スフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレートなどが挙げられ、その市販品としては、例えば
アロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０
５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、
同Ｍ−８０６０（東亞合成(株)製）、ＫＡＹＡＲＡＤ
ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣ
Ａ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（日
本化薬(株)製）、ビスコート２９５、同３００、同３６
０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（大阪有機化学工業
(株)製）などが挙げられる。これらの単官能、２官能ま
たは３官能以上の（メタ）アクリレートは、単独である
いは組み合わせて用いられる。

【００５１】［Ｅ］成分の使用割合は、［Ａ］成分１０
０重量部に対して５０重量部以下、特に３０重量部以下
であることが好ましい。このような割合で［Ｅ］成分が
含有されることにより、当該感放射線性樹脂組成物から
得られるパターン状薄膜の耐熱性、強度等を向上させる
ことができる。この割合が５０重量部を超える場合に
は、［Ａ］成分に対する相溶性が不十分となり、塗布時
に膜荒れが生じることがある。

【００５２】上記の［Ｆ］成分である界面活性剤として
は、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（ＢＭ Ｃ
ＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７
２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３（大日本インキ化学工業
(株)製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０
Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（住友スリーエム
(株)製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ
−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８
２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０
３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６
（旭硝子(株)製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、
同３５２（新秋田化成（株）製）、ＳＨ−２８ＰＡ、Ｓ
Ｈ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８
４２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（東レシリコーン
（株）製）などのフッ素およびシリコーン系界面活性
剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシ
エチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリ
オキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレ
ンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートな
どのポリオキシエチレンジアルキルエステル類などのノ
ニオン系界面活性剤；オルガノシロキサンポリマーＫＰ
３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸
系共重合体ポリフローNo. ５７、同９５（以上、共栄社
油脂化学工業（株）製）などが挙げられる。

【００５３】これらの界面活性剤は、［Ａ］成分１００
重量部に対して、好ましくは５重量部以下、より好まし
くは２重量部以下で用いられる。界面活性剤の量が５重
量部を超える場合は、塗布時の膜あれが生じやすくな
る。

【００５４】上記の［Ｇ］接着助剤としては、官能性シ
ランカップリング剤が好ましく使用され、例えばカルボ
キシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポ
キシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング
剤が挙げられ、具体的にはトリメトキシシリル安息香
酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。

【００５５】このような接着助剤は、アルカリ可溶性重
合体１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以
下、より好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。
接着助剤の量が２０重量部を超える場合は、現像残りが
生じやすくなる。

【００５６】本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の
［Ａ］フェノール性水酸基および／またはカルボキシル
基を含有する重合体、［Ｂ］１，２−キノンジアジド−
６−スルホン酸エステル化合物、１，２−キノンジアジ
ド−７−スルホン酸エステル化合物、および１，２−キ
ノンジアジド−８−スルホン酸エステル化合物からなる
群から選ばれる少なくとも一つの化合物、ならびに所望
により使用される［Ｃ］架橋されうる官能基を少なくと
も１個含有する化合物、およびその他の添加剤を均一に
混合することによって調製される。通常、本発明の感放
射線性樹脂組成物は、適当な溶媒に溶解されて溶液状態
で用いられる。

【００５７】本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用
いられる溶媒としては、各成分を均一に溶解し、各成分
と反応しないものが用いられる。具体的には、例えばメ
タノール、エタノールなどのアルコール類；テトラヒド
ロフランなどのエーテル類；エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル
などのグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリ
コールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルなどのジエチレングリコール類；プロピレングリコー
ルメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテ
ル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレ
ングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコー
ルモノアルキルエーテル類；

【００５８】プロピレングリコールメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート
プロピレングリコールブチルエーテルアセテート、など
のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート
類；プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネー
ト、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネー
ト、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネ
ート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネ
ートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセ
テート類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類；

【００５９】メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのケ
トン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキ
シ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸
ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸
ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン
酸プロチル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−
ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸
メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、
メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢
酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチ
ル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プ
ロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキ
シ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロ
ピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸
メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキ
シプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブ
チル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシ
プロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピ
ル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプ
ロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、
２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロ
ピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３
−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオ
ン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−
エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン
酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エ
トキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン
酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プ
ロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピ
オン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−
ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン
酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチル、などの
エステル類が挙げられる。

【００６０】これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との
反応性および塗膜の形成のしやすさから、グリコールエ
ーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテ
ート類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテ
ート類、エステル類およびジエチレングリコール類が好
ましく用いられる。

【００６１】さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用
することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例
えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソ
ホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、
１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、
安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチ
ル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレ
ン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。

【００６２】また上記のように調製された組成物溶液
は、孔径０．５μｍ程度のミリポアフィルタなどを用い
て濾過した後、使用に供することもできる。

【００６３】パターン状塗膜の形成 次に、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて本発明の
層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法につい
て述べる。本発明の感放射線性樹脂組成物は、下地基板
表面に塗布し、プレベークにより溶媒を除去することに
よって塗膜とすることができる。塗布方法として、例え
ばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布
法などの各種の方法を採用することができる。また、プ
レベークの条件は、各成分の種類、配合割合などによっ
ても異なるが、通常７０〜９０℃で１〜１５分間程度の
条件が最適である。 次にプレベークされた塗膜に所定
パターンマスクを介して紫外線などの放射線を照射し、
さらに現像液により現像し、不要な部分を除去して所定
パターンを形成する。現像方法は液盛り法、ディッピン
グ法、シャワー法などのいずれでも良く、現像時間は通
常３０〜１８０秒間である。

【００６４】上記現像液としては、アルカリ水溶液、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモ
ニアなどの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピ
ルアミンなどの１級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ
−プロピルアミンなどの２級アミン類；トリメチルアミ
ン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ト
リエチルアミンなどの３級アミン類；ジメチルエタノー
ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノール
アミンなどの３級アミン類；ピロール、ピペリジン、Ｎ
−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，
５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンなどの
環状３級アミン類；ピリジン、コリジン、ルチジン、キ
ノリンなどの芳香族３級アミン類；テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシドなどの４級アンモニウム塩の水溶液を使用するこ
とができる。また上記アルカリ水溶液に、メタノール、
エタノールなどの水溶性有機溶媒および／または界面活
性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用するこ
ともできる。

【００６５】現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、
不要な部分を除去し、さらに圧縮空気や圧縮窒素で風乾
させることによって、パターンが形成される。形成され
たパターンに紫外線などの放射線を照射し、その後この
パターンを、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置
により、所定温度、例えば１８０〜２５０℃で、所定時
間、例えばホットプレート上なら５〜６０分間、オーブ
ン中では３０〜９０分間加熱処理をすることにより目的
とする層間絶縁膜およびマイクロレンズのパターン状塗
膜を得ることができる。

【００６６】

【実施例】以下に層間絶縁膜およびマイクロレンズに関
する合成例、実施例および比較例を示して、本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定
されるものではない。

【００６７】合成例１ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２２０
重量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸２２重量部、
ジシクロペンタニルメタクリレート３８部、メタクリル
酸グリシジル４０重量部、α−メチルスチレンダイマー
１．５部を仕込み窒素置換しながらゆるやかに撹拌を始
めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度にて５
時間加熱し共重合体［Ａ−１］を含む重合体溶液を得
た。得られた重合体溶液の固形分濃度は３１．２％であ
り、重合体の重量平均分子量は１８５００で分子量分布
は１．８であった。なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ
（ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（東ソー
（株）製ＨＬＣ−８０２０）を用いて測定したポリスチ
レン換算平均分子量である。

【００６８】合成例２ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２２０
重量部を仕込んだ。引き続きスチレン２０重量部、メタ
クリル酸２５重量部、フェニルマレイイミド２０部、メ
タクリル酸グリシジル３５重量部、α−メチルスチレン
ダイマー１．５部を仕込み窒素置換しながらゆるやかに
撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温
度にて５時間加熱し共重合体［Ａ−２］を含む重合体溶
液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は３１．０
％であり、重合体の重量平均分子量は２１０００で分子
量分布は２．１であった。

【００６９】合成例３ 冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、２，２′−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７重量部、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０
重量部を仕込んだ。引き続きスチレン３０重量部、メタ
クリル酸２５重量部、フェニルマレイイミド１０部、メ
タクリル酸グリシジル３５重量部、α−メチルスチレン
ダイマー１．５部を仕込み窒素置換しながらゆるやかに
撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温
度にて４時間加熱し共重合体［Ａ−３］を含む重合体溶
液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は３９．８
％であり、重合体の重量平均分子量は１９０００で分子
量分布は２．１であった。

【００７０】合成例４ ｐ−ヒドロキシスチレン２０重量％、ｐ−エチルフェノ
ール６５重量％および不純物として含有するその他の成
分１５重量％（内訳：水１０重量％、ｐ−クレゾール４
重量％、フェノール１重量％）の組成の混合物１２０ｇ
を、ｐ−メトキシメトキシスチレン１９ｇおよびジオキ
サン５０ｇと混合して均一溶液とした。この溶液を窒素
で３０分間バブリングした後、２,２’−アゾビス（４
−メトキシ−２,４−ジメチルバレロニトリル）１.９ｇ
を添加し、バブリングを継続しつつ、反応温度を４０℃
に維持して７時間重合させた。重合終了後、反応溶液を
多量のヘキサンと混合して、生成した共重合体を凝固さ
せた。次いで、共重合体をジオキサンに再溶解させた
後、再度ヘキサンにより、凝固させる操作を数回繰り返
して、未反応単量体を完全に除去し、５０℃の減圧下で
乾燥して、白色の共重合体［Ａ−４］（収率５２％）を
得た。得られた共重合体の重量平均分子量は１７０００
で分子量分布は２．１であり、¹³Ｃ−ＮＭＲ測定の結
果、ｐ−ヒドロキシスチレンとｐ−メトキシメトキシス
チレンとの共重合モル比が６２：３８であった。

【００７１】実施例１感放射線性樹脂組成物の調製 合成例１で得られた共重合体[Ａ−１]を含む重合体溶
（共重合体［Ａ−１］１００重量部（固形分）に相当）
と、成分［Ｂ］として４,４’−［１−［４−［１−
［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］ フ
ェニル］ エチリデン］ ビスフェノール（１モル）と
１,２−ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸クロリ
ド（２モル）との縮合物（４,４’−［１−［４−［１
−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］
フェニル］ エチリデン］ ビスフェノール−１,２−
ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル）３０
重量部およびγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン５重量部を混合し、固形分濃度が３０重量％にな
るようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テートに溶解させた後、孔径０．５μｍのミリポアフィ
ルタで濾過して感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）
を調製した。

【００７２】層間絶縁膜の評価（I）パターン状薄膜の形成 ガラス基板上にスピンナーを用いて、上記組成物溶液
（Ｓ−１）を塗布した後、８０℃で５分間ホットプレー
ト上でプレベークして塗膜を形成した。上記で得られた
塗膜に所定パターンマスクを用いて、４３６ｎｍでの強
度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を照射した。次いで
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．５重量％水
溶液で２５℃で２分間現像した後、純水で１分間リンス
した。これらの操作により、不要な部分を除去した。上
記で形成されたパターンに４３６ｎｍでの強度が１０ｍ
Ｗ／ｃｍ²である紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ²照射した
後、オーブン中で２３０℃で６０分間加熱し硬化させ膜
厚３μｍの層間絶縁膜を得た。

【００７３】（II）感度の評価 上記（Ｉ）で得られたパターン状薄膜において抜きパタ
ーン（５μｍ×５μｍホール）が解像できる感度を結果
を表１に示した。この値が５０ｍＪ／ｃｍ²以下の場合
には感度が良好であるといえる。

【００７４】（III）透過率の評価 上記（Ｉ）で得られたパターン状薄膜を形成したガラス
基板の透過率を測定した。このときの４００ｎｍにおけ
る透過率を表１に示した。透過率が９０〜１００％のと
き透過率は良好、９０％以下の場合、透過率は不良とい
える。

【００７５】（IV）耐溶剤性の評価 パターン状薄膜を形成したガラス基板を５０℃中のＮ−
メチルピロリドン中に１０分間浸せきし、膜厚変化を評
価した。このときの変化率を表１に示した。膨潤率が０
〜５％のとき耐溶剤性は良好、５％を超えたときおよび
溶解により膜厚が低下した場合、耐溶剤性は不良といえ
る。

【００７６】実施例２ 実施例１において、共重合体［Ａ−１］の代わりに共重
合体［Ａ−２］を使用した他は、実施例１と同様にして
組成物溶液（Ｓ−２）を調製した。また、実施例１にお
いて、組成物溶液（Ｓ−１）のかわりに（Ｓ−２）を使
用した他は、実施例１と同様にして層間絶縁膜を形成
し、評価した。結果を表１に示した。

【００７７】実施例３ 実施例１において、共重合体［Ａ−１］の代わりに共重
合体［Ａ−３］を使用した他は、実施例１と同様にして
組成物溶液（Ｓ−３）を調製した。また、実施例１にお
いて、組成物溶液（Ｓ−１）のかわりに（Ｓ−３）を使
用した他は、実施例１と同様にして層間絶縁膜を形成
し、評価した。結果を表１に示した。

【００７８】実施例４ 実施例１において、４,４’−［１−［４−［１−［４
−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニ
ル］ エチリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフト
キノンジアジド−６−スルホン酸エステル３０重量部の
代わりに、４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロ
キシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］ エチ
リデン］ ビスフェノール（１モル）と１,２−ナフト
キノンジアジド−７−スルホン酸クロリド（２モル）と
の縮合物（４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロ
キシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニル］ エ
チリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフトキノンジ
アジド−７−スルホン酸エステル）３０重量部を使用し
た他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−４）を
調製した。また、実施例１において、組成物溶液（Ｓ−
１）のかわりに（Ｓ−４）を使用した他は、実施例１と
同様にして層間絶縁膜を形成し、評価した。結果を表１
に示した。

【００７９】実施例５ 実施例１において、４,４’−［１−［４−［１−［４
−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニ
ル］ エチリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフト
キノンジアジド−６−スルホン酸エステル３０重量部の
代わりに、４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロ
キシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］ エチ
リデン］ ビスフェノール（１モル）と１,２−ナフト
キノンジアジド−８−スルホン酸クロリド（２モル）と
の縮合物（４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロ
キシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニル］ エ
チリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフトキノンジ
アジド−８−スルホン酸エステル）３０重量部を使用し
た他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−５）を
調製した。また、実施例１において、組成物溶液（Ｓ−
１）のかわりに（Ｓ−５）を使用した他は、実施例１と
同様にして層間絶縁膜を形成し、評価した。結果を表１
に示した。

【００８０】実施例６〜１３ 実施例１において、［Ｃ］成分として表１に示す（１）
〜（８）を２０重量部加えて使用した他は、実施例１と
同様にして組成物溶液（Ｓ−６〜１３）をそれぞれ調製
した。また、実施例１において、組成物溶液（Ｓ−１）
のかわりに（Ｓ−６〜１３）をそれぞれ使用した他は、
実施例１と同様にして層間絶縁膜を形成し、評価した。
結果を表１に示した。

【００８１】ただし、表１において［Ｃ］成分は、
（１）テトラメトキシメチルグリコールウリル（商標名
「ＣＹＭＥＬ１１７０」三井サイメック社製）、（２）
エピコート８０７（油化シェルエポキシ（株）製）、
（３）ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキ
シ）メチル〕ベンゼン（商品名「ＸＤＯ」東亜合成社
製）、（４）フェニレン−１，３−ジイソシアネート、
（５）1,3,5-トリシアナートベンゼン、（６）１，３−
ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキサゾリル）ベンゼ
ン、（７）１，３−ビス（４，５−ジヒドロ−２−オキ
サジル）ベンゼン、（８）ヘキサメトキシメチロールメ
ラミン（商標名「ＣＹＭＥＬ３００」三井サイメック社
製）である。

【００８２】比較例１ 実施例１において、４,４’−［１−［４−［１−［４
−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニ
ル］ エチリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフト
キノンジアジド−６−スルホン酸エステル３０重量部の
代わりに、４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロ
キシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］ エチ
リデン］ ビスフェノール（１モル）と１,２−ナフト
キノンジアジド−４−スルホン酸クロリド（２モル）と
の縮合物（４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロ
キシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニル］ エ
チリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸エステル）３０重量部を使用し
た他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−１Ｒ）
を調製した。また、実施例１において、組成物溶液（Ｓ
−１）のかわりに（Ｓ−１Ｒ）を使用した他は、実施例
１と同様にして層間絶縁膜を形成し、評価した。結果を
表１に示した。

【００８３】比較例２ 実施例２において、４,４’−［１−［４−［１−［４
−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニ
ル］ エチリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフト
キノンジアジド−６−スルホン酸エステル３０重量部の
代わりに、４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロ
キシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］ エチ
リデン］ ビスフェノール（１モル）と１,２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２モル）と
の縮合物（４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロ
キシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニル］ エ
チリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル）３０重量部を使用し
た他は、実施例２と同様にして組成物溶液（Ｓ−２Ｒ）
を調製し評価した。また、実施例２において、組成物溶
液（Ｓ−２）のかわりに（Ｓ−２Ｒ）を使用した他は、
実施例２と同様にして層間絶縁膜を形成し、評価した。
結果を表１に示した。

【００８４】

【表１】

【００８５】実施例１４ 合成例４で得られた共重合体[Ａ−４]を含む溶液（共重
合体［Ａ−４］１００重量部（固形分）に相当）と、成
分［Ｂ］として４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒ
ドロキシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニル］
エチリデン］ ビスフェノール（１モル）と１,２−
ナフトキノンジアジド−６−スルホン酸クロリド（２モ
ル）との縮合物（４,４’−［１−［４−［１−［４−
ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニ
ル］ エチリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフト
キノンジアジド−６−スルホン酸エステル）３０重量部
と、成分［Ｃ］としてヘキサメトキシメチロールメラミ
ン（商標名「ＣＹＭＥＬ３００」三井サイメック社製）
を２０重量部、およびγ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン５重量部を混合し、固形分濃度が３０重
量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテートに溶解させた後、孔径０．５μｍのミリ
ポアフィルタで濾過して感放射線性樹脂組成物の溶液
（Ｓ−１４）を調製した。

【００８６】マイクロレンズの評価（I）マイクロレンズの形成 ６インチシリコン基板に感放射線性樹脂組成物（Ｓ−１
４）を２.５μｍの膜厚になるようにスピンコートし７
０℃で３分間ホットプレート上でプレベークし、塗膜と
した。上記で得られた塗膜に所定パターンマスクを用い
て、４３６ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外
線を照射した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド２．３８重量％水溶液で２５℃で１分間現像した
後、純水で１分間リンスした。これらの操作により、不
要な部分を除去した。上記で形成されたパターンに４３
６ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を２０
０ｍＪ／ｃｍ²照射した後、１６０℃で１０分間加熱後
さらに２３０℃で１０分間加熱してパターンをメルトフ
ローさせマイクロレンズを形成した。

【００８７】（II）感度の評価 上記（Ｉ）で得られたメルトフロー後のマイクロレンズ
パターンの、０.８μｍライン・アンド・スペ−スパタ
−ン（１対１）のスペース線幅を解像できる感度を測定
した。結果を表２に示した。この値が１００ｍＪ／ｃｍ
²以下の場合、感度が良好といえる。。

【００８８】（III）透過率の評価 上記（Ｉ）で得られたメルトフロー後のマイクロレンズ
パターンを形成したガラス基板の透過率を測定した。こ
のときの４００ｎｍにおける透過率を表２に示す。透過
率が９０〜１００％のとき透過率は良好、９０％以下の
場合、透過率は不良といえる。

【００８９】（IV）耐溶剤性の評価 パターン状薄膜を形成したガラス基板を５０℃中のイソ
プロピルアルコール中に１０分間浸せきし、膜厚変化を
評価した。このときの変化率を表２に示す。変化率が０
〜５％のとき耐溶剤性は良好、５％を超えたときおよび
溶解により膜厚が低下した場合、耐溶剤性は不良といえ
る。

【００９０】実施例１５〜１７ 実施例１４において、［Ｃ］成分としてＣＹＭＥＬ３０
０ ２０重量部の代わりに、表２に示す成分を２０重量
部使用した他は、実施例１４と同様にして組成物溶液
（Ｓ−１５〜１７）を調製した。また、実施例１４にお
いて、組成物溶液（Ｓ−１４）のかわりに（Ｓ−１５〜
１７）をそれぞれ使用した他は、実施例１４と同様にし
てマイクロレンズを形成し、評価した。結果を表２に示
した。ただし、表２において、［Ｃ］成分は、表１で使
用した番号のものと同じである。

【００９１】比較例３ 実施例１４において、４,４’−［１−［４−［１−
［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］ フ
ェニル］ エチリデン］ ビスフェノール−１,２−ナ
フトキノンジアジド−６−スルホン酸エステル３０重量
部の代わりに４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒド
ロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］ エ
チリデン］ ビスフェノール（１モル）と１,２−ナフ
トキノンジアジド−４−スルホン酸クロリド（２モル）
との縮合物（４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒド
ロキシフェニル］−１−メチルエチル］ フェニル］
エチリデン］ ビスフェノール−１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル）３０重量部を使用
した他は、実施例１４と同様にして組成物溶液（Ｓ−３
Ｒ）を調製した。また、実施例１４において、組成物溶
液（Ｓ−１４）のかわりに（Ｓ−３Ｒ）を使用した他
は、実施例１４と同様にしてマイクロレンズを形成し、
評価した。結果を表２に示した。

【００９２】

【表２】

【００９３】

【発明の効果】本発明によれば、必要な感度、透過率、
耐溶剤性を併せ持つ層間絶縁膜およびマイクロレンズを
形成しうる感放射線性樹脂組成物を得ることができる。
また、上記感放射線性樹脂組成物より、上記物性に優れ
た層間絶縁膜およびマイクロレンズが形成される。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ 7/022 ６０１ 7/022 ６０１ 7/033 7/033 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA01 AA02 AA06 AA14 AB16 AB17 AB20 AC01 AD03 BE01 CB13 CB14 CB17 CB43 CB45 CC20 FA03 FA17 FA29 FA30 4J002 AC021 BC041 BD051 BD101 BE001 BF021 BG001 BG041 BG051 BG101 BG131 BH001 BL011 CC162 CC182 CD012 CD022 CD052 CD062 CD191 CH032 EV246 FD206 FD310 GP01 GP03

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ［Ａ］フェノール性水酸基および／また
   はカルボキシル基を含有する重合体と、［Ｂ］１，２−
   キノンジアジド−６−スルホン酸エステル化合物、１，
   ２−キノンジアジド−７−スルホン酸エステル化合物、
   および１，２−キノンジアジド−８−スルホン酸エステ
   ル化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合
   物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 さらに、［Ｃ］架橋されうる官能基を少
   なくとも１個含有する化合物を含有する請求項１に記載
   の感放射線性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の感放射
   線性樹脂組成物より形成された層間絶縁膜。
4. 【請求項４】 請求項１または請求項２に記載の感放射
   線性樹脂組成物より形成されたマイクロレンズ。