JP2001234394A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハークランプとウェハー支持具とにより、めっき対象面を下向きにして保持されたウェハーを、めっき槽内のめっき液に浸漬させて、ウェハーを回転させながらめっき処理を行うウェハーめっき装置において、
前記ウェハー支持具は、その下端が内方へ突出し、ウェハーのめっき対象面の全周縁を支持する延設領域を有するウェハー支持部を備えており、
さらに、前記延設領域には、その一端がめっき対象面下部のめっき液に接する開口部となる孔が設けられたことを特徴とするウェハーめっき装置。
【請求項２】
前記孔は、ウェハー支持具内部を貫通し、もう一つの一端がめっき液面より上方に位置する排気用ポンプに接続されている請求項１に記載のウェハーめっき装置。
【請求項３】
前記孔は、もう一つの一端がウェハー支持部の外周側のめっき液と接する開口部である請求項１に記載のウェハーめっき装置。
【請求項４】
前記孔は、延設領域の下部に取り付けられたリングにより形成され、
もう一つの一端がめっき対象面よりも上方に位置し、めっき液と接する開口部である請求項１に記載のウェハーめっき装置。
【請求項５】
請求項２に記載したウェハーめっき装置を用い、めっき対象面を下向きにしたウェハーをめっき液面に接触し、ウェハーを回転させながらめっき処理を行うウェハーのめっき処理方法において、
ウェハー支持具内部を貫通し、その一端がめっき対象面下部のめっき液に接する開口部を有し、もう一つの一端がめっき液面より上方に位置する排気用ポンプに接続されている孔より、
めっき液中のエアーを強制的に排出させながらめっき処理を行うことを特徴とするウェハーのめっき処理方法。
【請求項６】
請求項４に記載したウェハーめっき装置を用い、めっき対象面を下向きにしたウェハーをめっき液面に接触し、ウェハーを回転させながらめっき処理を行うウェハーのめっき処理方法において、
延設領域の下部に取り付けられたリングにより形成され、その一端がめっき対象面下部のめっき液に接する開口部と、もう一つの一端がめっき対象面よりも上方に位置し、めっき液と接する開口部とを有する孔より、
めっき液中のエアーを強制的に排出させながらめっき処理を行うことを特徴とするウェハーのめっき処理方法。

具体的には、図５に示すようなウェハーめっき装置で、ウェハー４のめっき対象面５を下向きにしてウェハー４を保持するウェハークランプ６と、めっき対象面５の周縁を全周に渡って支持できるようになっているウェハー支持具７と、めっき液を上部開口からオーバーフローしながら循環できるようになっているめっき槽２とを備えおり、ウェハークランプ６とウェハー支持具７とによりウェハー４を挟持した状態で、めっき対象面５を下向きにしてめっき液面に接触させながらめっき処理を行うようになっている。より詳しく言えば、ウェハー支持具７の下端には、ウェハー４を支持するウェハー支持部がある。そして、ウェハー支持部は、図５に示すように、ウェハー４のめっき対象面５の全周縁を支持するために、内方に突出した延設領域がある。