JP2001234394A - ウェハーめっき装置 - Google Patents
ウェハーめっき装置Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/001—Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/18—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material only one side of the work coming into contact with the liquid or other fluent material
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のウェハーめっき装置におけるめっ
き対象面周縁に滞留するエアーを除去する技術を提供
し、めっき対象面周縁にまで、より均一なめっき処理が
可能で、シード金属付きウェハーであっても均一なめっ
き処理ができるウェハーめっき装置を提供する。 【解決手段】 ウェハー４を保持するウェハークランプ
６と、ウェハー４のめっき対象面５の周縁を支持するウ
ェハー支持具７と、めっき液を上部開口からオーバーフ
ローしながら循環するめっき槽２とを備え、ウェハーク
ランプ６とウェハー支持具７とによりウェハー４を挟持
した状態で、めっき対象面５を下向きにしてめっき液面
に接触させながらめっき処理を行うものであるウェハー
めっき装置において、ウェハー支持具７は、めっき液面
とウェハー４とが接触する際に、めっき対象面５の周縁
へ滞留するエアーを放出するためのエアー抜き孔１２が
設けられたものとした。
き対象面周縁に滞留するエアーを除去する技術を提供
し、めっき対象面周縁にまで、より均一なめっき処理が
可能で、シード金属付きウェハーであっても均一なめっ
き処理ができるウェハーめっき装置を提供する。 【解決手段】 ウェハー４を保持するウェハークランプ
６と、ウェハー４のめっき対象面５の周縁を支持するウ
ェハー支持具７と、めっき液を上部開口からオーバーフ
ローしながら循環するめっき槽２とを備え、ウェハーク
ランプ６とウェハー支持具７とによりウェハー４を挟持
した状態で、めっき対象面５を下向きにしてめっき液面
に接触させながらめっき処理を行うものであるウェハー
めっき装置において、ウェハー支持具７は、めっき液面
とウェハー４とが接触する際に、めっき対象面５の周縁
へ滞留するエアーを放出するためのエアー抜き孔１２が
設けられたものとした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体用のウェーハ
にめっきを施すウェハーめっき装置に関するものであ
る。
にめっきを施すウェハーめっき装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体用のウェハーにめっき
を施す装置として、めっき槽からオーバーフローするめ
っき液面に対して、ウェハーのめっき対象面を下向きに
して接触させ、めっき処理を行うものが知られている。
を施す装置として、めっき槽からオーバーフローするめ
っき液面に対して、ウェハーのめっき対象面を下向きに
して接触させ、めっき処理を行うものが知られている。
【０００３】具体的には、図５に示すようなウェハーめ
っき装置で、ウェハー４のめっき対象面５を下向きにし
てウェハー４を保持するウェハークランプ６と、めっき
対象面５の周縁を全周に渡って支持できるようになって
いるウェハー支持具７と、めっき液を上部開口からオー
バーフローしながら循環できるようになっているめっき
槽２とを備えおり、ウェハークランプ６とウェハー支持
具７とによりウェハー４を挟持した状態で、めっき対象
面５を下向きにしてめっき液面に接触させながらめっき
処理を行うようになっている。
っき装置で、ウェハー４のめっき対象面５を下向きにし
てウェハー４を保持するウェハークランプ６と、めっき
対象面５の周縁を全周に渡って支持できるようになって
いるウェハー支持具７と、めっき液を上部開口からオー
バーフローしながら循環できるようになっているめっき
槽２とを備えおり、ウェハークランプ６とウェハー支持
具７とによりウェハー４を挟持した状態で、めっき対象
面５を下向きにしてめっき液面に接触させながらめっき
処理を行うようになっている。
【０００４】このウェハーめっき装置は、めっき処理
後、めっき液からウェハー４を離し、そして、ウェハー
４を回転することことで、めっき対象面５に付着するめ
っき液を除去することができる。そのため、めっき液に
溶解されやすいめっき被膜を処理した場合、ウェハー４
の交換作業時に付着しためっき液によって、そのめっき
処理された被覆が溶解されることが無く、めっき外観も
良好で、後処理における洗浄工程を簡略できるという特
徴がある。また、めっき処理中に、ウェハー４を回転さ
せることによって、めっき対象面５の全面に均一なめっ
き処理を施すこともできるという利点も有している。
後、めっき液からウェハー４を離し、そして、ウェハー
４を回転することことで、めっき対象面５に付着するめ
っき液を除去することができる。そのため、めっき液に
溶解されやすいめっき被膜を処理した場合、ウェハー４
の交換作業時に付着しためっき液によって、そのめっき
処理された被覆が溶解されることが無く、めっき外観も
良好で、後処理における洗浄工程を簡略できるという特
徴がある。また、めっき処理中に、ウェハー４を回転さ
せることによって、めっき対象面５の全面に均一なめっ
き処理を施すこともできるという利点も有している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかながら、このよう
なウェハーめっき装置では、めっき対象面５の周縁とそ
れを支持するウェハー支持具７とが形成する角部Ｃに、
めっき液中に含まれるエアーが滞留する現象を生じる。
めっき液は、めっき対象面５の周縁方向へ流動するた
め、ウェハー支持具７とめっき対象面５との位置的関係
から生じる僅かな段差である角部Ｃに、めっき液の流動
が滞留しやすくなり、そして、めっき液中に含まれるエ
アーも角部Ｃに滞留するのである。このように周縁へ滞
留しやすいエアーは、その部分において不均一なめっき
処理の原因となり、めっき処理面積、即ち、ウェハーの
使用可能面積を小さくし、製造歩留的に好ましものでは
ない。
なウェハーめっき装置では、めっき対象面５の周縁とそ
れを支持するウェハー支持具７とが形成する角部Ｃに、
めっき液中に含まれるエアーが滞留する現象を生じる。
めっき液は、めっき対象面５の周縁方向へ流動するた
め、ウェハー支持具７とめっき対象面５との位置的関係
から生じる僅かな段差である角部Ｃに、めっき液の流動
が滞留しやすくなり、そして、めっき液中に含まれるエ
アーも角部Ｃに滞留するのである。このように周縁へ滞
留しやすいエアーは、その部分において不均一なめっき
処理の原因となり、めっき処理面積、即ち、ウェハーの
使用可能面積を小さくし、製造歩留的に好ましものでは
ない。
【０００６】また、従来のウェハーめっき装置では、上
述したエアーの影響を小さくするため、めっき対象面に
滞留するエアーが、ある程度外部に排出されるまでの
間、めっき処理を開始しないようにしている。このた
め、めっき対象面に予めＣｕなどの金属膜を被覆したも
の、いわゆるシード金属が被覆されたウェハーに対し
て、シード金属を溶解するようなめっき液を用いて処理
すると、エアーを排出する間に、めっき液と接触したシ
ード金属が溶解され、均一なめっき処理を行えないこと
がある。
述したエアーの影響を小さくするため、めっき対象面に
滞留するエアーが、ある程度外部に排出されるまでの
間、めっき処理を開始しないようにしている。このた
め、めっき対象面に予めＣｕなどの金属膜を被覆したも
の、いわゆるシード金属が被覆されたウェハーに対し
て、シード金属を溶解するようなめっき液を用いて処理
すると、エアーを排出する間に、めっき液と接触したシ
ード金属が溶解され、均一なめっき処理を行えないこと
がある。
【０００７】そこで、本発明は、従来のウェハーめっき
装置におけるめっき対象面周縁に滞留するエアーを除去
する技術を提供し、めっき対象面周縁にまで、より均一
なめっき処理が可能となり、ウェハーにシード金属が被
覆されていてもシード金属の溶解を極力低減させてめっ
き処理が行えるウェハーめっき装置を提供しようとする
ものである。
装置におけるめっき対象面周縁に滞留するエアーを除去
する技術を提供し、めっき対象面周縁にまで、より均一
なめっき処理が可能となり、ウェハーにシード金属が被
覆されていてもシード金属の溶解を極力低減させてめっ
き処理が行えるウェハーめっき装置を提供しようとする
ものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】このような目的のために
本発明では、ウェハーのめっき対象面を下向きにしてウ
ェハーを保持するウェハークランプと、めっき対象面の
周縁を全周に渡って支持できるようになっているウェハ
ー支持具と、めっき液を上部開口からオーバーフローし
ながら循環できるようになっているめっき槽とを備え、
ウェハークランプとウェハー支持具とによりウェハーを
挟持した状態で、めっき対象面を下向きにしてめっき液
面に接触させながらめっき処理を行うものであるウェハ
ーめっき装置において、ウェハー支持具は、めっき液面
とウェハーとが接触する際に、めっき対象面の周縁へ滞
留するエアーを放出するためのエアー抜き孔が設けられ
たものとした。
本発明では、ウェハーのめっき対象面を下向きにしてウ
ェハーを保持するウェハークランプと、めっき対象面の
周縁を全周に渡って支持できるようになっているウェハ
ー支持具と、めっき液を上部開口からオーバーフローし
ながら循環できるようになっているめっき槽とを備え、
ウェハークランプとウェハー支持具とによりウェハーを
挟持した状態で、めっき対象面を下向きにしてめっき液
面に接触させながらめっき処理を行うものであるウェハ
ーめっき装置において、ウェハー支持具は、めっき液面
とウェハーとが接触する際に、めっき対象面の周縁へ滞
留するエアーを放出するためのエアー抜き孔が設けられ
たものとした。
【０００９】本発明によると、めっき対象面の周縁には
エアーが滞留することがなくなるため、均一なめっき処
理が施される面積が従来よりも大きくなり、製造歩留が
向上することになる。また、このようなエアー抜き孔に
より、めっき対象面に滞留するエアーの排出がスムーズ
に行われる結果、ウェハーのめっき対象面にシード金属
が被覆されていても、めっき液の供給後、めっき処理を
すぐに開始することができ、シード金属の溶解が進行し
ないので、均一なめっき処理を実現できる。
エアーが滞留することがなくなるため、均一なめっき処
理が施される面積が従来よりも大きくなり、製造歩留が
向上することになる。また、このようなエアー抜き孔に
より、めっき対象面に滞留するエアーの排出がスムーズ
に行われる結果、ウェハーのめっき対象面にシード金属
が被覆されていても、めっき液の供給後、めっき処理を
すぐに開始することができ、シード金属の溶解が進行し
ないので、均一なめっき処理を実現できる。
【００１０】本発明におけるエアー抜き孔は、めっき対
象面の周縁に滞留するエアーを放出できるような場所で
あれば、ウェハー支持具のどのような部分に設けてもよ
く、要は、ウェハー支持具とめっき対象面との位置的関
係から生じる僅かな段差である角部に近接する場所に設
けることで、エアーを放出できれるようにされていれば
よいものである。
象面の周縁に滞留するエアーを放出できるような場所で
あれば、ウェハー支持具のどのような部分に設けてもよ
く、要は、ウェハー支持具とめっき対象面との位置的関
係から生じる僅かな段差である角部に近接する場所に設
けることで、エアーを放出できれるようにされていれば
よいものである。
【００１１】本発明におけるエアー抜き孔は、例えば、
ウェハー支持具に貫通する孔を設けることによって形成
することもできるが、めっき対象面の周縁からウェーハ
支持具の下端外側面に沿って貫通する孔を形成するため
のエアー抜き孔形成用リングをウェハー支持具下端に取
り付けて形成してもよい。このようなエアー抜き孔形成
リングを用いるようにすれば、従来から用いているウェ
ハーめっき装置のウェハー支持具に直接貫通孔を設ける
ような加工を施さなくとも、本発明のウェハーめっき装
置とすることができるようになる。
ウェハー支持具に貫通する孔を設けることによって形成
することもできるが、めっき対象面の周縁からウェーハ
支持具の下端外側面に沿って貫通する孔を形成するため
のエアー抜き孔形成用リングをウェハー支持具下端に取
り付けて形成してもよい。このようなエアー抜き孔形成
リングを用いるようにすれば、従来から用いているウェ
ハーめっき装置のウェハー支持具に直接貫通孔を設ける
ような加工を施さなくとも、本発明のウェハーめっき装
置とすることができるようになる。
【００１２】そして、本発明のウェハーめっき装置で
は、エアーの除去を、より効率的にするために、エアー
抜き孔に強制排気手段を設けるようにすることが好まし
い。強制排気手段は、エアー抜き孔の放出側に設けるこ
とで、めっき対象面の周縁に滞留するエアーを効率よく
除去することが可能となる。
は、エアーの除去を、より効率的にするために、エアー
抜き孔に強制排気手段を設けるようにすることが好まし
い。強制排気手段は、エアー抜き孔の放出側に設けるこ
とで、めっき対象面の周縁に滞留するエアーを効率よく
除去することが可能となる。
【００１３】そしてさらに、エアーの除去を完全になく
し、且つ、めっき対象面の周縁で生じるめっき液の滞留
を解消するために、めっき対象面の周縁に向けて、めっ
き液を強制的に供給するようにした液供給ノズルをめっ
き槽内に設けることが好ましいものである。このように
すれば、めっき対象面の周縁におけるめっき処理がより
均一のものとすることができる。
し、且つ、めっき対象面の周縁で生じるめっき液の滞留
を解消するために、めっき対象面の周縁に向けて、めっ
き液を強制的に供給するようにした液供給ノズルをめっ
き槽内に設けることが好ましいものである。このように
すれば、めっき対象面の周縁におけるめっき処理がより
均一のものとすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るウェハーめっ
き装置の好ましい実施形態について説明する。
き装置の好ましい実施形態について説明する。
【００１５】図１は、本発明に係るウェハーめっき装置
の第一実施形態であり、その概略断面を示したものであ
る。また、図２は、図１の一部を拡大して表したもので
ある。図１で示すように、第一実施形態におけるウェハ
ーめっき装置は、めっき液を供給管１より供給して、上
部開口からオーバーフローするようになっているめっき
槽２と、該めっき槽２の周囲を覆うようにされ、めっき
槽２からオーバーフローするめっき液を循環するように
された外槽３とを有している。そして、めっき処理が施
されるウェハー４はめっき対象面５を下向き、即ち、オ
ーバーフローするめっき液面に対向するように保持でき
るウェハークランプ６と、ウェハー４のめっき対象面５
における周縁を全周に渡って支持できるようになってい
るウェハー支持具７を備えている。
の第一実施形態であり、その概略断面を示したものであ
る。また、図２は、図１の一部を拡大して表したもので
ある。図１で示すように、第一実施形態におけるウェハ
ーめっき装置は、めっき液を供給管１より供給して、上
部開口からオーバーフローするようになっているめっき
槽２と、該めっき槽２の周囲を覆うようにされ、めっき
槽２からオーバーフローするめっき液を循環するように
された外槽３とを有している。そして、めっき処理が施
されるウェハー４はめっき対象面５を下向き、即ち、オ
ーバーフローするめっき液面に対向するように保持でき
るウェハークランプ６と、ウェハー４のめっき対象面５
における周縁を全周に渡って支持できるようになってい
るウェハー支持具７を備えている。
【００１６】このウェハークランプ６とウェハー支持具
７は共に、上下動可能とされており、ウェハー４を支持
した状態で水平方向で回転することもできる。図２に示
すように、ウエハークランプ６はウェハーの側周面を把
持するクランプシール８とクランプ体９とから形成され
ているものである。また、ウェハー支持具７は、断面Ｌ
形状のウェハー支持部１０とその内周面側に設けられて
いる液シール１１とから形成されたものである。
７は共に、上下動可能とされており、ウェハー４を支持
した状態で水平方向で回転することもできる。図２に示
すように、ウエハークランプ６はウェハーの側周面を把
持するクランプシール８とクランプ体９とから形成され
ているものである。また、ウェハー支持具７は、断面Ｌ
形状のウェハー支持部１０とその内周面側に設けられて
いる液シール１１とから形成されたものである。
【００１７】第一実施形態におけるエアー抜き手段は、
図２に示す拡大図のようにウェハー支持具７内部を貫通
するようにして設けられている。エアー抜き孔１２は、
めっき対象面５の近傍から液シール１１を貫通し、ウェ
ハー支持部１０内を通るように設けられており、めっき
対象面５の全周で複数箇所に設けられている。また、図
示を省略しているが、排気用ポンプがエアー抜き孔１２
に接続されており、強制的にエアー抜き孔１２を通して
エアーを除去できるようにされている。
図２に示す拡大図のようにウェハー支持具７内部を貫通
するようにして設けられている。エアー抜き孔１２は、
めっき対象面５の近傍から液シール１１を貫通し、ウェ
ハー支持部１０内を通るように設けられており、めっき
対象面５の全周で複数箇所に設けられている。また、図
示を省略しているが、排気用ポンプがエアー抜き孔１２
に接続されており、強制的にエアー抜き孔１２を通して
エアーを除去できるようにされている。
【００１８】また、めっき槽２内にはめっき対象面５の
周縁に向けて、めっき液を供給できるようにされた液供
給ノズル１３が配置されている。めっき対象面５の周縁
に向けて、液供給ノズル１３からめっき液を供給する
と、滞留するエアーがエアー抜き孔１２から排出されや
すくなる。
周縁に向けて、めっき液を供給できるようにされた液供
給ノズル１３が配置されている。めっき対象面５の周縁
に向けて、液供給ノズル１３からめっき液を供給する
と、滞留するエアーがエアー抜き孔１２から排出されや
すくなる。
【００１９】次に、第二実施形態について説明する。図
３には、第二実施形態としてのエアー抜き手段を表した
図を示している。めっき槽２、外槽３、液供給ノズル１
３などの他の部分は、第一実施形態で示したものと同様
なため説明を省略する。図３で示すように、第二実施形
態でのエアー抜き孔１２は、ウェハー支持具７のウェハ
ー支持部１０と液シール１１とを貫通するように形成さ
れている。この第二実施形態で示すエアー抜き孔１２で
あっても、液供給ノズル１３からめっき対象面５の周縁
に向けて供給されるめっき液がエアー抜き孔１２を通過
してウェハー支持具７の外周側に排出されることにな
り、それに伴い滞留するエアーも除去される。また、め
っき処理中にウェハー４を回転すると、めっき液が第二
実施形態で示すエアー抜き孔１２を通過することになる
ので、それに従ってエアーもウェハー支持部１０の外側
に移動することになり、めっき対象面５の周縁からエア
ーを除去することができる。
３には、第二実施形態としてのエアー抜き手段を表した
図を示している。めっき槽２、外槽３、液供給ノズル１
３などの他の部分は、第一実施形態で示したものと同様
なため説明を省略する。図３で示すように、第二実施形
態でのエアー抜き孔１２は、ウェハー支持具７のウェハ
ー支持部１０と液シール１１とを貫通するように形成さ
れている。この第二実施形態で示すエアー抜き孔１２で
あっても、液供給ノズル１３からめっき対象面５の周縁
に向けて供給されるめっき液がエアー抜き孔１２を通過
してウェハー支持具７の外周側に排出されることにな
り、それに伴い滞留するエアーも除去される。また、め
っき処理中にウェハー４を回転すると、めっき液が第二
実施形態で示すエアー抜き孔１２を通過することになる
ので、それに従ってエアーもウェハー支持部１０の外側
に移動することになり、めっき対象面５の周縁からエア
ーを除去することができる。
【００２０】さらに、第三実施形態について説明する。
図４には、第三実施形態としてのエアー抜き手段を表し
た図を示している。めっき槽２、外槽３、液供給ノズル
１３などの他の部分は、第一実施形態で示したものと同
様なため説明を省略する。図４で示すように、第三実施
形態でのエアー抜き孔１２は、ウェハー支持具７にエア
ー抜き孔形成用リング１４を取り付けて設けられたもの
である。
図４には、第三実施形態としてのエアー抜き手段を表し
た図を示している。めっき槽２、外槽３、液供給ノズル
１３などの他の部分は、第一実施形態で示したものと同
様なため説明を省略する。図４で示すように、第三実施
形態でのエアー抜き孔１２は、ウェハー支持具７にエア
ー抜き孔形成用リング１４を取り付けて設けられたもの
である。
【００２１】このエアー抜き孔形成用リング１４は、ウ
ェハー支持部１０の断面Ｌ形状おける下端側の輪郭に相
似する断面形状を有し、ウェハー支持部１０全周に渡っ
てウェハー支持部下端の外側面の一部を覆う形状にされ
たリングであり、ウェハー支持部１０との間に若干の空
間ができるようにしてある。このエアー抜き孔形成用リ
ング１４を取り付けると、めっき対象面５の周縁には、
スリット状のエアー抜き孔が形成されることになり、こ
れによってエアーの除去ができるものとなる。
ェハー支持部１０の断面Ｌ形状おける下端側の輪郭に相
似する断面形状を有し、ウェハー支持部１０全周に渡っ
てウェハー支持部下端の外側面の一部を覆う形状にされ
たリングであり、ウェハー支持部１０との間に若干の空
間ができるようにしてある。このエアー抜き孔形成用リ
ング１４を取り付けると、めっき対象面５の周縁には、
スリット状のエアー抜き孔が形成されることになり、こ
れによってエアーの除去ができるものとなる。
【００２２】このエアー抜き孔形成用リング１４で重要
なことは、矢印Ａの部分と矢印Ｂの部分との位置関係
で、Ｂの方がＡよりも高いところに位置するようにする
ことである。このような位置関係でエアー抜き孔１２を
形成すると、位置の高低によって生じる液圧差によりエ
アーの除去が容易になるものである。
なことは、矢印Ａの部分と矢印Ｂの部分との位置関係
で、Ｂの方がＡよりも高いところに位置するようにする
ことである。このような位置関係でエアー抜き孔１２を
形成すると、位置の高低によって生じる液圧差によりエ
アーの除去が容易になるものである。
【００２３】上述した第一乃至第三実施形態で示したウ
ェハーめっき装置を用いて、めっき処理を行った結果、
めっき対象面の周縁までのかなりの広範囲において均一
なめっき処理が行え、従来のウェハーめっき装置で行え
ためっき処理面積よりも広い面積を処理できることが確
認できた。また、Ｃｕのシード金属を被覆したウェハー
に対して、硫酸銅めっき液を用いて処理したところ、シ
ード金属の溶解は殆ど生じない状態ですぐにめっき処理
が行え、均一で、外観も良好なめっきが得られた。
ェハーめっき装置を用いて、めっき処理を行った結果、
めっき対象面の周縁までのかなりの広範囲において均一
なめっき処理が行え、従来のウェハーめっき装置で行え
ためっき処理面積よりも広い面積を処理できることが確
認できた。また、Ｃｕのシード金属を被覆したウェハー
に対して、硫酸銅めっき液を用いて処理したところ、シ
ード金属の溶解は殆ど生じない状態ですぐにめっき処理
が行え、均一で、外観も良好なめっきが得られた。
【００２４】
【発明の効果】本発明のウェハーめっき装置によれば、
めっき対象面の周縁で、エアーにより生じる不均一なめ
っき処理が解消され、めっき対象面の周縁にまで、より
均一なめっき処理が可能となり、ウェハーの製造歩留を
向上させることができる。また、シード金属付きウェハ
ーに対して、シード金属を溶解するようなめっき液で処
理する場合であっても、シード金属の溶解を極力低減で
きるので、非常に均一なめっき処理を実現することが可
能となる。
めっき対象面の周縁で、エアーにより生じる不均一なめ
っき処理が解消され、めっき対象面の周縁にまで、より
均一なめっき処理が可能となり、ウェハーの製造歩留を
向上させることができる。また、シード金属付きウェハ
ーに対して、シード金属を溶解するようなめっき液で処
理する場合であっても、シード金属の溶解を極力低減で
きるので、非常に均一なめっき処理を実現することが可
能となる。
【図１】第一実施形態におけるウェハーめっき装置の概
略断面図。
略断面図。
【図２】第一実施形態におけるウェハーめっき装置の部
分拡大断面図。
分拡大断面図。
【図３】第二実施形態におけるウェハーめっき装置の部
分拡大断面図。
分拡大断面図。
【図４】第三実施形態におけるウェハーめっき装置の部
分拡大断面図。
分拡大断面図。
【図５】従来のウェハーめっき装置の概略断面図。
１ 供給管 ２ めっき槽 ３ 外槽 ４ ウェハー ５ めっき対象面 ６ ウェハークランプ ７ ウェハー支持具 ８ クランプシール ９ クランプ体 １０ ウェハー支持部 １１ 液シール １２ エアー抜き孔 １３ 液供給ノズル １４ エアー抜き孔形成用リング Ｃ 角部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/288 Ｈ０１Ｌ 21/288 Ｚ (72)発明者 石田 博文 神奈川県厚木市長谷1267−２ Ｆターム(参考） 4K024 AA09 AB01 BA11 BB12 BC06 CB02 CB13 CB14 CB18 CB26 GA16 4M104 BB04 DD52 DD53
Claims (4)
- 【請求項１】 ウェハーのめっき対象面を下向きにして
ウェハーを保持するウェハークランプと、めっき対象面
の周縁を全周に渡って支持できるようになっているウェ
ハー支持具と、 めっき液を上部開口からオーバーフローしながら循環で
きるようになっているめっき槽とを備え、 ウェハークランプとウェハー支持具とによりウェハーを
挟持した状態で、めっき対象面を下向きにしてめっき液
面に接触させながらめっき処理を行うものであるウェハ
ーめっき装置において、 ウェハー支持具は、めっき液面とウェハーとが接触する
際に、めっき対象面の周縁へ滞留するエアーを放出する
ためのエアー抜き孔が設けられたことを特徴とするウェ
ハーめっき装置。 - 【請求項２】 エアー抜き孔は、めっき対象面の周縁か
らウェーハ支持具の下端外側面に沿って貫通する孔を形
成するためのエアー抜き孔形成用リングを取り付けられ
て形成されたものである請求項１に記載のウェハーめっ
き装置。 - 【請求項３】 エアー抜き孔は、強制排気手段が設けら
れたものである請求項１又は請求項２に記載のウェハー
めっき装置 - 【請求項４】 めっき対象面の周縁に向けて、めっき液
を強制的に供給するようにした液供給ノズルをめっき槽
内に設けたものである請求項１〜請求項３のいずれかに
記載のウェハーめっき装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000050948A JP2001234394A (ja) | 2000-02-28 | 2000-02-28 | ウェハーめっき装置 |
| US09/791,841 US20010017105A1 (en) | 2000-02-28 | 2001-02-26 | Wafer plating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000050948A JP2001234394A (ja) | 2000-02-28 | 2000-02-28 | ウェハーめっき装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001234394A true JP2001234394A (ja) | 2001-08-31 |
| JP2001234394A5 JP2001234394A5 (ja) | 2007-04-19 |
Family
ID=18572669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000050948A Pending JP2001234394A (ja) | 2000-02-28 | 2000-02-28 | ウェハーめっき装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20010017105A1 (ja) |
| JP (1) | JP2001234394A (ja) |
Families Citing this family (4)
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|---|---|---|---|---|
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| CN102912406B (zh) * | 2012-11-12 | 2015-06-24 | 上海华力微电子有限公司 | 工艺腔体保护罩 |
| WO2019041154A1 (en) * | 2017-08-30 | 2019-03-07 | Acm Research (Shanghai) Inc. | METALLIZATION APPARATUS |
| JP6531232B1 (ja) * | 2019-01-10 | 2019-06-12 | 陽一朗 河合 | 転動体用冶具 |
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2000
- 2000-02-28 JP JP2000050948A patent/JP2001234394A/ja active Pending
-
2001
- 2001-02-26 US US09/791,841 patent/US20010017105A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010017105A1 (en) | 2001-08-30 |
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