JPH11286800A - カップ式めっき方法及びそれに用いる清浄装置 - Google Patents
カップ式めっき方法及びそれに用いる清浄装置Info
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- JPH11286800A JPH11286800A JP10091836A JP9183698A JPH11286800A JP H11286800 A JPH11286800 A JP H11286800A JP 10091836 A JP10091836 A JP 10091836A JP 9183698 A JP9183698 A JP 9183698A JP H11286800 A JPH11286800 A JP H11286800A
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
Abstract
(57)【要約】
【課題】 シード金属付きウェーハをカップ式めっき装
置を用いて順次めっき処理する場合でも良好なめっき処
理が可能となる技術の提供を目的とする。 【解決手段】 めっき槽１上部開口部の中心にその先端
を位置させることができる第一アーム９と、該第一アー
ム９の先端にその一端が取り付けられるとともに他端に
清浄手段１１が設けられ且つ前記第一アーム９の先端部
を中心に回動可能となった第二アーム１２とを備えたカ
ップ式めっき槽支持部２の清浄装置５により、一のめっ
き工程から次のめっき工程までの間に、支持部２に付着
しためっき液を除去するものとした。
置を用いて順次めっき処理する場合でも良好なめっき処
理が可能となる技術の提供を目的とする。 【解決手段】 めっき槽１上部開口部の中心にその先端
を位置させることができる第一アーム９と、該第一アー
ム９の先端にその一端が取り付けられるとともに他端に
清浄手段１１が設けられ且つ前記第一アーム９の先端部
を中心に回動可能となった第二アーム１２とを備えたカ
ップ式めっき槽支持部２の清浄装置５により、一のめっ
き工程から次のめっき工程までの間に、支持部２に付着
しためっき液を除去するものとした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体用のウェーハ
にカップ式めっき装置を用いてめっき処理する場合のそ
のめっき方法に関するものである。
にカップ式めっき装置を用いてめっき処理する場合のそ
のめっき方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体用のウェーハにバンプめっ
きを施す方法として、カップ式めっき方法が知られてい
る（実開平２−１２２０６７号公報や特開平５−３２０
９７８号公報参照）。このカップ式めっき方法は、めっ
き槽開口上部に沿って設けられている支持部にウェーハ
を載置し、めっき槽の下方からめっき液を上昇させて供
給するとともにウェーハの被めっき面にめっき液を接触
させながらめっき処理を行うものである。このカップ式
めっき方法は、支持部に載置するウェーハを順次取り換
えることで同一のめっき処理を連続的に施すことがで
き、めっき処理工程を自動化する場合や小ロット生産を
する場合に好適なものとして広く用いられている。
きを施す方法として、カップ式めっき方法が知られてい
る（実開平２−１２２０６７号公報や特開平５−３２０
９７８号公報参照）。このカップ式めっき方法は、めっ
き槽開口上部に沿って設けられている支持部にウェーハ
を載置し、めっき槽の下方からめっき液を上昇させて供
給するとともにウェーハの被めっき面にめっき液を接触
させながらめっき処理を行うものである。このカップ式
めっき方法は、支持部に載置するウェーハを順次取り換
えることで同一のめっき処理を連続的に施すことがで
き、めっき処理工程を自動化する場合や小ロット生産を
する場合に好適なものとして広く用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このカ
ップ式めっき方法において順次ウェーハを取り替えてめ
っき処理する場合、めっき処理されたウェーハを取り外
すとウェーハの載置されていた支持部にめっき液が付着
してしまうことが多い。そのため、次に新たなウェーハ
を載置すると支持部に載置されるその新たなウェーハの
周辺部は支持部に付着しためっき液と接することにな
る。
ップ式めっき方法において順次ウェーハを取り替えてめ
っき処理する場合、めっき処理されたウェーハを取り外
すとウェーハの載置されていた支持部にめっき液が付着
してしまうことが多い。そのため、次に新たなウェーハ
を載置すると支持部に載置されるその新たなウェーハの
周辺部は支持部に付着しためっき液と接することにな
る。
【０００４】このような現象は、カップ式めっき方法に
おける良好なめっき処理が実現できなくなる一要因とな
っていた。特に、シード金属付きウェーハ、即ちウェー
ハの被めっき面に予めＣｕ等の金属を被覆しているウェ
ーハ、をめっき処理する場合に、支持部に付着しためっ
き液がめっき処理上好ましからざる状態を引き起こすの
である。それは、シード金属付きウェーハを取り替えて
新たに支持部へ載置してからめっき電流を供給するまで
の間に、支持部に付着しためっき液が、載置されたウェ
ーハの周辺部においてそのシード金属を溶解するのであ
る。シード金属付きウェーハはシード金属を介して被め
っき面にめっき電流を供給するものであるが、ウェーハ
周辺部のシード金属が溶解されるとめっき電流が均一に
供給できない場合が生じるのである。
おける良好なめっき処理が実現できなくなる一要因とな
っていた。特に、シード金属付きウェーハ、即ちウェー
ハの被めっき面に予めＣｕ等の金属を被覆しているウェ
ーハ、をめっき処理する場合に、支持部に付着しためっ
き液がめっき処理上好ましからざる状態を引き起こすの
である。それは、シード金属付きウェーハを取り替えて
新たに支持部へ載置してからめっき電流を供給するまで
の間に、支持部に付着しためっき液が、載置されたウェ
ーハの周辺部においてそのシード金属を溶解するのであ
る。シード金属付きウェーハはシード金属を介して被め
っき面にめっき電流を供給するものであるが、ウェーハ
周辺部のシード金属が溶解されるとめっき電流が均一に
供給できない場合が生じるのである。
【０００５】そこで、本発明はシード金属付きウェーハ
をカップ式めっき装置を用いて順次めっき処理する場合
でも良好なめっきを施すことができる技術の提供を目的
としている。
をカップ式めっき装置を用いて順次めっき処理する場合
でも良好なめっきを施すことができる技術の提供を目的
としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに本発明では、めっき槽上部開口に沿って設けられた
支持部にウェーハを載置しめっき処理するものであるカ
ップ式めっき方法について、一のめっき工程から次のめ
っき工程までの間に、支持部に沿って移動可能でありめ
っき液を除去することができる清浄手段により、支持部
に付着しためっき液を除去するものとした。本発明によ
れば、一のめっき工程から次のめっき工程までの間、即
ちめっき処理したウェーハを取り外してから次の新たな
ウェーハを支持部に載置するまでの間に、めっき槽の支
持部に付着しためっき液が除去されているので、例えシ
ード金属付きウェーハを順次取り替え支持部に載置して
も、支持部と接触するウェーハの周辺部におけるシード
金属は溶解することなく、めっき電流の均一な供給が可
能となり、良好なめっきを施すことができる。また、腐
食性の強いめっき液を使用する場合でも、めっき液が支
持部に付着して浸食する時間を短縮することになるた
め、支持部の早期腐食を防止することができる。
めに本発明では、めっき槽上部開口に沿って設けられた
支持部にウェーハを載置しめっき処理するものであるカ
ップ式めっき方法について、一のめっき工程から次のめ
っき工程までの間に、支持部に沿って移動可能でありめ
っき液を除去することができる清浄手段により、支持部
に付着しためっき液を除去するものとした。本発明によ
れば、一のめっき工程から次のめっき工程までの間、即
ちめっき処理したウェーハを取り外してから次の新たな
ウェーハを支持部に載置するまでの間に、めっき槽の支
持部に付着しためっき液が除去されているので、例えシ
ード金属付きウェーハを順次取り替え支持部に載置して
も、支持部と接触するウェーハの周辺部におけるシード
金属は溶解することなく、めっき電流の均一な供給が可
能となり、良好なめっきを施すことができる。また、腐
食性の強いめっき液を使用する場合でも、めっき液が支
持部に付着して浸食する時間を短縮することになるた
め、支持部の早期腐食を防止することができる。
【０００７】そして、本発明では支持部に付着しためっ
き液を除去する清浄手段はめっき液を吸収できる吸収材
又はめっき液を吸引できる吸引具により形成されている
ことが好ましい。支持部に付着しためっき液の除去方法
としては洗浄水により洗い流すことも考えられるが、こ
の方法ではめっき槽内に洗浄水が進入してめっき液濃度
を変化させるような不都合が生じる。しかし、本発明の
ような清浄手段とすれば、めっき液濃度等に影響を与え
ることなく支持部のめっき液を除去できるので、ウェー
ハを順次連続的にめっき処理する場合に、より好適なも
のとなる。また、カップ式めっき装置がクリーンルーム
内に設置されている場合には、クリーンルーム内の環境
等に影響を与えることが少ないため、このような清浄手
段を用いることが好ましい。
き液を除去する清浄手段はめっき液を吸収できる吸収材
又はめっき液を吸引できる吸引具により形成されている
ことが好ましい。支持部に付着しためっき液の除去方法
としては洗浄水により洗い流すことも考えられるが、こ
の方法ではめっき槽内に洗浄水が進入してめっき液濃度
を変化させるような不都合が生じる。しかし、本発明の
ような清浄手段とすれば、めっき液濃度等に影響を与え
ることなく支持部のめっき液を除去できるので、ウェー
ハを順次連続的にめっき処理する場合に、より好適なも
のとなる。また、カップ式めっき装置がクリーンルーム
内に設置されている場合には、クリーンルーム内の環境
等に影響を与えることが少ないため、このような清浄手
段を用いることが好ましい。
【０００８】上記清浄手段に用いる吸収材としては、め
っき液を吸収できるものであれば何を用いてもよく、例
えば、めっき液に対して耐食性のあるスポンジや布を吸
収材として用いることが好ましい。また、吸引具として
は吸引ポンプに接続された吸引部を備えたものを用いる
ことができ、例えば、吸引部を支持部に接触させながら
移動することにより、付着しているめっき液の除去を行
うことができる。
っき液を吸収できるものであれば何を用いてもよく、例
えば、めっき液に対して耐食性のあるスポンジや布を吸
収材として用いることが好ましい。また、吸引具として
は吸引ポンプに接続された吸引部を備えたものを用いる
ことができ、例えば、吸引部を支持部に接触させながら
移動することにより、付着しているめっき液の除去を行
うことができる。
【０００９】以上のような本発明によるカップ式めっき
方法を行うためには、めっき槽上部開口に設けられた支
持部を清浄する清浄装置であって、めっき槽上部開口部
の中心にその先端部を位置させることができる第一アー
ムと、該第一アームの先端にその一端が取り付けられる
とともに他端に清浄手段が設けられ且つ前記第一アーム
の先端部を中心に回動可能となった第二アームとを備え
たものとすればよい。本発明のカップ式めっき方法は、
一のめっき工程から次のめっき工程までの間、即ちめっ
き処理したウェーハを支持部から取り外した後から次に
新たなウェーハを支持部に載置するまでの間に、支持部
に付着しためっき処理を除去するものである。従って、
このウェーハの取り換え作業を考慮すると、支持部のめ
っき液を除去する時以外はアーム及び清浄手段はめっき
槽開口上方空間から離れている必要がある。そのため、
本発明によるカップ式めっき槽支持部の清浄装置は、支
持部のウエーハが取り外された状態になったときにのみ
第一アームを回動させ、めっき槽開口上方に清浄手段が
移動して支持部に付着しためっき液を除去し、支持部の
清浄後はまた第一アームの回動によりめっき槽開口上方
からアーム及び清浄手段が離れるような構造としてい
る。本発明における清浄装置は構造的に単純であるた
め、直接カップ式めっき槽に取り付けてもよく、また、
カップ式めっき槽の近傍へ別に備えてもよいものであ
る。
方法を行うためには、めっき槽上部開口に設けられた支
持部を清浄する清浄装置であって、めっき槽上部開口部
の中心にその先端部を位置させることができる第一アー
ムと、該第一アームの先端にその一端が取り付けられる
とともに他端に清浄手段が設けられ且つ前記第一アーム
の先端部を中心に回動可能となった第二アームとを備え
たものとすればよい。本発明のカップ式めっき方法は、
一のめっき工程から次のめっき工程までの間、即ちめっ
き処理したウェーハを支持部から取り外した後から次に
新たなウェーハを支持部に載置するまでの間に、支持部
に付着しためっき処理を除去するものである。従って、
このウェーハの取り換え作業を考慮すると、支持部のめ
っき液を除去する時以外はアーム及び清浄手段はめっき
槽開口上方空間から離れている必要がある。そのため、
本発明によるカップ式めっき槽支持部の清浄装置は、支
持部のウエーハが取り外された状態になったときにのみ
第一アームを回動させ、めっき槽開口上方に清浄手段が
移動して支持部に付着しためっき液を除去し、支持部の
清浄後はまた第一アームの回動によりめっき槽開口上方
からアーム及び清浄手段が離れるような構造としてい
る。本発明における清浄装置は構造的に単純であるた
め、直接カップ式めっき槽に取り付けてもよく、また、
カップ式めっき槽の近傍へ別に備えてもよいものであ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を説明
する。図１には、本実施形態によるカップ式めっき装置
及びカップ式めっき槽の清浄装置の断面概略図を、図２
には図１を上方から見た時の平面概略図を示している。
図１に示すようにカップ式めっき方法は、めっき槽１の
上部開口に沿って設けられた支持部２にウェーハ３を載
置し、めっき槽１下方に設けられためっき液供給部４か
らめっき液を上昇させて供給するとともに載置されたウ
ェーハ３の被めっき面にめっき液を接触させながらめっ
き処理を行うものである。
する。図１には、本実施形態によるカップ式めっき装置
及びカップ式めっき槽の清浄装置の断面概略図を、図２
には図１を上方から見た時の平面概略図を示している。
図１に示すようにカップ式めっき方法は、めっき槽１の
上部開口に沿って設けられた支持部２にウェーハ３を載
置し、めっき槽１下方に設けられためっき液供給部４か
らめっき液を上昇させて供給するとともに載置されたウ
ェーハ３の被めっき面にめっき液を接触させながらめっ
き処理を行うものである。
【００１１】そして、載置したウェーハ３のめっき処理
が終えると、めっき電流及びめっき液供給を停止して、
ウェーハ３を吸着保持可能とされた図示せぬウェーハ保
持具により、支持部２からめっき処理済みのウェーハ３
を取り外し、次にめっき処理を行う新たなウェーハ３を
再び支持部２に載置し、順次連続的にウェーハをめっき
処理を行う。
が終えると、めっき電流及びめっき液供給を停止して、
ウェーハ３を吸着保持可能とされた図示せぬウェーハ保
持具により、支持部２からめっき処理済みのウェーハ３
を取り外し、次にめっき処理を行う新たなウェーハ３を
再び支持部２に載置し、順次連続的にウェーハをめっき
処理を行う。
【００１２】このウェーハ３の取り替え作業の間に、め
っき槽１の支持部２に付着しためっき液は清浄装置５に
より除去される。清浄装置５は、ロータリーアクチェー
ター６に接続されておりエアーシリンダ７により上下方
向に伸縮可能とされた支柱８と、支柱８上端に取り付け
られた第一アーム９と、第一アーム９の先端側に取り付
けられた回動モーター１０に接続されておりクリーナ１
１をその先端に備えた第二アーム１２とから形成されて
いる。この第一アーム９は、ロータリーアクチェーター
６により支柱８を介して回動すると、第一アーム９の先
端がめっき槽１上部開口の中心に位置することができる
長さとしてあり、また、第二アーム１２は、第一アーム
９の先端がめっき槽２上部開口の中心位置に移動した
際、第二アーム１２の先端に備えられているクリーナ１
１が支持部２に沿って回動できる長さとしてある（図２
参照）。
っき槽１の支持部２に付着しためっき液は清浄装置５に
より除去される。清浄装置５は、ロータリーアクチェー
ター６に接続されておりエアーシリンダ７により上下方
向に伸縮可能とされた支柱８と、支柱８上端に取り付け
られた第一アーム９と、第一アーム９の先端側に取り付
けられた回動モーター１０に接続されておりクリーナ１
１をその先端に備えた第二アーム１２とから形成されて
いる。この第一アーム９は、ロータリーアクチェーター
６により支柱８を介して回動すると、第一アーム９の先
端がめっき槽１上部開口の中心に位置することができる
長さとしてあり、また、第二アーム１２は、第一アーム
９の先端がめっき槽２上部開口の中心位置に移動した
際、第二アーム１２の先端に備えられているクリーナ１
１が支持部２に沿って回動できる長さとしてある（図２
参照）。
【００１３】クリーナ１１はめっき液を吸収し易く且つ
耐食性のある吸収スポンジ１３を円筒状に形成したもの
で、支持部２に沿って移動する際に支持部２と接触する
吸収スポンジ１３の円筒側面が回転できるうように回転
軸１４に取り付けられている。
耐食性のある吸収スポンジ１３を円筒状に形成したもの
で、支持部２に沿って移動する際に支持部２と接触する
吸収スポンジ１３の円筒側面が回転できるうように回転
軸１４に取り付けられている。
【００１４】この清浄装置５による具体的なめっき液の
除去について説明する。めっき処理後のウェーハ３を取
り外す作業が終えるまで、つまり、支持部２にウェーハ
が載置されている状態においては、第一アーム９、第二
アーム１２、クリーナ１１がめっき槽１上部空間から離
れた場所を初期位置として待機してある。そして、支持
部２に載置されためっき処理済みウェーハ３が図示せぬ
ウェーハ保持具により支持部２から取り外されると、ロ
ータリーアクチェーター６により第一アーム９が回動し
第一アーム９の先端がめっき槽１上部開口の中心位置に
まで移動する。
除去について説明する。めっき処理後のウェーハ３を取
り外す作業が終えるまで、つまり、支持部２にウェーハ
が載置されている状態においては、第一アーム９、第二
アーム１２、クリーナ１１がめっき槽１上部空間から離
れた場所を初期位置として待機してある。そして、支持
部２に載置されためっき処理済みウェーハ３が図示せぬ
ウェーハ保持具により支持部２から取り外されると、ロ
ータリーアクチェーター６により第一アーム９が回動し
第一アーム９の先端がめっき槽１上部開口の中心位置に
まで移動する。
【００１５】その後、エアーシリンダー７により支柱８
が下側に短くなるようにし、クリーナ１１の吸収スポン
ジ１３が支持部２に接触し、若干押しつけられた状態と
なるまで下降させる。吸収スポンジ１３が支持部２に押
し付けられた状態で、回動モーター１０により第二アー
ム１２を回動することにより、支持部２に沿ってクリー
ナ１１が移動し、支持部２に付着しためっき液は吸収ス
ポンジ１３により除去される。
が下側に短くなるようにし、クリーナ１１の吸収スポン
ジ１３が支持部２に接触し、若干押しつけられた状態と
なるまで下降させる。吸収スポンジ１３が支持部２に押
し付けられた状態で、回動モーター１０により第二アー
ム１２を回動することにより、支持部２に沿ってクリー
ナ１１が移動し、支持部２に付着しためっき液は吸収ス
ポンジ１３により除去される。
【００１６】第二アーム１２を数回回動させることによ
り、支持部２に付着するめっき液が完全に除去された後
は、第二アーム１２の回動を止め、エアーシリンダー７
により支柱８を上側に伸ばしクリーナ１１を支持部２か
ら離反し、ロータリーアクチェーター６により第一アー
ム９を回動することで、めっき槽２上部空間から離れた
初期位置まで戻る。その後、めっき液が除去された支持
部２に新たなウェーハ３が載置されめっき処理が開始さ
れる。
り、支持部２に付着するめっき液が完全に除去された後
は、第二アーム１２の回動を止め、エアーシリンダー７
により支柱８を上側に伸ばしクリーナ１１を支持部２か
ら離反し、ロータリーアクチェーター６により第一アー
ム９を回動することで、めっき槽２上部空間から離れた
初期位置まで戻る。その後、めっき液が除去された支持
部２に新たなウェーハ３が載置されめっき処理が開始さ
れる。
【００１７】清浄装置５が初期位置にあるとき、図３に
示すようなクリーナ１１の吸収スポンジ１３を洗浄でき
るよう、洗浄水を噴霧できるクリーナシャワー１５が設
けられたクリーナ洗浄室１６が別途備えられている。支
持部２に付着しためっき液を除去した後は、このクリー
ナ洗浄室１６において吸収スポンジ１３を洗浄すること
で、完全に支持部２に付着しためっき液を除去できるよ
うにしてある。
示すようなクリーナ１１の吸収スポンジ１３を洗浄でき
るよう、洗浄水を噴霧できるクリーナシャワー１５が設
けられたクリーナ洗浄室１６が別途備えられている。支
持部２に付着しためっき液を除去した後は、このクリー
ナ洗浄室１６において吸収スポンジ１３を洗浄すること
で、完全に支持部２に付着しためっき液を除去できるよ
うにしてある。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、カ
ップ式めっき装置を用いて順次シード金属付きウェーハ
をめっき処理する場合においても、良好なめっきを施す
ことができる。そして、腐食性の強いめっき液を使用す
る場合でも、めっき槽の支持部における早期腐食を防止
することが可能となる。
ップ式めっき装置を用いて順次シード金属付きウェーハ
をめっき処理する場合においても、良好なめっきを施す
ことができる。そして、腐食性の強いめっき液を使用す
る場合でも、めっき槽の支持部における早期腐食を防止
することが可能となる。
【図１】一実施形態によるカップ式めっき装置及びカッ
プ式めっき槽の清浄装置の概略断面図。
プ式めっき槽の清浄装置の概略断面図。
【図２】一実施形態によるカップ式めっき装置及びカッ
プ式めっき槽の清浄装置の概略平面図。
プ式めっき槽の清浄装置の概略平面図。
【図３】清浄手段がクリーナ洗浄室に配置されている状
態を示す概略断面図。
態を示す概略断面図。
１ カップ式めっき槽 ２ 支持部 ３ ウェーハ ４ めっき液供給部 ５ 清浄装置 ６ ロータリーアクチェーター ７ エアーシリンダー ８ 支柱 ９ 第一アーム １０ 回動モーター １１ クリーナ １２ 第二アーム １３ 吸収スポンジ １４ 回転軸 １５ クリーナシャワー １６ クリーナ洗浄室
Claims (4)
- 【請求項１】 めっき槽上部開口に沿って設けられた支
持部にウェーハを載置しめっき処理するものであるカッ
プ式めっき方法において、 一のめっき工程から次のめっき工程までの間に、支持部
に沿って移動しながらめっき液を除去することができる
清浄手段により、支持部に付着しためっき液を除去する
ことを特徴とするカップ式めっき方法。 - 【請求項２】 清浄手段がめっき液を吸収できる吸収材
又はめっき液を吸引できる吸引具により形成されている
請求項１に記載のカップ式めっき方法。 - 【請求項３】 カップ式めっき槽上部開口に設けられた
支持部を清浄する清浄装置であって、 めっき槽上部開口部の中心にその先端部を位置させるこ
とができる第一アームと、該第一アームの先端にその一
端が取り付けられるとともに他端に清浄手段が設けられ
且つ前記第一アームの先端部を中心に回動可能となった
第二アームとを備えたものであるカップ式めっき槽支持
部の清浄装置。 - 【請求項４】 清浄手段がめっき液を吸収できる吸収材
又はめっき液を吸引できる吸引具により形成されている
請求項３に記載のカップ式めっき槽支持部の清浄装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10091836A JP2886157B1 (ja) | 1998-04-03 | 1998-04-03 | カップ式めっき方法及びそれに用いる清浄装置 |
| US09/204,729 US6224670B1 (en) | 1998-04-03 | 1998-12-03 | Cup-type plating method and cleaning apparatus used therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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