JP2001230302A - 基板をダイナミックアライメントする方法および装置 - Google Patents
基板をダイナミックアライメントする方法および装置Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】ウエハの移送時間を増大させることなく、ウエ
ハの移送中に作動することのできるウエハのアライメン
ト方法及び装置を提供する。 【解決手段】 ウエハは、ロボットのブレード上で、半
導体製造装置のモジュールに向かって経路に沿ってポー
トを通って搬送される。ウエハを運ぶブレードがスロッ
トを通って１つのモジュールから別のモジュールへとウ
エハを移動させるのに伴なってブレードの中心に対する
ウエハの中心位置を決定することを特徴とする。センサ
の待ち特性に従って横軸に沿って配置された２つのスル
ービームセンサ２７４を使用する。センサは、移動中の
ウエハが第２のセンサのビームを遮断または形成して第
２のセンサが第２の遷移信号を生成するより前に、移動
中のウエハが第１のセンサのビームを遮断または形成し
て第１のセンサが第１の遷移信号を生成することを保証
する位置に配設する。
ハの移送中に作動することのできるウエハのアライメン
ト方法及び装置を提供する。 【解決手段】 ウエハは、ロボットのブレード上で、半
導体製造装置のモジュールに向かって経路に沿ってポー
トを通って搬送される。ウエハを運ぶブレードがスロッ
トを通って１つのモジュールから別のモジュールへとウ
エハを移動させるのに伴なってブレードの中心に対する
ウエハの中心位置を決定することを特徴とする。センサ
の待ち特性に従って横軸に沿って配置された２つのスル
ービームセンサ２７４を使用する。センサは、移動中の
ウエハが第２のセンサのビームを遮断または形成して第
２のセンサが第２の遷移信号を生成するより前に、移動
中のウエハが第１のセンサのビームを遮断または形成し
て第１のセンサが第１の遷移信号を生成することを保証
する位置に配設する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に、半導体プ
ロセッサ装置のモジュール間でウエハを移動させること
に関し、特に、ウエハを運ぶサポートブレードによって
個々のウエハをダイナミックアライメントすることに関
する。ここで、ダイナミックアライメントの装置および
方法は、ブレードがスロットを通して１つのモジュール
から別のモジュールへとウエハを移動させるのに伴っ
て、ブレードの中心に対するウエハの中心の位置を決定
するものである。
ロセッサ装置のモジュール間でウエハを移動させること
に関し、特に、ウエハを運ぶサポートブレードによって
個々のウエハをダイナミックアライメントすることに関
する。ここで、ダイナミックアライメントの装置および
方法は、ブレードがスロットを通して１つのモジュール
から別のモジュールへとウエハを移動させるのに伴っ
て、ブレードの中心に対するウエハの中心の位置を決定
するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造では、処理チャン
バを相互に接続させて、接続されたチャンバ間でウエハ
または基板を移送等できるようにする。このような移送
は、例えば、接続されたチャンバの隣接した側壁に提供
されたスロットまたはポートを通してウエハを移送す
る、搬送モジュールによって行われる。搬送モジュール
は、一般に、半導体エッチングシステム、材料堆積シス
テム、フラットパネルディスプレイエッチングシステム
を含む、種々のウエハ処理モジュールとの連携のもとで
使用される。清浄度および高処理精度への要求が増すに
つれて、処理工程中および処理工程間における人的介入
を減らす必要が増してきている。この必要は、中間的な
ウエハ処理装置として作動する真空搬送モジュール（通
常は例えば真空状態などの減圧状態で維持される）の実
装によって、部分的に解決されてきた。真空搬送モジュ
ールは、例えば、ウエハが保管される１つまたはそれ以
上のクリーンルーム保管設備と、ウエハが実際に処理さ
れる、すなわち例えばエッチングされたり堆積を施され
たりする複数のウエハ処理モジュールとの間に、物理的
に設置することができる。このように、ウエハの処理が
必要な場合には、搬送モジュール内に設置されたロボッ
トアームを利用し、選択されたウエハを保管設備から取
り出して、それを複数の処理モジュールの１つに配置す
ることができる。
バを相互に接続させて、接続されたチャンバ間でウエハ
または基板を移送等できるようにする。このような移送
は、例えば、接続されたチャンバの隣接した側壁に提供
されたスロットまたはポートを通してウエハを移送す
る、搬送モジュールによって行われる。搬送モジュール
は、一般に、半導体エッチングシステム、材料堆積シス
テム、フラットパネルディスプレイエッチングシステム
を含む、種々のウエハ処理モジュールとの連携のもとで
使用される。清浄度および高処理精度への要求が増すに
つれて、処理工程中および処理工程間における人的介入
を減らす必要が増してきている。この必要は、中間的な
ウエハ処理装置として作動する真空搬送モジュール（通
常は例えば真空状態などの減圧状態で維持される）の実
装によって、部分的に解決されてきた。真空搬送モジュ
ールは、例えば、ウエハが保管される１つまたはそれ以
上のクリーンルーム保管設備と、ウエハが実際に処理さ
れる、すなわち例えばエッチングされたり堆積を施され
たりする複数のウエハ処理モジュールとの間に、物理的
に設置することができる。このように、ウエハの処理が
必要な場合には、搬送モジュール内に設置されたロボッ
トアームを利用し、選択されたウエハを保管設備から取
り出して、それを複数の処理モジュールの１つに配置す
ることができる。
【０００３】当業者には周知のように、複数の保管設備
および処理モジュールの間でウエハを「移送する」搬送
モジュールの配置は、「クラスタツール構造」システム
と称されることが多い。図１は、半導体工程における代
表的なクラスタ構造１００を示した図であり、真空搬送
モジュール１０６に接続された様々なチャンバが描かれ
ている。真空搬送モジュール１０６は、様々な組立て工
程の実行のために個々に最適化された、３つの処理モジ
ュール１０８ａ〜１０８ｃに結合された状態で示されて
いる。例えば、処理モジュール１０８ａ〜１０８ｃは、
変圧器結合プラズマ（ＴＣＰ）基板エッチング、層の堆
積、および／またはスパッタリングを実行するために実
装されても良い。
および処理モジュールの間でウエハを「移送する」搬送
モジュールの配置は、「クラスタツール構造」システム
と称されることが多い。図１は、半導体工程における代
表的なクラスタ構造１００を示した図であり、真空搬送
モジュール１０６に接続された様々なチャンバが描かれ
ている。真空搬送モジュール１０６は、様々な組立て工
程の実行のために個々に最適化された、３つの処理モジ
ュール１０８ａ〜１０８ｃに結合された状態で示されて
いる。例えば、処理モジュール１０８ａ〜１０８ｃは、
変圧器結合プラズマ（ＴＣＰ）基板エッチング、層の堆
積、および／またはスパッタリングを実行するために実
装されても良い。
【０００４】真空搬送モジュール１０６には、ウエハを
真空搬送モジュール１０６に導入するために実装された
ロードロック１０４が接続されている。ロードロック１
０４は、ウエハが保管されるクリーンルーム１０２に結
合されていて良い。ロードロック１０４は、取り出しお
よび供給の機構である以外に、真空搬送モジュール１０
６とクリーンルーム１０２の間における可変圧インタフ
ェースとしても機能する。従って、クリーンルーム１０
２を大気圧に保持する一方で、真空搬送モジュール１０
６を定圧（例えば真空）に維持することができる。
真空搬送モジュール１０６に導入するために実装された
ロードロック１０４が接続されている。ロードロック１
０４は、ウエハが保管されるクリーンルーム１０２に結
合されていて良い。ロードロック１０４は、取り出しお
よび供給の機構である以外に、真空搬送モジュール１０
６とクリーンルーム１０２の間における可変圧インタフ
ェースとしても機能する。従って、クリーンルーム１０
２を大気圧に保持する一方で、真空搬送モジュール１０
６を定圧（例えば真空）に維持することができる。
【０００５】清浄度および高処理精度への要求が増すに
伴い、ロボットを使用したウエハの移送によって、処理
工程中および処理工程間における人的介入が低減され
た。このような移送は、例えば、クリーンルーム１０２
からロードロック１０４でも、ロードロック１０４から
真空搬送モジュール１０６でも、真空搬送モジュール１
０６から処理モジュール１０８ａでも良い。このような
ロボットの使用によって、個々のウエハへの人的接触が
大幅に低減されたが、一方では、ロボットを使用してウ
エハを移送するにあたって問題が生じた。例えばクリー
ンルームでは、カセットからウエハを抜き取って、それ
をロードロック１０４に提供されたフィンガ上に配置す
るために、ロボットのブレードが使用される。しかしな
がら、ウエハの中心は、フィンガに対して正確に配置さ
れていない可能性がある。その結果、真空搬送モジュー
ル１０６のロボットのブレードでロードロック１０４の
フィンガからウエハを抜き取る際に、ウエハの中心がブ
レードの中心に対して適切に設置または位置決めされな
い可能性がある。ウエハ中心対ブレード中心のこの不適
切なアライメントは、「ウエハ−ブレードのミスアライ
メント」とも、または単に「ウエハのミスアライメン
ト」とも呼ばれ、ロボットが「拡張」動作を実行するの
に伴って発生するものである。この「拡張」動作では、
例えば、ブレード（およびブレードによって運ばれるウ
エハ）が処理モジュールのスロットを通って移動するこ
とにより、処理モジュール１０８ａのピン上にウエハが
配置される。
伴い、ロボットを使用したウエハの移送によって、処理
工程中および処理工程間における人的介入が低減され
た。このような移送は、例えば、クリーンルーム１０２
からロードロック１０４でも、ロードロック１０４から
真空搬送モジュール１０６でも、真空搬送モジュール１
０６から処理モジュール１０８ａでも良い。このような
ロボットの使用によって、個々のウエハへの人的接触が
大幅に低減されたが、一方では、ロボットを使用してウ
エハを移送するにあたって問題が生じた。例えばクリー
ンルームでは、カセットからウエハを抜き取って、それ
をロードロック１０４に提供されたフィンガ上に配置す
るために、ロボットのブレードが使用される。しかしな
がら、ウエハの中心は、フィンガに対して正確に配置さ
れていない可能性がある。その結果、真空搬送モジュー
ル１０６のロボットのブレードでロードロック１０４の
フィンガからウエハを抜き取る際に、ウエハの中心がブ
レードの中心に対して適切に設置または位置決めされな
い可能性がある。ウエハ中心対ブレード中心のこの不適
切なアライメントは、「ウエハ−ブレードのミスアライ
メント」とも、または単に「ウエハのミスアライメン
ト」とも呼ばれ、ロボットが「拡張」動作を実行するの
に伴って発生するものである。この「拡張」動作では、
例えば、ブレード（およびブレードによって運ばれるウ
エハ）が処理モジュールのスロットを通って移動するこ
とにより、処理モジュール１０８ａのピン上にウエハが
配置される。
【０００６】ウエハが代表的な処理モジュール１０８ａ
に最初に配置された際に、ウエハ対ブレードが適切に位
置決めされていた場合でも、そしてウエハが、代表的な
処理モジュール１０８ａにおける処理中に適切に位置決
めされていた場合でも、適切なアライメントが妨げられ
る可能性はある。例えば、代表的な処理モジュール１０
８ａで一般に使用される静電チャックは、処理の完了後
でも完全に放電されなかった残留静電場を有し得る。こ
の状況では、処理されたウエハが、チャックから突然取
り外される可能性がある。その結果、処理されたウエハ
をチャックから抜き取るロボットブレードに対し、ウエ
ハが不適切に位置付けられる。従って、真空搬送モジュ
ール１０６のロボットのブレードでチャックから処理後
のウエハを抜き取る際に、ウエハの中心がブレードの中
心に対して適切に設置されない、すなわち適切に位置決
めされない可能性がある。このウエハのミスアライメン
トは、ロボットが、ブレード（およびブレードによって
運ばれるウエハ）を処理モジュール１０８ａのスロット
を通して移動させる「撤回」動作を実行するのに伴って
発生する。このようなウエハのミスアライメントは、ウ
エハが別の処理モジュール１０８ｂまたはロードロック
１０４に配置される次の拡張動作中でも発生し得る。
に最初に配置された際に、ウエハ対ブレードが適切に位
置決めされていた場合でも、そしてウエハが、代表的な
処理モジュール１０８ａにおける処理中に適切に位置決
めされていた場合でも、適切なアライメントが妨げられ
る可能性はある。例えば、代表的な処理モジュール１０
８ａで一般に使用される静電チャックは、処理の完了後
でも完全に放電されなかった残留静電場を有し得る。こ
の状況では、処理されたウエハが、チャックから突然取
り外される可能性がある。その結果、処理されたウエハ
をチャックから抜き取るロボットブレードに対し、ウエ
ハが不適切に位置付けられる。従って、真空搬送モジュ
ール１０６のロボットのブレードでチャックから処理後
のウエハを抜き取る際に、ウエハの中心がブレードの中
心に対して適切に設置されない、すなわち適切に位置決
めされない可能性がある。このウエハのミスアライメン
トは、ロボットが、ブレード（およびブレードによって
運ばれるウエハ）を処理モジュール１０８ａのスロット
を通して移動させる「撤回」動作を実行するのに伴って
発生する。このようなウエハのミスアライメントは、ウ
エハが別の処理モジュール１０８ｂまたはロードロック
１０４に配置される次の拡張動作中でも発生し得る。
【０００７】ウエハのミスアライメントは、ウエハ処理
の誤差の原因となるため、当然回避するべきである。ま
た、モジュール間におけるウエハの移送にロボットが必
要とする時間（「ウエハの移送時間」）が、ウエハの処
理を実行できない時間であること、すなわちウエハの移
送時間がロス時間であることも、当然ながら明白であ
る。したがって、そのようなウエハのミスアライメント
の大きさをモニタリングし、そのモニタリングをウエハ
の移送時間を大幅に増大させることなく実行するとい
う、いまなお満たされていないニーズが存在する。
の誤差の原因となるため、当然回避するべきである。ま
た、モジュール間におけるウエハの移送にロボットが必
要とする時間（「ウエハの移送時間」）が、ウエハの処
理を実行できない時間であること、すなわちウエハの移
送時間がロス時間であることも、当然ながら明白であ
る。したがって、そのようなウエハのミスアライメント
の大きさをモニタリングし、そのモニタリングをウエハ
の移送時間を大幅に増大させることなく実行するとい
う、いまなお満たされていないニーズが存在する。
【０００８】しかしながら、ウエハを、１つの真空搬送
モジュール１０６から（へと）例えば１０８ａで表され
る最大６つの処理モジュールへと（から）移送し得るこ
とが、ウエハのミスアライメントのモニタリングのよう
な問題を複雑にしている。これまでは、ウエハがロボッ
トのブレードに対して適切に位置決めされているか否か
を決定するのに、隣接したモジュール間で多数のセンサ
を使用する試みが含まれていた。ウエハの移送経路を挟
んで相対するセンサは、ウエハの移送経路に対して対称
的に設置されていた。対称的に配置された相対するセン
サは、出力信号を同時に生成するものであるため、各セ
ンサに１つずつデータプロセッサを提供する必要があっ
た。これらの要素（すなわち、６つの処理モジュールに
真空搬送モジュールを加えて使用し得ることと、対称的
に配置された相対するセンサを１モジュールあたり多数
使用することと、１センサあたり１つのデータプロセッ
サを使用すること）を組み合わせることによって、クラ
スタツール構造の複雑さが増し、高価なプロセッサが多
数必要とされるようになる。より費用効率が高いクラス
タツール構造を提供する必要も考慮すると、各センサに
個別にデータプロセッサを組み込むことによって、シス
テムが法外に高価になることがわかる。
モジュール１０６から（へと）例えば１０８ａで表され
る最大６つの処理モジュールへと（から）移送し得るこ
とが、ウエハのミスアライメントのモニタリングのよう
な問題を複雑にしている。これまでは、ウエハがロボッ
トのブレードに対して適切に位置決めされているか否か
を決定するのに、隣接したモジュール間で多数のセンサ
を使用する試みが含まれていた。ウエハの移送経路を挟
んで相対するセンサは、ウエハの移送経路に対して対称
的に設置されていた。対称的に配置された相対するセン
サは、出力信号を同時に生成するものであるため、各セ
ンサに１つずつデータプロセッサを提供する必要があっ
た。これらの要素（すなわち、６つの処理モジュールに
真空搬送モジュールを加えて使用し得ることと、対称的
に配置された相対するセンサを１モジュールあたり多数
使用することと、１センサあたり１つのデータプロセッ
サを使用すること）を組み合わせることによって、クラ
スタツール構造の複雑さが増し、高価なプロセッサが多
数必要とされるようになる。より費用効率が高いクラス
タツール構造を提供する必要も考慮すると、各センサに
個別にデータプロセッサを組み込むことによって、シス
テムが法外に高価になることがわかる。
【０００９】より費用効率が高いクラスタツール構造を
提供する別の態様は、スルービームセンサ等のセンサを
受信するアパチャを提供するために、モジュールおよび
ロードロックをマシニングするコストに関する。例え
ば、ロボットに対してより正確にセンサを設置するため
に、このようなマシニングの精度の向上を図ると、それ
に伴ってこのような精密マシニングのコストが増大す
る。したがって、センサのアパチャをマシニングするの
に必要な精度を、センサを使用してなされた検出精度を
犠牲にすることなく引き下げられるような、方法が必要
とされている。
提供する別の態様は、スルービームセンサ等のセンサを
受信するアパチャを提供するために、モジュールおよび
ロードロックをマシニングするコストに関する。例え
ば、ロボットに対してより正確にセンサを設置するため
に、このようなマシニングの精度の向上を図ると、それ
に伴ってこのような精密マシニングのコストが増大す
る。したがって、センサのアパチャをマシニングするの
に必要な精度を、センサを使用してなされた検出精度を
犠牲にすることなく引き下げられるような、方法が必要
とされている。
【００１０】このようなスルービームセンサの使用は、
ウエハのミスアライメントをモニタリングする装置を設
計する際にも問題を生じる。例えば、ウエハがこのよう
なスルービームセンサの光ビームを通過して、このビー
ムを遮断する場合は、ビームの遮断を示すパルスをセン
サが出力するまでに、ある一定の期間（待ち時間）が必
要である。ウエハがセンサに相対して移動しているた
め、センサの目的がウエハの位置を決定することにある
場合は、ウエハは、出力パルスが生成された時点（待ち
時間の終了時）で、ビームが遮断された時の位置からす
でに移動してしまっている。待ち時間は、スルービーム
センサの使用にあたって誤差を生じる原因となる。した
がって、スルービームセンサの待ち時間を要因とする誤
差を低減する方法も必要とされている。
ウエハのミスアライメントをモニタリングする装置を設
計する際にも問題を生じる。例えば、ウエハがこのよう
なスルービームセンサの光ビームを通過して、このビー
ムを遮断する場合は、ビームの遮断を示すパルスをセン
サが出力するまでに、ある一定の期間（待ち時間）が必
要である。ウエハがセンサに相対して移動しているた
め、センサの目的がウエハの位置を決定することにある
場合は、ウエハは、出力パルスが生成された時点（待ち
時間の終了時）で、ビームが遮断された時の位置からす
でに移動してしまっている。待ち時間は、スルービーム
センサの使用にあたって誤差を生じる原因となる。した
がって、スルービームセンサの待ち時間を要因とする誤
差を低減する方法も必要とされている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】以上から、ウエハの移
送時間を増大させることなく（例えばモジュール間また
はロードロック間のウエハの移送速度を低下させること
なく）ウエハの移送中に作動することができる、ウエハ
のアライメント方法およびアライメント装置が必要とさ
れていることがわかる。このような方法および装置で
は、センサ１つあたりのデータプロセッサの数を低減す
るだけでなく、クラスタツール構造全体でウエハのミス
アライメントを決定するのに使用される、データプロセ
ッサの全体数をも低減する必要がある。このような方法
および装置は、センサのアパチャをマシニングするのに
必要な精度をも、センサを使用してなされた検出の精度
を犠牲にすることなく引き下げられることが望ましい。
望ましい方法および装置のもう１つの態様は、スルービ
ームセンサを使用したウエハアライメントの決定で誤差
を生じる原因となる待ち時間を排除することにある。
送時間を増大させることなく（例えばモジュール間また
はロードロック間のウエハの移送速度を低下させること
なく）ウエハの移送中に作動することができる、ウエハ
のアライメント方法およびアライメント装置が必要とさ
れていることがわかる。このような方法および装置で
は、センサ１つあたりのデータプロセッサの数を低減す
るだけでなく、クラスタツール構造全体でウエハのミス
アライメントを決定するのに使用される、データプロセ
ッサの全体数をも低減する必要がある。このような方法
および装置は、センサのアパチャをマシニングするのに
必要な精度をも、センサを使用してなされた検出の精度
を犠牲にすることなく引き下げられることが望ましい。
望ましい方法および装置のもう１つの態様は、スルービ
ームセンサを使用したウエハアライメントの決定で誤差
を生じる原因となる待ち時間を排除することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】本
発明は一般に、ウエハを運ぶサポートブレードで各ウエ
ハをダイナミックアライメントすることにより、上述し
たニーズを満たすものである。ここで、ダイナミックア
ライメントの装置および方法は、ブレードがスロットを
通って１つのモジュールから別のモジュールへとウエハ
を移動させるのに伴って、ブレードの中心に対するウエ
ハの中心の位置を決定するものである。ブレードに対す
るウエハのオフセット量を決定し、この決定されたオフ
セット量を使用することにより、ロボットは、クラスタ
ツール構造の処理チャンバにおける精密なアライメント
および配置を可能とすることができる。
発明は一般に、ウエハを運ぶサポートブレードで各ウエ
ハをダイナミックアライメントすることにより、上述し
たニーズを満たすものである。ここで、ダイナミックア
ライメントの装置および方法は、ブレードがスロットを
通って１つのモジュールから別のモジュールへとウエハ
を移動させるのに伴って、ブレードの中心に対するウエ
ハの中心の位置を決定するものである。ブレードに対す
るウエハのオフセット量を決定し、この決定されたオフ
セット量を使用することにより、ロボットは、クラスタ
ツール構造の処理チャンバにおける精密なアライメント
および配置を可能とすることができる。
【００１３】本発明の１つの態様は、ウエハが運ばれて
いる間にセンサを作動させ、ウエハの移動時間を増大さ
せることなく、すなわちモジュール間またはロードロッ
ク間のウエハの移動速度を低下させることなくウエハの
ミスアライメントを決定するための、方法および装置で
ある。
いる間にセンサを作動させ、ウエハの移動時間を増大さ
せることなく、すなわちモジュール間またはロードロッ
ク間のウエハの移動速度を低下させることなくウエハの
ミスアライメントを決定するための、方法および装置で
ある。
【００１４】本発明のもう１つの態様は、既知の物理的
特性を有したキャリブレーションウエハを使用して、ブ
レードと、ロボットと、ウエハセンサを受信する新しく
マシニングされたアパチャとを校正することにある。本
発明によるキャリブレーションの方法および装置は、セ
ンサのアパチャをマシニングするのに必要な精度を、セ
ンサを使用してなされたウエハアライメントの決定の精
度を犠牲にすることなく引き下げることができる。これ
は、センサがアパチャに挿入された後に、各センサの位
置がキャリブレーションによって正確に決定されるため
である。キャリブレーション方法は、キャリブレーショ
ンウエハを使用してシステムを校正することにより、ウ
エハ搬送ロボットのブレードの中心に対するウエハの中
心の位置を示すデータを生成する。ここで、ウエハは少
なくとも１つのエッジを有する。
特性を有したキャリブレーションウエハを使用して、ブ
レードと、ロボットと、ウエハセンサを受信する新しく
マシニングされたアパチャとを校正することにある。本
発明によるキャリブレーションの方法および装置は、セ
ンサのアパチャをマシニングするのに必要な精度を、セ
ンサを使用してなされたウエハアライメントの決定の精
度を犠牲にすることなく引き下げることができる。これ
は、センサがアパチャに挿入された後に、各センサの位
置がキャリブレーションによって正確に決定されるため
である。キャリブレーション方法は、キャリブレーショ
ンウエハを使用してシステムを校正することにより、ウ
エハ搬送ロボットのブレードの中心に対するウエハの中
心の位置を示すデータを生成する。ここで、ウエハは少
なくとも１つのエッジを有する。
【００１５】方法は、ポートを有した半導体製造装置の
隣りにウエハ搬送ロボットを搭載することによって、ロ
ボットが、ポートを通してウエハ搬送軸に沿ってウエハ
を移動できるようにすることからスタートする。ウエハ
搬送軸を横切る軸上には、少なくとも２つのセンサがポ
ートに沿って間隔をあけて配置される。センサは、ウエ
ハエッジの存在、およびそのウエハエッジの存在に続く
ウエハの不在によって始動する。センサの１つが始動す
るたびに、その始動されたセンサが個々のデータ項目を
生成するのに有効となる。既知の寸法を有したキャリブ
レーションウエハは、ブレードの中心に合わせた位置で
ブレードに固定される。ロボットに、ポートを通ってセ
ンサを通過するようにキャリブレーションウエハを移動
させることによって、ロボットに対するセンサの位置に
関するデータが獲得される。センサが生成する個々のデ
ータ項目のそれぞれは、センサを通過して移動するキャ
リブレーションウエハのエッジの位置を示している。各
個々のデータ項目に対応するロボットのそれぞれの位置
と、キャリブレーションウエハの半径に関するデータ
と、そして個々のデータ項目とを使用することによっ
て、ロボットに対するセンサの位置を正確に決定するこ
とができる。
隣りにウエハ搬送ロボットを搭載することによって、ロ
ボットが、ポートを通してウエハ搬送軸に沿ってウエハ
を移動できるようにすることからスタートする。ウエハ
搬送軸を横切る軸上には、少なくとも２つのセンサがポ
ートに沿って間隔をあけて配置される。センサは、ウエ
ハエッジの存在、およびそのウエハエッジの存在に続く
ウエハの不在によって始動する。センサの１つが始動す
るたびに、その始動されたセンサが個々のデータ項目を
生成するのに有効となる。既知の寸法を有したキャリブ
レーションウエハは、ブレードの中心に合わせた位置で
ブレードに固定される。ロボットに、ポートを通ってセ
ンサを通過するようにキャリブレーションウエハを移動
させることによって、ロボットに対するセンサの位置に
関するデータが獲得される。センサが生成する個々のデ
ータ項目のそれぞれは、センサを通過して移動するキャ
リブレーションウエハのエッジの位置を示している。各
個々のデータ項目に対応するロボットのそれぞれの位置
と、キャリブレーションウエハの半径に関するデータ
と、そして個々のデータ項目とを使用することによっ
て、ロボットに対するセンサの位置を正確に決定するこ
とができる。
【００１６】本発明のもう１つの態様では、１モジュー
ルあたり幾つのセンサが提供されるか、そしてウエハを
受取または供給しているのがどのモジュールであるかに
関わらず、１つのデータプロセッサのみが必要とされ
る。本発明による方法および装置は、１センサあたりの
データプロセッサの数を低減することができるうえ、ク
ラスタツール構造全体でウエハミスアライメントの決定
に使用されるデータプロセッサの全体数をも低減するこ
とができる。この利点は、このようなセンサをウエハの
経路に対して位置付ける際に、スルービームセンサの待
ち時間を測定することを、部分的な要因とするものであ
る。詳しく言うと、必要なプロセッサが１つのみである
のは、このようなセンサをモジュールスロットの横軸に
沿って非対称形に位置付けることに起因するものであ
り、そうすることによって、このようなセンサのうち第
２のセンサが次の遷移信号を生成するより前に、このよ
うなセンサの第１のセンサが遷移信号を生成し、この遷
移信号に関連したロボットの位置情報がこの遷移信号に
応じて格納されることが保証される。
ルあたり幾つのセンサが提供されるか、そしてウエハを
受取または供給しているのがどのモジュールであるかに
関わらず、１つのデータプロセッサのみが必要とされ
る。本発明による方法および装置は、１センサあたりの
データプロセッサの数を低減することができるうえ、ク
ラスタツール構造全体でウエハミスアライメントの決定
に使用されるデータプロセッサの全体数をも低減するこ
とができる。この利点は、このようなセンサをウエハの
経路に対して位置付ける際に、スルービームセンサの待
ち時間を測定することを、部分的な要因とするものであ
る。詳しく言うと、必要なプロセッサが１つのみである
のは、このようなセンサをモジュールスロットの横軸に
沿って非対称形に位置付けることに起因するものであ
り、そうすることによって、このようなセンサのうち第
２のセンサが次の遷移信号を生成するより前に、このよ
うなセンサの第１のセンサが遷移信号を生成し、この遷
移信号に関連したロボットの位置情報がこの遷移信号に
応じて格納されることが保証される。
【００１７】これらの特性を有した装置は、ウエハ搬送
ロボットのブレードの中心に対するウエハの中心の位置
を示すデータを、ブレードが半導体製造装置のモジュー
ルのファセットによって定義される平面を貫く経路に沿
って制御速度でウエハを移送するのに伴って生成するた
めに、提供されるものである。先ず、センサの位置付け
軸が平面内で延びて経路を横切る。第１のセンサは、経
路上を移動中のウエハを感知するために、平面内の位置
付け軸上で、経路から第１の距離分だけ離れて配置され
ている。第１のセンサは、ウエハを感知する第１の時間
と、ウエハの感知を示すために第１のセンサによって出
力された遷移信号に応じ、ロボット位置データが格納さ
れる後の時間との間に、待ち時間を有する。
ロボットのブレードの中心に対するウエハの中心の位置
を示すデータを、ブレードが半導体製造装置のモジュー
ルのファセットによって定義される平面を貫く経路に沿
って制御速度でウエハを移送するのに伴って生成するた
めに、提供されるものである。先ず、センサの位置付け
軸が平面内で延びて経路を横切る。第１のセンサは、経
路上を移動中のウエハを感知するために、平面内の位置
付け軸上で、経路から第１の距離分だけ離れて配置され
ている。第１のセンサは、ウエハを感知する第１の時間
と、ウエハの感知を示すために第１のセンサによって出
力された遷移信号に応じ、ロボット位置データが格納さ
れる後の時間との間に、待ち時間を有する。
【００１８】第２のセンサは、経路上を移動中のウエハ
を感知するために、平面内の位置付け軸上で、経路から
第２の距離分だけ離れて配置されている。第１の距離と
第２の距離は、ウエハが第１のセンサに感知される第１
の瞬間とウエハが第２のセンサに感知される第２の瞬間
との間の時間が、所定の速度において待ち時間以上であ
る距離だけ異なる。
を感知するために、平面内の位置付け軸上で、経路から
第２の距離分だけ離れて配置されている。第１の距離と
第２の距離は、ウエハが第１のセンサに感知される第１
の瞬間とウエハが第２のセンサに感知される第２の瞬間
との間の時間が、所定の速度において待ち時間以上であ
る距離だけ異なる。
【００１９】これらの特性を有した装置はまた、ブレー
ドが、半導体製造装置の複数モジュールの複数ファセッ
トの１つによって定義される平面を貫く経路に沿って、
ウエハを連続して移動させるのに伴って、ウエハ搬送ロ
ボットのブレードに対するウエハの位置を示すデータを
生成するために、提供されるものである。センサの位置
付け軸は、各平面内で延びてそれぞれの経路を横切る。
第１のセンサは、各経路上を移動中のウエハを感知する
ために、各平面のそれぞれの位置付け軸上で、その経路
から第１の距離分だけ離れて配置されている。第１のセ
ンサは、第１のセンサがそれぞれの経路上のウエハを感
知する第１の時間と、それぞれの経路上におけるウエハ
の第１の感知を示すために第１のセンサによって出力さ
れた第１の遷移信号に応じ、ロボット位置データが格納
される後の時間との間に、第１の待ち時間を有する。
ドが、半導体製造装置の複数モジュールの複数ファセッ
トの１つによって定義される平面を貫く経路に沿って、
ウエハを連続して移動させるのに伴って、ウエハ搬送ロ
ボットのブレードに対するウエハの位置を示すデータを
生成するために、提供されるものである。センサの位置
付け軸は、各平面内で延びてそれぞれの経路を横切る。
第１のセンサは、各経路上を移動中のウエハを感知する
ために、各平面のそれぞれの位置付け軸上で、その経路
から第１の距離分だけ離れて配置されている。第１のセ
ンサは、第１のセンサがそれぞれの経路上のウエハを感
知する第１の時間と、それぞれの経路上におけるウエハ
の第１の感知を示すために第１のセンサによって出力さ
れた第１の遷移信号に応じ、ロボット位置データが格納
される後の時間との間に、第１の待ち時間を有する。
【００２０】第２のセンサは、各経路上を移動中のウエ
ハを感知するために、各平面のそれぞれの位置付け軸上
で、その経路から第２の距離分だけ離れて配置されてい
る。第２のセンサは、それぞれの経路上におけるウエハ
の第２の感知を示すために、第２の遷移信号を出力す
る。各第１のセンサに対応する各第２のセンサに関し、
その第１の距離と第２の距離は選択された距離だけ異な
る。この距離は、それぞれの経路上を移動しているウエ
ハが第１のセンサに感知される第１の瞬間に第１の待ち
時間を加えた時間が、同じ経路上を移動しているウエハ
が第２のセンサに感知される第２の瞬間より時間的に後
にならないことを保証するものである。この方法では、
それぞれの経路上のウエハが第２のセンサに感知される
より前に、それぞれの経路上のウエハが第１のセンサに
よって感知されるのに応じて、第１のセンサにより第１
の遷移信号が出力され、ロボット位置データが格納され
る。
ハを感知するために、各平面のそれぞれの位置付け軸上
で、その経路から第２の距離分だけ離れて配置されてい
る。第２のセンサは、それぞれの経路上におけるウエハ
の第２の感知を示すために、第２の遷移信号を出力す
る。各第１のセンサに対応する各第２のセンサに関し、
その第１の距離と第２の距離は選択された距離だけ異な
る。この距離は、それぞれの経路上を移動しているウエ
ハが第１のセンサに感知される第１の瞬間に第１の待ち
時間を加えた時間が、同じ経路上を移動しているウエハ
が第２のセンサに感知される第２の瞬間より時間的に後
にならないことを保証するものである。この方法では、
それぞれの経路上のウエハが第２のセンサに感知される
より前に、それぞれの経路上のウエハが第１のセンサに
よって感知されるのに応じて、第１のセンサにより第１
の遷移信号が出力され、ロボット位置データが格納され
る。
【００２１】したがって、第１および第２のセンサから
出力される第１および第２の遷移信号の間には時間的な
隔たりがある。遷移信号間の時間的な隔たりによって、
第１および第２の遷移信号をそれぞれ受信するのに必要
なプロセッサが１つですむという、重要な結果を得るこ
とができる。つまり、遷移信号が同時に生成されること
がないため、遷移信号の処理のために複数のプロセッサ
を同時に作動させる必要がない。遷移信号間が時間的に
隔たっていても、ウエハの移動が中断されずに継続する
ため、システムを通じたウエハの処理量が低下すること
はない。
出力される第１および第２の遷移信号の間には時間的な
隔たりがある。遷移信号間の時間的な隔たりによって、
第１および第２の遷移信号をそれぞれ受信するのに必要
なプロセッサが１つですむという、重要な結果を得るこ
とができる。つまり、遷移信号が同時に生成されること
がないため、遷移信号の処理のために複数のプロセッサ
を同時に作動させる必要がない。遷移信号間が時間的に
隔たっていても、ウエハの移動が中断されずに継続する
ため、システムを通じたウエハの処理量が低下すること
はない。
【００２２】このような装置は、直径が２００ｍｍまた
は３００ｍｍのウエハのように、様々な物理的特性を有
したウエハに対しても提供される。もちろん、より小型
または大型の基板に対応できるように、装置に修正を加
えることも可能である。装置は、ブレードが、半導体製
造装置の複数モジュールの複数ファセット面の１つによ
って定義される平面を貫く経路に沿って、ウエハを連続
して移動させるのに伴って、ウエハ搬送ロボットのブレ
ードの中心に対するウエハの中心の位置を示すデータを
生成する。センサの位置付け軸は、各平面内で延びてそ
れぞれの経路を横切る。ウエハは、例えば２００ｍｍま
たは３００ｍｍの直径のように、第１および第２の物理
的特性のいずれかを有して良い。ロボットは、ブレード
およびブレードによって運ばれるウエハを、それぞれの
平面を貫いてそれぞれのモジュールに至る拡張動作か、
またはそれぞれの平面を貫いてそれぞれのモジュールか
ら遠ざかる撤回動作のいずれかで移動させる。第１のセ
ンサは、各経路上を移動中のウエハを感知するために、
各平面のそれぞれの位置付け軸上で、それぞれの経路か
ら第１の距離分だけ離れて配置されている。第１のセン
サは、第１のセンサがそれぞれの経路上のウエハを感知
する第１の時間と、それぞれの経路上におけるウエハの
感知を示す第１の遷移信号に応じてロボット位置データ
が格納される後の時間との間に、第１の待ち時間を有す
る。
は３００ｍｍのウエハのように、様々な物理的特性を有
したウエハに対しても提供される。もちろん、より小型
または大型の基板に対応できるように、装置に修正を加
えることも可能である。装置は、ブレードが、半導体製
造装置の複数モジュールの複数ファセット面の１つによ
って定義される平面を貫く経路に沿って、ウエハを連続
して移動させるのに伴って、ウエハ搬送ロボットのブレ
ードの中心に対するウエハの中心の位置を示すデータを
生成する。センサの位置付け軸は、各平面内で延びてそ
れぞれの経路を横切る。ウエハは、例えば２００ｍｍま
たは３００ｍｍの直径のように、第１および第２の物理
的特性のいずれかを有して良い。ロボットは、ブレード
およびブレードによって運ばれるウエハを、それぞれの
平面を貫いてそれぞれのモジュールに至る拡張動作か、
またはそれぞれの平面を貫いてそれぞれのモジュールか
ら遠ざかる撤回動作のいずれかで移動させる。第１のセ
ンサは、各経路上を移動中のウエハを感知するために、
各平面のそれぞれの位置付け軸上で、それぞれの経路か
ら第１の距離分だけ離れて配置されている。第１のセン
サは、第１のセンサがそれぞれの経路上のウエハを感知
する第１の時間と、それぞれの経路上におけるウエハの
感知を示す第１の遷移信号に応じてロボット位置データ
が格納される後の時間との間に、第１の待ち時間を有す
る。
【００２３】第２のセンサもやはり、直径が２００ｍｍ
または３００ｍｍのウエハで使用するために提供され
る。直径が２００ｍｍのウエハに対し、第２のセンサ
は、それぞれの経路上を移動中のウエハを感知するため
に、各平面のそれぞれの位置付け軸上で、それぞれの経
路から第２の距離分だけ離れて搭載されている。第２の
センサは、それぞれの経路上におけるウエハの感知を示
す第２の遷移信号を出力する。各第１のセンサに対応す
る各第２のセンサに関し、その第１の距離と第２の距離
は選択された距離だけ異なる。この距離は、それぞれの
経路上で移動している第１の物理的特性を有したウエハ
が第１のセンサに感知される第１の瞬間に第１の待ち時
間を加えた時間が、同じ経路上で移動している第２の物
理的特性を有したウエハが第２のセンサに感知される第
２の瞬間より時間的に後にならないことを保証するもの
である。
または３００ｍｍのウエハで使用するために提供され
る。直径が２００ｍｍのウエハに対し、第２のセンサ
は、それぞれの経路上を移動中のウエハを感知するため
に、各平面のそれぞれの位置付け軸上で、それぞれの経
路から第２の距離分だけ離れて搭載されている。第２の
センサは、それぞれの経路上におけるウエハの感知を示
す第２の遷移信号を出力する。各第１のセンサに対応す
る各第２のセンサに関し、その第１の距離と第２の距離
は選択された距離だけ異なる。この距離は、それぞれの
経路上で移動している第１の物理的特性を有したウエハ
が第１のセンサに感知される第１の瞬間に第１の待ち時
間を加えた時間が、同じ経路上で移動している第２の物
理的特性を有したウエハが第２のセンサに感知される第
２の瞬間より時間的に後にならないことを保証するもの
である。
【００２４】この方法では、それぞれの経路上のウエハ
が第２のセンサで感知されるより前に、第１の物理的特
性を有し且つそれぞれの経路上にあるウエハが第１のセ
ンサで感知されるのに応じ、第１のセンサによって第１
の遷移信号が出力されて、ロボット位置データが格納さ
れる。したがって、第１の物理的特性を有したウエハに
関し、第１および第２のセンサから出力される第１およ
び第２の遷移信号の間には、時間的な隔たりがある。
が第２のセンサで感知されるより前に、第１の物理的特
性を有し且つそれぞれの経路上にあるウエハが第１のセ
ンサで感知されるのに応じ、第１のセンサによって第１
の遷移信号が出力されて、ロボット位置データが格納さ
れる。したがって、第１の物理的特性を有したウエハに
関し、第１および第２のセンサから出力される第１およ
び第２の遷移信号の間には、時間的な隔たりがある。
【００２５】直径が３００ｍｍのウエハに対しても、第
２のセンサはやはり各平面のそれぞれの位置付け軸上に
搭載されるが、それぞれの経路から第３の距離分だけ離
れるように再配置される。再配置された結果、第２のセ
ンサは、それぞれの経路上を移動する第２の物理的特性
を有したウエハを感知する。簡単のため、第３の距離分
だ離れて再配置された第２のセンサを「第３のセンサ」
と呼ぶことにする。第３のセンサは、第３のセンサがそ
れぞれの経路上でウエハを感知する第３の時間と後の時
間との間に、第３の待ち時間を有する。この後の時間
は、それぞれの経路上にある第２の物理的特性を有した
ウエハが感知されたことを示す第３の遷移信号が第３の
センサから出力され、ロボット位置データが格納される
と生じるものである。各第１のセンサに対応する各第３
のセンサに関し、第３の距離と第１の距離の差は、それ
ぞれの経路上を移動している第２の物理的特性を有した
ウエハが第３のセンサで感知される第３の瞬間に第３の
待ち時間を加えた時間が、同じ経路上を移動している第
２の物理的特性を有したウエハが第１のセンサで感知さ
れる第４の瞬間より時間的に後にならないような距離で
ある。
２のセンサはやはり各平面のそれぞれの位置付け軸上に
搭載されるが、それぞれの経路から第３の距離分だけ離
れるように再配置される。再配置された結果、第２のセ
ンサは、それぞれの経路上を移動する第２の物理的特性
を有したウエハを感知する。簡単のため、第３の距離分
だ離れて再配置された第２のセンサを「第３のセンサ」
と呼ぶことにする。第３のセンサは、第３のセンサがそ
れぞれの経路上でウエハを感知する第３の時間と後の時
間との間に、第３の待ち時間を有する。この後の時間
は、それぞれの経路上にある第２の物理的特性を有した
ウエハが感知されたことを示す第３の遷移信号が第３の
センサから出力され、ロボット位置データが格納される
と生じるものである。各第１のセンサに対応する各第３
のセンサに関し、第３の距離と第１の距離の差は、それ
ぞれの経路上を移動している第２の物理的特性を有した
ウエハが第３のセンサで感知される第３の瞬間に第３の
待ち時間を加えた時間が、同じ経路上を移動している第
２の物理的特性を有したウエハが第１のセンサで感知さ
れる第４の瞬間より時間的に後にならないような距離で
ある。
【００２６】したがって、第３のセンサによる第３の遷
移信号は、それぞれの経路上にある第２の物理的特性を
有したウエハが第１のセンサで感知されるより前に、そ
れぞれの経路上にある第２の物理的特性を有したウエハ
が第３のセンサで感知されるのに応じて、第３のセンサ
により出力される。第２の物理的特性を有したウエハに
関しては、第１および第３の遷移信号が、第１および第
３のセンサからそれぞれ一定時間をおいて出力される。
複数のファセットと、各ファセット平面上に複数のセン
サとを提供することを考慮した結果、ウエハが移動時に
貫く全ファセットからの遷移信号で表される全出力を組
み合わせるのに、論理回路が使用される。
移信号は、それぞれの経路上にある第２の物理的特性を
有したウエハが第１のセンサで感知されるより前に、そ
れぞれの経路上にある第２の物理的特性を有したウエハ
が第３のセンサで感知されるのに応じて、第３のセンサ
により出力される。第２の物理的特性を有したウエハに
関しては、第１および第３の遷移信号が、第１および第
３のセンサからそれぞれ一定時間をおいて出力される。
複数のファセットと、各ファセット平面上に複数のセン
サとを提供することを考慮した結果、ウエハが移動時に
貫く全ファセットからの遷移信号で表される全出力を組
み合わせるのに、論理回路が使用される。
【００２７】本発明による方法の１つの態様は、遷移信
号を処理するのに必要なプロセッサが１つのみであると
いう利点をも提供するものである。この方法は、ウエハ
を運んでいるブレードの中心に対するウエハの中心の位
置を示すデータを提供するものであり、ブレードと共に
経路に沿って移動させるために、ウエハをブレード上に
搭載する動作を備える。また、第１のセンサを、経路と
交差する位置に中心を有した横軸に沿って提供し、第１
のセンサをその中心の片側に至る動作をも備える。次の
動作では、第２のセンサを、横軸に沿ってその中心のも
う片側に提供し、第１および第２のセンサを選択された
距離だけ離す。
号を処理するのに必要なプロセッサが１つのみであると
いう利点をも提供するものである。この方法は、ウエハ
を運んでいるブレードの中心に対するウエハの中心の位
置を示すデータを提供するものであり、ブレードと共に
経路に沿って移動させるために、ウエハをブレード上に
搭載する動作を備える。また、第１のセンサを、経路と
交差する位置に中心を有した横軸に沿って提供し、第１
のセンサをその中心の片側に至る動作をも備える。次の
動作では、第２のセンサを、横軸に沿ってその中心のも
う片側に提供し、第１および第２のセンサを選択された
距離だけ離す。
【００２８】ウエハが経路に沿って移動を続けると、第
１のセンサがウエハにトリガされて第１の遷移信号を生
成し、第２のセンサがウエハにトリガされて第２の遷移
信号を生成する。必要なプロセッサが１つのみであるの
は、第１および第２のセンサが、センサの待ちの特性に
従って横軸に沿ってそれぞれ配置されるため、ポートを
通って移動するウエハが、複数のセンサの各センサによ
って一定時間おきに感知されるためである。一定時間お
きに感知することによって、第２のセンサがウエハを感
知して第２の遷移信号を生成するより前に、第１のセン
サでウエハを感知して第１の遷移信号を生成し、各第１
の遷移信号に対応するロボット位置データを格納するこ
とが可能となる。つまり、第１および第２のセンサがウ
エハによってトリガされる瞬間を時間的に隔てることに
よって、ウエハが第２のセンサをトリガするより前に、
第１の遷移信号が生成されて各第１の遷移信号に対応す
るロボット位置データが格納されるように、センサ間の
距離を選択するのである。
１のセンサがウエハにトリガされて第１の遷移信号を生
成し、第２のセンサがウエハにトリガされて第２の遷移
信号を生成する。必要なプロセッサが１つのみであるの
は、第１および第２のセンサが、センサの待ちの特性に
従って横軸に沿ってそれぞれ配置されるため、ポートを
通って移動するウエハが、複数のセンサの各センサによ
って一定時間おきに感知されるためである。一定時間お
きに感知することによって、第２のセンサがウエハを感
知して第２の遷移信号を生成するより前に、第１のセン
サでウエハを感知して第１の遷移信号を生成し、各第１
の遷移信号に対応するロボット位置データを格納するこ
とが可能となる。つまり、第１および第２のセンサがウ
エハによってトリガされる瞬間を時間的に隔てることに
よって、ウエハが第２のセンサをトリガするより前に、
第１の遷移信号が生成されて各第１の遷移信号に対応す
るロボット位置データが格納されるように、センサ間の
距離を選択するのである。
【００２９】本発明の原理を例示した添付図面との関連
で行う以下の詳細な説明から、本発明のその他の態様お
よび利点が明らかになる。
で行う以下の詳細な説明から、本発明のその他の態様お
よび利点が明らかになる。
【００３０】同一の参照番号が同一の構造要素を意味す
る添付図面との関連で行う以下の詳細な説明から、本発
明を容易に理解することが可能となる。
る添付図面との関連で行う以下の詳細な説明から、本発
明を容易に理解することが可能となる。
【００３１】
【発明の実施の形態】本発明は、ウエハが運ばれている
際のウエハのミスアライメントを決定するために開示さ
れる。この決定は、ウエハの移送時間を増大させること
なく、つまりモジュール間またはロードロック間におけ
るウエハの移送速度を低下させることなく行われる。本
発明の実施例もやはり、１センサあたりのデータプロセ
ッサの数を低減することと、ウエハのミスアライメント
を決定するためにクラスタツール構造全体で使用される
データプロセッサの全体数を低減することに関連して開
示される。本発明はさらに、センサのアパチャをマシニ
ングするのに必要な精度を、センサを使用してなされる
検知の精度を犠牲にすることなく引き下げることにも関
連して開示される。詳細な説明では、１センサあたりの
データプロセッサの数を低減することと、ウエハのミス
アライメントを決定するためにクラスタツール構造全体
で使用されるデータプロセッサの全体数を低減すること
に関連し、スルービームセンサを使用してウエハアライ
メントを決定する際の誤差の要因としてのセンサの待ち
時間が、どのように排除されるかをも示している。
際のウエハのミスアライメントを決定するために開示さ
れる。この決定は、ウエハの移送時間を増大させること
なく、つまりモジュール間またはロードロック間におけ
るウエハの移送速度を低下させることなく行われる。本
発明の実施例もやはり、１センサあたりのデータプロセ
ッサの数を低減することと、ウエハのミスアライメント
を決定するためにクラスタツール構造全体で使用される
データプロセッサの全体数を低減することに関連して開
示される。本発明はさらに、センサのアパチャをマシニ
ングするのに必要な精度を、センサを使用してなされる
検知の精度を犠牲にすることなく引き下げることにも関
連して開示される。詳細な説明では、１センサあたりの
データプロセッサの数を低減することと、ウエハのミス
アライメントを決定するためにクラスタツール構造全体
で使用されるデータプロセッサの全体数を低減すること
に関連し、スルービームセンサを使用してウエハアライ
メントを決定する際の誤差の要因としてのセンサの待ち
時間が、どのように排除されるかをも示している。
【００３２】しかしながら、当業者には明らかなよう
に、本発明は、これらの詳説の一部または全てを特定し
なくても実施することが可能である。そのほか、本発明
が不明瞭にならないため、周知の工程動作については詳
細には説明していない。
に、本発明は、これらの詳説の一部または全てを特定し
なくても実施することが可能である。そのほか、本発明
が不明瞭にならないため、周知の工程動作については詳
細には説明していない。
【００３３】図２Ａによれば、本発明は一般に、真空搬
送モジュール２０２と、少なくとも１つのロードロック
２０４（またはウエハ搬送格納装置）と、基板またはウ
エハ２０８を１つまたはそれ以上のカセット２１０から
ロードロック２０４へと移送するための常圧搬送モジュ
ール２０６と、を備えた半導体処理クラスタツール構造
システム２００として開示される。好ましくは、２つの
隣接したロードロック２０４が、真空搬送モジュール２
０２の２つの隣接した側壁にそれぞれ１つずつ提供され
ると良い。また、常圧搬送モジュール２０６は、少なく
とも２つのカセット２１０と、回転の固定軸２１４上に
設けられたフロントエンドロボット２１２と、ウエハア
ライナ２１６とを備える。アライナ２１６は、ウエハが
クラスタ構造２００に移動する前にウエハの望ましい位
置を発見するのに使用される。各ロードロック２０４
は、ウエハが移送される際に通るロードロックポート２
２０を備えたウエハ受け取り面２１８を有する。各ポー
ト２２０は、ゲートバルブまたはドア２２２によって閉
じられる。フロントエンドロボット２１２は、ポート２
２０の中心に合わせて且つ面２１８に垂直に配置された
ロードロックウエハ移送軸２２４に沿って、ポート２２
０を通ってウエハ２０８を移送する。フロントエンドロ
ボット２１２は、ロードロック２０４のフィンガ２２６
上にウエハ２０８を配置する。
送モジュール２０２と、少なくとも１つのロードロック
２０４（またはウエハ搬送格納装置）と、基板またはウ
エハ２０８を１つまたはそれ以上のカセット２１０から
ロードロック２０４へと移送するための常圧搬送モジュ
ール２０６と、を備えた半導体処理クラスタツール構造
システム２００として開示される。好ましくは、２つの
隣接したロードロック２０４が、真空搬送モジュール２
０２の２つの隣接した側壁にそれぞれ１つずつ提供され
ると良い。また、常圧搬送モジュール２０６は、少なく
とも２つのカセット２１０と、回転の固定軸２１４上に
設けられたフロントエンドロボット２１２と、ウエハア
ライナ２１６とを備える。アライナ２１６は、ウエハが
クラスタ構造２００に移動する前にウエハの望ましい位
置を発見するのに使用される。各ロードロック２０４
は、ウエハが移送される際に通るロードロックポート２
２０を備えたウエハ受け取り面２１８を有する。各ポー
ト２２０は、ゲートバルブまたはドア２２２によって閉
じられる。フロントエンドロボット２１２は、ポート２
２０の中心に合わせて且つ面２１８に垂直に配置された
ロードロックウエハ移送軸２２４に沿って、ポート２２
０を通ってウエハ２０８を移送する。フロントエンドロ
ボット２１２は、ロードロック２０４のフィンガ２２６
上にウエハ２０８を配置する。
【００３４】ウエハ２０８は、ロードロック２０４から
真空搬送モジュール２０２へと移送される。図２Ｂおよ
び２Ｃによると、モジュール２０２は、中心軸２３０に
組み込まれた真空移送ロボット２２８を備えている。モ
ジュール２０２は、６つのウエハ移送面２３２を有し、
そのそれぞれに、例えばデュアルスロットバルブ２３８
のゲートバルブまたはドア２３６によって閉じられるポ
ート２３４が提供されている。面２３２のうちの２つは
ロードロック２０４とモジュール２０２の間にあり、面
２３２のうち代表的な４つはそれぞれ４つの処理モジュ
ールまたはチャンバ２４０に対して提供されている。
真空搬送モジュール２０２へと移送される。図２Ｂおよ
び２Ｃによると、モジュール２０２は、中心軸２３０に
組み込まれた真空移送ロボット２２８を備えている。モ
ジュール２０２は、６つのウエハ移送面２３２を有し、
そのそれぞれに、例えばデュアルスロットバルブ２３８
のゲートバルブまたはドア２３６によって閉じられるポ
ート２３４が提供されている。面２３２のうちの２つは
ロードロック２０４とモジュール２０２の間にあり、面
２３２のうち代表的な４つはそれぞれ４つの処理モジュ
ールまたはチャンバ２４０に対して提供されている。
【００３５】あるロードロック２０４から処理モジュー
ル２４０のうちの１つへと至るウエハ２０８の動きを考
慮し、真空移送ロボット２２８は、ロードロック２０４
のフィンガ２２６からウエハ２０８を選出する。撤回動
作において、ロボット２２８は、それぞれのポート２３
４の中心に合わされ且つそれぞれの面２３２に垂直であ
る入来ウエハ移送経路２４２に沿って、ポート２３４を
通って選出ウエハ２０８を移動させる。真空移送ロボッ
ト２２８は、ウエハ２０８を先ずは経路２４２上の真空
搬送モジュール２０２に移動させ、次いで、ウエハ２０
８の処理のために識別された処理モジュール２４０の、
それぞれのポート２３４および面２３２の中心に合わせ
て配置された、第２のウエハ移送経路２４４に沿って移
動させる。拡張動作において、ロボット２２８は、ウエ
ハ２０８を識別された処理モジュール２４０のポート２
３４の中にそしてそこを通って第２の経路２４４に沿っ
て移動させる。ロボット２２８は、識別された処理モジ
ュール２４０のピン２４６上にウエハを配置する。処理
モジュール２４０における動作が完了すると、ロボット
２２８はピン２４６からウエハ２０８を選出する。撤回
動作において、ロボット２２８は、ウエハ２０８ポート
２３４の中にそしてそこを通って第２の経路２４４に沿
って移動させて、真空搬送モジュール２０２に戻す。
ル２４０のうちの１つへと至るウエハ２０８の動きを考
慮し、真空移送ロボット２２８は、ロードロック２０４
のフィンガ２２６からウエハ２０８を選出する。撤回動
作において、ロボット２２８は、それぞれのポート２３
４の中心に合わされ且つそれぞれの面２３２に垂直であ
る入来ウエハ移送経路２４２に沿って、ポート２３４を
通って選出ウエハ２０８を移動させる。真空移送ロボッ
ト２２８は、ウエハ２０８を先ずは経路２４２上の真空
搬送モジュール２０２に移動させ、次いで、ウエハ２０
８の処理のために識別された処理モジュール２４０の、
それぞれのポート２３４および面２３２の中心に合わせ
て配置された、第２のウエハ移送経路２４４に沿って移
動させる。拡張動作において、ロボット２２８は、ウエ
ハ２０８を識別された処理モジュール２４０のポート２
３４の中にそしてそこを通って第２の経路２４４に沿っ
て移動させる。ロボット２２８は、識別された処理モジ
ュール２４０のピン２４６上にウエハを配置する。処理
モジュール２４０における動作が完了すると、ロボット
２２８はピン２４６からウエハ２０８を選出する。撤回
動作において、ロボット２２８は、ウエハ２０８ポート
２３４の中にそしてそこを通って第２の経路２４４に沿
って移動させて、真空搬送モジュール２０２に戻す。
【００３６】搬送されるウエハ２０８の例として、図２
Ａはカセット２１０を示し、それは、直線状のエッジ２
５２と曲線状のエッジ２５４とを有した第１のウエハ２
０８Ｆ（左側のカセット２１０にある）と、刻み目２５
８が入った曲線状のエッジ２５６を有した第２のウエハ
２０８Ｎ（右側のカセット２１０にある）とをサポート
している。フロントエンドロボット２１２は、カセット
２１０の１つから適切なウエハ２０８Ｆまたは２０８Ｎ
を選出し、そのウエハ２０８をウエハアライナ２１６の
中に配置する。ウエハアライナ２１６は、後ほど説明す
るように、選択された方向にウエハ２０８を配置する。
すると、フロントエンドロボット２１２は、方向付けら
れたウエハ２０８をアライナ２１６から選出し、その方
向付けられたウエハ２０８Ｆまたは２０８Ｎを、ロード
ロックポート２２０を通してロードロック２０４へと移
送して、フィンガ２２６上に配置する。
Ａはカセット２１０を示し、それは、直線状のエッジ２
５２と曲線状のエッジ２５４とを有した第１のウエハ２
０８Ｆ（左側のカセット２１０にある）と、刻み目２５
８が入った曲線状のエッジ２５６を有した第２のウエハ
２０８Ｎ（右側のカセット２１０にある）とをサポート
している。フロントエンドロボット２１２は、カセット
２１０の１つから適切なウエハ２０８Ｆまたは２０８Ｎ
を選出し、そのウエハ２０８をウエハアライナ２１６の
中に配置する。ウエハアライナ２１６は、後ほど説明す
るように、選択された方向にウエハ２０８を配置する。
すると、フロントエンドロボット２１２は、方向付けら
れたウエハ２０８をアライナ２１６から選出し、その方
向付けられたウエハ２０８Ｆまたは２０８Ｎを、ロード
ロックポート２２０を通してロードロック２０４へと移
送して、フィンガ２２６上に配置する。
【００３７】アライナ２１６による方向付けの動作の結
果、フィンガ２２６上に配置された方向付けられたウエ
ハ２０８は、ウエハの中心２６０と、この中心２６０と
交差するＸウエハ軸およびＹウエハ軸とに関連した複数
の望ましい方向のうちの１方向に、直線状のエッジ２５
２または刻み目２５８を有する。図２Ｂには、ウエハ２
０８Ｎが配置される方向の１つが、真空搬送ロボット２
２８のブレード２６２によってサポートされたウエハ２
０８Ｎ（点線で示される）とともに示されている。Ｙウ
エハ軸は、ウエハの中心２６０が時計の中心にある場合
に、例えば正午および６時の位置を通ると考えることが
できる。このことを考慮した結果、ウエハ２０８Ｎの代
表的な望ましい方向は、刻み目２５８が９時の位置にく
るようにウエハ２０８Ｎをウエハ中心２６０で回転させ
た状態で描かれている。ウエハ２０８Ｎおよび２０８Ｆ
の望ましい方向では、その刻み目２５８または直線状の
エッジ２５２が、それぞれウエハ中心２６０に対して正
午、３時、６時、または９時のうち任意の方向を向いて
いることがわかる。
果、フィンガ２２６上に配置された方向付けられたウエ
ハ２０８は、ウエハの中心２６０と、この中心２６０と
交差するＸウエハ軸およびＹウエハ軸とに関連した複数
の望ましい方向のうちの１方向に、直線状のエッジ２５
２または刻み目２５８を有する。図２Ｂには、ウエハ２
０８Ｎが配置される方向の１つが、真空搬送ロボット２
２８のブレード２６２によってサポートされたウエハ２
０８Ｎ（点線で示される）とともに示されている。Ｙウ
エハ軸は、ウエハの中心２６０が時計の中心にある場合
に、例えば正午および６時の位置を通ると考えることが
できる。このことを考慮した結果、ウエハ２０８Ｎの代
表的な望ましい方向は、刻み目２５８が９時の位置にく
るようにウエハ２０８Ｎをウエハ中心２６０で回転させ
た状態で描かれている。ウエハ２０８Ｎおよび２０８Ｆ
の望ましい方向では、その刻み目２５８または直線状の
エッジ２５２が、それぞれウエハ中心２６０に対して正
午、３時、６時、または９時のうち任意の方向を向いて
いることがわかる。
【００３８】別のウエハ２０８は、直線状のエッジ２５
２または刻み目２５８以外の物理的特性を有していても
良い。例えばクラスタツール構造システム２００は、様
々な直径の処理ウエハ２０８に適用される。様々な直径
のウエハの処理が可能ではあるが、ここでは、例えば直
径が２００ｍｍおよび３００ｍｍのウエハ２０８との関
連のもとで本発明を説明することにする。
２または刻み目２５８以外の物理的特性を有していても
良い。例えばクラスタツール構造システム２００は、様
々な直径の処理ウエハ２０８に適用される。様々な直径
のウエハの処理が可能ではあるが、ここでは、例えば直
径が２００ｍｍおよび３００ｍｍのウエハ２０８との関
連のもとで本発明を説明することにする。
【００３９】特定の製造状況では、直線状のエッジ２５
２または刻み目２５８が、ウエハ中心２６０に対して特
定の方向に向いている。方向付けられたウエハ２０８の
中心２６０には、上述したような方向以外にも、ブレー
ド２６２のブレード中心２６４に対する理想的な位置が
存在する。図２Ｂにおいて、このような理想的な位置
は、ウエハ中心２６０およびブレード中心２６４が、ブ
レード２６２の縦軸２６６と同延であるウエハ２０８の
Ｙ軸と同位置にくるように示されている。図２Ｂでは、
この理想的な位置にあるウエハ２０８が、点線で描かれ
た円状のディスクとして示されている。しかしながら、
上述したような要素（例えば静電チャックの性能および
取り扱い）を含む幾つかの理由が原因で、ウエハ２０８
が、その中心２６０がブレード中心２６４とずれた状態
でブレード２６２上に配置されることがある。このズレ
は、図２Ｃにおいて点線によるウエハ２８０Ｎとして示
されている。このズレは、上述した「ウエハとブレード
のミスアライメント」および「ウエハのミスアライメン
ト」に相当する。ウエハのミスアライメントは、ウエハ
中心２６０がブレード中心２６４から離れていることに
よって特徴付けられる。このような開きは、ウエハ２０
８のＸ軸方向またはＹ軸方向の一方向または両方向で生
じる可能性があり、図２Ｃでは、ウエハ中心２６０が図
２Ｂの場合よりΔＸ分だけ左方に、そしてΔＹ分だけ上
方にずれた両方向のズレが示されている。
２または刻み目２５８が、ウエハ中心２６０に対して特
定の方向に向いている。方向付けられたウエハ２０８の
中心２６０には、上述したような方向以外にも、ブレー
ド２６２のブレード中心２６４に対する理想的な位置が
存在する。図２Ｂにおいて、このような理想的な位置
は、ウエハ中心２６０およびブレード中心２６４が、ブ
レード２６２の縦軸２６６と同延であるウエハ２０８の
Ｙ軸と同位置にくるように示されている。図２Ｂでは、
この理想的な位置にあるウエハ２０８が、点線で描かれ
た円状のディスクとして示されている。しかしながら、
上述したような要素（例えば静電チャックの性能および
取り扱い）を含む幾つかの理由が原因で、ウエハ２０８
が、その中心２６０がブレード中心２６４とずれた状態
でブレード２６２上に配置されることがある。このズレ
は、図２Ｃにおいて点線によるウエハ２８０Ｎとして示
されている。このズレは、上述した「ウエハとブレード
のミスアライメント」および「ウエハのミスアライメン
ト」に相当する。ウエハのミスアライメントは、ウエハ
中心２６０がブレード中心２６４から離れていることに
よって特徴付けられる。このような開きは、ウエハ２０
８のＸ軸方向またはＹ軸方向の一方向または両方向で生
じる可能性があり、図２Ｃでは、ウエハ中心２６０が図
２Ｂの場合よりΔＸ分だけ左方に、そしてΔＹ分だけ上
方にずれた両方向のズレが示されている。
【００４０】ブレード２６２が処理チャンバ２４０のピ
ン２４６へとウエハ２０８を運ぶため、ウエハ２０８の
中心２６０の位置は、ブレード中心２６４に対してのみ
決定されれば良く、クラスタツール構造システム２００
の他のあらゆる装置に対しては決定されなくて良いこと
がわかる。例えば、ある特定のウエハ２０８が搬送され
ている場合に、ウエハのミスアライメントの量および方
向に関する決定がなされると、ロボット２２８は、ブレ
ード２６２の位置を制御し、次いで特定のウエハ２０８
の位置を制御することにより、ブレード２６２が特定の
ウエハ２０８を処理モジュール２４０のピン２４６上に
配置する際の、ウエハのミスアライメントを排除する。
ウエハのミスアライメントが排除されると、処理モジュ
ール２４０においてウエハを正確に処理することが可能
となる。
ン２４６へとウエハ２０８を運ぶため、ウエハ２０８の
中心２６０の位置は、ブレード中心２６４に対してのみ
決定されれば良く、クラスタツール構造システム２００
の他のあらゆる装置に対しては決定されなくて良いこと
がわかる。例えば、ある特定のウエハ２０８が搬送され
ている場合に、ウエハのミスアライメントの量および方
向に関する決定がなされると、ロボット２２８は、ブレ
ード２６２の位置を制御し、次いで特定のウエハ２０８
の位置を制御することにより、ブレード２６２が特定の
ウエハ２０８を処理モジュール２４０のピン２４６上に
配置する際の、ウエハのミスアライメントを排除する。
ウエハのミスアライメントが排除されると、処理モジュ
ール２４０においてウエハを正確に処理することが可能
となる。
【００４１】図２Ｂでは、真空搬送ロボット２２８のブ
レード２６２が、真空処理モジュール２４０内に存在す
る状態で示されている。例として、ロードロック２０４
のフィンガ２２６が、ブレード２６２上に重ねて描かれ
た長方形として示されている。ブレード２６２は、ロー
ドロック２０４における選出動作中にロードロックフィ
ンガ２２６との接触を回避できる形状に、そして処理モ
ジュール２４０のウエハサポートピン２４６との接触を
回避できる形状に、成形されている。この形状では、ピ
ン２４６の間に空間２７０を提供することにより、ブレ
ード２６２が、ウエハのミスアライメントが存在するか
否かを決定する以下の動作を妨害しないようにしてい
る。
レード２６２が、真空処理モジュール２４０内に存在す
る状態で示されている。例として、ロードロック２０４
のフィンガ２２６が、ブレード２６２上に重ねて描かれ
た長方形として示されている。ブレード２６２は、ロー
ドロック２０４における選出動作中にロードロックフィ
ンガ２２６との接触を回避できる形状に、そして処理モ
ジュール２４０のウエハサポートピン２４６との接触を
回避できる形状に、成形されている。この形状では、ピ
ン２４６の間に空間２７０を提供することにより、ブレ
ード２６２が、ウエハのミスアライメントが存在するか
否かを決定する以下の動作を妨害しないようにしてい
る。
【００４２】図３Ａおよび３Ｃは、真空搬送モジュール
２０２のフェイス２３２の部分平面図であり、本発明に
従ったダイナミックアライメントシステム２７２の概略
を示している。ここで言う「ダイナミックアライメン
ト」とは、本装置および方法を表す用語であり、ブレー
ド２６２が、ウエハ２０８を例えば真空搬送モジュール
２０２から処理モジュール２４０の１つへとポート２３
４の１つを通して移動させるか、または処理モジュール
２４０から真空搬送モジュール２０２へとポート２３４
の１つを通して移動させるのに伴って、ブレード２６２
の中心２６４に対するウエハ２０８の中心２６０の位置
を決定するものである。各フェイス２３２と、選択され
た物理的特性として特定の直径を有した各タイプのウエ
ハ２０８に対し、システム２７２は２つのセンサ２７４
を備えている。直径が２００ｍｍおよび３００ｍｍのウ
エハ２０８に対応するシステム２７２では、各フェイス
２３２が、図３Ａおよび３Ｃにおいてセンサ２７４−１
として表されるセンサ２７４と、センサ２７４−２およ
び２７４−３として表されるさらに２つのセンサ２７４
のうちの１つと、を有する。
２０２のフェイス２３２の部分平面図であり、本発明に
従ったダイナミックアライメントシステム２７２の概略
を示している。ここで言う「ダイナミックアライメン
ト」とは、本装置および方法を表す用語であり、ブレー
ド２６２が、ウエハ２０８を例えば真空搬送モジュール
２０２から処理モジュール２４０の１つへとポート２３
４の１つを通して移動させるか、または処理モジュール
２４０から真空搬送モジュール２０２へとポート２３４
の１つを通して移動させるのに伴って、ブレード２６２
の中心２６４に対するウエハ２０８の中心２６０の位置
を決定するものである。各フェイス２３２と、選択され
た物理的特性として特定の直径を有した各タイプのウエ
ハ２０８に対し、システム２７２は２つのセンサ２７４
を備えている。直径が２００ｍｍおよび３００ｍｍのウ
エハ２０８に対応するシステム２７２では、各フェイス
２３２が、図３Ａおよび３Ｃにおいてセンサ２７４−１
として表されるセンサ２７４と、センサ２７４−２およ
び２７４−３として表されるさらに２つのセンサ２７４
のうちの１つと、を有する。
【００４３】図３Ｆでは、簡単のためセンサ２７４が２
つ（すなわち直径が２００ｍｍのウエハ２０８〜２００
に対応する２つのセンサ）のみ示されているのに対し、
図３Ａ、３Ｃ、および３Ｅでは、３つのセンサ２７４−
１、２７４−２、および２７４−３が示されている。第
１のセンサ２７４−１は、フェイス２３２で定義される
面に平行な平面内で、そのフェイス２３２に隣接したポ
ート２３４の横軸であるセンサ位置決め軸２７６上に設
けられている。
つ（すなわち直径が２００ｍｍのウエハ２０８〜２００
に対応する２つのセンサ）のみ示されているのに対し、
図３Ａ、３Ｃ、および３Ｅでは、３つのセンサ２７４−
１、２７４−２、および２７４−３が示されている。第
１のセンサ２７４−１は、フェイス２３２で定義される
面に平行な平面内で、そのフェイス２３２に隣接したポ
ート２３４の横軸であるセンサ位置決め軸２７６上に設
けられている。
【００４４】図３Ｂは、ポート２３４を通って移動する
ウエハ２０８Ｎ−２００の平面図であり、ウエハ２０８
のエッジ２５４または２９６がそれぞれのセンサ２７４
−１または２７４−２をトリガする継続的な時間ｔ１
ｂ、ｔ２ｂ、ｔ１ｍ、およびｔ２ｍが示されている。図
３Ｂは、第１のセンサ２７４−１がウエハ搬送経路２４
４から第１の距離２７８だけ離れていることを示すため
に、図３Ａと並べて示されている。ウエハ２０８−２０
０に対して使用するため、第２のセンサ２７４−２もや
はり、フェイス２３２で定義される面に平行な平面内で
センサ位置決め軸２７６上に設けられている。第２のセ
ンサ２７４−２は、ウエハ搬送経路２４４から第２の距
離２８０だけ離れている。ウエハ２０８−３００に対し
て使用するために、第３のセンサ２７４−３が、フェイ
ス２３２で定義される面に平行な平面内でセンサ位置決
め軸２７６上に設けられている。第３のセンサ２７４−
３は、ウエハ搬送経路２４４から第３の距離２８２だけ
離れている。
ウエハ２０８Ｎ−２００の平面図であり、ウエハ２０８
のエッジ２５４または２９６がそれぞれのセンサ２７４
−１または２７４−２をトリガする継続的な時間ｔ１
ｂ、ｔ２ｂ、ｔ１ｍ、およびｔ２ｍが示されている。図
３Ｂは、第１のセンサ２７４−１がウエハ搬送経路２４
４から第１の距離２７８だけ離れていることを示すため
に、図３Ａと並べて示されている。ウエハ２０８−２０
０に対して使用するため、第２のセンサ２７４−２もや
はり、フェイス２３２で定義される面に平行な平面内で
センサ位置決め軸２７６上に設けられている。第２のセ
ンサ２７４−２は、ウエハ搬送経路２４４から第２の距
離２８０だけ離れている。ウエハ２０８−３００に対し
て使用するために、第３のセンサ２７４−３が、フェイ
ス２３２で定義される面に平行な平面内でセンサ位置決
め軸２７６上に設けられている。第３のセンサ２７４−
３は、ウエハ搬送経路２４４から第３の距離２８２だけ
離れている。
【００４５】このように間隔を設けることにより、各セ
ンサ２７４は、経路２４４を移動するそれぞれのウエハ
２０８を、拡張動作または撤回動作のいずれの場合でも
感知できる位置に、それぞれ配置される。センサ２７４
によるウエハ２０８の感知は、複数フェイスのうち１つ
のフェイス２３２の立面図である図３Ｅに示されてお
り、ポート２３４およびセンサ２７４が、センサ位置決
め軸２７６に沿って間隔をおいて配置されている。各セ
ンサ２７４は、各センサ２７４のなかで最も高価なコン
ポーネントの数を最小限に抑えるように設計された複合
スルービームセンサであることが好ましい。各センサ２
７４に対し、センサ２７４の位置を決定するコンポーネ
ントには、ポート２３４下方のビームトランスミッタ部
位２７４Ｔと、ポート上方のビームレシーバ部位２７４
Ｒとが含まれる。各ビームトランスミッタ部位２７４Ｔ
は、フェイス２３２のうちポート２３４を取り囲む部位
にマシニングされたアパチャ２８３内に設けられてい
る。後ほど説明するように、ブレード２６２の中心２６
４に対するウエハ２０８の中心２６０の位置を検知する
際の精度を低下させなくても、アパチャ２８３を配置す
る精度を、（±０．０５０インチ）内のように比較的低
く抑えることが可能である。ビームトランスミッタ部位
２７４Ｔは、入来光ファイバケーブル２７４ＣＩから光
ビーム２８４を受け取り、その光ビーム２８４を、レン
ズを使用してポート２３４を横切らせて上向きに方向付
ける。図３Ｅには、レンズと、ポート２３４上方に加工
された対応アパチャ２３４内に設けられた出力光ファイ
バケーブル２７４ＣＯとを備えたビームレシーバ部位２
７４Ｒの１つが示されている。
ンサ２７４は、経路２４４を移動するそれぞれのウエハ
２０８を、拡張動作または撤回動作のいずれの場合でも
感知できる位置に、それぞれ配置される。センサ２７４
によるウエハ２０８の感知は、複数フェイスのうち１つ
のフェイス２３２の立面図である図３Ｅに示されてお
り、ポート２３４およびセンサ２７４が、センサ位置決
め軸２７６に沿って間隔をおいて配置されている。各セ
ンサ２７４は、各センサ２７４のなかで最も高価なコン
ポーネントの数を最小限に抑えるように設計された複合
スルービームセンサであることが好ましい。各センサ２
７４に対し、センサ２７４の位置を決定するコンポーネ
ントには、ポート２３４下方のビームトランスミッタ部
位２７４Ｔと、ポート上方のビームレシーバ部位２７４
Ｒとが含まれる。各ビームトランスミッタ部位２７４Ｔ
は、フェイス２３２のうちポート２３４を取り囲む部位
にマシニングされたアパチャ２８３内に設けられてい
る。後ほど説明するように、ブレード２６２の中心２６
４に対するウエハ２０８の中心２６０の位置を検知する
際の精度を低下させなくても、アパチャ２８３を配置す
る精度を、（±０．０５０インチ）内のように比較的低
く抑えることが可能である。ビームトランスミッタ部位
２７４Ｔは、入来光ファイバケーブル２７４ＣＩから光
ビーム２８４を受け取り、その光ビーム２８４を、レン
ズを使用してポート２３４を横切らせて上向きに方向付
ける。図３Ｅには、レンズと、ポート２３４上方に加工
された対応アパチャ２３４内に設けられた出力光ファイ
バケーブル２７４ＣＯとを備えたビームレシーバ部位２
７４Ｒの１つが示されている。
【００４６】このような背景から、図面の簡略化のため
図３Ｆでは、「２７４ＣＯ」として表された点線が、入
力光ファイバケーブル２７４ＣＩと出力光ファイバケー
ブル２７４ＣＯの両方を表すことが理解できる。また、
アパチャ２８３の位置が正確にわからないと、対応する
ビームトランスミッタ部位２７４Ｔの位置や、このよう
なアパチャ２８３で受け取る対応するビームレシーバ部
位２７４Ｒの位置を、正確に知ることができないことが
理解できる。その結果、センサ２７４の位置を正確に知
ることができない。
図３Ｆでは、「２７４ＣＯ」として表された点線が、入
力光ファイバケーブル２７４ＣＩと出力光ファイバケー
ブル２７４ＣＯの両方を表すことが理解できる。また、
アパチャ２８３の位置が正確にわからないと、対応する
ビームトランスミッタ部位２７４Ｔの位置や、このよう
なアパチャ２８３で受け取る対応するビームレシーバ部
位２７４Ｒの位置を、正確に知ることができないことが
理解できる。その結果、センサ２７４の位置を正確に知
ることができない。
【００４７】図３Ｇには、各センサ２７４が、上述した
センサ位置のコンポーネント以外のコンポーネントを備
えていることが示されている。このようなコンポーネン
トの１つは、それぞれの入力光ファイバケーブル２７４
ＣＩに光ビーム２８４を供給するエミッタ２８５Ｅを有
したセンサボディ２８５である。センサボディ２８５
は、それぞれの出力光ファイバケーブル２７４ＣＯから
ビーム２８４を受け取る光検出器２８５Ｄも備えてい
る。検出器２８５Ｄは、ケーブル２７４ＣＯから入来す
る光ビーム２８４を、その入来光ビーム２８４の光度に
比例するアナログ信号に変換する。アナログ信号は、ア
ナログ信号の値が閾値に到達するたびにデジタル信号に
変換される。デジタル信号は、センサ２７４のセンサボ
ディ２８５の出力であり、遷移信号２８６と称される。
ウエハ２０８がポート２３４に移動する前に、ビーム２
８４がレシーバ部位２７４Ｒで受け取られて検出器２８
５Ｄに送られ、定常状態を生じる。図３Ｅおよび３Ｆで
は、ウエハ２０８が、トランスミッタ部位２７４Ｔとレ
シーバ部位２７４Ｒの出力光ファイバケーブル２７４Ｃ
Ｏとの間をブレード２６２によって移動させられて、セ
ンサ２７４のビーム２８４を遮断した様子が示されてい
る。このとき遷移が生じ、センサ２７４のセンサボディ
２８５が、この例で遮断を示す２８６Ｂに指定された遷
移信号２８６を生成する。逆の見方をすれば、ウエハ２
０８がトランスミッタ部位２７４Ｔとレシーバ部位２７
４Ｒの間をブレード２６２によって移動させられて、ビ
ーム２８４を遮断した後は、ウエハ２０８がブレード２
６２によって移動されてポート２３４を完全に通りぬ
け、ビーム２８４がこれ以上は遮断されない地点に到達
するまで、別の定常状態が持続する。この時点では、ビ
ーム２８４は形成されたと見なされて別の遷移を生じ、
センサ２７４のセンサボディ２８５が、図３Ｆで形成を
示す２８６Ｍとして示された別の遷移信号を生成する。
図３Ｆおよび３Ｇでは、遷移信号２８６Ｂおよび２８６
Ｍが、センサボディ２８５からセンサマルチプレックス
（多重送信）カード２８８へと送信される様子が示され
ている。カード２８８は、ロボットコントローラ２９０
の入力ポート２８９に接続されている。
センサ位置のコンポーネント以外のコンポーネントを備
えていることが示されている。このようなコンポーネン
トの１つは、それぞれの入力光ファイバケーブル２７４
ＣＩに光ビーム２８４を供給するエミッタ２８５Ｅを有
したセンサボディ２８５である。センサボディ２８５
は、それぞれの出力光ファイバケーブル２７４ＣＯから
ビーム２８４を受け取る光検出器２８５Ｄも備えてい
る。検出器２８５Ｄは、ケーブル２７４ＣＯから入来す
る光ビーム２８４を、その入来光ビーム２８４の光度に
比例するアナログ信号に変換する。アナログ信号は、ア
ナログ信号の値が閾値に到達するたびにデジタル信号に
変換される。デジタル信号は、センサ２７４のセンサボ
ディ２８５の出力であり、遷移信号２８６と称される。
ウエハ２０８がポート２３４に移動する前に、ビーム２
８４がレシーバ部位２７４Ｒで受け取られて検出器２８
５Ｄに送られ、定常状態を生じる。図３Ｅおよび３Ｆで
は、ウエハ２０８が、トランスミッタ部位２７４Ｔとレ
シーバ部位２７４Ｒの出力光ファイバケーブル２７４Ｃ
Ｏとの間をブレード２６２によって移動させられて、セ
ンサ２７４のビーム２８４を遮断した様子が示されてい
る。このとき遷移が生じ、センサ２７４のセンサボディ
２８５が、この例で遮断を示す２８６Ｂに指定された遷
移信号２８６を生成する。逆の見方をすれば、ウエハ２
０８がトランスミッタ部位２７４Ｔとレシーバ部位２７
４Ｒの間をブレード２６２によって移動させられて、ビ
ーム２８４を遮断した後は、ウエハ２０８がブレード２
６２によって移動されてポート２３４を完全に通りぬ
け、ビーム２８４がこれ以上は遮断されない地点に到達
するまで、別の定常状態が持続する。この時点では、ビ
ーム２８４は形成されたと見なされて別の遷移を生じ、
センサ２７４のセンサボディ２８５が、図３Ｆで形成を
示す２８６Ｍとして示された別の遷移信号を生成する。
図３Ｆおよび３Ｇでは、遷移信号２８６Ｂおよび２８６
Ｍが、センサボディ２８５からセンサマルチプレックス
（多重送信）カード２８８へと送信される様子が示され
ている。カード２８８は、ロボットコントローラ２９０
の入力ポート２８９に接続されている。
【００４８】ウエハ２０８が、センサ２７４で感知され
る際も感知された後も移動を続けるため、センサ２７４
は応答時間の短いセンサであることが好ましい。例え
ば、モデル番号Ｄ１２ＳＰ６ＦＰＹのバナ−ブランドの
センサを使用して、５０マイクロセカンドの応答時間を
得ても良い。また、トランスミッタ部位２７４Ｔおよび
レシーバ部位２７４Ｒでは、長さの異なる光ファイバケ
ーブル２７４ＣＩおよび２７４ＣＯを通常は使用するた
め、光学距離はセンサ２７４ごとに異なる。さらに、セ
ンサ２７４には製作公差がある。このような経路の長さ
および公差を補償するために、センサに対して適切な利
得調整が行われる。
る際も感知された後も移動を続けるため、センサ２７４
は応答時間の短いセンサであることが好ましい。例え
ば、モデル番号Ｄ１２ＳＰ６ＦＰＹのバナ−ブランドの
センサを使用して、５０マイクロセカンドの応答時間を
得ても良い。また、トランスミッタ部位２７４Ｔおよび
レシーバ部位２７４Ｒでは、長さの異なる光ファイバケ
ーブル２７４ＣＩおよび２７４ＣＯを通常は使用するた
め、光学距離はセンサ２７４ごとに異なる。さらに、セ
ンサ２７４には製作公差がある。このような経路の長さ
および公差を補償するために、センサに対して適切な利
得調整が行われる。
【００４９】センサ２７４が３つであってもセンサボデ
ィ２８５を２つのみ提供することによって、システム２
７２のコストを引き下げることができる。より詳しく言
うと、直径が２００ｍｍのウエハ２０８−２００を処理
する場合は、第１のセンサ２７４−１に対し、ケーブル
２７４ＣＩおよび２７４ＣＯのそれぞれの一端が、第１
のセンサ２７４−１に対応するアパチャ２８３のそれぞ
れ１つに光学的に実装される。図３Ｇでは、このような
ケーブル２７４ＣＯおよび２７４ＣＩのもう一端が、第
１のセンサ２７４−１に対応するセンサボディ２８５
（センサボディ２８５−１を参照のこと）のそれぞれの
エミッタ２８５Ｅ−１および検出器２８５Ｄ−１に、光
学的に実装された様子が示されている。
ィ２８５を２つのみ提供することによって、システム２
７２のコストを引き下げることができる。より詳しく言
うと、直径が２００ｍｍのウエハ２０８−２００を処理
する場合は、第１のセンサ２７４−１に対し、ケーブル
２７４ＣＩおよび２７４ＣＯのそれぞれの一端が、第１
のセンサ２７４−１に対応するアパチャ２８３のそれぞ
れ１つに光学的に実装される。図３Ｇでは、このような
ケーブル２７４ＣＯおよび２７４ＣＩのもう一端が、第
１のセンサ２７４−１に対応するセンサボディ２８５
（センサボディ２８５−１を参照のこと）のそれぞれの
エミッタ２８５Ｅ−１および検出器２８５Ｄ−１に、光
学的に実装された様子が示されている。
【００５０】第２のセンサ２７４−２に対しては、各ケ
ーブル２７４ＣＩおよび２７４ＣＯの一端が、第２のセ
ンサ２７４−２に対応するアパチャ２８３のそれぞれ１
つに光学的に実装される。このようなケーブル２７４Ｃ
Ｏおよび２７４ＣＩのもう一端は、第１のセンサ２７４
−１に対応するセンサボディ２８５（センサボディ２８
５−２を参照のこと）のそれぞれのエミッタ２８５Ｅ−
２および検出器２８５Ｄ−２に、光学的に実装される。
第２のセンサ２７４−２での使用を示すため、これらの
ケーブルを２７４ＣＩ−２および２７４ＣＯ−２で表す
ことにする。
ーブル２７４ＣＩおよび２７４ＣＯの一端が、第２のセ
ンサ２７４−２に対応するアパチャ２８３のそれぞれ１
つに光学的に実装される。このようなケーブル２７４Ｃ
Ｏおよび２７４ＣＩのもう一端は、第１のセンサ２７４
−１に対応するセンサボディ２８５（センサボディ２８
５−２を参照のこと）のそれぞれのエミッタ２８５Ｅ−
２および検出器２８５Ｄ−２に、光学的に実装される。
第２のセンサ２７４−２での使用を示すため、これらの
ケーブルを２７４ＣＩ−２および２７４ＣＯ−２で表す
ことにする。
【００５１】図３Ｅでは、直径が３００ｍｍのウエハ２
０８−３００を処理する場合に、第２のセンサ２７４−
２のアパチャ２８３で使用されるケーブル２７４ＣＩ−
２および２７４ＣＯ−２の一端が移動および再配置され
て、第３のセンサ２７４−３に対応するアパチャ２８３
のそれぞれ１つに光学的に実装される様子（図３Ｅにお
いて点線で示されたケーブル２７４ＣＩ−３および２７
４ＣＯ−３を参照のこと）が示されている。図３Ｇで
は、ケーブル２７４ＣＩ−２および２７４ＣＯ−２のも
う一端が、センサボディ２８５−２のそれぞれのエミッ
タ２８５Ｅ−２および検出器２８５Ｄ−２に光学的に実
装されたままの状態が示されている。しかしながら、ケ
ーブル２７４ＣＩ−２および２７４ＣＯ−２が再配置さ
れたこのようなセンサボディ２８５−２が第３のセンサ
ボディとして機能することを明らかにするために、図３
Ｇでは、このような第３のセンサボディを２８５−３で
表して点線で示した。また、再配置されたケーブル２７
４ＣＩ−２および２７４ＣＯ−２を、点線で示して２７
４ＣＩ−３および２７４ＣＯ−３で表した。また、ケー
ブル２７４ＣＩ−３に接続されたエミッタ２８５−２を
点線で示して２８５Ｅ−３で表し、ケーブル２７４ＣＯ
−３に接続された検出器２８５−２を点線で示して２８
５−３で表した。
０８−３００を処理する場合に、第２のセンサ２７４−
２のアパチャ２８３で使用されるケーブル２７４ＣＩ−
２および２７４ＣＯ−２の一端が移動および再配置され
て、第３のセンサ２７４−３に対応するアパチャ２８３
のそれぞれ１つに光学的に実装される様子（図３Ｅにお
いて点線で示されたケーブル２７４ＣＩ−３および２７
４ＣＯ−３を参照のこと）が示されている。図３Ｇで
は、ケーブル２７４ＣＩ−２および２７４ＣＯ−２のも
う一端が、センサボディ２８５−２のそれぞれのエミッ
タ２８５Ｅ−２および検出器２８５Ｄ−２に光学的に実
装されたままの状態が示されている。しかしながら、ケ
ーブル２７４ＣＩ−２および２７４ＣＯ−２が再配置さ
れたこのようなセンサボディ２８５−２が第３のセンサ
ボディとして機能することを明らかにするために、図３
Ｇでは、このような第３のセンサボディを２８５−３で
表して点線で示した。また、再配置されたケーブル２７
４ＣＩ−２および２７４ＣＯ−２を、点線で示して２７
４ＣＩ−３および２７４ＣＯ−３で表した。また、ケー
ブル２７４ＣＩ−３に接続されたエミッタ２８５−２を
点線で示して２８５Ｅ−３で表し、ケーブル２７４ＣＯ
−３に接続された検出器２８５−２を点線で示して２８
５−３で表した。
【００５２】１つのセンサボディ２８５でこれら２つの
機能を提供することにより、実質的に高コストのコンポ
ーネント（センサボディ２８５）の数を各フェイス２３
２ごとに１つずつ減らし、６フェイス構造のシステム２
００で６つのセンサ２７４を不要にする。
機能を提供することにより、実質的に高コストのコンポ
ーネント（センサボディ２８５）の数を各フェイス２３
２ごとに１つずつ減らし、６フェイス構造のシステム２
００で６つのセンサ２７４を不要にする。
【００５３】図４Ａおよび４Ｂは、センサ２７４がそれ
ぞれ独自の待ち時間Ｌ、すなわち遷移を遮断するための
待ち時間（ＬＢ）と、遷移を形成するための待ち時間
（ＬＭ）とを有することによる効果を示している。図４
Ａは、ウエハ２０８の拡張動作を示している。上述した
待ち時間ＬＢは、経路２４４を移動してポート２３４を
通るウエハ２０８がセンサ２７４で感知されるのに伴っ
てビーム２８４が遮断される、第１の時間ｔ１ｂから開
始する。図４Ｂによれば、この時間ＬＢは後の時間ｔ１
ｂＡＰＰで終了する。時間ｔ１ｂＡＰＰでは、遷移信号
２８６Ｂがロボットコントローラ２９０の入力ポート２
８９に到達し、この遷移信号２８６Ｂに応じてロボット
コントローラ２９０が、レジスタ２９２におけるロボッ
ト２２８の位置を表すものとして後ほど説明するデータ
を格納する。遷移信号２８６Ｂは、ウエハ２０８による
ビーム２８４の遮断がセンサ２７４によって感知された
ことを示す。「ｔ１ｂＡＰＰ」で使用される「ＡＰＰ」
は、センサ２７４が視位置にある時間を示している。
ぞれ独自の待ち時間Ｌ、すなわち遷移を遮断するための
待ち時間（ＬＢ）と、遷移を形成するための待ち時間
（ＬＭ）とを有することによる効果を示している。図４
Ａは、ウエハ２０８の拡張動作を示している。上述した
待ち時間ＬＢは、経路２４４を移動してポート２３４を
通るウエハ２０８がセンサ２７４で感知されるのに伴っ
てビーム２８４が遮断される、第１の時間ｔ１ｂから開
始する。図４Ｂによれば、この時間ＬＢは後の時間ｔ１
ｂＡＰＰで終了する。時間ｔ１ｂＡＰＰでは、遷移信号
２８６Ｂがロボットコントローラ２９０の入力ポート２
８９に到達し、この遷移信号２８６Ｂに応じてロボット
コントローラ２９０が、レジスタ２９２におけるロボッ
ト２２８の位置を表すものとして後ほど説明するデータ
を格納する。遷移信号２８６Ｂは、ウエハ２０８による
ビーム２８４の遮断がセンサ２７４によって感知された
ことを示す。「ｔ１ｂＡＰＰ」で使用される「ＡＰＰ」
は、センサ２７４が視位置にある時間を示している。
【００５４】経路２４４に沿ったウエハ２０８の動きに
関し、図３Ｂ、３Ｄ、４Ａ、および４Ｂは、待ち時間Ｌ
Ｂを例えば、センサ２７４が（ビーム２８４が遮断され
るのに応じて）「始動（トリップ）」された時間ｔ１ｂ
と、ロボット２２８が格納された位置を表すデータであ
る時間ｔ１ｂＡＰＰと、の間に存在する時間遅延の有限
量として表している。時間ｔ１ｂからｔ１ｂＡＰＰにい
たる時間遅延の間にウエハ２０８が移動することから、
後の時間ｔ１ｂＡＰＰでは、センサ２７４のビーム２８
４を遮断したウエハの前縁２５４または２５６は、もは
やセンサ２７４の真上にはない。時間遅延が反復可能で
あり、この時間遅延に対するロボットブレード２６２
（およびウエハ２０８）の速度が比較的一定であるた
め、この遅延から誤差が生じるのを排除することができ
る。図４Ｂは、遮断の遷移におけるウエハミスアライメ
ントの決定を目的としたセンサ２７４の位置として、セ
ンサ２７４の視位置ＸＹＢＡＰＰを使用することによっ
て、上述したような排除がなされることを示している。
関し、図３Ｂ、３Ｄ、４Ａ、および４Ｂは、待ち時間Ｌ
Ｂを例えば、センサ２７４が（ビーム２８４が遮断され
るのに応じて）「始動（トリップ）」された時間ｔ１ｂ
と、ロボット２２８が格納された位置を表すデータであ
る時間ｔ１ｂＡＰＰと、の間に存在する時間遅延の有限
量として表している。時間ｔ１ｂからｔ１ｂＡＰＰにい
たる時間遅延の間にウエハ２０８が移動することから、
後の時間ｔ１ｂＡＰＰでは、センサ２７４のビーム２８
４を遮断したウエハの前縁２５４または２５６は、もは
やセンサ２７４の真上にはない。時間遅延が反復可能で
あり、この時間遅延に対するロボットブレード２６２
（およびウエハ２０８）の速度が比較的一定であるた
め、この遅延から誤差が生じるのを排除することができ
る。図４Ｂは、遮断の遷移におけるウエハミスアライメ
ントの決定を目的としたセンサ２７４の位置として、セ
ンサ２７４の視位置ＸＹＢＡＰＰを使用することによっ
て、上述したような排除がなされることを示している。
【００５５】ここで、待ち時間ＬＭもまた、センサ２７
４が（ビーム２８４が形成されるのに応じて）「始動
（トリップ）」された時間ｔ１ｍと、ロボット２２８が
格納された位置を表すデータである時間ｔ１ｍＡＰＰ
と、の間に存在する時間遅延の有限量であることがわか
る。時間ｔ１ｍからｔ１ｍＡＰＰにいたる時間遅延の間
にウエハ２０８が移動することから、後の時間ｔ１ｍＡ
ＰＰでは、センサ２７４のビーム２８４を形成したウエ
ハの後縁２９６は、もはやセンサ２７４の真上にはな
い。時間遅延が反復可能であり、この時間遅延に対する
ロボットブレード２６２（およびウエハ２０８）の速度
が比較的一定であるため、この遅延から誤差が生じるの
を排除することができる。このような排除は、形成の遷
移におけるウエハミスアライメントの決定を目的とした
センサ２７４の位置として、センサ２７４の視位置ＸＹ
ＭＡＰＰを使用することによってなされる。
４が（ビーム２８４が形成されるのに応じて）「始動
（トリップ）」された時間ｔ１ｍと、ロボット２２８が
格納された位置を表すデータである時間ｔ１ｍＡＰＰ
と、の間に存在する時間遅延の有限量であることがわか
る。時間ｔ１ｍからｔ１ｍＡＰＰにいたる時間遅延の間
にウエハ２０８が移動することから、後の時間ｔ１ｍＡ
ＰＰでは、センサ２７４のビーム２８４を形成したウエ
ハの後縁２９６は、もはやセンサ２７４の真上にはな
い。時間遅延が反復可能であり、この時間遅延に対する
ロボットブレード２６２（およびウエハ２０８）の速度
が比較的一定であるため、この遅延から誤差が生じるの
を排除することができる。このような排除は、形成の遷
移におけるウエハミスアライメントの決定を目的とした
センサ２７４の位置として、センサ２７４の視位置ＸＹ
ＭＡＰＰを使用することによってなされる。
【００５６】視位置ＸＹＢＡＰＰは、センサ２７４が無
限に高速で、ロボット位置を表すデータが実際のシステ
ムと同時に（すなわち時間ｔ１ｂＡＰＰに）レジスタ２
９２に格納される場合に、センサ２７４が有する直交座
標系における位置である。視位置ＸＹＭＡＰＰは図４Ｂ
に示されていないが、センサ２７４が無限に高速で、遷
移信号２８６が実際のシステムと同時に（すなわち時間
ｔ１ｍＡＰＰ）にロボットコントローラ２９０に到達し
た場合にセンサ２７４が有する直交座標系における位置
である。
限に高速で、ロボット位置を表すデータが実際のシステ
ムと同時に（すなわち時間ｔ１ｂＡＰＰに）レジスタ２
９２に格納される場合に、センサ２７４が有する直交座
標系における位置である。視位置ＸＹＭＡＰＰは図４Ｂ
に示されていないが、センサ２７４が無限に高速で、遷
移信号２８６が実際のシステムと同時に（すなわち時間
ｔ１ｍＡＰＰ）にロボットコントローラ２９０に到達し
た場合にセンサ２７４が有する直交座標系における位置
である。
【００５７】次に説明するキャリブレーション工程は、
拡張および撤回の各動作に対し、センサ２７４の視位置
ＸＹＢＡＰＰおよびＸＹＭＡＰＰをそれぞれ決定するの
に使用される。
拡張および撤回の各動作に対し、センサ２７４の視位置
ＸＹＢＡＰＰおよびＸＹＭＡＰＰをそれぞれ決定するの
に使用される。
【００５８】本発明に従って、遮断および形成によるそ
れぞれの遷移における各センサ２７４のそれぞれの待ち
時間ＬＢおよびＬＭが、軸２７６に沿ったそれぞれのセ
ンサ２７４−１、２７４−２、および２７４−３の間隔
に対する距離２７８、２８０、および２８２のそれぞれ
の値の選択において考慮される。これは、図３Ｂおよび
図３Ｄの平面図に示されており、それぞれ直径が２００
ｍｍのウエハ２０８Ｎ−２００および直径が３００ｍｍ
のウエハ２０８Ｎ−３００が水平方向に（図３Ｂおよび
３Ｄでは、時間の増加が下向きに測定されるように上向
きに）移動する様子を示している。また、遮断および形
成による遷移は点２９２で示されている。例えば点２９
２−２ｂは、第１のセンサ２７４−１の第１のビーム２
８４−１がウエハ２０８−２００のエッジ２５４で遮断
される時間ｔ２ｂに対応する。時間ｔ１ｂＡＰＰは、待
ち時間ＬＢの終了と、ロボットの位置を表すデータがレ
ジスタ２９２に格納される時間とを表したものであり、
点２９２−２ｂで表される第２の遮断遷移の時間ｔｂ２
より前に生じるものとして示されている。図３Ｂでは、
第２のセンサ２７４−２のビーム２８４−２が、直径が
２００ｍｍのウエハ２０８−２００のエッジ２５４によ
って先ず遮断される。距離２７８および２８０が経路２
４４に対して非対称である場合、ロボットの位置を表す
データは、時間ｔｂ２で生じる第２のビーム遮断（点２
９２−２ｂで表される）より前にレジスタ２９２に格納
される。
れぞれの遷移における各センサ２７４のそれぞれの待ち
時間ＬＢおよびＬＭが、軸２７６に沿ったそれぞれのセ
ンサ２７４−１、２７４−２、および２７４−３の間隔
に対する距離２７８、２８０、および２８２のそれぞれ
の値の選択において考慮される。これは、図３Ｂおよび
図３Ｄの平面図に示されており、それぞれ直径が２００
ｍｍのウエハ２０８Ｎ−２００および直径が３００ｍｍ
のウエハ２０８Ｎ−３００が水平方向に（図３Ｂおよび
３Ｄでは、時間の増加が下向きに測定されるように上向
きに）移動する様子を示している。また、遮断および形
成による遷移は点２９２で示されている。例えば点２９
２−２ｂは、第１のセンサ２７４−１の第１のビーム２
８４−１がウエハ２０８−２００のエッジ２５４で遮断
される時間ｔ２ｂに対応する。時間ｔ１ｂＡＰＰは、待
ち時間ＬＢの終了と、ロボットの位置を表すデータがレ
ジスタ２９２に格納される時間とを表したものであり、
点２９２−２ｂで表される第２の遮断遷移の時間ｔｂ２
より前に生じるものとして示されている。図３Ｂでは、
第２のセンサ２７４−２のビーム２８４−２が、直径が
２００ｍｍのウエハ２０８−２００のエッジ２５４によ
って先ず遮断される。距離２７８および２８０が経路２
４４に対して非対称である場合、ロボットの位置を表す
データは、時間ｔｂ２で生じる第２のビーム遮断（点２
９２−２ｂで表される）より前にレジスタ２９２に格納
される。
【００５９】形成による遷移の例として、点２９４−１
ｍは、ウエハ２０８−２００のエッジ２５４の後部２９
６が第１のセンサ２７４−１を通過した後に第１のセン
サ２７４−１の第１のビーム２８４−１が初めて形成さ
れる、時間ｔ１ｍに対応している。時間ｔ１ｍＡＰＰ
は、待ち時間ＬＭの終了と、ロボットの位置を表すデー
タがレジスタ２９２に格納される時間とを表したもので
あり、点２９４−２ｍで表される形成遷移の時間ｔｂｍ
より前に生じるものとして示されている。このように、
距離２７８および２８０が経路２４４に対して非対称で
あることから、ロボットの位置を表すデータは、時間ｔ
ｂｍで生じる第２のビーム形成（点２９４−２ｍで表さ
れる）より前に格納される。
ｍは、ウエハ２０８−２００のエッジ２５４の後部２９
６が第１のセンサ２７４−１を通過した後に第１のセン
サ２７４−１の第１のビーム２８４−１が初めて形成さ
れる、時間ｔ１ｍに対応している。時間ｔ１ｍＡＰＰ
は、待ち時間ＬＭの終了と、ロボットの位置を表すデー
タがレジスタ２９２に格納される時間とを表したもので
あり、点２９４−２ｍで表される形成遷移の時間ｔｂｍ
より前に生じるものとして示されている。このように、
距離２７８および２８０が経路２４４に対して非対称で
あることから、ロボットの位置を表すデータは、時間ｔ
ｂｍで生じる第２のビーム形成（点２９４−２ｍで表さ
れる）より前に格納される。
【００６０】図３Ｄは、直径が３００ｍｍのウエハ２０
８−３００に関する同様な状況を示している。ただし、
第１のセンサ２７４−１のビーム２８４−１が先ず時間
ｔ１ｂで遮断され（点２９２−１ｂ）、次に第３のセン
サ２７４−３のビーム２８４−３が時間ｔ２ｂで遮断さ
れ（点２９２−２ｂ）、次いで第３のセンサ２７４−３
のビームが時間ｔ１ｍで形成され（点２９４−１ｍ）、
そして第１のセンサ２７４−１のビーム２８４が時間ｔ
２ｍで形成される（点２９４−２ｍ）点が異なる。
８−３００に関する同様な状況を示している。ただし、
第１のセンサ２７４−１のビーム２８４−１が先ず時間
ｔ１ｂで遮断され（点２９２−１ｂ）、次に第３のセン
サ２７４−３のビーム２８４−３が時間ｔ２ｂで遮断さ
れ（点２９２−２ｂ）、次いで第３のセンサ２７４−３
のビームが時間ｔ１ｍで形成され（点２９４−１ｍ）、
そして第１のセンサ２７４−１のビーム２８４が時間ｔ
２ｍで形成される（点２９４−２ｍ）点が異なる。
【００６１】図３Ｆと関連して上述されているように、
真空搬送モジュール２０２を、代表的な６つの処理モジ
ュール２４０と共に使用しても良い。ウエハ２０８が、
これら処理モジュール２４０のうち任意モジュールの任
意フェイス２３２のポート２３４を通って搬送され得る
ことから、これらのフェイス２３２のそれぞれに、図３
Ａおよび３Ｃで示される３つのセンサ２７４が提供され
る。したがって、ウエハ２０８の任意の搬送において、
任意の処理モジュール２４０から遷移信号２８６の出力
を生成することが可能となる。
真空搬送モジュール２０２を、代表的な６つの処理モジ
ュール２４０と共に使用しても良い。ウエハ２０８が、
これら処理モジュール２４０のうち任意モジュールの任
意フェイス２３２のポート２３４を通って搬送され得る
ことから、これらのフェイス２３２のそれぞれに、図３
Ａおよび３Ｃで示される３つのセンサ２７４が提供され
る。したがって、ウエハ２０８の任意の搬送において、
任意の処理モジュール２４０から遷移信号２８６の出力
を生成することが可能となる。
【００６２】図５は、排他的ＯＲゲート３０４の配列の
形をとった論理回路３０２を示した概略図である。各排
他的ＯＲゲート３０４の出力３０６は、入力３０８の両
方ではなくどちらか片方がアクティブの場合にアクティ
ブである。つまり、出力３０６は、入力３０８が互いに
異なる場合にアクティブとなる。回路３０２は６対の入
力３０８を有しており、これは、代表的な６つの処理モ
ジュール２４０の６つのフェイス２３２それぞれの２つ
のアクティブセンサ２７４からの出力を表している。入
力の１つ３０８−１は、第１の真空モジュール２４０−
１の第１のセンサ２７４−１からの出力に対応し、別の
入力３０８−２は、第１の真空モジュール２４０−１の
第２のセンサ２７４−２からの出力に対応する。他の５
つのモジュール２４０−２〜２４０−６に対しても、同
様にして入力３０８−１および３０８−２をそれぞれ提
供することができる。
形をとった論理回路３０２を示した概略図である。各排
他的ＯＲゲート３０４の出力３０６は、入力３０８の両
方ではなくどちらか片方がアクティブの場合にアクティ
ブである。つまり、出力３０６は、入力３０８が互いに
異なる場合にアクティブとなる。回路３０２は６対の入
力３０８を有しており、これは、代表的な６つの処理モ
ジュール２４０の６つのフェイス２３２それぞれの２つ
のアクティブセンサ２７４からの出力を表している。入
力の１つ３０８−１は、第１の真空モジュール２４０−
１の第１のセンサ２７４−１からの出力に対応し、別の
入力３０８−２は、第１の真空モジュール２４０−１の
第２のセンサ２７４−２からの出力に対応する。他の５
つのモジュール２４０−２〜２４０−６に対しても、同
様にして入力３０８−１および３０８−２をそれぞれ提
供することができる。
【００６３】モジュール２４０のうち１つのモジュール
のみへの入力３０８−１または３０８−２のうち、一方
のみへの入力遷移信号２８６に応じ、論理回路３０２が
メイン出力３１２上にシングル信号３１０を生成する。
図６（Ａ）〜図６（Ｃ）は、入力センサ２７４−１また
は２７４−２の任意の一方がいずれの方向に遷移した場
合であっても、シングル信号３１０が論理値０から論理
値１へと遷移する様子を示している。図６（Ａ）および
６（Ｂ）は、待ち時間Ｌが排除された後、ウエハ２０８
の移動によってビーム２８４が遮断または形成される際
に、ビーム２８４の遷移が発生する時間を示している。
図６（Ｃ）は、同様な時間において、ビーム２８４の遮
断または形成の結果としての種々の遷移信号２８６に応
じて論理回路３０２から出力される、２値出力としての
信号３１０を示している。図６（Ａ）および６（Ｂ）で
は、ウエハ２０８が移動中の時間をＴ軸（左から右の方
向が時間の増加を示す）上に、レシーバ部位２７４Ｒに
照射されるビーム２８４の量（遮断された場合は０、形
成された場合は１００％）をＢ軸（下から上の方向が光
度の増加を示す）上に、それぞれ示している。
のみへの入力３０８−１または３０８−２のうち、一方
のみへの入力遷移信号２８６に応じ、論理回路３０２が
メイン出力３１２上にシングル信号３１０を生成する。
図６（Ａ）〜図６（Ｃ）は、入力センサ２７４−１また
は２７４−２の任意の一方がいずれの方向に遷移した場
合であっても、シングル信号３１０が論理値０から論理
値１へと遷移する様子を示している。図６（Ａ）および
６（Ｂ）は、待ち時間Ｌが排除された後、ウエハ２０８
の移動によってビーム２８４が遮断または形成される際
に、ビーム２８４の遷移が発生する時間を示している。
図６（Ｃ）は、同様な時間において、ビーム２８４の遮
断または形成の結果としての種々の遷移信号２８６に応
じて論理回路３０２から出力される、２値出力としての
信号３１０を示している。図６（Ａ）および６（Ｂ）で
は、ウエハ２０８が移動中の時間をＴ軸（左から右の方
向が時間の増加を示す）上に、レシーバ部位２７４Ｒに
照射されるビーム２８４の量（遮断された場合は０、形
成された場合は１００％）をＢ軸（下から上の方向が光
度の増加を示す）上に、それぞれ示している。
【００６４】起こり得るウエハのミスアライメントを決
定する代表的な手続きにおいて、時間ｔ０のとき、ウエ
ハ２０８Ｎ−２００は経路２４４上をポート２３４に向
かって制御速度で移動している。センサビーム２８４−
１および２８４−２は共に遮断されておらず、いずれの
レシーバ部位２７４Ｒも、ビーム２８４−１および２８
４−２をそれぞれ１００％受光している。さらに、遷移
が示されていないため、メイン信号３１０の値はメイン
出力３１２で論理値０として現れている。
定する代表的な手続きにおいて、時間ｔ０のとき、ウエ
ハ２０８Ｎ−２００は経路２４４上をポート２３４に向
かって制御速度で移動している。センサビーム２８４−
１および２８４−２は共に遮断されておらず、いずれの
レシーバ部位２７４Ｒも、ビーム２８４−１および２８
４−２をそれぞれ１００％受光している。さらに、遷移
が示されていないため、メイン信号３１０の値はメイン
出力３１２で論理値０として現れている。
【００６５】センサ２７４−２の視位置に対応する時間
ｔ１ｂＡＰＰ（やはり図３Ｂに図示されている）では、
第２のセンサ２７４−２がビーム２８４−２を遮断する
ウエハ２０８−２００の前縁２５４によって、ビームの
遷移が生じる。第２のセンサ２７４−２のビーム２８４
−２は、図６（Ａ）において低光度への移行として示さ
れており、その結果として遷移信号２８６が高位に移行
し（一方の入力３０８−１が別の入力３０８−２と異な
るように）、３１０−１ではメイン出力信号３１０が２
値の１に移行してこの遷移を表す。図６（Ｂ）は、第１
のセンサ２７４−１のビーム２８４−１の光度が１００
％で持続することを示している。ビーム２８４−１が遷
移しないため、遷移信号２８６は存在せず、ウエハ２０
８は制御速度での移動を続ける。
ｔ１ｂＡＰＰ（やはり図３Ｂに図示されている）では、
第２のセンサ２７４−２がビーム２８４−２を遮断する
ウエハ２０８−２００の前縁２５４によって、ビームの
遷移が生じる。第２のセンサ２７４−２のビーム２８４
−２は、図６（Ａ）において低光度への移行として示さ
れており、その結果として遷移信号２８６が高位に移行
し（一方の入力３０８−１が別の入力３０８−２と異な
るように）、３１０−１ではメイン出力信号３１０が２
値の１に移行してこの遷移を表す。図６（Ｂ）は、第１
のセンサ２７４−１のビーム２８４−１の光度が１００
％で持続することを示している。ビーム２８４−１が遷
移しないため、遷移信号２８６は存在せず、ウエハ２０
８は制御速度での移動を続ける。
【００６６】時間ｔ２ｂＡＰＰでは、ウエハ２０８Ｎ−
２００の前縁２５４が第１のセンサ２７４−１のビーム
２８４−１を遮断し、ビームの遷移を生じる。第２のセ
ンサ２７４−２のビーム２８４−２が低光度で維持され
て、ウエハ２０８Ｎ−２００が均一の速度で移動を続け
る一方で、第１のセンサ２７４−１のビーム２８４−１
は、低光度に移行するものとして示されている。その結
果、第１のセンサ２７４−１からの遷移信号２８６が正
となる。第２のセンサ２７４−２では遷移は感知され
ず、入力３０８−２が入力３０８−１と異なることか
ら、３１０−２ではメイン出力信号３１０が逆に２値の
０に移行してこの遷移を表す。第１および第２センサ２
７４−１および２７４−２のビーム２８４−１および２
８４−２の光度はそれぞれ低く維持されて、別の遷移信
号２８６が生じることはなく、ウエハ２０８Ｎ−２００
は均一の速度で移動を続ける。
２００の前縁２５４が第１のセンサ２７４−１のビーム
２８４−１を遮断し、ビームの遷移を生じる。第２のセ
ンサ２７４−２のビーム２８４−２が低光度で維持され
て、ウエハ２０８Ｎ−２００が均一の速度で移動を続け
る一方で、第１のセンサ２７４−１のビーム２８４−１
は、低光度に移行するものとして示されている。その結
果、第１のセンサ２７４−１からの遷移信号２８６が正
となる。第２のセンサ２７４−２では遷移は感知され
ず、入力３０８−２が入力３０８−１と異なることか
ら、３１０−２ではメイン出力信号３１０が逆に２値の
０に移行してこの遷移を表す。第１および第２センサ２
７４−１および２７４−２のビーム２８４−１および２
８４−２の光度はそれぞれ低く維持されて、別の遷移信
号２８６が生じることはなく、ウエハ２０８Ｎ−２００
は均一の速度で移動を続ける。
【００６７】時間ｔ１ｍＡＰＰは、形成による遷移のた
めの第１のセンサ２７４−１の視位置ＹＭＡＰＰに対応
する。時間ｔ１ｍＡＰＰでは、ウエハ２０８Ｎ−２００
の後縁２９６が第１のセンサ２７４−１のビーム２８４
−１を形成し、その結果としてビームの遷移が生じる。
第１のセンサ２７４−１からの結果としての遷移信号２
８６が、入力の１つ３０８−１に割り当てられるため、
メイン出力信号３１０は、３１０−３で逆に２値の０に
移行してこの遷移を表す。第２のセンサ２７４−２のビ
ーム２８４−２が低光度で維持されて、ウエハ２０８が
均一の速度で移動を続ける一方で、第１のセンサ２７４
−１のビーム２８４−１は１００％に移行することが示
されている。
めの第１のセンサ２７４−１の視位置ＹＭＡＰＰに対応
する。時間ｔ１ｍＡＰＰでは、ウエハ２０８Ｎ−２００
の後縁２９６が第１のセンサ２７４−１のビーム２８４
−１を形成し、その結果としてビームの遷移が生じる。
第１のセンサ２７４−１からの結果としての遷移信号２
８６が、入力の１つ３０８−１に割り当てられるため、
メイン出力信号３１０は、３１０−３で逆に２値の０に
移行してこの遷移を表す。第２のセンサ２７４−２のビ
ーム２８４−２が低光度で維持されて、ウエハ２０８が
均一の速度で移動を続ける一方で、第１のセンサ２７４
−１のビーム２８４−１は１００％に移行することが示
されている。
【００６８】時間ｔ２ｍＡＰＰは、遷移形成のための、
第２のセンサ２７４−２の視位置ＹＭＡＰＰに対応す
る。時間ｔ２ｍＡＰＰでは、ウエハ２０８Ｎ−２００の
後縁２９６が第２のセンサ２７４−２のビーム２８４−
２を形成し、その結果としてビームの遷移を生じる。第
２のセンサ２７４−２からの結果としての遷移信号２８
６が、入力の１つ３０８−２に割り当てられるため、メ
イン出力信号３１０は、３１０−４で逆に２値の０に移
行してこの遷移を表す。第１のセンサ２７４−１のビー
ム２８４−１が１００％で維持されて、ウエハ２０８Ｎ
−２００が均一の速度で移動を続ける一方で、第２のセ
ンサ２７４−２のビーム２８４−２は１００％に移行す
ることが示されている。この時点で、ウエハミスアライ
メントを決定するためのウエハ２０８Ｎ−２００の移動
が完了し、システム２７２は、ブレード２６２の中心２
６４に対するウエハ２０８Ｎ−２００の中心２６０の位
置を表すデータの処理を待つばかりとなる。
第２のセンサ２７４−２の視位置ＹＭＡＰＰに対応す
る。時間ｔ２ｍＡＰＰでは、ウエハ２０８Ｎ−２００の
後縁２９６が第２のセンサ２７４−２のビーム２８４−
２を形成し、その結果としてビームの遷移を生じる。第
２のセンサ２７４−２からの結果としての遷移信号２８
６が、入力の１つ３０８−２に割り当てられるため、メ
イン出力信号３１０は、３１０−４で逆に２値の０に移
行してこの遷移を表す。第１のセンサ２７４−１のビー
ム２８４−１が１００％で維持されて、ウエハ２０８Ｎ
−２００が均一の速度で移動を続ける一方で、第２のセ
ンサ２７４−２のビーム２８４−２は１００％に移行す
ることが示されている。この時点で、ウエハミスアライ
メントを決定するためのウエハ２０８Ｎ−２００の移動
が完了し、システム２７２は、ブレード２６２の中心２
６４に対するウエハ２０８Ｎ−２００の中心２６０の位
置を表すデータの処理を待つばかりとなる。
【００６９】各モジュール２４０の各センサ２７４の正
確な位置に関するデータと共に、図５および６（Ｃ）と
の関連で説明したメイン出力信号３１０を使用する。詳
しく言うと、各センサ２７４の正確な位置を、メイン出
力信号３１０の遷移３１０−１、３１０−２、および３
１０−３ごとに知ることができる。この位置データは、
既知の物理的特性を有したキャリブレーションウエハ２
０８Ｃを使用するキャリブレーション方法によって提供
される。例えば、図７に示されたキャリブレーションウ
エハ２０８Ｃは、直径が２００ｍｍで、底部に突起３２
０を有する。突起３２０は、ブレード２６２の空きスペ
ースまたはポケット２７０（図２Ｂ）にぴったり嵌るよ
うに形成されている。また、キャリブレーション方法を
使用すると、ロボット２２８に対するセンサ２７４の厳
密な位置に関するデータを提供する際に、上述した装置
の一定の特性が考慮されることが保証される。例えば、
ロボット２２８の軸２３０の位置が、モジュール２０２
ごとに異なる可能性がある。また、モジュール２０２ま
たは２０４ごとに待ち時間ＬＢおよびＬＭが異なり、特
定のセンサ２７４の空間における有効位置が、実際の位
置とわずかに異なる可能性もある。
確な位置に関するデータと共に、図５および６（Ｃ）と
の関連で説明したメイン出力信号３１０を使用する。詳
しく言うと、各センサ２７４の正確な位置を、メイン出
力信号３１０の遷移３１０−１、３１０−２、および３
１０−３ごとに知ることができる。この位置データは、
既知の物理的特性を有したキャリブレーションウエハ２
０８Ｃを使用するキャリブレーション方法によって提供
される。例えば、図７に示されたキャリブレーションウ
エハ２０８Ｃは、直径が２００ｍｍで、底部に突起３２
０を有する。突起３２０は、ブレード２６２の空きスペ
ースまたはポケット２７０（図２Ｂ）にぴったり嵌るよ
うに形成されている。また、キャリブレーション方法を
使用すると、ロボット２２８に対するセンサ２７４の厳
密な位置に関するデータを提供する際に、上述した装置
の一定の特性が考慮されることが保証される。例えば、
ロボット２２８の軸２３０の位置が、モジュール２０２
ごとに異なる可能性がある。また、モジュール２０２ま
たは２０４ごとに待ち時間ＬＢおよびＬＭが異なり、特
定のセンサ２７４の空間における有効位置が、実際の位
置とわずかに異なる可能性もある。
【００７０】キャリブレーション方法は、拡張動作また
は撤回動作が実行されるか否かを識別し、校正される特
定のモジュール２４０を識別する動作から開始する。次
に、突起３２０をポケット２７０にぴったり嵌め込ん
で、キャリブレーションウエハ２０８Ｃをブレード２６
２でクランプする動作が続く。すると、ロボット２２８
は、「取り込み機能を装備する」ように命令される。こ
れで、システム２７２がセンサ２７４の動作を行う準備
が整う。次の動作では、ロボットは、校正されている特
定モジュール２４０のポート２３４から撤回することに
より、移動するように命令される。移動中は、半径Ｒお
よび角度シータ（Ｔ）の値が、センサ２７４からの遷移
信号２８６に基づいてデータ記録動作によって記録され
る。
は撤回動作が実行されるか否かを識別し、校正される特
定のモジュール２４０を識別する動作から開始する。次
に、突起３２０をポケット２７０にぴったり嵌め込ん
で、キャリブレーションウエハ２０８Ｃをブレード２６
２でクランプする動作が続く。すると、ロボット２２８
は、「取り込み機能を装備する」ように命令される。こ
れで、システム２７２がセンサ２７４の動作を行う準備
が整う。次の動作では、ロボットは、校正されている特
定モジュール２４０のポート２３４から撤回することに
より、移動するように命令される。移動中は、半径Ｒお
よび角度シータ（Ｔ）の値が、センサ２７４からの遷移
信号２８６に基づいてデータ記録動作によって記録され
る。
【００７１】図８には、撤回におけるＲおよびＴの代表
的な値が示されている。図８において、最初の３つのエ
ントリは、ウエハ２０８Ｃに応じて生成されたのではな
いため重要でなく、エントリ４〜７は、ウエハ２０８Ｃ
がセンサ２７４を通過した際に生成されたため重要であ
る。ロボット２２８がウエハ２０８Ｃを一定の高さで移
動させるため、代表的なデータは、ウエハ２０８Ｃの高
さ、すなわち「Ｚ」値が同じ値で維持されることを示
す。代表的なデータは、モジュール２４０のフェイス２
３２が、第１のセンサ２７４−１がウエハの移動経路２
４４から距離２７８だけ離れた位置に配置され、第２の
センサ２７４−２がその経路２４４から距離２８０だけ
離れた位置に配置される、図３Ｂと同様であることを表
す。距離２７８が距離２８０より大きいため、図３Ｂに
示されるように、第２のセンサ２７４−２が第１および
最後の遷移信号２８６（データエントリ４および７に対
応する）を生成し、第１のセンサ２７４−１が第２およ
び第３の遷移信号２８６（データエントリ５および６に
対応する）を生成する。
的な値が示されている。図８において、最初の３つのエ
ントリは、ウエハ２０８Ｃに応じて生成されたのではな
いため重要でなく、エントリ４〜７は、ウエハ２０８Ｃ
がセンサ２７４を通過した際に生成されたため重要であ
る。ロボット２２８がウエハ２０８Ｃを一定の高さで移
動させるため、代表的なデータは、ウエハ２０８Ｃの高
さ、すなわち「Ｚ」値が同じ値で維持されることを示
す。代表的なデータは、モジュール２４０のフェイス２
３２が、第１のセンサ２７４−１がウエハの移動経路２
４４から距離２７８だけ離れた位置に配置され、第２の
センサ２７４−２がその経路２４４から距離２８０だけ
離れた位置に配置される、図３Ｂと同様であることを表
す。距離２７８が距離２８０より大きいため、図３Ｂに
示されるように、第２のセンサ２７４−２が第１および
最後の遷移信号２８６（データエントリ４および７に対
応する）を生成し、第１のセンサ２７４−１が第２およ
び第３の遷移信号２８６（データエントリ５および６に
対応する）を生成する。
【００７２】図８に示されるように、シータの値の変動
は僅か０．００５度であり重要ではない。シータの値の
変動が、通常のあらゆる拡張または撤回において小さい
ことから、キャリブレーションの工程では平均値を使用
するものとする。この例における平均値は３５８．９４
０度である。
は僅か０．００５度であり重要ではない。シータの値の
変動が、通常のあらゆる拡張または撤回において小さい
ことから、キャリブレーションの工程では平均値を使用
するものとする。この例における平均値は３５８．９４
０度である。
【００７３】拡張においても同様な値のＲおよびＴが得
られることは無論であり、簡単のためここでは図示しな
い。拡張における最初の４つのエントリは、ウエハ２０
８Ｃがセンサ２７４を通過するのに応じてそれらが生成
されたため重要であり、後半３つのエントリ５〜７は重
要でない。ロボット２２８がウエハ２０８Ｃを一定の高
さで移動させるため、代表的な拡張データはやはり、ウ
エハ２０８Ｃの高さ、すなわち「Ｚ」値が同じ値で維持
されることを示す。代表的なデータはまた、モジュール
２４０のフェイス２３２が、第１のセンサ２７４−１が
ウエハの移動経路２４４から距離２７８だけ離れた位置
に配置され、第２のセンサ２７４−２がその経路２４４
から距離２８０だけ離れた位置に配置される、図３Ｂと
同様であることも表す。距離２７８が距離２８０より大
きいため、図３Ｂに示されるように、第２のセンサ２７
４−２が第１および最後の遷移信号２８６（データエン
トリ１および４に対応する）を生成し、第１のセンサ２
７４−１が第２および第３の遷移信号２８６（データエ
ントリ２および３に対応する）を生成する。
られることは無論であり、簡単のためここでは図示しな
い。拡張における最初の４つのエントリは、ウエハ２０
８Ｃがセンサ２７４を通過するのに応じてそれらが生成
されたため重要であり、後半３つのエントリ５〜７は重
要でない。ロボット２２８がウエハ２０８Ｃを一定の高
さで移動させるため、代表的な拡張データはやはり、ウ
エハ２０８Ｃの高さ、すなわち「Ｚ」値が同じ値で維持
されることを示す。代表的なデータはまた、モジュール
２４０のフェイス２３２が、第１のセンサ２７４−１が
ウエハの移動経路２４４から距離２７８だけ離れた位置
に配置され、第２のセンサ２７４−２がその経路２４４
から距離２８０だけ離れた位置に配置される、図３Ｂと
同様であることも表す。距離２７８が距離２８０より大
きいため、図３Ｂに示されるように、第２のセンサ２７
４−２が第１および最後の遷移信号２８６（データエン
トリ１および４に対応する）を生成し、第１のセンサ２
７４−１が第２および第３の遷移信号２８６（データエ
ントリ２および３に対応する）を生成する。
【００７４】図９（Ａ）および９（Ｂ）は、経路２４４
に沿ったキャリブレーションディスク２０８の４つの部
位を示している。図９（Ａ）において、位置Ｂ−２のウ
エハ２０８は、センサ２７４−２のビーム２８４−２を
遮断しているところである。位置Ｍ−２のウエハ２０８
は、センサ２７４−２のビーム２８４−２を形成してい
るところである。図９（Ｂ）において、位置Ｂ−１のウ
エハ２０８はセンサ２７４−１のビーム２８４−１を遮
断しているところであり、位置Ｍ−１ではビーム２８４
−１を形成しているところである。したがって、図９
（Ａ）および９（Ｂ）では、ウエハ２０８の前縁および
後縁のそれぞれが、各ビーム２８４の遷移を引き起こし
ている。この情報を、ウエハの半径（Ｒ）、およびセン
サ２７４が遷移した際のロボット２２８の位置に関する
知識と共に使用することによって、センサの位置（アパ
チャ２８３の中心）を決定することが可能となる。最初
および最後の遷移と図８におけるデータとを考慮する
と、ビーム２８４が最初に遮断された際とビーム２８４
が再形成された際の、ウエハ中心２６０位置の間の差
は、５１３．２１０−３６３．１０６または１５０．１
０４ミリメートル（５．９０９６インチ）である。図９
（Ａ）によれば、この距離は２ａである。したがって、
ａの値は、ウエハ中心間の距離の半分かまたは２．９５
４８インチである。Ｒの値はウエハの半径であり、１０
０ｍｍまたは３．９３７０インチである。センサ２７４
への距離ｂは、次式から得ることができる。
に沿ったキャリブレーションディスク２０８の４つの部
位を示している。図９（Ａ）において、位置Ｂ−２のウ
エハ２０８は、センサ２７４−２のビーム２８４−２を
遮断しているところである。位置Ｍ−２のウエハ２０８
は、センサ２７４−２のビーム２８４−２を形成してい
るところである。図９（Ｂ）において、位置Ｂ−１のウ
エハ２０８はセンサ２７４−１のビーム２８４−１を遮
断しているところであり、位置Ｍ−１ではビーム２８４
−１を形成しているところである。したがって、図９
（Ａ）および９（Ｂ）では、ウエハ２０８の前縁および
後縁のそれぞれが、各ビーム２８４の遷移を引き起こし
ている。この情報を、ウエハの半径（Ｒ）、およびセン
サ２７４が遷移した際のロボット２２８の位置に関する
知識と共に使用することによって、センサの位置（アパ
チャ２８３の中心）を決定することが可能となる。最初
および最後の遷移と図８におけるデータとを考慮する
と、ビーム２８４が最初に遮断された際とビーム２８４
が再形成された際の、ウエハ中心２６０位置の間の差
は、５１３．２１０−３６３．１０６または１５０．１
０４ミリメートル（５．９０９６インチ）である。図９
（Ａ）によれば、この距離は２ａである。したがって、
ａの値は、ウエハ中心間の距離の半分かまたは２．９５
４８インチである。Ｒの値はウエハの半径であり、１０
０ｍｍまたは３．９３７０インチである。センサ２７４
への距離ｂは、次式から得ることができる。
【００７５】
【数１】 ここで、
【００７６】
【数２】 である。
【００７７】ａおよびＲが既知となれば、センサの位置
をグローバルな値として表すことができる。例えば、セ
ンサの位置に対する半径ＲSを、次式から得ることがで
きる。
をグローバルな値として表すことができる。例えば、セ
ンサの位置に対する半径ＲSを、次式から得ることがで
きる。
【００７８】
【数３】
【００７９】ここで、ＲTは、低位置にあるウエハの獲
得値である。センサに対する角度θSは、次式から得る
ことができる。
得値である。センサに対する角度θSは、次式から得る
ことができる。
【００８０】
【数４】
【００８１】ここで、θTは経路の平均角度（シータの
値）である。±は、センサ２７４が経路２４４のどちら
側にあるかによって決定される。センサ２７４が左側に
ある場合はマイナス、センサ２７４が右側にある場合は
プラスである。
値）である。±は、センサ２７４が経路２４４のどちら
側にあるかによって決定される。センサ２７４が左側に
ある場合はマイナス、センサ２７４が右側にある場合は
プラスである。
【００８２】キャリブレーションを行う結果、極座標に
おけるセンサ２７４−１および２７４−２の位置は、拡
張および撤回の各動作に対して、そして中心２６４を含
むロボット２２８の極座標系に関して、そしてセンサ２
７４の特定の取り決め（すなわち間隔２７８、２８０、
および２８２）に対して、正確に決定される。
おけるセンサ２７４−１および２７４−２の位置は、拡
張および撤回の各動作に対して、そして中心２６４を含
むロボット２２８の極座標系に関して、そしてセンサ２
７４の特定の取り決め（すなわち間隔２７８、２８０、
および２８２）に対して、正確に決定される。
【００８３】第３のセンサ２７４−３に関しても、同様
なキャリブレーションが実行される。上述したように、
センサ２７４−１、２７４−２、および２７４−３の位
置を表すデータがレジスタ２９２に格納される。このよ
うなセンサの正確な位置を使用することができるため、
遷移（例えば３１０−１）のために信号３１０がロボッ
トコントローラ２９０に出力されるたびに、信号３１０
は、ウエハ２０８のエッジ２５４、２５６、および２９
６のうち１つの位置を示す。ロボットコントローラ２９
０は、このような各信号３１０に応じて、信号３１０で
表される遷移の発生時におけるブレード２６２の位置を
表すデータを格納する。ブレード位置データは、ロボッ
トモータ３２４で駆動されるエンコーダ３２２から出力
されて、レジスタ２９２に格納される。ウエハのアライ
メント動作が完了したら、コントローラ２９０は、（セ
ンサ位置および対応するブレード位置によって表され
る）複合データをシステムコントローラ３２６に転送す
る。システムコントローラ３２６は、ブレード２６２の
中心２６４に対するウエハ２０８の中心２６０の位置表
示を提供する１つのデータプロセッサとして機能する。
なキャリブレーションが実行される。上述したように、
センサ２７４−１、２７４−２、および２７４−３の位
置を表すデータがレジスタ２９２に格納される。このよ
うなセンサの正確な位置を使用することができるため、
遷移（例えば３１０−１）のために信号３１０がロボッ
トコントローラ２９０に出力されるたびに、信号３１０
は、ウエハ２０８のエッジ２５４、２５６、および２９
６のうち１つの位置を示す。ロボットコントローラ２９
０は、このような各信号３１０に応じて、信号３１０で
表される遷移の発生時におけるブレード２６２の位置を
表すデータを格納する。ブレード位置データは、ロボッ
トモータ３２４で駆動されるエンコーダ３２２から出力
されて、レジスタ２９２に格納される。ウエハのアライ
メント動作が完了したら、コントローラ２９０は、（セ
ンサ位置および対応するブレード位置によって表され
る）複合データをシステムコントローラ３２６に転送す
る。システムコントローラ３２６は、ブレード２６２の
中心２６４に対するウエハ２０８の中心２６０の位置表
示を提供する１つのデータプロセッサとして機能する。
【００８４】すると、ウエハの搬送時間を増加させるこ
となく、すなわちモジュール２０２もしくは２４０また
はロードロック２０４の間におけるウエハ２０８の制御
速度または移送速度を低下させることなく、ウエハ２０
８が搬送されている間に作動するような、ウエハアライ
メント装置および方法が、システム２７２およびその関
連の方法によって提供されることがわかる。このような
方法および装置では、同一フェイス２３２のセンサ２７
４、３つあたり１つのプロセッサ（コントローラ３２
６）のみを必要とすることにより、センサ２７４、１つ
あたりのデータプロセッサの数を減らす。間隔２７８，
２８０，２８２および回路３０２によって、クラスタツ
ール構造２００全体で、ウエハミスアライメントの決定
のために必要とされるプロセッサは１つのみである。上
述したようなキャリブレーション工程によって、このよ
うな方法および装置は、センサ２７４のアパチャ２８３
の位置付けに必要とされるマシニング精度を、センサ２
７４を使用してなされる検知の精度を犠牲にすることな
く低減することもできる。上述したように、スルービー
ムセンサ２７４を使用してウエハミスアライメントを決
定する際に誤差を生じる原因となる、待ち時間ＬＢおよ
びＬＭを排除することもできる。
となく、すなわちモジュール２０２もしくは２４０また
はロードロック２０４の間におけるウエハ２０８の制御
速度または移送速度を低下させることなく、ウエハ２０
８が搬送されている間に作動するような、ウエハアライ
メント装置および方法が、システム２７２およびその関
連の方法によって提供されることがわかる。このような
方法および装置では、同一フェイス２３２のセンサ２７
４、３つあたり１つのプロセッサ（コントローラ３２
６）のみを必要とすることにより、センサ２７４、１つ
あたりのデータプロセッサの数を減らす。間隔２７８，
２８０，２８２および回路３０２によって、クラスタツ
ール構造２００全体で、ウエハミスアライメントの決定
のために必要とされるプロセッサは１つのみである。上
述したようなキャリブレーション工程によって、このよ
うな方法および装置は、センサ２７４のアパチャ２８３
の位置付けに必要とされるマシニング精度を、センサ２
７４を使用してなされる検知の精度を犠牲にすることな
く低減することもできる。上述したように、スルービー
ムセンサ２７４を使用してウエハミスアライメントを決
定する際に誤差を生じる原因となる、待ち時間ＬＢおよ
びＬＭを排除することもできる。
【００８５】以上では、理解を明確にする目的で本発明
を詳細に説明したが、添付した特許請求の範囲の範囲内
で、一定の変更および修正を加えられることは明らかで
ある。したがって、上述した本実施例は、例示を目的と
したものであって限定的ではなく、本発明は、ここで取
り上げた詳説に限定されず、添付した特許請求の範囲の
範囲および同等物の範囲内で変更され得る。
を詳細に説明したが、添付した特許請求の範囲の範囲内
で、一定の変更および修正を加えられることは明らかで
ある。したがって、上述した本実施例は、例示を目的と
したものであって限定的ではなく、本発明は、ここで取
り上げた詳説に限定されず、添付した特許請求の範囲の
範囲および同等物の範囲内で変更され得る。
【図１】真空搬送モジュールに接続された常圧移送モジ
ュールを示す、従来技術による代表的な半導体工程のク
ラスタツール構造であって、真空搬送モジュールへの移
送のためにロードロックがウエハを受け取っている。
ュールを示す、従来技術による代表的な半導体工程のク
ラスタツール構造であって、真空搬送モジュールへの移
送のためにロードロックがウエハを受け取っている。
【図２Ａ】本発明に従った半導体工程のクラスタツール
構造を示した平面図であり、固定軸上での回転のため、
そして真空搬送モジュールにウエハを運び込むブレード
を搬送するために搭載された、真空搬送モジュールロボ
ットが示されている。
構造を示した平面図であり、固定軸上での回転のため、
そして真空搬送モジュールにウエハを運び込むブレード
を搬送するために搭載された、真空搬送モジュールロボ
ットが示されている。
【図２Ｂ】ブレードに適切に揃えられたウエハを運ぶブ
レードの平面図である。
レードの平面図である。
【図２Ｃ】ブレードに適切に揃えられていないウエハを
運ぶブレードの平面図であり、本発明に従って決定され
るウエハのミスアライメントが示されている。
運ぶブレードの平面図であり、本発明に従って決定され
るウエハのミスアライメントが示されている。
【図３Ａ】クラスタツール構造の真空搬送モジュールの
１フェイスを部分的に示した平面図であり、本発明に従
ったダイナミックアライメントのためのシステムの概略
を部分的に示しており、直径が２００ｍｍのウエハに使
用される第２のセンサが示されている。
１フェイスを部分的に示した平面図であり、本発明に従
ったダイナミックアライメントのためのシステムの概略
を部分的に示しており、直径が２００ｍｍのウエハに使
用される第２のセンサが示されている。
【図３Ｂ】直径が２００ｍｍのウエハの平面図であり、
図３Ａに示されたセンサのビームをウエハが遮断および
形成する時間が示されている。
図３Ａに示されたセンサのビームをウエハが遮断および
形成する時間が示されている。
【図３Ｃ】クラスタツール構造の真空搬送モジュールの
フェイスの同一部分を示した平面図であり、本発明に従
ったダイナミックアライメントのためのシステムの概略
を部分的に示しており、直径が３００ｍｍのウエハに使
用される第３のセンサが示されている。
フェイスの同一部分を示した平面図であり、本発明に従
ったダイナミックアライメントのためのシステムの概略
を部分的に示しており、直径が３００ｍｍのウエハに使
用される第３のセンサが示されている。
【図３Ｄ】直径が３００ｍｍのウエハの平面図であり、
図３Ｃに示されたセンサのビームをウエハが遮断および
形成する時間が示されている。
図３Ｃに示されたセンサのビームをウエハが遮断および
形成する時間が示されている。
【図３Ｅ】複数フェイスのうち１つのフェイスのポート
を示した立面図であり、ウエハが遮断および形成する光
ビームを供給する光ファイバケーブルを有した３つのセ
ンサが示されている。
を示した立面図であり、ウエハが遮断および形成する光
ビームを供給する光ファイバケーブルを有した３つのセ
ンサが示されている。
【図３Ｆ】クラスタツール構造システムの平面図であ
り、１フェイスあたり２つのセンサと、遮断および形成
による各遷移に対応する遷移信号を生成するビームレシ
ーバに接続された光ファイバケーブルとが示されてい
る。
り、１フェイスあたり２つのセンサと、遮断および形成
による各遷移に対応する遷移信号を生成するビームレシ
ーバに接続された光ファイバケーブルとが示されてい
る。
【図３Ｇ】遷移信号を受信してこれらの信号をロボット
コントローラに供給するカードを示した概略図である。
コントローラに供給するカードを示した概略図である。
【図４Ａ】センサの待ち、およびこのような待ちが原因
で生じる誤差を排除するためにセンサの視位置がどのよ
うに決定されるかを示した概略図である。
で生じる誤差を排除するためにセンサの視位置がどのよ
うに決定されるかを示した概略図である。
【図４Ｂ】センサの待ち、およびこのような待ちが原因
で生じる誤差を排除するためにセンサの視位置がどのよ
うに決定されるかを示した概略図である。
で生じる誤差を排除するためにセンサの視位置がどのよ
うに決定されるかを示した概略図である。
【図５】ビーム１回の遮断あたり１つの出力信号を提供
し、ビーム１回の形成あたり１つの出力を提供する、論
理回路の概略図である。
し、ビーム１回の形成あたり１つの出力を提供する、論
理回路の概略図である。
【図６】２つのセンサにおけるビームの遮断および形成
のタイミングを、論理回路からの１つの出力信号にそれ
ぞれ関連付ける図である。
のタイミングを、論理回路からの１つの出力信号にそれ
ぞれ関連付ける図である。
【図７】センサの位置を正確に決定するためにキャリブ
レーション工程で使用されるキャリブレーションウエハ
の底面図である。
レーション工程で使用されるキャリブレーションウエハ
の底面図である。
【図８】キャリブレーション工程の結果として得られる
代表的なデータを示した図である。
代表的なデータを示した図である。
【図９】ウエハ経路の右側にあるセンサビームに対する
ウエハの、キャリブレーション工程中における位置を示
した図であり、図９（Ａ）はウエハ経路の右側にあるセ
ンサビームに対するウエハ位置を示し、図９（Ｂ）はウ
エハ経路の左側にあるセンサビームに対するウエハ位置
を示す。
ウエハの、キャリブレーション工程中における位置を示
した図であり、図９（Ａ）はウエハ経路の右側にあるセ
ンサビームに対するウエハ位置を示し、図９（Ｂ）はウ
エハ経路の左側にあるセンサビームに対するウエハ位置
を示す。
１００…代表的なクラスタ構造 １０２…クリーンルーム １０４…ロードロック １０６…真空搬送モジュール １０８ａ、１０８ｂ、１０８ｃ…処理モジュール ２００…クラスタツール構造システム ２０２…真空搬送モジュール ２０４…ロードロック ２０６…常圧搬送モジュール ２０８…基板またはウエハ ２０８Ｆ…第１のウエハ ２０８Ｎ…第２のウエハ ２０８Ｃ…キャリブレーションウエハ ２０８−２００…直径が２００ｍｍのウエハ ２０８−３００…直径が３００ｍｍのウエハ ２１０…カセット ２１２…フロントエンドロボット ２１４…固定回転軸 ２１６…ウエハアライナ ２１８…ウエハ受け取り面 ２２０…ロードロックポート ２２２…ゲートバルブまたはドア ２２４…ロードロックウエハ移送軸 ２２６…フィンガ ２２８…真空移送ロボット ２３０…中心軸 ２３２…ウエハ移送面 ２３４…ポート ２３６…ゲートバルブまたはドア ２３８…デュアルスロットバルブ ２４０…処理モジュールまたはチャンバ ２４２…入来ウエハ移送経路 ２４４…第２のウエハ移送経路 ２４６…ピン ２５２…直線状のエッジ ２５４…曲線状のエッジまたは前縁 ２５６…刻み目が入った曲線状のエッジまたは前縁 ２５８…刻み目 ２６０…ウエハの中心 ２６２…ロボットのブレード ２６４…ブレードの中心 ２６６…ブレードの縦軸 ２７０…空間またはポケット ２７２…ダイナミックアライメントシステム ２７４…センサ ２７４−１…第１のセンサ ２７４−２…第２のセンサ ２７４−３…第３のセンサ ２７４Ｔ…ビームトランスミッタ部位 ２７４Ｒ…ビームレシーバ部位 ２７４ＣＩ…入来光ファイバケーブル ２７４ＣＯ…出力光ファイバケーブル ２７６…センサ位置決め軸 ２７８…第１の距離 ２８０…第２の距離 ２８２…第３の距離 ２８３…アパチャ ２８４…光ビーム ２８５…センサボディ ２８５Ｄ…光検出器 ２８５Ｅ…エミッタ ２８６…遷移信号 ２８６Ｂ…遮断を示す遷移信号 ２８６Ｍ…形成を示す遷移信号 ２８８…マルチプレックスカード ２８９…入力ポート ２９０…ロボットコントローラ ２９２…レジスタ ２９６…ウエハのエッジまたは後縁 ３０２…論理回路 ３０４…排他的ＯＲゲート ３０６…排他的ＯＲゲートの出力 ３０８…排他的ＯＲゲートの入力 ３１０…シングル信号 ３１０−１、３１０−２、３１０−３…遷移 ３１２…メイン出力 ３２０…突起 ３２２…エンコーダ ３２４…ロボットモータ ３２６…システムコントローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 チャールズ・ダブリュ．・フロインド アメリカ合衆国 テキサス州78759 オー スティン，バルコーンズ・ウッズ・ドライ ブ，4308
Claims (29)
- 【請求項１】 ブレードが、半導体製造装置のモジュー
ルのファセットによって定義される平面を貫く経路に沿
って、制御された移送速度でウエハを連続移動させるの
に伴って、ウエハ搬送ロボットのブレードに対する前記
ウエハの位置を示すデータを生成し、センサ位置決め軸
が、前記平面内で延びて前記経路と交わる装置であっ
て、 前記平面内において、前記位置決め軸上で前記経路から
第１の距離だけ離れて搭載されることにより、前記経路
を移動中の前記ウエハを感知する、第１のセンサであっ
て、前記ウエハを感知する第１の時間と、前記ウエハの
感知を示す遷移信号を出力する時間より後である後の時
間と、の間に待ち時間を有する第１のセンサと、 前記平面内において、前記位置決め軸上で前記経路から
第２の距離だけ離れて搭載されることにより、前記経路
を移動中の前記ウエハを感知する、第２のセンサと、を
備え、 前記第２の距離が、前記ウエハが前記第１のセンサに感
知される第１の瞬間と、前記ウエハが前記第２のセンサ
に感知される第２の瞬間と、の間の時間が、前記所定の
速度において前記待ち時間以上であるような距離だけ前
記第１の距離と異なる装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の装置であって、 前記ロボットの位置は、前記ウエハが移動中の各瞬間に
おいて既知であり、前記センサのそれぞれは、前記ウエ
ハを感知する前記それぞれのセンサに応じて前記遷移信
号の１つを生成し、前記装置はさらに、 前記遷移信号のうち特定の１つに対応する前記ロボット
の位置を表すデータを受信するための、前記ロボット上
のレジスタと、 前記遷移信号のうち特定の１つに応じ、前記ロボットの
前記対応位置を前記レジスタに格納させるための、コン
トローラと、 を備える装置。 - 【請求項３】 請求項２記載の装置であって、 前記センサのそれぞれは、ビームトランスミッタとビー
ムレシーバとを備えており、前記ウエハによる前記それ
ぞれのビームの遮断、およびこのようなビーム遮断後に
おける前記それぞれのビームの形成に応じ、前記遷移信
号の１つを出力し、 前記第１の距離と前記第２の距離の差は、前記それぞれ
の第１および第２のセンサからの前記遷移信号全てを時
間的に分離するのに有効であると共に、 前記時間的に分離された遷移信号を、前記コントローラ
への入力のために処理するための、プロセッサをさらに
備える装置。 - 【請求項４】 請求項３記載の装置であって、 前記レジスタは、前記平面を貫いて前記モジュールに向
かうまたは前記モジュールから離れる前記ウエハの移動
が１回完了するごとに、前記それぞれのセンサから出力
される前記遷移信号のうち２つの遷移信号に対応する前
記ロボットブレードの位置を、格納するように適合され
ている、装置。 - 【請求項５】 請求項１記載の装置であって、 前記半導体装置は、複数の平面と、ファセットと、モジ
ュールとを備え、前記センサ位置決め軸の１つは、前記
それぞれの平面内で延びるように用意され、前記ウエハ
の１つは、前記それぞれのファセットのうち任意のファ
セットを貫いて、前記それぞれのモジュールのうち任意
のモジュールに向かうまたは同モジュールから離れる方
向に、前記個々の経路に沿って移動し得て、前記装置は
さらに、 前記第１のセンサの１つは、前記それぞれのモジュール
の前記それぞれの平面内において、前記それぞれの位置
決め軸上で前記それぞれの経路から前記第１の距離だけ
離れて搭載されることにより、前記それぞれの経路を移
動中の前記ウエハを感知し、前記第１のセンサは、前記
それぞれの経路上にある前記ウエハを感知する第１の時
間と、前記それぞれの経路上にある前記ウエハの感知を
示す遷移信号を出力する時間より後である後の時間と、
の間に待ち時間を有し、 前記第２のセンサの１つは、前記それぞれのモジュール
の前記それぞれの平面内において、前記それぞれの位置
決め軸上で前記それぞれの経路から前記第２の距離だけ
離れて搭載されることにより、前記それぞれの経路を移
動中の前記ウエハを感知し、 前記それぞれの第２の距離は、前記それぞれの経路上に
ある前記ウエハが前記第１のセンサに感知される第１の
瞬間と、前記それぞれの経路上にある前記ウエハが前記
第２のセンサに感知される第２の瞬間と、の間の時間
が、前記所定の速度において前記待ち時間以上であるよ
うな距離だけ前記それぞれの第１の距離と異なると共
に、 前記それぞれの第１および第２のセンサからの前記第１
および第２の遷移信号全てを受信するために、前記ロボ
ット上に設けられた論理回路であって、特定のウエハが
前記モジュールのうち任意の特定モジュールの任意の経
路に沿って移動する際に、前記特定のウエハの感知によ
って生成された前記連続した遷移信号に応じ、前記特定
のウエハに関連付けられた前記それぞれの特定モジュー
ルを識別する、論理回路をさらに備える装置。 - 【請求項６】 ブレードが、半導体製造装置の複数モジ
ュールの複数ファセットの１つによって定義される平面
を貫いて延びる経路に沿ってウエハを移動させるのに伴
って、ウエハ搬送ロボットのブレードに対する前記ウエ
ハの位置を示すデータを生成し、センサ位置決め軸が、
前記各平面内で延びて前記それぞれの経路と交わる装置
であって、 前記各平面内において、前記それぞれの位置決め軸上で
前記それぞれの経路から第１の距離だけ離れて搭載され
ることにより、前記それぞれの経路を移動中の前記ウエ
ハを感知する、第１のセンサであって、前記それぞれの
経路上にある前記ウエハを前記第１のセンサが感知する
第１の時間と、前記それぞれの経路上にある前記ウエハ
の感知を示す第１の遷移信号を前記第１のセンサが出力
する時間より後である後の時間と、の間に第１の待ち時
間を有する、第１のセンサと、 前記各平面内において、前記それぞれの位置決め軸上で
前記それぞれの経路から第２の距離だけ離れて搭載され
ることにより、前記それぞれの経路を移動中の前記ウエ
ハを感知する、第２のセンサであって、前記それぞれの
経路にある前記ウエハの感知を示す第２の遷移信号を出
力する、第２のセンサと、を備え、 前記それぞれの経路上にある前記ウエハが前記第２のセ
ンサによって感知されるより前に、前記第１のセンサに
よって前記それぞれの経路上にある前記ウエハが感知さ
れるのに応じ、前記第１の遷移信号が、前記第１のセン
サによって出力されるように、前記各第１のセンサに対
応する前記各第２のセンサに対して、前記第２の距離と
前記第１の距離の差を、前記それぞれの経路上を移動し
ている前記ウエハが前記第１のセンサに感知される第１
の瞬間に、前記第１の待ち時間を加えた時間が、前記そ
れぞれの同じ経路上を移動している前記ウエハが前記第
２のセンサに感知される第２の瞬間より時間的に後にな
らない距離にすることにより、前記第１および第２の遷
移信号が、前記それぞれの第１および第２のセンサによ
って時間的に隔てられて出力されるようにすると共に、 前記時間的に隔てられた第１および第２の遷移信号のそ
れぞれを受信し、このような第１および第２の時間的に
隔てられた遷移信号を個別に処理するための、プロセッ
サを備える装置。 - 【請求項７】 請求項６記載の装置であって、 前記複数モジュールの複数ファセットの１つは、前記複
数ファセットのうち未決定の１ファセットであり、前記
装置は、 前記ウエハが、それぞれのファセットのうちどのファセ
ットに対応するどの経路に沿って移動しているかにかか
わらず、前記時間的に隔てられた第１および第２の遷移
信号全てを受信できる論理回路であって、前記ウエハ
が、それぞれのファセットのうちどのファセットに対応
するどの経路に沿って移動しているかにかかわらず、信
号を１つ出力する、論理回路をさらに備える装置。 - 【請求項８】 請求項６記載の装置であって、 前記ウエハは、直線状または刻み目の入ったエッジのい
ずれかを特定の方向に提供されており、前記装置は、 前記センサのそれぞれが、前記ウエハの前記直線状のエ
ッジまたは前記刻み目が入ったエッジに対応する位置以
外の位置で前記位置決め軸上に配置することにより、前
記ウエハが前記それぞれの経路に沿って連続移動する際
に、前記直線状のエッジまたは前記刻み目が入ったエッ
ジが、前記第１または第２のセンサのいずれにも感知さ
れないようにする装置。 - 【請求項９】 請求項６記載の装置であって、 前記センサのそれぞれは、ビームエミッタとビームレシ
ーバとを備えており、前記エミッタおよび前記レシーバ
を、前記それぞれのウエハ経路のうち１経路を挟んで反
対側に配置することにより、前記ビームが前記それぞれ
の経路に沿って移動中のウエハによって遮断されるか、
または一旦遮断されたビームが前記それぞれの経路に沿
って移動中のウエハによって形成されるようにする装
置。 - 【請求項１０】 請求項６記載の装置であって、 前記ウエハは、異なる各種サイズのうち１サイズを有し
て良く、前記ロボットは、前記ブレードと、前記ブレー
ドによって運ばれる前記ウエハとを、前記それぞれの平
面を貫いて前記それぞれのモジュールへと向かう拡張動
作で移動させるか、前記それぞれの平面を貫いて前記そ
れぞれのモジュールから離れる撤回動作で移動させて良
く、前記装置は、 前記第２のセンサが、前記各平面内で前記それぞれの位
置決め軸上に移動可能に搭載されており、前記第２のセ
ンサの第２の搭載位置を、前記第２のセンサが前記それ
ぞれの経路から第３の距離だけ離れるように設けること
により、前記それぞれの経路上を移動し且つ前記各種サ
イズのうち第１のサイズを有した前記ウエハを感知し
て、前記第２のセンサか前記それぞれの経路上にある前
記ウエハの感知を示す第３の遷移信号を出力し、 前記それぞれの経路上にある前記ウエハが前記第２の位
置に設けられた前記第２のセンサによって感知されるよ
り前に、前記第１のセンサによって前記それぞれの経路
上にある前記ウエハが感知されるのに応じて、前記第１
の遷移信号が前記第１のセンサによって出力されるよう
に、前記各第１のセンサに対応する前記第２の位置に設
けられた前記各第２のセンサに対して、前記第３の距離
と前記第１の距離の差を、前記それぞれの経路上を移動
している前記ウエハが前記第１のセンサに感知される前
記第１の瞬間に、前記待ち時間を加えた時間が、前記そ
れぞれの同じ経路上を移動している前記ウエハが前記第
２の位置に設けられた前記第２のセンサに感知される第
３の瞬間より時間的に後にならない距離にすることによ
り、前記第１および第３の遷移信号が、前記それぞれの
第１および第２のセンサによって時間的に隔てられて出
力されるようにすると共に、 前記ウエハが、それぞれのファセットのうちどのファセ
ットに対応するどの経路に沿って移動しているかにかか
わらず、前記時間的に隔てられた第１および第３の遷移
信号全てを受信できる論理回路であって、前記ウエハ
が、それぞれのファセットのうちどのファセットに対応
するどの経路に沿って移動しているかにかかわらず、信
号を１つ出力する、論理回路をさらに備える装置。 - 【請求項１１】 ブレードが、半導体製造装置の複数モ
ジュールの複数ファセットの１つによって定義される平
面を貫く経路に沿ってウエハを連続移動させるのに伴っ
て、ウエハ搬送ロボットのブレードに対する前記ウエハ
の位置を示すデータを生成し、センサ位置決め軸が前記
各平面内で延びて前記それぞれの経路と交わり、前記ウ
エハは、少なくとも第１および第２の物理的特性のいず
れかを有し、前記ロボットは、前記ブレードと、前記ブ
レードによって運ばれる前記ウエハとを、前記それぞれ
の平面を貫いて前記それぞれのモジュールへと向かう拡
張動作で移動させるか、前記それぞれの平面を貫いて前
記それぞれのモジュールから離れる撤回動作で移動させ
る装置であって、 前記各平面内において、前記それぞれの位置決め軸上で
前記それぞれの経路から第１の距離だけ離れて搭載され
ることにより、前記それぞれの経路を移動中の前記ウエ
ハを感知する、第１のセンサであって、前記それぞれの
経路上にある前記ウエハを前記第１のセンサが感知する
第１の時間と、前記それぞれの経路上にある前記ウエハ
の感知を示す第１の遷移信号を前記第１のセンサが出力
する時間より後である後の時間と、の間に第１の待ち時
間を有する、第１のセンサと、 前記各平面内において、前記それぞれの位置決め軸上に
移動可能に搭載された第２のセンサであって、前記それ
ぞれの経路上を移動中の前記ウエハを感知するために、
前記それぞれの経路から第２の距離だけ離れた第１の位
置に搭載されることが可能であり、前記それぞれの経路
上にある前記ウエハの感知を示す第２の遷移信号を出力
する、第２のセンサと、を備え、 前記それぞれの経路上にある前記ウエハが前記第１の位
置に設けられた前記第２のセンサによって感知されるよ
り前に、前記それぞれの経路上にある前記第１の物理的
特性を有した前記ウエハが前記第１のセンサによって感
知されるのに応じ、前記第１の遷移信号が前記第１のセ
ンサによって出力されるように、前記各第１のセンサに
対応する前記第１の位置に設けられた前記各第２のセン
サに対して、前記第２の距離と前記第１の距離の差を、
前記それぞれの経路上を移動している前記第１の物理的
特性を有した前記ウエハが前記第１のセンサに感知され
る前記第１の瞬間に、前記第１の待ち時間を加えた時間
が、前記同じ経路上を移動している前記第１の物理的特
性を有した前記ウエハが前記第１の位置に設けられた前
記第２のセンサに感知される第２の瞬間より時間的に後
にならない距離にすることにより、前記第１および第２
の遷移信号が、前記それぞれの第１のセンサおよび前記
第１の位置に設けられた第２のセンサによって時間的に
隔てられて出力されるようにし、 前記第２のセンサは、前記それぞれの経路を移動してい
る前記第２の物理的特性を有した前記ウエハを感知する
ために、前記それぞれの経路から第３の距離だけ離れた
第２の位置に搭載されることが可能であり、前記第２の
位置に設けられた前記第２のセンサは、前記それぞれの
経路上にある前記ウエハを前記第３のセンサが感知する
第３の時間と、前記それぞれの経路上にある前記第２の
物理的特性を有した前記ウエハの感知を示す第３の遷移
信号を前記第２の位置に設けられた前記第２のセンサが
出力する時間より後である後の時間と、の間に第３の待
ち時間を有し、上述した第２のセンサは、前記それぞれ
の経路上にある前記第２の物理的特性を有した前記ウエ
ハの感知を示す第３の遷移信号を出力し、 前記それぞれの経路上にある前記第２の物理的特性を有
した前記ウエハが前記第１のセンサによって感知される
より前に、前記それぞれの経路上にある前記第２の物理
的特性を有した前記ウエハが上述した第２のセンサによ
って感知されるのに応じ、前記第３の遷移信号が出力さ
れるように、前記各第１のセンサに対応する上述した各
センサに対して、前記第３の距離と前記第１の距離の差
を、前記それぞれの経路上を移動している前記第２の物
理的特性を有した前記ウエハが上述した第２のセンサに
感知される前記第３の瞬間に、前記第３の待ち時間を加
えた時間が、前記同じ経路上を移動している前記第２の
物理的特性を有した前記ウエハが前記第１のセンサに感
知される第４の瞬間より時間的に後にならない距離にす
ることにより、前記第２の物理的特性を有した前記ウエ
ハに対し、前記第１および第３の遷移信号が時間的に隔
てられて出力されるようにする装置。 - 【請求項１２】 請求項１１記載の装置であって、 各ウエハの前縁および後縁が各センサによって感知され
るように、前記ウエハは、前記それぞれのファセットを
完全に貫くように前記ロボットによって移動され、前記
装置は、 前記第１の物理的特性を有したウエハに対する前記遷移
信号の時間的な間隔は、前記第１の物理的特性を有した
前記ウエハの前記前縁が前記第１のセンサで感知される
のに応じた前記第１の遷移信号と、続いて、上述したウ
エハの前記前縁が感知されるのに応じた前記第２の遷移
信号と、続いて、上述したウエハの前記後縁が前記第２
のセンサで感知されるのに応じた第１の後縁遷移信号
と、続いて、上述したウエハの前記後縁が前記第１のセ
ンサで感知されるのに応じた第２の遷移信号と、によっ
て提供され、 前記第２の物理的特性を有したウエハに対する前記遷移
信号の時間的な間隔は、前記第２の物理的を有した前記
ウエハの前記前縁が前記第２の位置に設けられた前記第
２のセンサで感知されるのに応じた前記第３の遷移信号
と、続いて、上述したウエハの前記前縁が前記第１のセ
ンサで感知されるのに応じた前記第１の遷移信号と、続
いて、上述したウエハの前記後縁が前記第１のセンサで
感知されるのに応じた第３の後縁遷移信号と、続いて、
上述したウエハの前記後縁が前記第２の位置に設けられ
た前記第２のセンサで感知されるのに応じた第４の後縁
遷移信号と、によって提供される装置。 - 【請求項１３】 ウエハ搬送ロボットのブレードに対す
るウエハの位置を示すデータを生成するシステムを校正
する方法であって、 前記ウエハ搬送ロボットを、ポートを有した半導体製造
装置に隣接して設ける動作であって、前記ブレードは、
前記ロボットにより前記ポートを介して搬送軸に沿って
移動可能である、動作と、 キャリブレーションウエハを、前記ブレードの中心に合
わせて前記ブレードに固定する動作であって、前記キャ
リブレーションウエハは既知の半径を有し、前記キャリ
ブレーションウエハは、前記キャリブレーションウエハ
を運ぶ前記ブレードの移動中に前縁を有し、前記移動中
に後縁を有する、動作と、 前記搬送軸を横切って前記ポート内を通るポート軸上の
未知の位置に、センサを用意する動作であって、前記セ
ンサは、前記前縁の存在によって先ずトリップ（始動）
される位置にあることによって、第１のデータ項目を生
成し、前記センサは、前記後縁に続く前記ウエハの不在
によって次にトリップ（始動）される位置にあることに
よって、第２のデータ項目を生成する、動作と、 前記ロボットに、前記搬送軸上で前記ポートを通って前
記センサを通過するように前記キャリブレーションウエ
ハを移動させることによって、前記センサに、前記第１
および第２のデータ項目を生成させる、動作と、 前記キャリブレーションウエハの半径と、前記第１およ
び第２のデータ項目とを使用することによって、前記ポ
ート軸上における前記センサの前記未知の位置が、前記
搬送軸から離れている距離を決定する、動作とを備える
方法。 - 【請求項１４】 請求項１３記載の方法であって、 センサを用意する前記動作は、さらに、前記ポート軸に
沿って間隔をおいて配置された少なくとも２つのセンサ
を用意する動作を備え、さらに、 前記センサのうち第１のセンサを、前記ウエハ搬送軸の
片側にあり且つ前記ウエハ搬送軸から第１の距離だけ離
れた前記ポート軸上に搭載することにより、前記ウエハ
搬送軸に沿って移動する前記ウエハを感知するようにす
る動作であって、前記第１のセンサは、前記ウエハを感
知する第１の時間と、前記ウエハの感知を示す遷移信号
を出力する後の時間と、の間に待ち時間を有する、動作
と、 前記センサのうち第２のセンサを、前記ウエハ搬送軸の
反対側にあり且つ前記ウエハ搬送軸から第２の距離だけ
離れたポート軸上に搭載することにより、前記ウエハ搬
送軸に沿って移動する前記ウエハを感知するようにす
る、動作と、を備え、 前記搭載の動作は、前記第２の距離と第１の距離の差
が、前記ウエハが前記第１のセンサで感知される第１の
瞬間と、前記ウエハが前記第２のセンサで感知される第
２の瞬間と、の間の時間が前記待ち時間以上であるよう
な距離であるように、実行される方法。 - 【請求項１５】 請求項１３記載の方法であって、 前記キャリブレーションウエハを前記ブレードに固定す
る前記動作は、さらに、 前記ウエハの刻み目付きまたは直線状の部分が前記セン
サで感知されるのを回避するために、前記キャリブレー
ションウエハを前記ブレード上で方向付ける動作を備え
る方法。 - 【請求項１６】 請求項１３記載の方法であって、 前記キャリブレーションウエハの前記位置に関するデー
タを獲得する前記動作は、 前記ロボットに対し、前記キャリブレーションウエハの
前記位置に関するデータを獲得する準備をするよう命令
する動作と、 前記ロボットに対し、前記ポートを通って前記センサを
通過するように前記キャリブレーションウエハを移動さ
せるように命令することにより、前記キャリブレーショ
ンウエハが前記センサを通過して移動するのに伴って、
前記センサに、前記キャリブレーションウエハのエッジ
の前記位置を示す個々のデータ項目を生成させる、動作
とを備える方法。 - 【請求項１７】 請求項１４記載の方法であって、さら
に、 前記センサを用意する動作は、前記少なくとも２つのセ
ンサのそれぞれを、前記横軸上の前記ポートに沿って且
つ前記ブレードの中心に対して間隔をあけて配置するこ
とが有効であり、前記センサの１つが前記中心から第１
の距離にあり、前記センサのもう１つが前記中心から第
２の距離にあり、前記第１および第２の距離は同一でな
く、前記キャリブレーションウエハに応じて前記第１の
センサによって生成された前記データ項目を、前記キャ
リブレーションウエハに応じて前記第２のセンサによっ
て生成された前記データ項目から時間的に間隔をあける
ように選択される方法。 - 【請求項１８】 ウエハを運ぶブレードの中心に対する
前記ウエハの中心の位置を示すデータを用意する方法で
あって、 前記ブレードとともに経路に沿って移動させるために、
前記ウエハを前記ブレード上に搭載する動作と、 第１のセンサを、前記経路との交点に中心を有する横軸
に沿って前記中心の片側に用意する動作と、 第２のセンサを、前記横軸に沿って前記中心のもう片側
に用意する動作であって、前記第２のセンサと前記第１
のセンサは、選択距離だけ離れている、動作と、 前記第１のセンサが、前記ウエハによってトリガされて
時間的な第１の遷移信号を生成し、前記前記第２のセン
サが、前記ウエハによってトリガされて時間的な第２の
遷移信号を生成するように、前記ウエハを前記経路に沿
って移動させる動作とを備え、 前記第１および第２のセンサが前記ウエハによってトリ
ガされる瞬間を時間的に間隔をあけるように、前記選択
距離を選択することにより、前記時間的な第１の遷移信
号を、前記ウエハが前記第２のセンサをトリガするより
前に生成する方法。 - 【請求項１９】 請求項１８記載の方法であって、さら
に、 前記同じプロセッサを使用して、前記第１の遷移信号を
時間的に第１に処理し、前記第２の遷移信号を時間的に
第２に処理する動作を備える方法。 - 【請求項２０】 請求項１８記載の方法であって、 前記ブレードは、前記第１の遷移信号に対応するブレー
ド位置にあっても前記第２の遷移信号に対応するブレー
ド位置にあっても良く、さらに、 前記時間的な第１の遷移信号に対応する前記ブレード位
置を時間的に第１に格納し、前記時間的な第２の遷移信
号に対応する前記ブレード位置を次いで格納する動作を
備える方法。 - 【請求項２１】 請求項１８記載の方法であって、 前記センサを用意する動作は、前記センサのそれぞれに
対してビームトランスミッタおよびビームレシーバを用
意する動作を備え、前記各センサは、前記ウエハによる
前記それぞれのビームの遮断、またはこのようなビーム
遮断後における前記それぞれのビームの形成に応じて前
記遷移信号の１つを出力する方法。 - 【請求項２２】 請求項１８記載の方法であって、さら
に、 移動のための前記ブレードを、複数の経路のうち任意の
１経路に沿って搭載する動作であって、前記各経路は、
半導体製造装置のうち異なるモジュールのポートを通っ
て延びる、動作を備え、 横軸は、各ポートに沿って延びて、前記経路のうち対応
する１経路と前記中心において交わり、 前記第１および第２のセンサを用意する動作は、 前記第１のセンサの１つを前記各横軸上に用意すること
により、前記センサの１つ目を各ポートに用意し、この
ような各第１のセンサが前記中心の片側にあるようにす
る、動作と、 前記第２のセンサの１つを前記各横軸上に用意すること
により、前記センサの２つ目を各ポートに用意し、この
ような各第２のセンサが前記中心のもう片側にあるよう
にする、動作と、を備え、 ある特定のポートの各第２のセンサおよび第１のセンサ
が、前記選択距離だけ離れており、 前記それぞれの第１および第２のセンサが前記ウエハに
よってトリガされる瞬間を時間的に間隔をあけるよう
に、前記選択距離を選択することにより、前記第１の遷
移信号が、前記ウエハによる前記第２のセンサのトリガ
より前に生成されるようにする方法。 - 【請求項２３】 半導体製造モジュールの１つまたはそ
れ以上のポートを通って基板を搬送するためのロボット
の、ブレードの中心に対する前記基板の中心を示すデー
タを、動的に生成する方法であって、 前記各ポートの軸を定義する動作と、 前記ポートのうち所定の１ポートに対して複数のセンサ
を用意する動作であって、前記ブレードは、前記所定の
ポートの軸と交わる経路に沿って前記所定のポートを通
るように前記基板を移動させる、動作と、 前記複数のセンサのそれぞれを、前記センサの待ち特性
に従って前記所定のポートに対して且つ前記軸上に配置
することにより、前記ポートを通って移動する前記基板
が、前記複数のセンサの個々のセンサによって一定時間
おきに感知されるようにする動作であって、前記一定時
間おきの感知によって、前記センサのうち第２のセンサ
が前記基板を感知して第２の遷移信号を生成するより前
に、前記センサのうち第１のセンサが前記基板を感知し
て第１の遷移信号を生成することを可能とする、動作
と、 前記ロボットに、前記経路に沿って前記所定のポートを
通るように前記ブレードを移動させて、前記基板を運ば
せることにより、前記センサのうち前記第１のセンサ
が、前記基板を感知して第１のロボットブレード位置に
対応する第１の遷移信号を生成し、前記第１の遷移信号
の生成後に、前記センサのうち前記第２のセンサが、前
記基板を感知して第２のロボットブレード位置に対応す
る第２の遷移信号を生成するようにする、動作とを備え
る方法。 - 【請求項２４】 請求項２３記載の方法であって、さら
に、 前記第１の遷移信号と前記第２の遷移信号とを一定時間
をおいて受信するためのプロセッサを１つ用意する動作
を備える方法。 - 【請求項２５】 請求項２３記載の方法であって、 前記基板は、第１の直径または前記第１の直径より大き
い第２の直径のいずれかを有し、前記経路は一点におい
て前記軸と交差し、前記方法はさらに、 前記ポートのそれぞれに３つのセンサを用意することか
らなる、複数のセンサを用意する動作と、 前記第１の直径または前記第２の直径のいずれかを有し
た基板を感知するために、前記センサのうち第１のセン
サを、前記交点の一方の側にある共通の位置で前記軸上
に配置することからなる、前記所定のポートに対して前
記複数のセンサをそれぞれ配置する動作と、 前記第１の直径を有した基板のみを感知するために、前
記センサのうち第２のセンサを、前記交点のもう一方の
側にあり且つ前記交点から第１の距離だけ離れた第２の
位置で前記軸上に配置することからなる、前記所定のポ
ートに対して前記複数のセンサをそれぞれ配置する動作
と、 前記第２の直径を有した基板のみを感知するために、前
記センサのうち第３のセンサを、前記交点の別の側にあ
り且つ前記交点から第２の距離だけ離れた第３の位置で
前記軸上に配置することからなる、前記所定のポートに
対して前記複数のセンサをそれぞれ配置する動作と、を
備え、 前記共通の位置から前記第２の位置までの総距離と、前
記共通の位置から前記第３の位置までの総距離とを、前
記それぞれのセンサの前記待ち特性に従ってそれぞれ選
択することにより、前記第１の直径を有し且つ前記ポー
トを通って移動する前記基板は、前記第１および第２の
センサのみによって感知され、前記第２の直径を有し且
つ前記ポートを通って移動する前記基板は、前記第１お
よび第３のセンサのみによって感知されるようにし、前
記基板がそれぞれ前記第１の直径または前記第２の直径
を有している場合は、前記基板の感知を一定時間おきに
行うことによって、前記第２のセンサが前記対応する基
板を感知して前記第２の遷移信号を生成するより前に、
前記第１のセンサが前記対応する基板を感知して前記第
１の遷移信号を生成し、前記第１のセンサが前記対応す
る基板を感知して前記第１の遷移信号を生成するより前
に、前記第３のセンサが前記対応する基板を感知して前
記第３の遷移信号を生成することを可能とする、方法。 - 【請求項２６】 請求項２５記載の方法であって、さら
に、 前記それぞれの第１および第２の遷移信号または第１お
よび第３遷移信号とを生成した前記それぞれの第１およ
び第２のセンサまたは第１および第３のセンサを有する
前記ポートが、前記１つまたはそれ以上のポートのうち
いずれのポートであるかを識別する動作を備える方法。 - 【請求項２７】 請求項２３記載の方法であって、 前記所定の１ポートに対して複数のセンサを用意する前
記動作は、前記センサのそれぞれをビームエミッタおよ
びビームレシーバとして用意することからなり、前記エ
ミッタおよび前記レシーバを、前記経路のうち対応する
１経路の反対の側に間隔をあけて配置することにより、
前記ビームが、前記対応する経路に沿って前記ビームに
向かって移動する基板によって遮断されるか、または前
記対応する経路に沿って前記ビームから離れていく基板
によって形成されるようにし、 前記所定の１ポートに対して前記複数のセンサを配置す
る前記動作と、その結果として生じる一定時間おきの感
知とは、前記センサのうち前記第２のセンサのビームが
前記基板によって遮断されて前記第２の遷移信号を生成
するより前に、前記センサのうち前記第１のセンサのビ
ームが前記基板によって遮断されて前記第１の遷移信号
を生成することを可能とし、前記一定時間おきの感知は
さらに、前記センサのうち前記第２のセンサの前記ビー
ムから前記基板が離れるのに伴って、前記センサのうち
前記第２のセンサの前記ビームが形成されるのを可能と
することにより、前記センサのうち前記第１のセンサの
前記ビームから前記基板が離れるのに伴って、前記セン
サのうち前記第１のセンサの前記ビームが形成されて、
第４のロボットブレード位置に対応する第４の遷移信号
が生成されるより前に、前記第２のセンサが、第３のロ
ボットブレード位置に対応する第３の遷移信号を生成す
るようにする方法。 - 【請求項２８】 請求項２７記載の方法であって、さら
に、 前記第１、第２、第３、および第４の遷移信号に対応す
る前記それぞれのロボットブレード位置を、前記ロボッ
ト上に１つのグループとして格納する動作を備える方
法。 - 【請求項２９】 請求項２８記載の方法であって、 前記１つまたはそれ以上のポートを通る前記基板の搬送
は、前記第４の遷移信号の生成によって完了し、前記方
法はさらに、 前記基板の搬送の完了後に、前記ロボットの前記ブレー
ドの前記中心に対する前記基板の前記中心を示すものと
して、前記第１、第２、第３、および第４のそれぞれの
遷移信号に対応する前記ロボットブレード位置を伝える
動作と、を備える方法。
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