JP2001229842A - 陰極線管 - Google Patents
陰極線管Info
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- JP2001229842A JP2001229842A JP2000037810A JP2000037810A JP2001229842A JP 2001229842 A JP2001229842 A JP 2001229842A JP 2000037810 A JP2000037810 A JP 2000037810A JP 2000037810 A JP2000037810 A JP 2000037810A JP 2001229842 A JP2001229842 A JP 2001229842A
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- ray tube
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マスクとマスクを取付けるフレームおよび内
部磁気シールドからなる陰極線管において、従来内部磁
気シールドはフレームに取付けられており直接マスクに
は接触していなかった。そのため消磁によるマスクへの
磁束の流量がフレームを介しているため少なく、マスク
近傍における残存外部磁場が多かった。その結果、電子
ビームが受ける力は多く、歪曲によるミスランディング
が発生していた。 【解決手段】 少なくともマスク１とマスク１を支持す
るマスクフレーム２および内部磁気シールド３から構成
されている陰極線管であって、マスク１はマスクフレー
ム２に取付けられており、端部が折り曲げられ、内部磁
気シールド延長部４に溶接などにより接触している。
部磁気シールドからなる陰極線管において、従来内部磁
気シールドはフレームに取付けられており直接マスクに
は接触していなかった。そのため消磁によるマスクへの
磁束の流量がフレームを介しているため少なく、マスク
近傍における残存外部磁場が多かった。その結果、電子
ビームが受ける力は多く、歪曲によるミスランディング
が発生していた。 【解決手段】 少なくともマスク１とマスク１を支持す
るマスクフレーム２および内部磁気シールド３から構成
されている陰極線管であって、マスク１はマスクフレー
ム２に取付けられており、端部が折り曲げられ、内部磁
気シールド延長部４に溶接などにより接触している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、テレビジョンやパ
ソコンモニタ等に使用される陰極線管に関するものであ
る。
ソコンモニタ等に使用される陰極線管に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】図５は、従来のテレビジョンやパソコン
モニタ等の陰極線管で、電子銃１１から放出された電子
ビーム１２を偏向ヨーク１３で垂直および水平方向に偏
向し、画面全体に走査させて映像を再現する。このと
き、陰極線管に地磁気等の外部磁界が作用すると電子ビ
ーム１２は歪曲し、パネル１４上の蛍光体１５に対して
所定の位置に到達しないミスランディングを生じる。そ
の対策として、陰極線管内に地磁気等を遮蔽する内部磁
気シールド１６が設けられている。
モニタ等の陰極線管で、電子銃１１から放出された電子
ビーム１２を偏向ヨーク１３で垂直および水平方向に偏
向し、画面全体に走査させて映像を再現する。このと
き、陰極線管に地磁気等の外部磁界が作用すると電子ビ
ーム１２は歪曲し、パネル１４上の蛍光体１５に対して
所定の位置に到達しないミスランディングを生じる。そ
の対策として、陰極線管内に地磁気等を遮蔽する内部磁
気シールド１６が設けられている。
【０００３】図６は、従来の陰極線管におけるマスク１
７近傍の概略図で、内部磁気シールド１６は、マスクフ
レーム１８にピン止めもしくは溶接により取付けられて
いる。
７近傍の概略図で、内部磁気シールド１６は、マスクフ
レーム１８にピン止めもしくは溶接により取付けられて
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のような陰極線管
では、内部磁気シールドがマスクフレームに取付けられ
ているので、消磁コイルによるデガウス操作時、内部磁
気シールドからマスクへ流れる磁束の流量がマスクフレ
ームを介しているため少なく、マスクが十分に消磁され
ず、マスク近傍における残存磁界が多かった。そのた
め、電子ビームが歪曲され、ミスランディングが発生し
ていた。
では、内部磁気シールドがマスクフレームに取付けられ
ているので、消磁コイルによるデガウス操作時、内部磁
気シールドからマスクへ流れる磁束の流量がマスクフレ
ームを介しているため少なく、マスクが十分に消磁され
ず、マスク近傍における残存磁界が多かった。そのた
め、電子ビームが歪曲され、ミスランディングが発生し
ていた。
【０００５】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、デガウス操作後のマスク近傍の残存磁
界による電子ビームの歪曲によるミスランディングを少
なくする陰極線管を提供することを目的とする。
れたものであり、デガウス操作後のマスク近傍の残存磁
界による電子ビームの歪曲によるミスランディングを少
なくする陰極線管を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の陰極線管は、以下のような特徴を有する。
に、本発明の陰極線管は、以下のような特徴を有する。
【０００７】（１）少なくともマスクと前記マスクを支
持するマスクフレームおよび内部磁気シールドを有する
陰極線管であって、前記マスクと前記内部磁気シールド
を直接接触させることを特徴とする陰極線管とした。
持するマスクフレームおよび内部磁気シールドを有する
陰極線管であって、前記マスクと前記内部磁気シールド
を直接接触させることを特徴とする陰極線管とした。
【０００８】（２）少なくともマスクと前記マスクを支
持するマスクフレームおよび内部磁気シールドを有する
陰極線管であって、前記マスクと前記内部磁気シールド
を、磁性金属材料を介して接触させることを特徴とする
陰極線管とした。
持するマスクフレームおよび内部磁気シールドを有する
陰極線管であって、前記マスクと前記内部磁気シールド
を、磁性金属材料を介して接触させることを特徴とする
陰極線管とした。
【０００９】（３）少なくともマスクと前記マスクを取
付けるマスクフレームおよび内部磁気シールドを有する
陰極線管であって、前記内部磁気シールドに、前記マス
クフレームの側面部において前記マスク側方向に延びた
弾性構造を持つ内部磁気シールドバネ部を設け、前記マ
スクフレームに取り付け時に前記内部磁気シールドバネ
部が前記マスクと接触することを特徴とする陰極線管と
した。
付けるマスクフレームおよび内部磁気シールドを有する
陰極線管であって、前記内部磁気シールドに、前記マス
クフレームの側面部において前記マスク側方向に延びた
弾性構造を持つ内部磁気シールドバネ部を設け、前記マ
スクフレームに取り付け時に前記内部磁気シールドバネ
部が前記マスクと接触することを特徴とする陰極線管と
した。
【００１０】本発明によれば、デガウス操作後のマスク
近傍の残存磁界による電子ビームの歪曲によるミスラン
ディングを少なくする陰極線管を提供することができ
る。
近傍の残存磁界による電子ビームの歪曲によるミスラン
ディングを少なくする陰極線管を提供することができ
る。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１記載の発明は、
少なくともマスクと前記マスクを支持するマスクフレー
ムおよび内部磁気シールドを有する陰極線管であって、
前記マスクと前記内部磁気シールドを直接接触させるこ
とを特徴とする陰極線管としたもので、デガウス操作後
のマスク近傍の残存磁界による電子ビームの歪曲による
ミスランディングを少なくする陰極線管を提供すること
ができる。
少なくともマスクと前記マスクを支持するマスクフレー
ムおよび内部磁気シールドを有する陰極線管であって、
前記マスクと前記内部磁気シールドを直接接触させるこ
とを特徴とする陰極線管としたもので、デガウス操作後
のマスク近傍の残存磁界による電子ビームの歪曲による
ミスランディングを少なくする陰極線管を提供すること
ができる。
【００１２】本発明の請求項２記載の発明は、少なくと
もマスクと前記マスクを支持するマスクフレームおよび
内部磁気シールドを有する陰極線管であって、前記マス
クと前記内部磁気シールドを、磁性金属材料を介して接
触させることを特徴とする陰極線管としたもので、デガ
ウス操作後のマスク近傍の残存磁界による電子ビームの
歪曲によるミスランディングを少なくする陰極線管を提
供することができる。
もマスクと前記マスクを支持するマスクフレームおよび
内部磁気シールドを有する陰極線管であって、前記マス
クと前記内部磁気シールドを、磁性金属材料を介して接
触させることを特徴とする陰極線管としたもので、デガ
ウス操作後のマスク近傍の残存磁界による電子ビームの
歪曲によるミスランディングを少なくする陰極線管を提
供することができる。
【００１３】本発明の請求項４記載の発明は、少なくと
もマスクと前記マスクを取付けるマスクフレームおよび
内部磁気シールドを有する陰極線管であって、前記内部
磁気シールドに、前記マスクフレームの側面部において
前記マスク側方向に延びた弾性構造を持つ内部磁気シー
ルドバネ部を設け、前記マスクフレームに取り付け時に
前記内部磁気シールドバネ部が前記マスクと接触するこ
とを特徴とする陰極線管としたもので、デガウス操作後
のマスク近傍の残存磁界による電子ビームの歪曲による
ミスランディングを少なくし、かつ陰極線管の組み立て
作業工数を削減する陰極線管を提供することができる。
もマスクと前記マスクを取付けるマスクフレームおよび
内部磁気シールドを有する陰極線管であって、前記内部
磁気シールドに、前記マスクフレームの側面部において
前記マスク側方向に延びた弾性構造を持つ内部磁気シー
ルドバネ部を設け、前記マスクフレームに取り付け時に
前記内部磁気シールドバネ部が前記マスクと接触するこ
とを特徴とする陰極線管としたもので、デガウス操作後
のマスク近傍の残存磁界による電子ビームの歪曲による
ミスランディングを少なくし、かつ陰極線管の組み立て
作業工数を削減する陰極線管を提供することができる。
【００１４】以下、本発明の実施の形態における陰極線
管について、図１〜図４を用いて説明する。
管について、図１〜図４を用いて説明する。
【００１５】（実施の形態１）図１は、本発明の実施の
形態１における陰極線管のマスク近傍の概略図である。
この陰極線管は少なくともマスク１とマスク１を支持す
るマスクフレーム２および内部磁気シールド３から構成
されている。マスク１はマスクフレーム２に取付けられ
ており、管面上下におけるマスク１の端部が折り曲げら
れ内部磁気シールド延長部４に溶接などにより接触して
いる。
形態１における陰極線管のマスク近傍の概略図である。
この陰極線管は少なくともマスク１とマスク１を支持す
るマスクフレーム２および内部磁気シールド３から構成
されている。マスク１はマスクフレーム２に取付けられ
ており、管面上下におけるマスク１の端部が折り曲げら
れ内部磁気シールド延長部４に溶接などにより接触して
いる。
【００１６】図４に、従来のマスク構造（以下Ｍ４と記
す）および本実施の形態１におけるマスク構造（以下Ｍ
１と記す）をした２５インチ陰極線管の管軸磁界および
水平磁界に対する画面コーナー部のミスランディング量
を示す。
す）および本実施の形態１におけるマスク構造（以下Ｍ
１と記す）をした２５インチ陰極線管の管軸磁界および
水平磁界に対する画面コーナー部のミスランディング量
を示す。
【００１７】管軸磁界および水平磁界に対して、Ｍ４に
比べＭ１の方が、ミスランディング量が減少しているこ
とがわかる。これは、デガウス操作時、内部磁気シール
ド３からの磁束が、マスク１と内部磁気シールド３を直
接接触させることで従来に比べ多量にマスク１に流れ
る。その結果、マスク１は消磁され、デガウス操作後の
マスク１近傍の残存磁界が少なくなり、残存磁界による
電子ビームの歪曲によるミスランディングが減少した。
比べＭ１の方が、ミスランディング量が減少しているこ
とがわかる。これは、デガウス操作時、内部磁気シール
ド３からの磁束が、マスク１と内部磁気シールド３を直
接接触させることで従来に比べ多量にマスク１に流れ
る。その結果、マスク１は消磁され、デガウス操作後の
マスク１近傍の残存磁界が少なくなり、残存磁界による
電子ビームの歪曲によるミスランディングが減少した。
【００１８】なお、図１のマスク構造はテンションマス
クやアパーチャーグリルのマスク構造であるが、プレス
マスクのようにマスクをマスクフレームの側面で取り付
ける構造においても、マスクと内部磁気シールドを直接
接触させれば同じ効果が得られることは言うまでもな
い。
クやアパーチャーグリルのマスク構造であるが、プレス
マスクのようにマスクをマスクフレームの側面で取り付
ける構造においても、マスクと内部磁気シールドを直接
接触させれば同じ効果が得られることは言うまでもな
い。
【００１９】また、種類の異なる陰極線管で、内部磁気
シールドやマスクの大きさが変わっても、同様の効果が
得られることは言うまでもない。
シールドやマスクの大きさが変わっても、同様の効果が
得られることは言うまでもない。
【００２０】（実施の形態２）図２は、本発明の実施の
形態２における陰極線管のマスク近傍の概略図である。
この陰極線管は少なくともマスク５とマスク５を支持す
るマスクフレーム２および内部磁気シールド６から構成
されている。マスク５は、マスクフレーム２に取付けら
れており、マスク５の端部と内部磁気シールド６のマス
ク５側の端部が、略コの字形をしたマスクフレーム２材
料より高透磁率（μmax≒３０００）の磁性金属材料７
により接触している。磁性金属材料７は、マスク５と内
部磁気シールド６に溶接により取付けられている。
形態２における陰極線管のマスク近傍の概略図である。
この陰極線管は少なくともマスク５とマスク５を支持す
るマスクフレーム２および内部磁気シールド６から構成
されている。マスク５は、マスクフレーム２に取付けら
れており、マスク５の端部と内部磁気シールド６のマス
ク５側の端部が、略コの字形をしたマスクフレーム２材
料より高透磁率（μmax≒３０００）の磁性金属材料７
により接触している。磁性金属材料７は、マスク５と内
部磁気シールド６に溶接により取付けられている。
【００２１】図４に、Ｍ４および本実施の形態２におけ
るマスク構造（以下Ｍ２と記す）をした２５インチ陰極
線管の管軸磁界および水平磁界に対する画面コーナー部
のミスランディング量を示す。
るマスク構造（以下Ｍ２と記す）をした２５インチ陰極
線管の管軸磁界および水平磁界に対する画面コーナー部
のミスランディング量を示す。
【００２２】管軸磁界および水平磁界に対して、Ｍ４に
比べＭ２の方が、ミスランディング量が減少しているこ
とがわかる。これは、デガウス操作時、内部磁気シール
ド６からの磁束が、マスク５と内部磁気シールド６をマ
スクフレーム２材料より高透磁率の磁性金属材料７を介
して接触させることで、従来に比べ多量に磁性金属材料
７を通じてマスク５に流れる。その結果、マスク５は消
磁され、デガウス操作後のマスク５近傍の残存磁界が少
なくなり、残存磁界による電子ビームの歪曲によるミス
ランディングが減少した。
比べＭ２の方が、ミスランディング量が減少しているこ
とがわかる。これは、デガウス操作時、内部磁気シール
ド６からの磁束が、マスク５と内部磁気シールド６をマ
スクフレーム２材料より高透磁率の磁性金属材料７を介
して接触させることで、従来に比べ多量に磁性金属材料
７を通じてマスク５に流れる。その結果、マスク５は消
磁され、デガウス操作後のマスク５近傍の残存磁界が少
なくなり、残存磁界による電子ビームの歪曲によるミス
ランディングが減少した。
【００２３】なお、図２のマスク構造はテンションマス
クやアパーチャーグリルのマスク構造であるが、プレス
マスクのようにマスクをマスクフレームの側面で取り付
ける構造においても、マスクと内部磁気シールドをマス
クフレーム材料より高透磁率の磁性金属材料を介して接
触させれば同じ効果が得られることは言うまでもない。
クやアパーチャーグリルのマスク構造であるが、プレス
マスクのようにマスクをマスクフレームの側面で取り付
ける構造においても、マスクと内部磁気シールドをマス
クフレーム材料より高透磁率の磁性金属材料を介して接
触させれば同じ効果が得られることは言うまでもない。
【００２４】また、種類の異なる陰極線管で、内部磁気
シールドやマスクの大きさが変わっても、同様の効果が
得られることは言うまでもない。
シールドやマスクの大きさが変わっても、同様の効果が
得られることは言うまでもない。
【００２５】（実施の形態３）図３は、本発明の実施の
形態３における陰極線管のマスク５近傍の概略図であ
る。この陰極線管は、少なくともマスク５とマスク５を
取付けるマスクフレーム２および内部磁気シールド８を
有する陰極線管であって、内部磁気シールド８が、マス
クフレーム２の側面部においてマスク５側方向に延びた
弾性構造を持つ内部磁気シールドバネ部９を有してい
る。この内部磁気シールドバネ部９は、マスク５面と沿
う方向にバネ性を有し、内部磁気シールド８をマスクフ
レーム２に取付け時にバネ性により内部磁気シールドバ
ネ部９の先端がマスク５と接触する構造になっている。
形態３における陰極線管のマスク５近傍の概略図であ
る。この陰極線管は、少なくともマスク５とマスク５を
取付けるマスクフレーム２および内部磁気シールド８を
有する陰極線管であって、内部磁気シールド８が、マス
クフレーム２の側面部においてマスク５側方向に延びた
弾性構造を持つ内部磁気シールドバネ部９を有してい
る。この内部磁気シールドバネ部９は、マスク５面と沿
う方向にバネ性を有し、内部磁気シールド８をマスクフ
レーム２に取付け時にバネ性により内部磁気シールドバ
ネ部９の先端がマスク５と接触する構造になっている。
【００２６】図４に、Ｍ４および本実施の形態３におけ
るマスク構造（以下Ｍ３と記す）をした２５インチ陰極
線管の管軸磁界および水平磁界に対する画面コーナー部
のミスランディング量を示す。
るマスク構造（以下Ｍ３と記す）をした２５インチ陰極
線管の管軸磁界および水平磁界に対する画面コーナー部
のミスランディング量を示す。
【００２７】管軸磁界および水平磁界に対して、Ｍ４に
比べＭ３の方が、ミスランディング量が減少しているこ
とがわかる。これは、内部磁気シールド８のマスク５側
の一部にバネ性を有し、マスク５と接触させることによ
り、デガウス操作時に磁束が内部磁気シールド８から直
接マスク５に多量に流れる。その結果、デガウス操作後
のマスク５近傍の残存磁界が少なくなり、残存磁界によ
る電子ビームの歪曲によるミスランディングが減少し
た。また、内部磁気シールド８とマスク５の接触方法を
溶接ではなく、内部磁気シールド８をバネ性によりマス
ク５と接触する構造になっているため、組み立て工数が
削減した。
比べＭ３の方が、ミスランディング量が減少しているこ
とがわかる。これは、内部磁気シールド８のマスク５側
の一部にバネ性を有し、マスク５と接触させることによ
り、デガウス操作時に磁束が内部磁気シールド８から直
接マスク５に多量に流れる。その結果、デガウス操作後
のマスク５近傍の残存磁界が少なくなり、残存磁界によ
る電子ビームの歪曲によるミスランディングが減少し
た。また、内部磁気シールド８とマスク５の接触方法を
溶接ではなく、内部磁気シールド８をバネ性によりマス
ク５と接触する構造になっているため、組み立て工数が
削減した。
【００２８】なお、図３のマスク構造はテンションマス
クやアパーチャーグリルのマスク構造であるが、プレス
マスクのようにマスクをマスクフレームの側面で取り付
ける構造においても、マスクと内部磁気シールドを接触
させれば同じ効果が得られることは言うまでもない。
クやアパーチャーグリルのマスク構造であるが、プレス
マスクのようにマスクをマスクフレームの側面で取り付
ける構造においても、マスクと内部磁気シールドを接触
させれば同じ効果が得られることは言うまでもない。
【００２９】また、種類の異なる陰極線管で、内部磁気
シールドやマスクの大きさが変わっても、同様の効果が
得られることは言うまでもない。
シールドやマスクの大きさが変わっても、同様の効果が
得られることは言うまでもない。
【００３０】
【発明の効果】以上のように、本発明の第１の形態によ
れば、マスクと内部磁気シールドを直接接触させること
により、デガウス操作時に磁束が内部磁気シールドから
直接マスクに多量に流れる。その結果、デガウス操作後
のマスク近傍の残存磁界が少なくなり、残存磁界による
電子ビームの歪曲によるミスランディングを少なくする
陰極線管を提供することができる。
れば、マスクと内部磁気シールドを直接接触させること
により、デガウス操作時に磁束が内部磁気シールドから
直接マスクに多量に流れる。その結果、デガウス操作後
のマスク近傍の残存磁界が少なくなり、残存磁界による
電子ビームの歪曲によるミスランディングを少なくする
陰極線管を提供することができる。
【００３１】また、本発明の第２の形態によれば、マス
クと内部磁気シールドをマスクフレーム材料より高透磁
率の磁性金属材料を介して接触させることにより、デガ
ウス操作時に磁束が内部磁気シールドから磁性金属材料
を通じてマスクに多量に流れる。その結果、デガウス操
作後のマスク近傍の残存磁界が少なくなり、残存磁界に
よる電子ビームの歪曲によるミスランディングを少なく
する陰極線管を提供することができる。
クと内部磁気シールドをマスクフレーム材料より高透磁
率の磁性金属材料を介して接触させることにより、デガ
ウス操作時に磁束が内部磁気シールドから磁性金属材料
を通じてマスクに多量に流れる。その結果、デガウス操
作後のマスク近傍の残存磁界が少なくなり、残存磁界に
よる電子ビームの歪曲によるミスランディングを少なく
する陰極線管を提供することができる。
【００３２】また、本発明の第３の形態によれば、内部
磁気シールドが、マスクフレームの側面部においてマス
ク側方向に延びた弾性構造を持つ内部磁気シールドバネ
部を設け、マスクフレームに取り付け時に内部磁気シー
ルドバネ部がマスクと接触することにより、デガウス操
作時に磁束が内部磁気シールドから直接マスクに多量に
流れる。その結果、デガウス操作後のマスク近傍の残存
磁界が少なくなり、残存磁界による電子ビームの歪曲に
よるミスランディングを少なくし、かつ陰極線管の組み
立て作業工数を削減する陰極線管を提供することができ
る。
磁気シールドが、マスクフレームの側面部においてマス
ク側方向に延びた弾性構造を持つ内部磁気シールドバネ
部を設け、マスクフレームに取り付け時に内部磁気シー
ルドバネ部がマスクと接触することにより、デガウス操
作時に磁束が内部磁気シールドから直接マスクに多量に
流れる。その結果、デガウス操作後のマスク近傍の残存
磁界が少なくなり、残存磁界による電子ビームの歪曲に
よるミスランディングを少なくし、かつ陰極線管の組み
立て作業工数を削減する陰極線管を提供することができ
る。
【図１】本発明の実施の形態１における陰極線管のマス
ク近傍の概略図
ク近傍の概略図
【図２】本発明の実施の形態２における陰極線管のマス
ク近傍の概略図
ク近傍の概略図
【図３】本発明の実施の形態２における陰極線管のマス
ク近傍の概略図
ク近傍の概略図
【図４】本発明の実施の形態１〜３におけるマスクと内
部磁気シールドの接続方法の違いによるミスランディン
グ量を示す図
部磁気シールドの接続方法の違いによるミスランディン
グ量を示す図
【図５】従来のテレビジョンやパソコンモニタ等の陰極
線管の概略図
線管の概略図
【図６】従来の陰極線管におけるマスク近傍の概略図
１，５ マスク ２ マスクフレーム ３，６，８ 内部磁気シールド ４ 内部磁気シールド延長部 ７ 磁性金属材料 ９ 内部磁気シールドバネ部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村井 隆一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 川崎 正樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 中寺 茂夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 星 敏春 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5C031 CC01 CC05 EE01
Claims (4)
- 【請求項１】 少なくともマスクと前記マスクを支持す
るマスクフレームおよび内部磁気シールドを有する陰極
線管であって、前記マスクと前記内部磁気シールドを直
接接触させることを特徴とする陰極線管。 - 【請求項２】 少なくともマスクと前記マスクを支持す
るマスクフレームおよび内部磁気シールドを有する陰極
線管であって、前記マスクと前記内部磁気シールドを、
磁性金属材料を介して接触させることを特徴とする陰極
線管。 - 【請求項３】 磁性金属材料の透磁率がマスクフレーム
材料の透磁率より高いことを特徴とする請求項２記載の
陰極線管。 - 【請求項４】 少なくともマスクと前記マスクを取付け
るマスクフレームおよび内部磁気シールドを有する陰極
線管であって、前記内部磁気シールドに、前記マスクフ
レームの側面部において前記マスク側方向に延びた弾性
構造を持つ内部磁気シールドバネ部を設け、前記マスク
フレームに取り付け時に前記内部磁気シールドバネ部が
前記マスクと接触することを特徴とする陰極線管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000037810A JP2001229842A (ja) | 2000-02-16 | 2000-02-16 | 陰極線管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000037810A JP2001229842A (ja) | 2000-02-16 | 2000-02-16 | 陰極線管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001229842A true JP2001229842A (ja) | 2001-08-24 |
Family
ID=18561643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000037810A Pending JP2001229842A (ja) | 2000-02-16 | 2000-02-16 | 陰極線管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001229842A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1469502A1 (de) * | 2003-04-14 | 2004-10-20 | MT Picture Display Germany GmbH | Farbbildröhre mit verbesserter Abschirmung |
| WO2005119726A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-12-15 | Thomson Licensing | Unified magnetic shielding of tensioned mask/frame assembly and internal magnetic shield |
-
2000
- 2000-02-16 JP JP2000037810A patent/JP2001229842A/ja active Pending
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|---|---|---|---|---|
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| EP1754239A1 (en) * | 2004-05-27 | 2007-02-21 | THOMSON Licensing | Unified magnetic shielding of tensioned mask/frame assembly and internal magnetic shield |
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