JP2001223390A - 半導体発光装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体発光装置およびその製造方法

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治 北川
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 逆方向電圧や静電気等による発光ダイオード
の破壊を防ぐための保護用ダイオードを備えた半導体発
光装置において、小型化を図り、光の取り出し効率を向
上させる。 【解決手段】 保護用ダイオード2上に接着剤4等によ
り発光ダイオード1を固定して、両者を同一フレーム8
上に搭載する。発光ダイオード1は発光面側を上にして
保護用ダイオード2上に固定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、発光ダイオード素
子を用いた半導体発光装置およびその製造方法に関し、
さらに詳しくは、交流電圧駆動による逆方向電圧や静電
気等によるサージ電圧等によって発光ダイオード素子が
破壊されないように、保護用素子を設けた半導体発光装
置およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体発光装置としては、p型半
導体層とn型半導体層とを直接接合したpn接合を形成
するか、または両者の間に活性層を挟んでダブルヘテロ
接合を形成したものが知られている。この半導体発光装
置は、p型半導体層とn型半導体層との間に順方向の電
圧を印加することによりpn接合部または活性層が発光
する。
【0003】このような半導体発光装置は、ダイオード
構造になっているため、p型半導体層とn型半導体層と
の間に逆方向の電圧が印加されても電流が流れないとい
う整流作用を有している。この整流作用を利用して、上
記p型半導体層とn型半導体層との間に直流電圧ではな
く、交流電圧を印加する駆動方法も知られている。この
場合、交流電圧のうち、順方向の電圧が印加されたとき
にのみ電流が流れて発光が生じる。
【0004】さらに、交流電圧駆動による逆方向電圧や
静電気等によるサージ電圧によって上記発光ダイオード
素子が破壊されないように、発光ダイオード素子の極性
とは逆方向の極性でツェナーダイオード素子やSiダイ
オード素子等の保護用ダイオード素子を組み込んだ半導
体発光装置も知られている。特に、GaN系化合物半導
体を用いた発光ダイオード素子は、サージ電圧に対して
弱いため、このように保護用ダイオード素子を組み込ん
だ半導体発光装置の構成とするのが好ましい。
【0005】このような半導体発光装置としては、例え
ば、特開平11−54804号公報に、同一フレーム
(電極端子)上に発光ダイオード素子と保護用ダイオー
ド素子とを搭載せずに、図8に示すように、第1のフレ
ーム8上に発光ダイオード素子1を搭載し、第2のフレ
ーム7上に保護用ダイオード素子2を搭載したものが開
示されている。
【0006】さらに、特開平11−40848号公報に
は、同一フレーム上に発光ダイオード素子と保護用ダイ
オード素子とを搭載したものが開示されている。この半
導体発光装置は、図9に示すように、第1のフレーム8
上に搭載した保護用ダイオード素子2上に、Auからな
るバンプ電極10を介して、発光ダイオード素子1を発
光面側を下にして搭載している。
【0007】なお、上記図8および図9において、3は
ワイヤー、5はエポキシ樹脂等からなる封止樹脂、6は
反射ケース、9は絶縁性基板を示す。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た特開平11−54804号公報の半導体発光装置は、
同一フレーム上に発光ダイオード素子と保護用ダイオー
ド素子とを搭載せずに、第1のフレーム上に発光ダイオ
ード素子1を搭載し、第2のフレーム7上に保護用ダイ
オード素子2を搭載しているため、第1のフレーム8お
よび第2のフレーム7として大きな電極パターンが必要
になる。よって、従来から用いられている1チップ(発
光ダイオード素子)用のフレームを用いることができ
ず、専用のフレームを作製する必要があった。
【0009】これに対して、上述した特開平11−40
848号公報の半導体発光装置は、保護用ダイオード素
子2上に発光ダイオード素子1を搭載して、同一フレー
ム8上に両者を搭載しているため、従来から用いられて
いる1チップ用のフレームを用いることができる。しか
し、この半導体発光装置は、保護用ダイオード素子2上
に発光ダイオード素子1を発光面側を下にして搭載して
いるため、光の取り出し効率が悪くなるという問題があ
った。
【0010】本発明は、このような従来技術の課題を解
決するためになされたものであり、交流電圧駆動による
逆方向電圧や静電気等によるサージ電圧によって発光ダ
イオード素子が破壊されるのを防ぐために、保護用素子
を組み込んだ半導体発光装置において、同一フレーム上
に発光ダイオード素子と保護用素子とを搭載することが
でき、さらに、光の取り出し効率を向上させることがで
きる半導体発光装置およびその製造方法を提供すること
を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体発光装置
は、少なくとも第1導電型半導体層と第2導電型半導体
層を含む半導体積層構造を備えた発光ダイオード素子
と、該発光ダイオード素子が逆方向電圧またはサージ電
圧により破壊されるのを防ぐための保護用素子とを備
え、該保護用素子上に、該発光ダイオード素子が発光面
側とは反対側の面を該保護用素子側に配して固定されて
おり、そのことにより上記目的が達成される。
【0012】前記保護用素子が第1導電型半導体領域と
第2導電型半導体領域を有するダイオード構造であり、
前記発光ダイオード素子と逆極性で並列に接続されてい
てもよい。
【0013】前記発光ダイオード素子がGaN系化合物
半導体からなっていてもよい。
【0014】本発明の半導体発光装置の製造方法は、本
発明の半導体発光装置を製造する方法であって、前記保
護用素子上に、前記発光ダイオード素子を接着剤により
固定し、そのことにより上記目的が達成される。
【0015】前記接着剤としてポリイミド樹脂またはエ
ポキシ樹脂を用いて、前記保護用素子上に前記発光ダイ
オード素子を固定することができる。
【0016】本発明の半導体発光装置の製造方法は、本
発明の半導体発光装置を製造する方法であって、前記保
護用素子上に、前記発光ダイオード素子をバンプ電極に
より固定し、そのことにより上記目的が達成される。
【0017】本発明の半導体発光装置の製造方法は、本
発明の半導体発光装置を製造する方法であって、前記保
護用素子上に、前記発光ダイオード素子を導電性ペース
トにより固定し、そのことにより上記目的が達成され
る。
【0018】以下に、本発明の作用について説明する。
【0019】本発明にあっては、保護用素子によって、
交流電圧駆動による逆方向電圧や静電気等によるサージ
電圧によって発光ダイオード素子が破壊されるのを防ぐ
ことができる。
【0020】例えば、発光ダイオード素子と逆方向の極
性で並列に接続された保護用ダイオード素子を設けるこ
とにより、交流電圧駆動による逆方向電圧が流れた場合
には保護用ダイオード素子に電流が流れる。よって、逆
方向電圧により発光ダイオード素子が破壊されることは
ない。保護用ダイオード素子としてツェナーダイオード
素子を用いた場合、ツェナーダイオード素子に逆電圧パ
ルスが印加されると、印加電流パルスは大きくカットさ
れる。よって、発光ダイオード素子には弱い電流パルス
しか印加されず、保護される。
【0021】さらに、保護用素子上に発光ダイオード素
子を固定するため、従来から用いられている1チップ用
のフレームを用いて保護用素子と発光ダイオード素子と
を搭載することができる。
【0022】発光ダイオード素子の発光面側とは反対側
の面を、保護用素子側に配して固定しているので、発光
ダイオード素子の側面からの光が保護用素子に吸収され
にくくなり、光の取り出し効率を高くすることが可能に
なる。さらに、小さな電極エリアで、発光ダイオード素
子を製品中心部に配置することができるので、光の取り
出し効率を高くすることが可能になる。
【0023】特に、サージに対して弱いGaN系化合物
半導体からなる発光ダイオード素子では、このような保
護用素子を設けた構造が有効である。
【0024】上記発光ダイオード素子は、保護用素子上
にポリイミド樹脂またはエポキシ樹脂等の接着剤によ
り、発光面側とは反対側を保護用ダイオード素子側に配
して固定することができる。この場合、LEDチップ封
止樹脂との密着性はやや劣るものの、接着時間の短縮化
によって作業効率が向上する。
【0025】または、Auバンプ電極やAgペースト等
により、発光ダイオード素子を、保護用素子上にポリイ
ミド樹脂またはエポキシ樹脂等の接着剤により、発光面
側とは反対側を保護用ダイオード素子側に配して固定す
ることもできる。Agペーストでは、接着強度を重視す
るのであれば、ダイボンド面積としてチップサイズより
大きな面積が必要であるが、Auバンプ電極では電極サ
イズの接着面積があればよい。
【0026】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
【0027】(実施形態1)図1は本発明の一実施形態
である半導体発光装置の構成を模式的に示す断面図であ
り、図2(a)はその部分拡大図であり、図2(b)は
発光ダイオード素子および保護用ダイオード素子の接続
状態を示す等価回路図である。
【0028】この半導体発光装置は、表面実装タイプで
あり、図1に示すように、絶縁性基板10の両端部に第
1のフレーム(電極端子)8および第2のフレーム7が
設けられ、第1のフレーム8は絶縁性基板10の中央部
付近まで延びている。この第1のフレーム8の先端部側
に保護用ダイオード素子2が固定され、その上に発光ダ
イオード素子1が接着剤層4により固定されている。そ
の周囲が封止樹脂5により覆われ、その外周に反射ケー
ス6が設けられている。
【0029】保護用ダイオード素子2は、図2(a)に
示すように、Siからなるn型基板11上(その表面)
にp型領域12が設けられ、n型基板11側を第1のフ
レーム8側に配して固定されている。そして、保護用ダ
イオード素子2のp側電極18がワイヤ3により第2の
フレーム7に接続されている。
【0030】発光ダイオード素子1は、図2(a)に示
すように、i型基板13上にn型半導体層14およびp
型半導体層15がこの順に積層され、p型半導体層15
側から発光する。この発光ダイオード素子1は、基板1
3側を保護用ダイオード素子2側に配して接着剤層4に
より固定されている。そして、発光ダイオード素子1の
p側電極16がワイヤ3により第1のフレーム8に接続
され、n側電極17がワイヤ3により第2のフレーム7
に接続されている。
【0031】これにより、図2(b)に示すように、保
護用ダイオード素子2は、発光ダイオード素子1と逆極
性で並列に接続されている。
【0032】この半導体発光装置は、例えば以下のよう
にして作製することができる。
【0033】まず、図3(a)に示すように、保護用ダ
イオード素子2をAgペーストまたは金属電極(バンプ
電極を熔融したもの)20により第1のフレーム8に固
定する。
【0034】次に、図3(b)に示すように、発光ダイ
オード素子1をエポキシ樹脂またはポリイミド樹脂等の
接着剤層4により、発光面側を上にして保護用ダイオー
ド素子2上に固定する。
【0035】次に、図3(c)に示すように、23μφ
〜30μφのAuワイヤー3によって、発光ダイオード
素子1のn側電極を第2のフレーム7の電極と接続し、
図3(d)に示すように、23μφ〜30μφのAuワ
イヤー3によって、保護用ダイオード素子2のp側電極
を第2のフレーム7の電極と接続する。そして、図3
(e)に示すように、23μφ〜30μφのAuワイヤ
ー3によって、発光ダイオード素子1のp側電極を第1
のフレーム8の電極と接続する。
【0036】その後、図3(f)に示すように、ワイヤ
ー3、発光ダイオード素子1および保護用ダイオード素
子2を保護するため、Tg100℃〜150℃の透明エ
ポキシ樹脂を用いて100℃〜150℃にて1時間〜1
6時間硬化させることにより、発光部分を樹脂5で封止
する。
【0037】このようにして得られる半導体発光装置
は、保護用ダイオード素子2によって、交流電圧駆動に
よる逆方向電圧や静電気等によるサージ電圧によって発
光ダイオード素子1が破壊されるのを防ぐことができ
る。
【0038】また、保護用ダイオード素子2上に発光ダ
イオード素子1を固定しているため、従来から用いられ
ている1チップ用のフレームを用いて保護用ダイオード
素子2と発光ダイオード素子1とを搭載することができ
る。
【0039】さらに、発光ダイオード素子1の発光面側
とは反対側の面を、保護用ダイオード素子2側に配して
固定しているので、光の取り出し効率を高くすることが
できる。さらに、小さな電極エリアで、発光ダイオード
素子1を製品中心部に配置することができるので、光の
取り出し効率を高くすることができる。
【0040】発光ダイオード素子1を保護用ダイオード
素子2上にポリイミド樹脂またはエポキシ樹脂等の接着
剤により固定しているので、接着時間の短縮化によって
作業効率を向上することができる。
【0041】(実施形態2)図4は本発明の他の実施形
態である半導体発光装置の構成を模式的に示す断面図で
あり、図5(a)はその部分拡大図であり、図5(b)
は発光ダイオード素子および保護用ダイオード素子の接
続状態を示す等価回路図である。
【0042】この半導体発光装置は、実施形態1と同様
に面実装タイプである。
【0043】保護用ダイオード素子2は、図4および図
5(a)に示すように、Siからなるn型基板11上に
p型領域12が設けられ、n型基板11側を第1のフレ
ーム8側に配して固定されている。そして、保護用ダイ
オード素子2のp側電極18がワイヤ3により第2のフ
レーム7に接続されている。
【0044】発光ダイオード素子1は、図4および図5
(a)に示すように、n型半導体層14およびp型半導
体層15からなり、n型半導体層14側にAuからなる
バンプ電極10が設けられている。この発光ダイオード
素子1は、発光面とは反対側であるn型半導体層14側
を保護用ダイオード素子2側に配してバンプ電極10に
より固定されている。そして、発光ダイオード素子1の
p側電極16がワイヤ3により第1のフレーム8に接続
されている。
【0045】これにより、図5(b)に示すように、保
護用ダイオード素子2は、発光ダイオード素子1と逆極
性で並列に接続されている。
【0046】本実施形態では、発光ダイオード素子1を
保護用ダイオード素子2上にバンプ電極10により固定
しているので、発光ダイオード素子の素子面積よりも小
さいエリアに固定することができ、保護用素子の素子面
積が十分に大きくなくてもある程度の接着強度が得られ
る。但し、加熱や加圧のためにチップ破壊を起こす危険
性もあるので、条件設定が重要である。
【0047】(実施形態3)図6は本発明の他の実施形
態である半導体発光装置の構成を模式的に示す断面図で
あり、図7(a)はその部分拡大図であり、図7(b)
は発光ダイオード素子および保護用ダイオード素子の接
続状態を示す等価回路図である。
【0048】この半導体発光装置は砲丸型であり、保護
用ダイオード素子2は、図6および図7(a)に示すよ
うに、Siからなるn型基板11上にp型領域12が設
けられ、n型基板11側を第1のフレーム8側に配して
固定されている。そして、保護用ダイオード素子2のp
側電極18がワイヤ3により第2のフレーム7に接続さ
れている。
【0049】発光ダイオード素子1は、図6および図7
(a)に示すように、i型基板13上にn型半導体層1
4およびp型半導体層15がこの順に積層され、p型半
導体層15側から発光する。この発光ダイオード素子1
は、基板13側を保護用ダイオード素子2側に配して接
着剤層4により固定されている。そして、発光ダイオー
ド素子1のp側電極16がワイヤ3により第1のフレー
ム8に接続され、n側電極17がワイヤ3により第2の
フレーム7に接続されている。
【0050】これにより、図7(b)に示すように、保
護用ダイオード素子2は、発光ダイオード素子1と逆極
性で並列に接続されている。
【0051】この半導体発光装置においても、保護用ダ
イオード素子2によって、交流電圧駆動による逆方向電
圧や静電気等によるサージ電圧によって発光ダイオード
素子1が破壊されるのを防ぐことができる。
【0052】なお、上記実施形態1〜実施形態3では、
接着剤やバンプ電極により発光ダイオード素子を保護用
ダイオード素子上に固定したが、Agペースト等の導電
性ペーストにより固定してもよい。この場合には、接続
が容易であるという利点がある。但し、ダイボンドエリ
ア(保護用チップの大きさ)が小さいと十分なダイボン
ド強度が得られないおそれもあるが、それほど強いダイ
ボンド強度は不要であると考えられる。なお、GaN系
材料を用いた青色発光ダイオード素子ではUV波長によ
ってAgペーストが変質するおそれもある。
【0053】なお、保護用素子は、ツェナーダイオード
や通常のダイオード、トランジスタをダイオード接続し
たものやMOSFETのゲートとソースまたはゲートと
ドレインを接続したもの、またはこれらを組み合わせた
複合素子またはIC等、発光ダイオードの破壊を防ぐこ
とができる素子であれば、いずれも用いることができ
る。
【0054】発光ダイオード素子は、p型半導体層とn
型半導体層とを直接接合したpn接合を形成したものに
限られず、両者の間に活性層を挟んでダブルヘテロ接合
を形成したものであってもよい。また、GaN系化合物
半導体層に限られず、他の材料系を用いたものであって
もよい。
【0055】さらに、発光ダイオード素子および保護用
ダイオード素子を構成する各部分の導電型は、p型とn
型とを反対にしたものであってもよい。
【0056】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
保護用素子によって、交流電圧駆動による逆方向電圧や
静電気等によるサージ電圧によって発光ダイオード素子
が破壊されるのを防ぐことができる。よって、信頼性が
大幅に向上した半導体発光装置が得られる。
【0057】さらに、保護用素子上に発光ダイオード素
子を固定するため、従来から用いられている1チップ用
のフレームを用いて保護用素子と発光ダイオード素子と
を搭載することができる。よって、半導体発光装置の小
型化を図ることができる。
【0058】発光ダイオード素子の発光面側とは反対側
の面を、保護用素子側に配して固定しているので、光の
取り出し効率を高くすることができる。
【0059】さらに、小さな電極エリアで、発光ダイオ
ード素子を製品中心部に配置することができるので、半
導体発光装置を小型化すると共に光の取り出し効率を高
くすることが可能になる。
【0060】特に、サージに対して弱いGaN系化合物
半導体からなる発光ダイオード素子を用いた半導体発光
装置では、非常に有効である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態1の半導体発光装置の構成を模式的に
示す断面図である。
【図2】(a)は図1の部分拡大図であり、(b)は実
施形態1の半導体発光装置における発光ダイオード素子
および保護用ダイオード素子の接続状態を示す等価回路
図である。
【図3】(a)〜(f)は実施形態1の半導体発光装置
の製造工程を示す断面図である。
【図4】実施形態2の半導体発光装置の構成を模式的に
示す断面図である。
【図5】(a)は図4の部分拡大図であり、(b)は実
施形態2の半導体発光装置における発光ダイオード素子
および保護用ダイオード素子の接続状態を示す等価回路
図である。
【図6】実施形態3の半導体発光装置の構成を模式的に
示す断面図である。
【図7】(a)は図6の部分拡大図であり、(b)は実
施形態3の半導体発光装置における発光ダイオード素子
および保護用ダイオード素子の接続状態を示す等価回路
図である。
【図8】従来の半導体発光装置の構成を模式的に示す断
面図である。
【図9】他の従来の半導体発光装置の構成を模式的に示
す断面図である。
【符号の説明】
1 発光ダイオード素子 2 保護用ダイオード素子 3 ワイヤー 4 接着剤層 5 封止樹脂 6 反射ケース 7 第2のフレーム 8 第1のフレーム 9 絶縁性基板 10 バンプ電極 11 n型基板 12 p型領域 13 i型基板 14 n型半導体層 15 p型半導体層 16、18 p側電極 17 n側電極 20 Agペーストまたは金属電極

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも第1導電型半導体層と第2導
    電型半導体層を含む半導体積層構造を備えた発光ダイオ
    ード素子と、 該発光ダイオード素子が逆方向電圧またはサージ電圧に
    より破壊されるのを防ぐための保護用素子とを備え、 該保護用素子上に、該発光ダイオード素子が発光面側と
    は反対側の面を該保護用素子側に配して固定されている
    半導体発光装置。
  2. 【請求項2】 前記保護用素子が第1導電型半導体領域
    と第2導電型半導体領域を有するダイオード構造であ
    り、前記発光ダイオード素子と逆極性で並列に接続され
    ている請求項1に記載の半導体発光装置。
  3. 【請求項3】 前記発光ダイオード素子がGaN系化合
    物半導体からなる請求項1または請求項2に記載の半導
    体発光装置。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載
    の半導体発光装置を製造する方法であって、 前記保護用素子上に、前記発光ダイオード素子を接着剤
    により固定する半導体発光装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記接着剤としてポリイミド樹脂または
    エポキシ樹脂を用いて、前記保護用素子上に前記発光ダ
    イオード素子を固定する請求項4に記載の半導体発光装
    置の製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載
    の半導体発光装置を製造する方法であって、 前記保護用素子上に、前記発光ダイオード素子をバンプ
    電極により固定する半導体発光装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載
    の半導体発光装置を製造する方法であって、 前記保護用素子上に、前記発光ダイオード素子を導電性
    ペーストにより固定する半導体発光装置の製造方法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006339629A (ja) * 2005-05-02 2006-12-14 Nichia Chem Ind Ltd 半導体素子
JP2007013093A (ja) * 2005-07-01 2007-01-18 Epitech Technology Corp 発光ダイオード
DE10229067B4 (de) * 2002-06-28 2007-08-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
JP2009506556A (ja) * 2005-08-30 2009-02-12 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 表面実装可能なオプトエレクトロニクス素子及び表面実装可能なオプトエレクトロニクス素子の製造方法
US8076694B2 (en) 2005-05-02 2011-12-13 Nichia Corporation Nitride semiconductor element having a silicon substrate and a current passing region
US9076928B2 (en) 2012-05-30 2015-07-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor light emitting device and method for manufacturing the same

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10229067B4 (de) * 2002-06-28 2007-08-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
US7429758B2 (en) 2002-06-28 2008-09-30 Osram Opto Semiconductor Gmbh Optoelectronic component and method for producing it
US7514279B2 (en) 2002-06-28 2009-04-07 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic component and method for producing it
US7795633B2 (en) 2002-06-28 2010-09-14 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic component
US7948046B2 (en) 2002-06-28 2011-05-24 Osram Opto Semiconductor Gmbh Optoelectronic component
US8314441B2 (en) 2002-06-28 2012-11-20 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic component
JP2006339629A (ja) * 2005-05-02 2006-12-14 Nichia Chem Ind Ltd 半導体素子
US8076694B2 (en) 2005-05-02 2011-12-13 Nichia Corporation Nitride semiconductor element having a silicon substrate and a current passing region
JP2007013093A (ja) * 2005-07-01 2007-01-18 Epitech Technology Corp 発光ダイオード
JP2009506556A (ja) * 2005-08-30 2009-02-12 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 表面実装可能なオプトエレクトロニクス素子及び表面実装可能なオプトエレクトロニクス素子の製造方法
US9076928B2 (en) 2012-05-30 2015-07-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor light emitting device and method for manufacturing the same

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