JPH11112026A - 半導体発光素子 - Google Patents

半導体発光素子

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JPH11112026A
JPH11112026A JP27103797A JP27103797A JPH11112026A JP H11112026 A JPH11112026 A JP H11112026A JP 27103797 A JP27103797 A JP 27103797A JP 27103797 A JP27103797 A JP 27103797A JP H11112026 A JPH11112026 A JP H11112026A
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JP
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light emitting
chip
emitting element
side electrode
electrodes
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Shinji Isokawa
慎二 磯川
Hidekazu Toda
秀和 戸田
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Rohm Co Ltd
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    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程や回路基板への実装時などのハンド
リング時に静電気が印加されても、また交流駆動などに
伴う逆方向電圧が印加される場合にも、損傷したり破壊
しにくくすると共に、従来の発光素子全体としての面積
を大きくすることなく、しかも光度を弱めることのない
半導体発光素子を提供する。 【解決手段】 一面側にn側電極39およびp側電極3
8が設けられ、他面側に発光する光を透過する材料から
なる基板を有する発光素子チップ1と、発光素子チップ
1のn側電極およびp側電極に2つの電極がそれぞれ接
続されて、発光素子チップに印加され得る少なくとも逆
方向電圧に対して発光素子チップを保護する保護素子5
とからなり、保護素子の2つの電極55、56が保護素
子5の一面側に設けられ、発光素子チップのn側電極お
よびp側電極が直接保護素子の2つの電極にそれぞれ接
続されるようにボンディングされている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は保護素子が設けられ
ている半導体発光素子に関する。さらに詳しくは、交流
電圧駆動または静電気などにより発光素子に逆方向電圧
や所定の電圧以上の順方向電圧が印加される場合にも発
光素子がその静電気などにより破壊しにくいように保護
素子が設けられている半導体発光素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体発光素子は、p形層とn形
層とが直接接合してpn接合を形成するか、その間に活
性層を挟持してダブルヘテロ接合を形成して構成され、
p形層とn形層との間に順方向の電圧が印加されること
により、pn接合部または活性層で発光する。このよう
な発光素子は、たとえば図6に示されるように、半導体
の積層体からなる発光素子チップ(以下、LEDチップ
という)3が第1のリード1の先端にボンディングさ
れ、一方の電極が第1のリード1と電気的に接続され、
他方の電極が第2のリード2と金線4などにより電気的
に接続されてその周囲がLEDチップ3の光に対して透
明な樹脂製のパッケージ6により覆われることにより形
成されている。
【0003】このような発光素子は、ダイオード構造に
なっているため、逆方向の電圧が印加されても電流が流
れない整流作用を利用して、直流電圧を両電極間に印加
しないで交流電圧を印加することにより、交流で順方向
電圧になる場合にのみ電流が流れて発光する光を利用す
る使用方法も採用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】通常の半導体発光素子
は、一般にGaAs系やGaP系やチッ化ガリウム系な
どの化合物半導体が用いられているが、これらの化合物
半導体を用いた場合には、逆方向に印加される電圧に対
して弱く、半導体層が破壊することがある。とくに、チ
ッ化ガリウム系化合物半導体においては、その逆方向の
耐圧が50V程度と低く逆方向の印加電圧に対してとく
に破壊しやすいこと、またバンドギャップエネルギーが
大きいため、GaAs系などを用いた発光素子より動作
電圧も高くなること、などのため交流電圧の印加で半導
体発光素子が破損したり、その特性が劣化するという問
題がある。
【0005】また、交流電圧を印加する駆動でなくて
も、外部からサージ電圧などの大きな電圧が印加される
場合、チッ化ガリウム系化合物半導体では順方向電圧で
も150V程度で破壊されやすいという問題がある。
【0006】これらの逆方向電圧や静電気の印加に対す
る破壊を防止するため、半導体発光素子が組み込まれる
回路内で、半導体発光素子と並列で半導体発光素子の極
性と逆方向にツェナーダイオードを組み込むことが行わ
れる場合もある。しかし、回路内に組み込まれる前の製
造工程や出荷に伴う搬送工程、または回路基板に組み込
む際などのハンドリング時に静電気で破壊したり、外部
回路でLEDの他にダイオードなどを組み込むスペース
や工数を必要とするという問題がある。
【0007】本発明はこのような問題を解決するために
なされたもので、製造工程や搬送工程、または回路基板
への実装時などのハンドリング時に静電気が印加されて
も、また交流駆動などに伴う逆方向電圧が印加される場
合にも、損傷したり破壊しにくくすると共に、従来の発
光素子全体としての面積を大きくすることなく、しかも
光度を弱めることのない半導体発光素子を提供すること
を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による半導体発光
素子は、一面側にn側電極およびp側電極が設けられ、
他面側に発光する光を透過する材料からなる基板を有す
る発光素子チップと、該発光素子チップのn側電極およ
びp側電極に2つの電極がそれぞれ接続されて、前記発
光素子チップに印加され得る少なくとも逆方向電圧に対
して前記発光素子チップを保護する保護素子とからな
り、該保護素子の前記2つの電極が該保護素子の一面側
に設けられ、前記発光素子チップのn側電極およびp側
電極が直接前記保護素子の2つの電極にそれぞれ接続さ
れるように前記発光素子チップの一面側と前記保護素子
の一面側とを対向させて前記発光素子チップが前記保護
素子上にボンディングされ、該発光素子チップの基板側
から光を取り出す構造になっている。
【0009】ここに保護素子とは、発光素子チップに印
加され得る逆方向電圧を短絡したり、発光素子チップの
動作電圧より高い所定の電圧以上の順方向電圧をショー
トさせ得る素子を意味し、ツェナーダイオードやトラン
ジスタのダイオード接続、MOSFETのゲートとソー
スまたはドレインとを短絡した素子またはこれらの複合
素子、ICなどを含む。
【0010】具体的な構造としては、一端部に湾曲状の
凹部が形成される第1のリードと、該第1のリードと並
置して設けられる第2のリードとをさらに有し、前記第
1のリードの凹部内に前記保護素子の他面側が接着さ
れ、該保護素子の2つの電極がそれぞれ前記第1および
第2のリードと電気的に接続されることにより、ランプ
型の半導体発光素子が得られる。また、絶縁性基板と、
該絶縁性基板の両端部に設けられる第1および第2の端
子電極とをさらに有し、前記第1および第2の端子電極
の一方または前記第1および第2の端子電極の間の前記
絶縁性基板の表面に前記保護素子の他面側が接着され、
該保護素子の2つの電極がそれぞれ前記第1および第2
の端子電極と電気的に接続されることにより、チップ型
の半導体発光素子が得られる。
【0011】
【発明の実施の形態】つぎに、図面を参照しながら本発
明の半導体発光素子について説明をする。
【0012】本発明の半導体発光素子は、その一実施形
態の断面説明図が図1に示されるように、リードフレー
ムとして形成される第1のリード1の先端部に湾曲状の
凹部11が形成され、第1のリード1と同様にリードフ
レームとして形成される第2のリード2が第1のリード
1と並置されている。第1のリード1の凹部11内に保
護素子であるツェナーダイオードチップ5がボンディン
グされ、その表面にLEDチップ3がツェナーダイオー
ドと極性が逆になるようにバンプ8(p側電極38側の
バンプは図示されていない)によりボンディングされて
いる。そしてツェナーダイオードの2つの電極がそれぞ
れ金線4により第1のリード1および第2のリード2と
電気的に接続されている。この周囲が図示しないドーム
状のパッケージにより被覆されることによりランプ型の
発光素子が得られる。
【0013】LEDチップ3は、たとえば青色系(紫外
線から黄色)の発光色を有するチップの一例の断面説明
図が図2に示されるように、p側電極38およびn側電
極39が共に同一面側に形成され、その基板31が発光
する光に対して透明な材料により形成されている。すな
わち、たとえばサファイア(Al2 3 単結晶)などか
らなる基板31の表面に、GaNからなる低温バッファ
層32が0.01〜0.2μm程度、クラッド層となるn
形層33が1〜5μm程度、InGaN系(InとGa
の比率が種々変わり得ることを意味する、以下同じ)化
合物半導体からなる活性層34が0.05〜0.3μm程
度、p形のAlGaN系(AlとGaの比率が種々変わ
り得ることを意味する、以下同じ)化合物半導体層35
aおよびGaN層35bからなるp形層(クラッド層)
35が0.2〜1μm程度、それぞれ順次積層されて、
その表面に電流拡散層37を介してp側電極38が形成
されている。また、積層された半導体層33〜35の一
部が除去されて露出するn形層33にn側電極39が設
けられることにより形成されている。その結果、p側電
極38およびn側電極39の両方共が表面側の同一面側
に形成されている。しかも、この基板31はサファイア
からなり、発光する青色系の光を殆ど100%透過す
る。そのため、活性層34で発光した光は上面側に向か
う光と同量の光が基板の裏面からも放射される。
【0014】ツェナーダイオードチップ5は、たとえば
その一例の断面説明図が図3に示されるように、たとえ
ばn形のシリコン半導体基板51にp形半導体層がエピ
タキシャル成長されてp形層52が形成され、その一部
にリンなどのn形不純物が拡散されてn+ 形の拡散層5
3が形成され、表面に絶縁膜54を介してp形層52お
よび拡散層53とオーミック接触させて正電極55およ
び負電極56が形成されている。その結果、表面側の一
面に正電極(p形層に接続される電極を意味する)55
および負電極(n形層に接続される電極を意味する)5
6が設けられている。ツェナー特性は、このn形半導体
基板51とp形層52とで形成されるpn接合に大きい
逆方向電圧を印加すると電子がトンネル効果によってp
n接合を通って流れる現象を利用したものである。この
逆方向の電流が流れ始める電圧(ツェナー電圧)はその
不純物濃度により設定される。したがって、このツェナ
ー電圧をLEDチップ3の動作電圧より高い所定の電圧
に設定しておき、LEDチップ3とツェナーダイオード
チップ5とが並列で逆方向になるようにLEDチップ3
のp側電極38と負電極56、LEDチップ3のn側電
極39と正電極55とを接続することにより、LEDチ
ップ3の動作に支障を来すことはない。なお、半導体基
板51の裏面にも電極56a(負電極)が設けられてお
れば、リードと接続する場合に、直接導電性接着剤によ
り接続することができる。
【0015】第1および第2のリード1、2は、たとえ
ば鉄材または銅材などからなる厚さが0.4〜0.5mm
程度の板状体をパンチングにより成形し、第1のリード
の上部から円錐状のポンチによりスタンピングすること
により、その先端部に椀型の凹部11が形成されてい
る。なお、製造段階では第1および第2のリード1、2
の下端部はリードフレームの枠部で連結されている。
【0016】前述のツェナーダイオードチップ5が図1
に示されるように、第1のリード1の凹部11に銀ペー
ストなどの接着剤によりボンディングされ、その上に前
述のように、LEDチップ3のn側電極39とp側電極
38がツェナーダイオードチップ5の正電極55および
負電極56とそれぞれ接続されるように、LEDチップ
3を裏向きにしてハンダなどからなるバンプ8により接
続する。その後、ツェナーダイオードチップ5の正電極
55と第1のリード1、およびツェナーダイオードチッ
プ5の負電極56と第2のリード2とをそれぞれ金線4
により連結して電気的に接続する。なお、ツェナーダイ
オードチップ5の負電極が基板51の裏面側にも設けら
れている場合には、負電極56側はワイヤボンディング
をしなくても導電性接着剤により直接第1のリード1と
電気的に接続され、正電極55のみを第2のリード2と
ワイヤボンディングすればよい。そして、LEDチップ
3およびツェナーダイオードチップ5を含めたこれらの
周囲がLEDチップ3により発光する光を透過する透明
または乳白色のエポキシ樹脂などによりモールドされる
ことにより、樹脂製のパッケージ(図示せず)で被覆さ
れた本発明の半導体発光素子が得られる。樹脂製のパッ
ケージは、発光面側が凸レンズになるようにドーム形状
に形成されることにより、ランプタイプの発光素子が得
られる。
【0017】図4は本発明の半導体発光素子の他の実施
形態を示す断面説明図である。この例は、ランプ型では
なく、チップ型の発光素子の例である。前述と同様にツ
ェナーダイオードチップ5の一面(表面)側の2つの正
および負の電極55、56にLEDチップ3のn側およ
びp側電極39、38がそれぞれバンプ8などにより接
続されるようにボンディングされると共に、ツェナーダ
イオードチップ5の他面(裏面)側が絶縁性基板10の
両端部に設けられた一方の第1の端子電極11上にボン
ディングされてマウントされている。この場合、ツェナ
ーダイオードチップ5の裏面に設けられた負電極56a
が導電性接着剤9によりボンディングされることにより
負電極56と第1の端子電極11とが電気的に接続さ
れ、正電極55は金線4により第2の端子電極12と電
気的に接続されている。そして周囲が発光する光を透過
するエポキシ樹脂などからなる樹脂製のパッケージ6に
より被覆されている。このような構造にしても僅かに高
くなるが、面積を全然増加させることなく保護素子を内
蔵することができる。なお、樹脂製のパッケージ6は、
その周囲に反射壁を有する構造のものでも同様である。
【0018】本発明の半導体発光素子によれば、ツェナ
ーダイオードチップが内蔵されて、図5にその等価回路
図が示されているように、LEDチップ3と並列にツェ
ナーダイオードチップ5がその極性がLEDチップ3と
逆になるように接続されている。そのため、LEDチッ
プ3を駆動する電源が交流電源であっても、LEDチッ
プ3に順方向の電圧になる位相のときは、ツェナーダイ
オードチップ5には逆方向電圧でツェナー電圧より低い
電圧であるため電流は流れず、LEDチップ3に電流が
流れて発光する。また、交流電源がLEDチップ3に逆
方向の電圧になる位相のときは、ツェナーダイオードチ
ップ5を介して電流が流れる。そのため、交流電圧がL
EDチップ3に対して逆方向の電圧の位相となるときで
も、LEDチップ3には逆方向の電圧は殆ど印加されな
い。また、静電気が印加される場合、その静電気がLE
Dチップ3の逆方向であればツェナーダイオードチップ
5を介して放電し、LEDチップ3に順方向である場合
は、その電圧がツェナー電圧より高ければツェナーダイ
オードチップ5を介して放電するためLEDチップ3を
保護し、ツェナー電圧より低ければLEDチップ3を介
して放電するが、その電圧はツェナー電圧より低い電圧
であるためLEDチップ3を損傷することはない。その
結果、逆方向の電圧や静電気のサージに対して弱いLE
Dチップ3であってもLEDチップ3に高い電圧が印加
されず、LEDチップ3を破損したり、劣化させたりす
ることがない。
【0019】一方、本発明の半導体発光素子では、保護
素子(ツェナーダイオードチップ)がLEDチップの下
側に重ねてボンディングされているため、保護素子の電
極のワイヤボンディング部分の分だけ発光素子チップの
面積を小さくする必要があるが、保護素子のための新た
なスペースを必要とはしない。一方、ワイヤボンディン
グを保護素子だけにすればよく発光素子チップにはワイ
ヤボンディングのための電極パッドを設ける必要がな
い。したがって、光を取り出す表面側に光を遮断するも
のがなくなり、むしろ光の取出し効率、すなわち光度が
向上する。そのため、発光素子の外径を大きくすること
なく保護素子を容易に内蔵することができる。その結
果、製造工程や実装工程などでの取扱が非常に容易にな
ると共に、静電破壊などによる不良の発生を抑制するこ
とができる。さらに、LEDチップと保護素子とを直接
バンプなどにより接続しているため、信頼性が低下する
ワイヤボンディングを各々に行う必要がなく、最低限1
本のワイヤボンディングのみでよいため、信頼性が非常
に向上する。
【0020】前述のように、LEDチップがチッ化ガリ
ウム系化合物半導体からなる場合には、とくに逆方向の
電圧やサージ電圧などの高電圧により破壊されやすいた
め効果が大きいと共に、基板がサファイアで発光する光
を透過しやすいこと、一面側にn側およびp側電極が取
り出されること、などの点から好ましい。また、保護素
子としてツェナーダイオードが用いられることにより、
発光素子チップに順方向にサージなどの高電圧が印加さ
れてもツェナーダイオードのツェナー特性により、発光
素子チップにダメージを与えることなく保護されると共
に、通常の動作には何等の異常を来さないためとくに好
ましい。ここにチッ化ガリウム系化合物半導体とは、II
I 族元素のGaとV族元素のNとの化合物またはIII 族
元素のGaの一部がAl、Inなどの他のIII 族元素と
置換したものおよび/またはV族元素のNの一部がP、
Asなどの他のV族元素と置換した化合物からなる半導
体をいう。
【0021】前述の例では、保護素子としてツェナーダ
イオードチップを用いたが、チップでなくてパッケージ
ングされた製品状のものを使用してもよい。また、ツェ
ナーダイオードでなくて通常のダイオードでも、LED
チップに対する逆方向の電圧に対して保護することがで
きる。さらに、ダイオードでなくても、トランジスタを
ダイオード接続したものや、MOSFETのゲートとソ
ースまたはドレインとを接続したもの、またはこれらを
組み合わせてツェナーダイオードと同様に両方向に保護
する複合素子またはICなど、ダイオードと同様にLE
Dチップを保護することができる素子でも、一面側に両
電極が取り出される構造のものであればよい。
【0022】また、発光素子としては、チッ化ガリウム
系化合物半導体を用いた青色系の半導体発光素子に限定
されるものではなく、GaAs系、AlGaAs系、A
lGaInP系、InP系などの赤色系や緑色系の発光
素子についても、基板が発光する光を透過させ、一面側
に両電極が形成されれば、同様の構造で保護素子が設け
られることにより同様に逆方向電圧や静電気に対して強
い半導体発光素子が得られる。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、LEDチップの下側に
保護素子がマウントされて、LEDチップに対する逆方
向電圧または所定の電圧以上の順方向電圧に対して保護
するように接続されているため、発光素子の発光面に何
等の変化を来すことなく、むしろ発光素子チップへのワ
イヤボンディングを必要としないため高度を向上させな
がら、保護素子を内蔵した半導体発光素子が得られる。
その結果、逆方向電圧の印加や静電気による高電圧の印
加に対しても損傷することがなく、信頼性が大幅に向上
すると共に、半製品や製品の状態での取扱もアースバン
ドの着用や静電気除去の特別な注意を払う必要がなく、
作業効率が大幅に向上する。また、使用段階で保護素子
を外付けする必要もなくなる。
【0024】さらに、ワイヤボンディングを減らすこと
ができるため、歩留りが向上すると共に、信頼性も向上
する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体発光素子の一実施形態の断面説
明図である。
【図2】図1のLEDチップの一例の断面説明図であ
る。
【図3】図1のツェナーダイオードチップの一例の断面
説明図である。
【図4】本発明の半導体発光素子の他の実施形態の断面
説明図である。
【図5】図1および図4の半導体発光素子の接続関係の
等価回路図である。
【図6】従来の半導体発光素子の一例の側面説明図であ
る。
【符号の説明】
1 第1のリード 2 第2のリード 3 LEDチップ 5 ツェナーダイオードチップ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一面側にn側電極およびp側電極が設け
    られ、他面側に発光する光を透過する材料からなる基板
    を有する発光素子チップと、該発光素子チップのn側電
    極およびp側電極に2つの電極がそれぞれ接続されて、
    前記発光素子チップに印加され得る少なくとも逆方向電
    圧に対して前記発光素子チップを保護する保護素子とか
    らなり、該保護素子の前記2つの電極が該保護素子の一
    面側に設けられ、前記発光素子チップのn側電極および
    p側電極が直接前記保護素子の2つの電極にそれぞれ接
    続されるように前記発光素子チップの一面側と前記保護
    素子の一面側とを対向させて前記発光素子チップが前記
    保護素子上にボンディングされ、該発光素子チップの基
    板側から光を取り出す構造の半導体発光素子。
  2. 【請求項2】 一端部に湾曲状の凹部が形成される第1
    のリードと、該第1のリードと並置して設けられる第2
    のリードとをさらに有し、前記第1のリードの凹部内に
    前記保護素子の他面側が接着され、該保護素子の2つの
    電極がそれぞれ前記第1および第2のリードと電気的に
    接続される請求項1記載の半導体発光素子。
  3. 【請求項3】 絶縁性基板と、該絶縁性基板の両端部に
    設けられる第1および第2の端子電極とをさらに有し、
    前記第1および第2の端子電極の一方または前記第1お
    よび第2の端子電極の間の前記絶縁性基板の表面に前記
    保護素子の他面側が接着され、該保護素子の2つの電極
    がそれぞれ前記第1および第2の端子電極と電気的に接
    続される請求項1記載の半導体発光素子。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6472688B2 (en) 2000-03-02 2002-10-29 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor light emitting device and display device using the same
JP2005347080A (ja) * 2004-06-02 2005-12-15 Sanyo Electric Co Ltd 電池
CN100423305C (zh) * 2004-07-09 2008-10-01 Lg电子有限公司 用于安装发光器件的安装衬底及其制造方法
US7483464B2 (en) 2004-04-22 2009-01-27 Fuji Xerox Co., Ltd. Semiconductor laser apparatus and manufacturing method thereof
US7995636B2 (en) 2004-06-08 2011-08-09 Fuji Xerox Co., Ltd. Semiconductor laser apparatus and manufacturing method thereof

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