JP2001219051A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
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- JP2001219051A JP2001219051A JP2000032465A JP2000032465A JP2001219051A JP 2001219051 A JP2001219051 A JP 2001219051A JP 2000032465 A JP2000032465 A JP 2000032465A JP 2000032465 A JP2000032465 A JP 2000032465A JP 2001219051 A JP2001219051 A JP 2001219051A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空バルブ開閉時のＯリングからの発塵を低
減する。 【解決手段】 第１の真空チャンバ１と第２の真空チャ
ンバ２と両チャンバ間の隔壁３の開口部４を開閉する真
空バルブとを有し、真空バルブの閉状態ではその弁体６
が第２の真空チャンバ２側からＯリング５を介して隔壁
３を押圧する真空処理装置において、両チャンバ間の圧
力差を検出する圧力差検出手段８とこの圧力差により弁
体駆動手段７が弁体６を駆動する力を加減する弁体駆動
力制御手段９とを設ける。両チャンバ共に真空の状態で
この真空バルブを閉じる際にはＯリング５の変形が小と
なる力で弁体６が駆動され、その状態で第１の真空チャ
ンバ１の真空を破ると圧力差（第１の真空チャンバ１の
内圧上昇）が検知されて弁体駆動力が大幅に増加し、Ｏ
リング５を十分に変形させて気密を保つ。
減する。 【解決手段】 第１の真空チャンバ１と第２の真空チャ
ンバ２と両チャンバ間の隔壁３の開口部４を開閉する真
空バルブとを有し、真空バルブの閉状態ではその弁体６
が第２の真空チャンバ２側からＯリング５を介して隔壁
３を押圧する真空処理装置において、両チャンバ間の圧
力差を検出する圧力差検出手段８とこの圧力差により弁
体駆動手段７が弁体６を駆動する力を加減する弁体駆動
力制御手段９とを設ける。両チャンバ共に真空の状態で
この真空バルブを閉じる際にはＯリング５の変形が小と
なる力で弁体６が駆動され、その状態で第１の真空チャ
ンバ１の真空を破ると圧力差（第１の真空チャンバ１の
内圧上昇）が検知されて弁体駆動力が大幅に増加し、Ｏ
リング５を十分に変形させて気密を保つ。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェーハ等
を真空中で処理する装置に係り、特に真空バルブを介し
て接する複数の真空チャンバを有する真空処理装置に関
する。
を真空中で処理する装置に係り、特に真空バルブを介し
て接する複数の真空チャンバを有する真空処理装置に関
する。
【０００２】高集積化・微細化された半導体装置等で
は、製造工程でのパーティクルの付着は製造歩留りを低
下させることになるから、これらの製造装置において
は、パーティクルの発生がないことが望まれている。
は、製造工程でのパーティクルの付着は製造歩留りを低
下させることになるから、これらの製造装置において
は、パーティクルの発生がないことが望まれている。
【０００３】
【従来の技術】複数の真空チャンバがそれぞれ真空バル
ブを介して接する構造の真空処理装置としては、マルチ
チャンバ型のスパッタ装置やドライエッチング装置等が
ある。先ず、このような装置の構成の概略を説明する。
図４はマルチチャンバ型真空処理装置の構成を示す模式
図である。搬送用真空チャンバ１２の周囲に複数の処理
用真空チャンバ１１とロードロックチャンバ１３がそれ
ぞれ真空バルブ１４を介して接している。
ブを介して接する構造の真空処理装置としては、マルチ
チャンバ型のスパッタ装置やドライエッチング装置等が
ある。先ず、このような装置の構成の概略を説明する。
図４はマルチチャンバ型真空処理装置の構成を示す模式
図である。搬送用真空チャンバ１２の周囲に複数の処理
用真空チャンバ１１とロードロックチャンバ１３がそれ
ぞれ真空バルブ１４を介して接している。
【０００４】搬送用真空チャンバ１２は中に搬送ロボッ
ト（図示せず）があって、この搬送ロボットがロードロ
ックチャンバ１３から被処理物（以下、ウェーハと記
す）を一枚取り出してこれを複数の処理用真空チャンバ
１１へ順次搬送し、総ての処理が完了した後、このウェ
ーハをロードロックチャンバ１３に戻す。
ト（図示せず）があって、この搬送ロボットがロードロ
ックチャンバ１３から被処理物（以下、ウェーハと記
す）を一枚取り出してこれを複数の処理用真空チャンバ
１１へ順次搬送し、総ての処理が完了した後、このウェ
ーハをロードロックチャンバ１３に戻す。
【０００５】真空バルブ１４は通常は閉じられており、
ウェーハ搬送時に開く。バルブが開く時、その両側のチ
ャンバは共に真空状態である。搬送用真空チャンバ１２
は常時真空状態であるが、処理用真空チャンバ１１は比
較的短い周期で定期的に真空を破り、内部の部品交換や
洗浄を行う。
ウェーハ搬送時に開く。バルブが開く時、その両側のチ
ャンバは共に真空状態である。搬送用真空チャンバ１２
は常時真空状態であるが、処理用真空チャンバ１１は比
較的短い周期で定期的に真空を破り、内部の部品交換や
洗浄を行う。
【０００６】次に、従来のこの種の真空処理装置におけ
る真空バルブの開閉について説明する。図５は従来の真
空処理装置のバルブ開閉を示す要部断面図である。
（Ａ）図はバルブ開状態、（Ｂ）図はバルブ閉状態を示
している。図中、１は第１の真空チャンバ、２は第２の
真空チャンバ、３は隔壁、４はウェーハを通過させる開
口部、５はＯリング、６は真空バルブの弁体である。第
１の真空チャンバ１と第２の真空チャンバ２は、それぞ
れ図４における処理用真空チャンバ１１と搬送用真空チ
ャンバ１２に相当する。隔壁３は開口部４の周囲にＯリ
ング５を保持する溝部３ａを有する。この溝部３ａは多
くの場合、Ｏリング５の脱落を防ぐためにアリ溝（逆テ
ーパの溝）となっている。
る真空バルブの開閉について説明する。図５は従来の真
空処理装置のバルブ開閉を示す要部断面図である。
（Ａ）図はバルブ開状態、（Ｂ）図はバルブ閉状態を示
している。図中、１は第１の真空チャンバ、２は第２の
真空チャンバ、３は隔壁、４はウェーハを通過させる開
口部、５はＯリング、６は真空バルブの弁体である。第
１の真空チャンバ１と第２の真空チャンバ２は、それぞ
れ図４における処理用真空チャンバ１１と搬送用真空チ
ャンバ１２に相当する。隔壁３は開口部４の周囲にＯリ
ング５を保持する溝部３ａを有する。この溝部３ａは多
くの場合、Ｏリング５の脱落を防ぐためにアリ溝（逆テ
ーパの溝）となっている。
【０００７】この真空バルブを閉じる際には、エアシリ
ンダ等のアクチュエータ（図示せず）の駆動力により弁
体６がＯリング５を押圧してこれを変形させて、開口部
４の周囲をシールする。第１の真空チャンバ１を大気圧
にした場合でも気密が保たれるように、バルブ閉状態で
は常に弁体６に強い力をかけてＯリング５を大きく変形
させる。
ンダ等のアクチュエータ（図示せず）の駆動力により弁
体６がＯリング５を押圧してこれを変形させて、開口部
４の周囲をシールする。第１の真空チャンバ１を大気圧
にした場合でも気密が保たれるように、バルブ閉状態で
は常に弁体６に強い力をかけてＯリング５を大きく変形
させる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
真空処理装置では、毎回のウェーハ搬送時の真空バルブ
開閉に際してＯリングが大きく変形するから、そのたび
にＯリングが隔壁の溝部や弁体と局部的に摺動してパー
ティクルを発生する、という問題があった。
真空処理装置では、毎回のウェーハ搬送時の真空バルブ
開閉に際してＯリングが大きく変形するから、そのたび
にＯリングが隔壁の溝部や弁体と局部的に摺動してパー
ティクルを発生する、という問題があった。
【０００９】本発明は、このような問題を解決して、真
空バルブ開閉時のＯリングからのパーティクルの発生を
抑制することができる真空処理装置を提供することを目
的とする。
空バルブ開閉時のＯリングからのパーティクルの発生を
抑制することができる真空処理装置を提供することを目
的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の請求項１においては、第１の真空チャンバ
と、開口部を有する隔壁を介して該第１の真空チャンバ
と隣接する第２の真空チャンバと、弁体と弁体駆動手段
とを有して該開口部を開閉する真空バルブとを有し、該
真空バルブの閉状態では該弁体駆動手段の駆動力により
該弁体が該第２の真空チャンバ側からＯリングを介して
該隔壁を押圧する真空処理装置において、該第１及び第
２の真空チャンバ間の圧力差を検出する圧力差検出手段
と、該圧力差により該駆動力を加減する弁体駆動力制御
手段とを有し、該真空バルブ閉状態での該駆動力が、該
第１及び第２の真空チャンバがともに真空状態では該Ｏ
リングの変形が相対的に小さく、且つ該第１の真空チャ
ンバの内圧上昇により該Ｏリングの変形が相対的に大き
くなるように制御されることを特徴とする真空処理装置
としている。
め、本発明の請求項１においては、第１の真空チャンバ
と、開口部を有する隔壁を介して該第１の真空チャンバ
と隣接する第２の真空チャンバと、弁体と弁体駆動手段
とを有して該開口部を開閉する真空バルブとを有し、該
真空バルブの閉状態では該弁体駆動手段の駆動力により
該弁体が該第２の真空チャンバ側からＯリングを介して
該隔壁を押圧する真空処理装置において、該第１及び第
２の真空チャンバ間の圧力差を検出する圧力差検出手段
と、該圧力差により該駆動力を加減する弁体駆動力制御
手段とを有し、該真空バルブ閉状態での該駆動力が、該
第１及び第２の真空チャンバがともに真空状態では該Ｏ
リングの変形が相対的に小さく、且つ該第１の真空チャ
ンバの内圧上昇により該Ｏリングの変形が相対的に大き
くなるように制御されることを特徴とする真空処理装置
としている。
【００１１】即ち、この真空処理装置では、例えば第１
の真空チャンバが処理用真空チャンバで第２の真空チャ
ンバが搬送用真空チャンバの場合、通常の運転時には真
空バルブ閉状態でのＯリングの変形は比較的小さいから
バルブ開閉に伴うパーティクルの発生はほとんどなく、
Ｏリングを大きく変形させるのはメンテナンスの際だけ
である。従って、この装置での処理においては、真空バ
ルブ開閉に伴って発生するパーティクルに起因する製造
歩留り低下を防ぐことができる。
の真空チャンバが処理用真空チャンバで第２の真空チャ
ンバが搬送用真空チャンバの場合、通常の運転時には真
空バルブ閉状態でのＯリングの変形は比較的小さいから
バルブ開閉に伴うパーティクルの発生はほとんどなく、
Ｏリングを大きく変形させるのはメンテナンスの際だけ
である。従って、この装置での処理においては、真空バ
ルブ開閉に伴って発生するパーティクルに起因する製造
歩留り低下を防ぐことができる。
【００１２】また、本発明の請求項１においては、第１
の真空チャンバと、開口部を有する隔壁を介して該第１
の真空チャンバと隣接する第２の真空チャンバと、弁体
と弁体駆動手段とを有して該開口部を開閉する真空バル
ブとを有し、該真空バルブの閉状態では該弁体駆動手段
の駆動力により該弁体がＯリングを介して該隔壁を押圧
する真空処理装置において、該Ｏリングはフラット面を
有し、該フラット面で該隔壁若しくは該弁体のフラット
面に接着されていることを特徴とする真空処理装置とし
ている。
の真空チャンバと、開口部を有する隔壁を介して該第１
の真空チャンバと隣接する第２の真空チャンバと、弁体
と弁体駆動手段とを有して該開口部を開閉する真空バル
ブとを有し、該真空バルブの閉状態では該弁体駆動手段
の駆動力により該弁体がＯリングを介して該隔壁を押圧
する真空処理装置において、該Ｏリングはフラット面を
有し、該フラット面で該隔壁若しくは該弁体のフラット
面に接着されていることを特徴とする真空処理装置とし
ている。
【００１３】即ち、この真空処理装置では、Ｏリングが
大きく変形した場合でも、溝部での摺動がないから、パ
ーティクルの発生はほとんどない。
大きく変形した場合でも、溝部での摺動がないから、パ
ーティクルの発生はほとんどない。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、前
出の図４のように構成されたマルチチャンバ型スパッタ
装置の例で、図を参照して説明する。図１は本発明の真
空処理装置の構成を示す要部断面図、図２は本発明の真
空処理装置のバルブ開閉を示す要部断面図である。図
中、１は第１の真空チャンバ、２は第２の真空チャン
バ、３は両チャンバ間を仕切る隔壁、４はウェーハを通
過させる開口部、５はＯリング、６は弁体、７は弁体駆
動手段、８は圧力差検出手段、９は弁体駆動力制御手段
である。
出の図４のように構成されたマルチチャンバ型スパッタ
装置の例で、図を参照して説明する。図１は本発明の真
空処理装置の構成を示す要部断面図、図２は本発明の真
空処理装置のバルブ開閉を示す要部断面図である。図
中、１は第１の真空チャンバ、２は第２の真空チャン
バ、３は両チャンバ間を仕切る隔壁、４はウェーハを通
過させる開口部、５はＯリング、６は弁体、７は弁体駆
動手段、８は圧力差検出手段、９は弁体駆動力制御手段
である。
【００１５】第１の真空チャンバ１と第２の真空チャン
バ２は、それぞれ図４における処理用真空チャンバ１１
と搬送用真空チャンバ１２に相当する。Ｏリング５は隔
壁３の開口部４の周囲に設けられた溝部３ａに保持され
ている。溝部３ａは多くの場合、Ｏリング５の脱落を防
ぐためにアリ溝（逆テーパの溝）となっている。この隔
壁３，Ｏリング５，弁体６，弁体駆動手段７等が開口部
４を開閉する真空バルブを構成している（図４の真空バ
ルブ１４に相当する）。この真空バルブはスパッタ材の
付着を避けて第２の真空チャンバ側に配設されている。
弁体駆動手段７は例えばエアシリンダであり、バルブ閉
状態ではこの駆動力により弁体６がＯリング５を介して
隔壁３を押圧する。
バ２は、それぞれ図４における処理用真空チャンバ１１
と搬送用真空チャンバ１２に相当する。Ｏリング５は隔
壁３の開口部４の周囲に設けられた溝部３ａに保持され
ている。溝部３ａは多くの場合、Ｏリング５の脱落を防
ぐためにアリ溝（逆テーパの溝）となっている。この隔
壁３，Ｏリング５，弁体６，弁体駆動手段７等が開口部
４を開閉する真空バルブを構成している（図４の真空バ
ルブ１４に相当する）。この真空バルブはスパッタ材の
付着を避けて第２の真空チャンバ側に配設されている。
弁体駆動手段７は例えばエアシリンダであり、バルブ閉
状態ではこの駆動力により弁体６がＯリング５を介して
隔壁３を押圧する。
【００１６】圧力差検出手段８は第１の真空チャンバ１
と第２の真空チャンバ２の各内圧を測定する圧力計（真
空計）８ａ及び８ｂを有し、両チャンバの圧力差を検出
して信号を弁体駆動力制御手段９に送出する。弁体駆動
力制御手段９は例えば圧力制御弁であり、圧力差の信号
により弁体駆動手段７の弁体駆動力を加減する。弁体駆
動手段７がエアシリンダの場合には、これに供給される
高圧空気（又は高圧窒素ガス）の圧力を制御する。
と第２の真空チャンバ２の各内圧を測定する圧力計（真
空計）８ａ及び８ｂを有し、両チャンバの圧力差を検出
して信号を弁体駆動力制御手段９に送出する。弁体駆動
力制御手段９は例えば圧力制御弁であり、圧力差の信号
により弁体駆動手段７の弁体駆動力を加減する。弁体駆
動手段７がエアシリンダの場合には、これに供給される
高圧空気（又は高圧窒素ガス）の圧力を制御する。
【００１７】この真空処理装置の運転中、ウェーハ搬送
時には図２（Ａ）のようなバルブ開状態とするが、通常
は図２（Ｂ）のようなバルブ閉状態とする。第１の真空
チャンバ１と第２の真空チャンバ２はそれぞれ個別に真
空排気されて共に真空状態となっており、両チャンバ間
には殆ど圧力差はないから、バルブ閉状態に弁体６が受
ける力は僅少である。例えば、第１の真空チャンバ１の
圧力が２×10-3 Torr(0.27 Pa)、第２の真空チャンバ２
の圧力が５×10-8 Torr(７×10-6 Pa)、弁体６の受圧面
積が 3×22＝66cm2 とすると、第２の真空チャンバ２の
圧力はゼロと見なせるから弁体６が第１の真空チャンバ
１から受ける力は約 0.2ｇ重となり、弁体６は１kg重程
度の力でＯリング５を押圧すればよいことになる。即
ち、エアシリンダの内径が７cmならばガスの圧力は０.0
26 kg/cm2 程度でよい。
時には図２（Ａ）のようなバルブ開状態とするが、通常
は図２（Ｂ）のようなバルブ閉状態とする。第１の真空
チャンバ１と第２の真空チャンバ２はそれぞれ個別に真
空排気されて共に真空状態となっており、両チャンバ間
には殆ど圧力差はないから、バルブ閉状態に弁体６が受
ける力は僅少である。例えば、第１の真空チャンバ１の
圧力が２×10-3 Torr(0.27 Pa)、第２の真空チャンバ２
の圧力が５×10-8 Torr(７×10-6 Pa)、弁体６の受圧面
積が 3×22＝66cm2 とすると、第２の真空チャンバ２の
圧力はゼロと見なせるから弁体６が第１の真空チャンバ
１から受ける力は約 0.2ｇ重となり、弁体６は１kg重程
度の力でＯリング５を押圧すればよいことになる。即
ち、エアシリンダの内径が７cmならばガスの圧力は０.0
26 kg/cm2 程度でよい。
【００１８】従って、この真空処理装置の運転中のバル
ブ閉状態（バルブ閉状態１）では、弁体駆動力制御手段
９は弁体駆動手段（エアシリンダ）７に供給される高圧
空気（又は高圧窒素ガス）の圧力を低くする。その結
果、Ｏリング５と隔壁３及び弁体６とはソフトコンタク
トとなり、図２（Ｂ）のようにＯリング５の変形は小さ
い。
ブ閉状態（バルブ閉状態１）では、弁体駆動力制御手段
９は弁体駆動手段（エアシリンダ）７に供給される高圧
空気（又は高圧窒素ガス）の圧力を低くする。その結
果、Ｏリング５と隔壁３及び弁体６とはソフトコンタク
トとなり、図２（Ｂ）のようにＯリング５の変形は小さ
い。
【００１９】次に、第２の真空チャンバ２を真空に保っ
たまま第１の真空チャンバ１を大気圧とする場合のバル
ブ閉状態（バルブ閉状態２）を説明する。この場合には
弁体６が第１の真空チャンバ１から受ける力は、弁体６
の受圧面積が前述の 66 cm2ならば 66 Kg重となる。こ
れだけの力に抗して更に気密が保てるようにＯリング５
を十分に変形させるには、最低 100kg重程度の力でＯリ
ング5 を押圧しなければならない。エアシリンダの内径
が７cmならばガスの圧力は２.6 kg/cm2 程度必要とな
る。
たまま第１の真空チャンバ１を大気圧とする場合のバル
ブ閉状態（バルブ閉状態２）を説明する。この場合には
弁体６が第１の真空チャンバ１から受ける力は、弁体６
の受圧面積が前述の 66 cm2ならば 66 Kg重となる。こ
れだけの力に抗して更に気密が保てるようにＯリング５
を十分に変形させるには、最低 100kg重程度の力でＯリ
ング5 を押圧しなければならない。エアシリンダの内径
が７cmならばガスの圧力は２.6 kg/cm2 程度必要とな
る。
【００２０】従って、第１の真空チャンバ１内を大気圧
にする際には、圧力差検出手段８が圧力差を検出して信
号を弁体駆動力制御手段（圧力制御弁）９に送出し、こ
れにより弁体駆動力制御手段９は弁体駆動手段（エアシ
リンダ）７に供給される高圧空気（又は高圧窒素ガス）
の圧力を高める。その結果、Ｏリング５と隔壁３及び弁
体６とはハードコンタクトとなり、図２（Ｃ）のように
Ｏリング５は変形は大きく変形し、気密が保たれる。
にする際には、圧力差検出手段８が圧力差を検出して信
号を弁体駆動力制御手段（圧力制御弁）９に送出し、こ
れにより弁体駆動力制御手段９は弁体駆動手段（エアシ
リンダ）７に供給される高圧空気（又は高圧窒素ガス）
の圧力を高める。その結果、Ｏリング５と隔壁３及び弁
体６とはハードコンタクトとなり、図２（Ｃ）のように
Ｏリング５は変形は大きく変形し、気密が保たれる。
【００２１】ところで、この装置は運転中、ウェーハを
搬送するたびにバルブ閉状態１／バルブ開状態の開閉が
繰り返されるが、Ｏリング５の変形が小さいからＯリン
グ５と隔壁３の溝部３ａや弁体６との間の摺動に伴うパ
ーティクルの発生はなく、一方、バルブ閉状態１／バル
ブ閉状態２の移行に際してはＯリング５の変形が大き
く、Ｏリング５と隔壁３の溝部３ａや弁体６との間の摺
動に伴ってパーティクルの発生があるものの、この移行
の頻度が少ないから（例えば、スパッタのターゲット交
換ではウェーハ数千枚の処理に対して１回程度）、製造
歩留りへの影響はほとんどない。
搬送するたびにバルブ閉状態１／バルブ開状態の開閉が
繰り返されるが、Ｏリング５の変形が小さいからＯリン
グ５と隔壁３の溝部３ａや弁体６との間の摺動に伴うパ
ーティクルの発生はなく、一方、バルブ閉状態１／バル
ブ閉状態２の移行に際してはＯリング５の変形が大き
く、Ｏリング５と隔壁３の溝部３ａや弁体６との間の摺
動に伴ってパーティクルの発生があるものの、この移行
の頻度が少ないから（例えば、スパッタのターゲット交
換ではウェーハ数千枚の処理に対して１回程度）、製造
歩留りへの影響はほとんどない。
【００２２】尚、隔壁３の溝部３ａのエッジにＲ付けを
施すことにより、バルブ閉状態１／バルブ閉状態２の移
行時におけるパーティクルの発生を減らすことができ
る。次に、本発明の他の実施の形態を説明する。図３は
本発明の他の実施の形態を示す要部断面図である。隔壁
３Ａには前述の隔壁３における溝部３ａはなく、また、
Ｏリング５Ａはフラット面５ａを有し、断面形状が半円
若しくはそれに近い形となっている。このＯリング５Ａ
はフラット面５ａで接着剤により隔壁３Ａのフラットな
面に固着されている。これにより、Ｏリングが大きく変
形した場合でも、溝部での摺動がないから、パーティク
ルの発生はほとんどない。
施すことにより、バルブ閉状態１／バルブ閉状態２の移
行時におけるパーティクルの発生を減らすことができ
る。次に、本発明の他の実施の形態を説明する。図３は
本発明の他の実施の形態を示す要部断面図である。隔壁
３Ａには前述の隔壁３における溝部３ａはなく、また、
Ｏリング５Ａはフラット面５ａを有し、断面形状が半円
若しくはそれに近い形となっている。このＯリング５Ａ
はフラット面５ａで接着剤により隔壁３Ａのフラットな
面に固着されている。これにより、Ｏリングが大きく変
形した場合でも、溝部での摺動がないから、パーティク
ルの発生はほとんどない。
【００２３】本発明は以上の例に限定されることなく、
更に種々変形して実施することができる。例えば、溝部
３ａが隔壁３にではなく、弁体６に設けられる場合で
も、本発明は有効である。
更に種々変形して実施することができる。例えば、溝部
３ａが隔壁３にではなく、弁体６に設けられる場合で
も、本発明は有効である。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
真空バルブ開閉時のＯリングからのパーティクルの発生
を抑制することが可能な真空処理装置を提供することが
できる。
真空バルブ開閉時のＯリングからのパーティクルの発生
を抑制することが可能な真空処理装置を提供することが
できる。
【図１】 本発明の真空処理装置の構成を示す要部断面
図である。
図である。
【図２】 本発明の真空処理装置のバルブ開閉を示す要
部断面図である。
部断面図である。
【図３】 本発明の他の実施の形態を示す要部断面図で
ある。
ある。
【図４】 マルチチャンバ型真空処理装置の構成を示す
模式図である。
模式図である。
【図５】 従来の真空処理装置のバルブ開閉を示す要部
断面図である。
断面図である。
１ 第１の真空チャンバ ２ 第２の真空チャンバ ３，３Ａ 隔壁 ３ａ 溝部 ４ 開口部 ５，５Ａ Ｏリング ５ａ フラット面 ６ 弁体 ７ 弁体駆動手段 ８ 圧力差検出手段 ８ａ，８ｂ 圧力計 ９ 弁体駆動力制御手段 １１ 処理用真空チャンバ １２ 搬送用真空チャンバ １３ ロードロックチャンバ １４ 真空バルブ
Claims (2)
- 【請求項１】 第１の真空チャンバと、開口部を有する
隔壁を介して該第１の真空チャンバと隣接する第２の真
空チャンバと、弁体と弁体駆動手段とを有して該開口部
を開閉する真空バルブとを有し、該真空バルブの閉状態
では該弁体駆動手段の駆動力により該弁体が該第２の真
空チャンバ側からＯリングを介して該隔壁を押圧する真
空処理装置において、該第１及び第２の真空チャンバ間
の圧力差を検出する圧力差検出手段と、該圧力差により
該駆動力を加減する弁体駆動力制御手段とを有し、該真
空バルブ閉状態での該駆動力が、該第１及び第２の真空
チャンバがともに真空状態では該Ｏリングの変形が相対
的に小さく、且つ該第１の真空チャンバの内圧上昇によ
り該Ｏリングの変形が相対的に大きくなるように、制御
されることを特徴とする真空処理装置。 - 【請求項２】 第１の真空チャンバと、開口部を有する
隔壁を介して該第１の真空チャンバと隣接する第２の真
空チャンバと、弁体と弁体駆動手段とを有して該開口部
を開閉する真空バルブとを有し、該真空バルブの閉状態
では該弁体駆動手段の駆動力により該弁体がＯリングを
介して該隔壁を押圧する真空処理装置において、該Ｏリ
ングはフラット面を有し、該フラット面で該隔壁若しく
は該弁体のフラット面に接着されていることを特徴とす
る真空処理装置。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101279205B1 (ko) | 2010-09-28 | 2013-07-05 | (주)엘지하우시스 | 진공단열재의 진공도 측정 장치 및 이를 이용한 측정방법 |
| JP2018501443A (ja) * | 2014-12-19 | 2018-01-18 | バット ホールディング アーゲー | 真空チャンバのチャンバ壁内のチャンバ開口を閉鎖するドア |
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| JPH08130239A (ja) * | 1994-10-28 | 1996-05-21 | Tokyo Electron Ltd | 真空室のドア装置 |
| JPH1199326A (ja) * | 1997-07-30 | 1999-04-13 | Nec Kansai Ltd | 真空ゲートバルブ及びこれを用いた真空処理装置 |
-
2000
- 2000-02-09 JP JP2000032465A patent/JP4503762B2/ja not_active Expired - Fee Related
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