JP6567886B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
102…真空ブロック、
103…真空処理室、
104…真空搬送室、
105…ロック室、
106…大気搬送室、
107…カセット、
108…搬送中間室、
109…大気搬送ロボット、
110…真空搬送ロボット、
201…第1ゲートバルブ、
202…第2ゲートバルブ、
203…バルブボックス、
204…試料台、
205…試料台ベース、
206…上部容器、
301…第1の高周波電源、
302…中心軸、
303…蓋部材、
304…ソレノイドコイル、
305…シャワープレート、
306…ガス導入リング、
307…放電ブロック、
308…ヒータ、
309…Oリング、
310…アースリング、
311…第1の温度コントローラ、
312…第2の温度コントローラ、
313…排気部蓋、
314…支柱、
315…排気ポンプ、
316…第2の高周波電源、
317…ベースプレート、
318…下部容器、
319…石英内筒、
320…放電ブロックベース、
321…アクチュエータ、
401…真空シート面、
402…Oリング、
403…真空シート面、
404…Oリング、
405…開口、
406…真空シート面、
501…ブロック、
502…ブロック、
503…ボルト、
504…ボルト。
Claims (4)
- 減圧された内側に配置されたウエハがプラズマを用いて処理される処理室を有した真空容器と、この真空容器が載せられて当該真空容器内部の処理室からのガスが排出される開口を有したベースプレートとを有し、前記真空容器が前記ベースプレートに対して水平方向に移動して取り外し可能に構成されたプラズマ処理装置であって、
前記真空容器が当該真空容器の水平方向に隣り合って配置され減圧されたその内部を前記ウエハが搬送される真空搬送室と連結されるものであって、
前記真空容器の側壁上に配置され前記ウエハが内側を通り前記処理室に搬送される開口と、前記真空容器及び前記真空搬送室の間の連結部と前記真空容器との間を締結する締結部材であって前記真空容器の1つの箇所と当該1つの箇所から水平方向及び下方の前記ベースプレートに向かう方向に離間した前記連結部の他の箇所との間に挿入されて両者を締結して前記開口の周囲の前記側壁と当該開口を囲んで配置されたシール部材を挟んだ前記連結部との間を気密に封止して連結させる締結部材とを備えたプラズマ処理装置。
- 請求項1記載のプラズマ処理装置であって、
前記締結部材による前記連結により前記真空容器の側壁表面に当接する前記シール部材及び当該真空容器の下面に当接する別のシール部材が当該真空容器内部と外部との間を気密に封止するプラズマ処理装置。
- 請求項1または2に記載のプラズマ処理装置であって、
前記連結部が前記真空搬送室と前記真空容器との間に配置され前記開口を開閉するバルブを内部に収納するバルブボックスであるプラズマ処理装置。
- 請求項1乃至3の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、
上下方向に荷重を生起して前記真空容器と前記ベースプレートとを連結させる別の締結手段を備えたプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015119882A JP6567886B2 (ja) | 2015-06-15 | 2015-06-15 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015119882A JP6567886B2 (ja) | 2015-06-15 | 2015-06-15 | プラズマ処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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JP2017002382A JP2017002382A (ja) | 2017-01-05 |
JP2017002382A5 JP2017002382A5 (ja) | 2018-07-26 |
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ID=57753470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2015119882A Active JP6567886B2 (ja) | 2015-06-15 | 2015-06-15 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6567886B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108828243B (zh) * | 2018-04-23 | 2021-12-14 | 济南鲁瑞生物科技有限公司 | 常规临床检验仪器 |
JP6910560B1 (ja) * | 2020-01-23 | 2021-07-28 | 株式会社日立ハイテク | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の運転方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5529673A (en) * | 1995-02-17 | 1996-06-25 | Sony Corporation | Mechanically joined sputtering target and adapter therefor |
JP3527450B2 (ja) * | 1999-12-22 | 2004-05-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
JP2007260624A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 真空装置に用いる真空容器及びその製造方法 |
JP2008024975A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Phyzchemix Corp | 半導体製造装置 |
JP5549552B2 (ja) * | 2010-11-12 | 2014-07-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置の組み立て方法及び真空処理装置 |
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2015
- 2015-06-15 JP JP2015119882A patent/JP6567886B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017002382A (ja) | 2017-01-05 |
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Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150617 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170119 |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20170803 |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A521 | Written amendment |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190228 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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