JP2001215542A - 非線形光素子 - Google Patents

非線形光素子

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JP2001215542A
JP2001215542A JP2000028134A JP2000028134A JP2001215542A JP 2001215542 A JP2001215542 A JP 2001215542A JP 2000028134 A JP2000028134 A JP 2000028134A JP 2000028134 A JP2000028134 A JP 2000028134A JP 2001215542 A JP2001215542 A JP 2001215542A
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signal light
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input
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Masashi Usami
正士 宇佐見
Hideaki Tanaka
英明 田中
Kousuke Nishimura
公佐 西村
Munefumi Tsurusawa
宗文 鶴澤
Haruhisa Sakata
治久 坂田
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KDDI Corp
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KDDI Corp
KDD Submarine Cable System Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 マークレベル及びスペースレベルの強度雑音
を共に低減でき、安定で小型安価な非線形光素子を実現
する。提示することを目的とする。 【解決手段】 光導波路層14に信号光を入力する。半
導体導波路層14は、信号光の波長より短いバンドギャ
ップ波長を具備する。半導体導波路層14に隣接して、
信号光の波長に近接するブラッグ波長を有する回折格子
12を設ける。半導体導波路層14に直流電圧を印加す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、非線形光素子に関
し、より具体的には、光伝送システム、光ネットワーク
システム及び光交換システム等で用いられる高速の光信
号の波形整形に利用可能な非線形光素子に関する。
【0002】
【従来の技術】超大容量超高速の光通信システムを実現
するには、光信号を電気信号に変換することなく、信号
波形を整形する技術が重要である。特に、1波長当たり
の信号伝送速度が毎秒10ギガビットを超えると、電気
信号で処理することが動作速度及び消費エネルギーの点
で困難になってくる。そこで、劣化した光信号波形を光
信号のままで波形整形したり、マークレベル及び/又は
スペースレベルの強度変動(強度雑音)を低減する光波
形整形素子又は装置の研究開発が、近年、盛んに行われ
ている。
【0003】高速の光波形整形素子として、光しきい値
特性を持つ可飽和吸収素子がある。半導体導波路に逆方
向バイアスを印加した電気吸収型可飽和吸収素子では、
吸収回復時間が20ピコ秒程度であり、高速の光信号に
も対応できる。しかし、電気吸収型可飽和吸収素子は、
光しきい値特性として、スペースレベルの雑音レベルの
抑制には効果があるが、マークレベルの雑音抑制には効
果がない。
【0004】マークレベルの雑音を抑制するには、光リ
ミッタ特性が必要である。マッハツェンダ干渉系の2つ
の光パス又はアームの一方又は両方に半導体光アンプを
挿入した構造の波長変換素子は、位相の干渉による非線
形特性を用いるので、光しきい値特性と光リミッタ特性
を兼ね備えている。しかし、2つの半導体光アンプ、マ
ッハツェンダ干渉回路、及び波長変換のための別の光源
等が必要であり、構成が複雑である。良好な信号を得る
ためには、2つの半導体光アンプの動作状態(例えば、
利得)を精度よくバランスさせると共に、信号光強度を
一定の範囲に制限しておく必要がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように、マークレ
ベル及びスペースレベルの両方の強度雑音を低減できる
従来の非線形光素子又は波形整形装置は、構造が複雑で
あり、寸法も大きく、動作制御が複雑で動作が不安定で
あるという問題があった。また、光通信システムに必要
な長期的な環境変化に対する安定性が低く、また、大量
生産に向いていない。
【0006】本発明は、このような問題点を解決する非
線形光素子を提示することを目的とする。
【0007】本発明は、マークレベル及びスペースレベ
ルの強度雑音を共に低減できる非線形光素子を提示する
ことを目的とする。
【0008】本発明はまた、長期的な環境変化に対して
安定に動作する非線形光素子を提示することを目的とす
る。
【0009】本発明はまた、単独の素子で実現でき、寸
法の小さい非線形光素子を提示することを目的とする。
【0010】本発明はまた、大量生産に適した低コスト
の非線形光素子を提示することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明に係る非線形光素
子は、信号光を導波する半導体導波路であって、当該信
号光の波長より短いバンドギャップ波長を具備する半導
体導波路層と、当該半導体導波路層を伝搬する当該信号
光に作用する回折格子であって、当該信号光の光強度に
応じて反射波長がシフトする回折格子と、当該半導体導
波路層に電界を印加する電界印加手段とを有することを
特徴とする。
【0012】半導体導波路層が、それ自体の可飽和吸収
特性により信号光に光しきい値特性を与え、信号光の低
強度レベル部分の光強度変動を抑圧する。また、信号光
の強度に応じて回折格子のブラッグ反射の波長特性がシ
フトすることにより、信号光の高強度レベル部分の光強
度変動を抑圧する。この結果、マークレベル及びスペー
スレベルの強度雑音を共に低減できる。勿論、信号光の
光強度、信号波長及び回折格子の反射特性を適切に選択
することで、その他の非線形入出力特性、例えば、従来
よりも急峻な光しきい値特性を得ることも可能になる。
【0013】単独の素子として実現できるので、長期に
わたり安定した特性を期待でき、大量生産、小型化及び
低価格化が容易である。
【0014】電界印加手段を具備することで、不要な残
存キャリアを高速に排出できる。すなわち、高速応答性
が得られる。
【0015】回折格子の周期及び振幅の少なくとも一方
を信号光の伝搬方向に連続的に変化させることで、異な
る入出力特性が得られる。
【0016】また、回折格子の周期及び振幅の少なくと
も一方が当該信号光の伝搬方向に不連続的に変化させる
ことで、それぞれ異なる波長の複数の信号光を一括し
て、非線形処理できる。これは、光波長分割多重伝送シ
ステムで非常に有益である。
【0017】半導体導波路層の温度を調節する温度調節
手段を備えることにより、より精密に入出力特性を制御
できる。
【0018】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例を詳
細に説明する。
【0019】図1は、本発明の一実施例の斜視図を示
す。内部構造を理解しやすいように、一部を切り欠いて
図示してある。図2は、図1のA−A線から見た断面
図、図3は、図1のB−B線から見た断面図をそれぞれ
示す。
【0020】n型InP基板10上にピッチ240n
m、深さ100nmの回折格子12を形成し、更にその
上に、バンドギャップ波長1.4μmのInGaAsP
導波路層14を積層する。導波路層14の断面は、幅が
1.5μm、厚み0.4μm厚の矩形である。導波路層
14の両側には、導波路層14に電界を集中するための
半絶縁性InP層16が配置される。導波路層14の上
に、バンドギャップ波長1.3μmのInGaAsPパ
イルアップ防止層18及びp−InPクラッド層20が
積層される。層16及び層20の上にp−InGaAs
Pコンタクト層22が積層される。この素子の上面及び
下面には、電極24,26が形成されている。無反射コ
ート膜28,30を両端面に被覆してある。
【0021】勿論、導波路層14、パイルアップ防止層
18及びクラッド層20を積層し、メサ状にエッチング
した後に、その脇にInP層16を成長して、層14,
18,20を埋め込む。
【0022】図1に示す非線形光素子の長さは500μ
mであり、1.55μm帯信号光が前端面から導波路層
14に入射し、後端面から出射される。本素子はまた、
温度調節装置32上に載置される。温度調節装置32は
例えば、ペルチェ素子又は薄膜ヒータからなる。直流電
源34が電極24,26間に直流電圧を印加する。
【0023】図4及び図5を参照して、本実施例の動作
を説明する。図4は、回折格子12の有無に応じた入出
力特性の模式図を示す。横軸は入力光強度、横軸は出力
光強度をそれぞれ示す。40は、回折格子12の無い場
合の入出力特性、即ち導波路層14自体の可飽和吸収特
性に基づく入出力特性を示す。42,44は回折格子1
2が存在するときの入出力特性を示す。42は、光強度
の大きな信号光が入力したときに回折格子12が信号光
をブラッグ反射するように信号光波長を設定した場合の
入出力特性を示し、44は、光強度の小さな信号光が入
力したときに回折格子12が信号光をブラッグ反射する
ように信号光波長を設定した場合の入出力特性を示す。
【0024】理解を容易にするために、先ず、回折格子
12を設けなかった場合の入出力特性を説明する。直流
電源34から電圧を出力しない場合、導波路層14のバ
ンドギャップ波長は1.4μmのままであり、導波路層
14は波長1.55μm帯の信号光にとって透明であ
る。しかし、直流電源34から電極24,26間に直流
電圧、例えば、3Vを出力して、導波路層14に電界を
印加すると、導波路層14では、フランツケルディシュ
効果により吸収端が長波側にシフトし、1.55μm帯
信号光を吸収できるようになり、この結果、導波路層1
4を可飽和吸収媒体と見なせるようになる。入力光強度
が大きい場合、吸収が飽和するので、信号光に対する吸
収係数は、入力光の強度が強くなるに従い減少する。す
なわち、回折格子12が存在しない場合の入出力特性
は、図4の特性曲線40に示すように、光しきい値機能
を示す。
【0025】次に、回折格子12が存在する場合の入出
力特性を説明する。回折格子12のブラッグ波長λb
は、入力光強度に応じて変化する。図5は、導波路層1
4の相対透過率の波長特性を示す。横軸は波長、縦軸は
相対透過率をそれぞれ示す。強度の小さい信号光が入力
する場合、例えば、ブラッグ波長が1550nm(=λ
b1)であり、図5(a)に示すようにブラッグ波長λ
b1を中心とする0.5nm〜1.0nmの範囲で相対
透過率が低下(反射率が増大)する。入力信号光の強度
が大きくなると、ブラッグ波長が低波長側にシフトし、
例えば、図5(b)に示すように、ブラッグ波長が15
49.5nm(=λb2)になる。これは、入力光強度
の増大に従い、吸収量も増大するので、導波路層14内
のキャリア密度が増大し、その屈折率が減少することに
よる。回折格子導波路のブラッグ波長λは、次式で与
えられる。すなわち、 λ=2・neff・Λ 但し、neffは導波路の等価屈折率、Λは回折格子の
ピッチである。従って、等価屈折率neffの減少によ
り、ブラッグ波長λが短波側にシフトする。
【0026】本実施例は、導波路層14自体の可飽和吸
収特性40に、回折格子12のブラッグ反射特性の波長
シフトを融合した特性を示す。これにより、高速に動作
する非線形性特性又は波形整形特性を実現できる。
【0027】図4の特性42は、入力信号光の波長λs
を、高強度入力時のブラッグ波長1549.5nm(λ
b2)と一致させた場合の入出力特性である。入力信号
光強度が小さいときには、図5(a)に示すように、信
号光波長λsがブラッグ反射帯域外にあるので、導波路
層14の透過率が高くなり、可飽和吸収特性40とほぼ
同じ光しきい値特性を示す。しかし、入力信号光強度の
増大とともに、ブラッグ波長が信号光波長λに近付く
ので、透過率が低下する。そして、信号波長λ が反射
帯域内に入るほどに入力光強度が増大すると、以後、出
力光強度が増加しなくなる。すなわち、光リミッタ特性
が得られる。この場合には、光しきい値特性と光リミッ
タ特性が融合し、スペースレベル及びマークレベルの強
度雑音を共に抑制する非線形特性が得られる。
【0028】図5の特性44は、信号光波長λが低強
度入力時のブラッグ波長1550nm(λb1)に一致
する場合の入出力特性である。信号光の強度が低い時に
は信号光波長λがブラッグ反射帯域内に位置するの
で、透過率が低くなり、出力光強度はほぼゼロになる。
入力光強度の増大とともに、信号光波長がブラッグ反射
帯域の外に相対的に移動するので、透過率が増加し、出
力光強度が急激に増加する。すなわち、光しきい値特性
が得られる。この場合、導波路層14自体の可飽和吸収
特性では得ることのできないほど急峻な光しきい値特性
が得られる。
【0029】説明を簡単にするため、信号光波長をブラ
ッグ波長に設定した例を示したが、入力光強度の変化に
応じたフィルタ特性のシフトにより信号光の透過特性が
変化する波長帯であれば、必ずしも信号光波長とブラッ
グ波長を一致させる必要はない。
【0030】本実施例では、回折格子12のブラッグ波
長と信号光波長との相関関係の設定が必要となる。半導
体導波路のブラッグ波長λは0.1nm/゜C程度の
温度依存性を持つので、ペルチェ素子や集積ヒータ等に
よる温度制御で回折格子12のブラッグ波長λを容易
に精度よく設定することができる。温度調節装置32が
回折格子12のブラッグ波長λを調節するのに使用さ
れる。
【0031】本実施例では、信号光がなくなると、吸収
飽和で生じたキャリアが電界により外部回路に吐き出さ
れる。これにより、非常に高速な応答性が得られる。
【0032】このように、本実施例では、可飽和吸収導
波路14に回折格子12を設けることにより、高速、小
型且つ自由度の高い非線形特性を容易に実現できる。
【0033】図6は、本発明の第2実施例の信号伝搬方
向での断面図を示す。図1乃至図3に示す実施例では回
折格子12が信号伝搬方向に一定のピッチを具備する
が、図6に示す実施例では、その代わりに、信号伝搬方
向でピッチ及び振幅が変化する回折格子12aを使用す
る。すなわち、回折格子12aは、信号入射側から信号
出射側にいくに従って周期が徐々に長くなり、且つ振幅
も徐々に大きくなるチャープトグレーティングである。
回折格子12a以外の構造は、図1乃至図3に示す実施
例と同じであり、図1乃至図3に示す実施例と同じ構成
要素には同じ符号を付してある。
【0034】図7は、図6に示す実施例で、低強度の信
号光に対する透過率の波長依存性を示す。縦軸は相対透
過率を示し、横軸は波長を示す。チャープトグレーティ
ングにより広い帯域に亘り反射率を制御できるようにな
る。ここでは、信号光波長λ をブラッグ反射帯域外の
短波長側に設定する。入力光強度の増大により透過スペ
クトル特性が図1に示す実施例と同様にシフトするが、
図7に示すように透過率が、図7に示すように波長に対
して傾斜する傾向を示すので、図8に特性46として示
すように、入力光強度が大きい部分で出力光強度が平坦
になるような入出力特性が得られる。図8の横軸は入力
光強度、横軸は出力光強度をそれぞれ示す。
【0035】図9は、第3の実施例の縦断面図を示す。
図9に示す実施例では、回折格子12bは、信号伝搬方
向で2種類のピッチΛ,Λを具備する。即ち、信号
入射側から中間までの範囲のピッチΛが239.6n
m、中間から信号出射側までの範囲のピッチΛが24
0nmである。回折格子12a以外の構造は、図1乃至
図3に示す実施例と同じであり、図1乃至図3に示す実
施例と同じ構成要素には同じ符号を付してある。
【0036】図10は、図9に示す実施例で、低強度の
信号光に対する透過率の波長依存性を示す。縦軸は相対
透過率を示し、横軸は波長を示す。導波路層14の透過
スペクトルは、2つの回折格子周期により2つのディッ
プを持つW型の特性となる。ここでは、信号光波長λ
を短波側のブラッグ反射帯域の長波端に設定する。入力
光強度の増大により透過スペクトル特性が図1に示す実
施例と同様にシフトする。その結果、全体の入出力特性
は、低光強度の部分と高光強度の部分で透過率が低くな
り、中間の光強度で透過率が高くなる非線形特性と、導
波路層14の持つ可飽和吸収特性とを融合したものとな
る。図11は、図9に示す実施例の入出力特性を示す。
横軸は入力光強度を示し、縦軸は出力光強度を示す。特
性48が図9に示す実施例の入出力特性である。図9か
ら容易に理解できるように、図9に示す実施例では、光
しきい値動作及び光リミッタ動作とも良好であり、スペ
ースレベル及びマークレベルの強度雑音を抑制するのに
適した非線形特性が得られる。
【0037】図9に示す実施例では、2種類の周期を具
備する回析格子12bを使用したが、3種類以上の周期
を具備する回析格子を使用することで、より複雑な非線
形特性を実現できる。また、2種類以上の周期を具備す
る回折格子を使用することで、波長分割多重信号光の各
信号光を一括して波形整形することも可能となる。
【0038】以上の説明では、信号光波長を1.55μ
m帯としたが、他の波長帯、例えば、通常の光通信シス
テムで使われている1.3μm帯、0.98μm帯、
0.78μm帯及び0.68μm帯、並びに、電気吸収
可能な半導体材料と組み合わせ可能なその他の波長帯で
も同様の作用効果を得ることができる。
【0039】導波路層14の材料としてInGaAsP
/InP系を挙げたが、その他の材料でも良い。例え
ば、GaAs/AlGaAs系、InAlGaAs/I
nP系、InGaP/GaAs系、並びに、その他のI
II−V属半導体及びII−VI属半導体を使用しても
良い。
【0040】活性層をバルク材料としたが、QCSE効
果を用いた多重量子井戸構造としてもよい。均一ピッチ
の回折格子12,12bに代えて、フィルタ帯域を広げ
るためピッチを連続的に変化させた回折格子を用いても
よい。
【0041】導波路層14の下に回折格子12,12
a,12bを形成しているが、導波路層の上部又は側部
に回折格子を形成してもよい。
【0042】
【発明の効果】以上の説明から容易に理解できるよう
に、本発明によれば、マークレベル及びスペースレベル
の強度雑音を低減でき、高速に動作する非線形光素子を
提供できる。加えて、回折格子の形状を制御すること
で、より複雑な非線形特性を容易に実現できる。更に、
電気吸収効果を用いているので、数10Gbit/sの
高速動作にも十分応答可能である。従来の干渉系型非線
形光素子と比較して、寸法が小さく、長期的な環境変化
に対する安定作に優れ、自由度の高い非線形性を具備
し、高速に動作する非線形光素子を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施例の斜視図である。
【図2】 図1のA−A線から見た断面図である。
【図3】 図1のB−B線から見た断面図である。
【図4】 第1実施例の入出力特性を示す図である。
【図5】 低入力強度の信号光と高入力強度の信号光に
対する透過率の波長依存性を示す図である。
【図6】 本発明の第2実施例の縦断面図である。
【図7】 第2実施例における低入力光強度の信号光に
対する透過率の波長依存性を示す図である。
【図8】 第2実施例の入出力特性を示す図である。
【図9】 第3実施例の縦断面図である。
【図10】 第3実施例における低入力強度の信号光に
対する透過率の波長依存性を示す図である。
【図11】 第3実施例の入出力特性を示す図である。
【符号の説明】
10:n型InP基板 12,12a,12b:回折格子 14:導波路層 16:半絶縁性InP層 18:パイルアップ防止層 20:クラッド層 22:コンタクト層 24,26:電極 28,30:無反射コート膜 32:温度調節装置 34:直流電源 40:導波路層14自体の可飽和吸収特性に基づく入出
力特性 42:高強度の入力信号光に対する入出力特性 44:低強度の入力信号光に対する入出力特性 46:図6に示す実施例の入出力特性 48:図9に示す実施例の入出力特性
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 英明 埼玉県上福岡市大原二丁目1番15号株式会 社ケイディディ研究所内 (72)発明者 西村 公佐 埼玉県上福岡市大原二丁目1番15号株式会 社ケイディディ研究所内 (72)発明者 鶴澤 宗文 埼玉県上福岡市大原二丁目1番15号株式会 社ケイディディ研究所内 (72)発明者 坂田 治久 埼玉県上福岡市大原二丁目1番15号株式会 社ケイディディ研究所内 Fターム(参考) 2H079 AA02 AA14 BA04 CA04 DA16 EA03 EA07 EA08 EB04 KA08 2K002 AA02 AB40 BA06 CA13 CA25 DA06 EA28 GA10 HA30

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 信号光を導波する半導体導波路であっ
    て、当該信号光の波長より短いバンドギャップ波長を具
    備する半導体導波路層と、 当該半導体導波路層を伝搬する当該信号光に作用する回
    折格子であって、当該信号光の光強度に応じて反射波長
    がシフトする回折格子と、 当該半導体導波路層に電界を印加する電界印加手段とを
    有することを特徴とする非線形光素子。
  2. 【請求項2】 当該反射波長は、当該信号光の所定光強
    度範囲内のどこかの光強度において当該信号光の波長と
    実質的に等しい請求項1に記載の非線形光素子。
  3. 【請求項3】 当該回折格子の周期及び振幅の少なくと
    も一方が当該信号光の伝搬方向に連続的に変化する請求
    項1に記載の非線形光素子。
  4. 【請求項4】 当該回折格子の周期及び振幅の少なくと
    も一方が当該信号光の伝搬方向に不連続的に変化する請
    求項1に記載の非線形光素子。
  5. 【請求項5】 更に、当該半導体導波路層の温度を調節
    する温度調節手段を備える請求項1乃至4の何れか1項
    に記載の非線形光素子。
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