JP2001213695A - るつぼ用蓋及びこれを用いたシリコン多結晶の融解方法 - Google Patents

るつぼ用蓋及びこれを用いたシリコン多結晶の融解方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】多結晶シリコンに不純物が付着することを防止
し、引き上げられるシリコン単結晶のフリー化率を向上
する。 【解決手段】るつぼ用蓋10は石英るつぼ12の上部開
口部を覆うように構成され略中央部に通風孔13cが形
成された蓋体13と、通風孔13cを覆うように蓋体1
3の上部に取付けられたフィルタ14とを備える。融解
方法は、多結晶シリコン11が入れられて上部開口部が
るつぼ用蓋で覆われた石英るつぼ12をチャンバ内に設
ける工程と、チャンバ内を真空にした後不活性ガスを流
通させる工程と、チャンバ内を大気圧にした後石英るつ
ぼからるつぼ用蓋を取り外す工程と、チャンバ内を真空
にした後不活性ガスを再び流通させる工程と、不活性ガ
スを流通させた状態で又は不活性ガスの流通を停止させ
た後の不活性ガス雰囲気中でカーボンヒータにより多結
晶シリコン11を融解する工程とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコン単結晶育
成装置の石英るつぼに使用される蓋及びその蓋を用いた
シリコン多結晶の融解方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、シリコン単結晶を育成する装置
は、チャンバ内に設けられ石英るつぼを包囲して支持す
るカーボンサセプタと、このサセプタを包囲してチャン
バ内に設けられ石英るつぼ内の多結晶シリコンを融解し
かつ石英るつぼ内に貯留されたシリコン融液を加熱する
カーボンヒータとを備える。この装置はサセプタの支軸
を介して石英るつぼを上昇又は下降させるるつぼ昇降手
段を備え、石英るつぼに入れられた多結晶シリコンをカ
ーボンヒータで融解した後、石英るつぼ内に貯留された
シリコン融液に種結晶を接触させ、その種結晶を引上げ
て種結晶の下方にシリコン単結晶を育成している。一
方、カーボンヒータで融解する多結晶シリコンはチャン
バ内に装着された石英るつぼに入れられるか、又はチャ
ンバの外部で石英るつぼに入れられ、その後チャンバ内
に装着される。チャンバの外部で多結晶シリコンを入れ
るのは、シリコン単結晶育成装置の稼働率を向上させる
ためである。この場合、チャンバの外部で多結晶シリコ
ンを入れた石英るつぼを予め保管し、一旦シリコン単結
晶の育成が終了した装置にその保管された石英るつぼを
直ちにチャンバ内に装着できるように準備しておく。こ
の保管の際には、多結晶シリコンに空気中に浮遊する不
純物が付着することを防止するために、多結晶シリコン
を入れた石英るつぼに蓋が被せられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、石英るつぼに
蓋をするだけでは石英るつぼの開口部と蓋の間を完全に
密封することができず、周辺環境温度が変動することに
よりその僅かな隙間から空気の流通が生じ、石英るつぼ
の外部に浮遊する不純物が空気とともにその隙間から石
英るつぼの内部に侵入して多結晶シリコンの表面に付着
する不具合がある。この点を解消するためには石英るつ
ぼに蓋をした後その僅かな隙間を更に埋める必要がある
が、その作業は困難であり、作業工数が増加して実質的
に装置の稼働率を向上できない問題点がある。また、多
結晶シリコンが入れられた石英るつぼをチャンバ内に装
着する際には、チャンバ外部に浮遊する不純物がその石
英るつぼとともチャンバ内に入り、石英るつぼから蓋を
取り外した後にその不純物が石英るつぼの中に入り込ん
で多結晶シリコンに付着する場合もある。多結晶シリコ
ンをその後融解して石英るつぼに貯留されたシリコン融
液中にこのような不純物が存在すると、引き上げられる
シリコン単結晶のフリー化率が低下する不具合がある。
本発明の目的は、石英るつぼに被せるだけで多結晶シリ
コンに不純物が付着することを有効に防止し得るるつぼ
用蓋を提供することにある。本発明の別の目的は、シリ
コン融液中の不純物を減少させて引き上げられるシリコ
ン単結晶のフリー化率を向上し得るるつぼ用蓋を用いた
シリコン多結晶の融解方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
図1に示すように、多結晶シリコン11が入れられた石
英るつぼ12の上部開口部を覆うように構成され略中央
部に通風孔13cが形成された蓋体13と、通風孔13
cを覆うように蓋体13の上部に取付けられたフィルタ
14とを備えたるつぼ用蓋10である。この請求項1に
記載された発明では、多結晶シリコン11を入れるつぼ
用蓋10で封をした石英るつぼ12を保管すると、通風
孔13cからエアの流通が行われる。石英るつぼ12の
内部からその外部へエアが排出される場合には不純物が
石英るつぼ12の内部に侵入することはないが、石英る
つぼ12の外部から内部へエアが導入される場合にはエ
アがフィルタ14を通過した後、蓋体13の通風孔13
cから石英るつぼ12の内部に導入される。この際フィ
ルタ14は浮遊する不純物を捕集し、蓋体13の通風孔
13cから石英るつぼ12の内部に導入されるエアに不
純物が混入することを防止する。これにより不純物が石
英るつぼ12内部に侵入して石英るつぼ12に入れられ
た多結晶シリコン11に不純物が付着することを防止す
る。
【0005】請求項2に係る発明は、図2〜図4に示す
ように、多結晶シリコン11が入れられて上部開口部が
請求項1記載のるつぼ用蓋10で覆われた石英るつぼ1
2をチャンバ21内に設ける工程と、チャンバ21内を
真空にした後不活性ガスをチャンバ21内に流通させる
工程と、チャンバ21内を大気圧にした後石英るつぼ1
2からるつぼ用蓋10を取り外す工程と、チャンバ21
内を真空にした後不活性ガスをチャンバ21内に再び流
通させる工程と、不活性ガスを流通させた状態で又は不
活性ガスの流通を停止させた後の不活性ガス雰囲気中で
チャンバ21内に設けられたカーボンヒータ26により
多結晶シリコン11を融解する工程とを含むるつぼ用蓋
を用いたシリコン多結晶の融解方法である。
【0006】この請求項2に記載された発明では、石英
るつぼ12をるつぼ用蓋10で覆った状態でチャンバ2
1内を一旦真空状態にすることにより、石英るつぼ12
をチャンバ11に装着する際に入り込んだ浮遊不純物を
外部に排出する。その後不活性ガスを流通させることに
よりその石英るつぼ12及びるつぼ用蓋10の外面に付
着した不純物をチャンバ21外に排出させる。その後る
つぼ用蓋10を取り外してチャンバ21の内部に不活性
ガスを流通させることにより、るつぼ用蓋10を取り外
す際に侵入した不純物を、多結晶シリコンに付着する以
前に外部に排出する。このように、石英るつぼ12をチ
ャンバ11に装着する際若しくは石英るつぼ12からる
つぼ用蓋10を取り外す際に侵入した不純物、又は石英
るつぼ12及びるつぼ用蓋10の外面に付着して侵入し
た不純物は多結晶シリコン11を融解させる以前にチャ
ンバ21外に排出されるので、その多結晶シリコン11
を融解させて石英るつぼ12の貯留されたシリコン融液
中には不純物が存在せず、引き上げられるシリコン単結
晶のフリー化率は従来より向上する。
【0007】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面に
基づいて説明する。図1に示すように、本発明のるつぼ
用蓋10は多結晶シリコン11が入れられた石英るつぼ
12の上部開口部を覆うように構成された蓋体13と、
フィルタ14とを備え、蓋体13は石英るつぼ12の開
口部を覆う平板部13aと石英るつぼ12上部周囲を包
囲する包囲部13bが一体的に形成される。蓋体13は
ポリテトラフルオロエチレン(商標名;テフロン)、ポ
リプロピレン、ポリエチレン等の樹脂を成形することに
より一体的に作られ、平板部13aの略中央部分には円
形の孔から成る通風孔13cが形成される。また、平板
部13aにはこの通風孔13cをその孔縁から所定の間
隔をあけて包囲する周壁13dが上部に形成され、この
周壁13dの周囲には雄ねじが形成される。
【0008】フィルタ14は蓋体13の通風孔13cを
覆うよう平板部13aの上部に配置される。この実施の
形態に使用するフィルタ14は不織布からなる濾紙であ
り、周壁13dの高さに相当する厚さに形成される。こ
のフィルタ14は粒径0.3μmの粒子をも捕集可能な
ものが使用され、このフィルタ14を透過するエアから
そのエアに含まれる不純物を捕集可能に構成される。フ
ィルタ14は周壁13dの内径に相当する外径に形成さ
れ、取付蓋16により蓋体13に取付けられる。取付蓋
16は周壁を覆うように形成され、通風孔13cに対応
する導風孔16aが形成される。取付蓋16には周壁1
3dの雄ねじに螺合可能な雌ねじが形成され、フィルタ
14を平板部13aの上部に配置した状態で取付蓋16
を周壁13dの雄ねじに螺合することにより、フィルタ
14は通風孔13cを覆うように蓋体13の上部に取付
けられる。
【0009】多結晶シリコン11は、シリコン単結晶育
成装置の外部における浮遊不純物が所定量以下の空間、
いわゆるクリーンルームの内部で石英るつぼ12に入れ
られる。るつぼ用蓋10は、多結晶シリコン11が入れ
られた石英るつぼ12に被せられる。るつぼ用蓋10を
石英るつぼ12に被せると、蓋体13の平板部13aが
石英るつぼ12の開口部を覆い、蓋体13の包囲部13
bが石英るつぼ12上部周囲を包囲して蓋体13が石英
るつぼ12から外れることを防止する。このように多結
晶シリコン11を入れた石英るつぼ12に本発明のるつ
ぼ用蓋10で封をして保管した場合、周辺環境温度が変
動すると石英るつぼ12の内部と外部に圧力差が生じ、
この圧力差から通風孔13cを介する空気の流通が生じ
る。石英るつぼ12の内部からその外部へエアが排出さ
れる場合には不純物が石英るつぼ12の内部に侵入する
ことはないが、石英るつぼ12の外部から内部へエアが
導入される場合にはエアがフィルタ14を通過した後、
図1の実線矢印で示すように蓋体13の通風孔13cか
ら石英るつぼ12の内部に導入される。この際フィルタ
14は浮遊する不純物を捕集し、蓋体13の通風孔13
cから石英るつぼ12の内部に導入されるエアに不純物
が混入することを防止する。これにより不純物が石英る
つぼ12内部に侵入して石英るつぼ12に入れられた多
結晶シリコン11に不純物が付着することを防止する。
【0010】次にこの石英るつぼ12が装着されるシリ
コン多結晶の引上げ装置20について説明する。図2〜
図4に示すように、石英るつぼ12は、シリコン単結晶
の引上げ装置20のチャンバ21内に設けられる。石英
るつぼ12の外面は黒鉛サセプタ22により被覆され
る。石英るつぼ12の下面は上記黒鉛サセプタ22を介
して支軸23の上端に固定され、この支軸23の下部は
るつぼ駆動手段24に接続される。るつぼ駆動手段24
は図示しないが石英るつぼ12を回転させる第1回転用
モータと、石英るつぼ12を昇降させる昇降用モータと
を有し、これらのモータにより石英るつぼ12が所定の
方向に回転し得るとともに、上下方向に移動可能となっ
ている。石英るつぼ12の外周面は石英るつぼ12から
所定の間隔をあけてヒータ26により包囲され、このヒ
ータ26は保温筒27により包囲される。
【0011】またチャンバ21の上端には円筒状のケー
シング28が接続される。図4に示すように、このケー
シング28には引上げ手段29が設けられる。引上げ手
段29はケーシング28の上端部に水平状態で旋回可能
に設けられた引上げヘッド(図示せず)と、このヘッド
を回転させる第2回転用モータ(図示せず)と、ヘッド
から石英るつぼ12の回転中心に向って垂下されたワイ
ヤケーブル29aと、上記ヘッド内に設けられワイヤケ
ーブル29aを巻取り又は繰出す引上げ用モータ(図示
せず)とを有する。ワイヤケーブル29aの下端にはシ
リコン単結晶棒25を引上げるための種結晶29bが取
付けられる。またシリコン単結晶棒25の外周面と石英
るつぼ12の内周面との間にはシリコン単結晶棒25の
外周面を包囲する熱遮蔽部材31が設けられる。
【0012】更に、チャンバ21にはこのチャンバ21
のシリコン単結晶棒側に不活性ガスを供給しかつ上記不
活性ガスをチャンバ21のるつぼ内周面側から排出する
ガス給排手段32が接続される。ガス給排手段32は一
端がケーシング28の周壁に接続され他端が上記不活性
ガスを貯留するタンク(図示せず)に接続された供給パ
イプ33と、一端がチャンバ21の下壁に接続され他端
が真空ポンプ(図示せず)に接続された排出パイプ34
とを有する。供給パイプ33及び排出パイプ34にはこ
れらのパイプ33,34を流れる不活性ガスの流量を調
整する第1及び第2流量調整弁36,37がそれぞれ設
けられる。
【0013】このように構成された装置におけるるつぼ
用蓋を用いたシリコン多結晶の融解方法を説明する。図
2に示すように、先ず多結晶シリコン11が入れられて
上部開口部がるつぼ用蓋10で覆われた石英るつぼ12
を黒鉛サセプタ22に装着することにより、るつぼ用蓋
10とともにその石英るつぼ12をチャンバ21内に設
ける。次に、第2流量調整弁37を開くことによりチャ
ンバ21内のエアを排出パイプ34からチャンバ21外
部に排出し、一旦チャンバ21の内部を真空にする。そ
の後第1流量調整弁36を開いて供給パイプ33からチ
ャンバ21内に不活性ガスを供給し、その不活性ガスを
排出パイプ34から排出させることにより不活性ガスを
チャンバ21内に流通させる。このようにチャンバ21
内を一旦真空状態にすることにより、石英るつぼ12を
チャンバ11に装着する際に入り込んだ浮遊不純物はエ
アとともに排出パイプ34から外部に排出され、不活性
ガスを流通させることによりその石英るつぼ12及びる
つぼ用蓋10の外面に付着した不純物をチャンバ21外
に排出させる。
【0014】その後第2流量調整弁37を閉じ、チャン
バ21内が供給パイプ33から供給される不活性ガスに
より大気圧にし、その状態で第1流量調整弁36を閉じ
る。その後図3に示すようにチャンバ21を開放して石
英るつぼ12からるつぼ用蓋10を取り外し、再びチャ
ンバ21を閉じ、第2流量調整弁37を再び開く。これ
により開放した際にチャンバ21内に侵入したエア及び
そのチャンバ21内に残存する不活性ガスは排出パイプ
34からチャンバ21外部に排出され、チャンバ21の
内部は真空状態になる。その後第1流量調整弁36を再
び開いて供給パイプ33からチャンバ21内に不活性ガ
スを供給し、その不活性ガスを排出パイプ34から排出
させることにより不活性ガスをチャンバ21内に流通さ
せる。これにより開放した際にエアとともに侵入した不
純物は、多結晶シリコンに付着する以前にエア又は不活
性ガスとともに排出パイプ34から外部に排出される。
【0015】このように不活性ガスを流通させた状態で
又は不活性ガスの流通を停止させた後の不活性ガス雰囲
気中でカーボンヒータ26により石英るつぼ12に入れ
られた多結晶シリコン11を融解する。多結晶シリコン
11が融解すると図4に示すように、石英るつぼ12に
シリコン融液39が貯留され、チャンバ21内部を流通
する不活性ガスは融解したシリコン融液12の表面から
蒸発したガスを排出パイプ34から外部に排出する。そ
の後、引上げ手段のワイヤケーブル29aを繰出して種
結晶29bの先端部をシリコン融液39に接触させ、徐
々に引上げて種結晶29bの下部にシリコン単結晶棒2
5を育成させるが、石英るつぼ12をチャンバ11に装
着する際若しくは石英るつぼ12からるつぼ用蓋10を
取り外す際にエアとともに侵入した不純物、又は石英る
つぼ12及びるつぼ用蓋10の外面に付着して侵入した
不純物は、多結晶シリコン11を融解させる以前にチャ
ンバ21外に排出されるので、石英るつぼ12の貯留さ
れたシリコン融液39中には不純物が存在せず、引き上
げられるシリコン単結晶25のフリー化率は従来より向
上する。
【0016】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のるつぼ用蓋
は、多結晶シリコンが入れられた石英るつぼの上部開口
部を覆うように構成され略中央部に通風孔が形成された
蓋体と、通風孔を覆うように蓋体の上部に取付けられた
フィルタとを備えたので、通風孔からエアの流通が行わ
れる。石英るつぼの外部から内部へエアが導入される場
合にはエアはフィルタを通過し、フィルタは浮遊する不
純物を捕集するので、その通風孔から石英るつぼの内部
に不純物が混入することはなく、石英るつぼに入れられ
た多結晶シリコンに不純物が付着することはない。ま
た、本発明のるつぼ用蓋を用いたシリコン多結晶の融解
方法では、石英るつぼをるつぼ用蓋で覆った状態でチャ
ンバ内を一旦真空状態にするので、石英るつぼをチャン
バに装着する際に入り込んだ浮遊不純物は外部に排出さ
れ、その後不活性ガスを流通させることによりその石英
るつぼ及びるつぼ用蓋の外面に付着した不純物もチャン
バ外に排出させることができる。またるつぼ用蓋を取り
外した後にもチャンバの内部に不活性ガスを流通させる
ので、るつぼ用蓋を取り外す際に侵入した不純物も外部
に排出することができる。この結果、多結晶シリコンを
融解させて石英るつぼの貯留されたシリコン融液中には
不純物が存在することはなく、引き上げられるシリコン
単結晶のフリー化率を従来より向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のるつぼ用蓋を石英るつぼに被せた状態
を示す断面構成図。
【図2】るつぼ用蓋が被せられた石英るつぼが装着され
た引上げ装置の断面構成図。
【図3】そのるつぼ用蓋が石英るつぼから取り外された
引上げ装置の断面構成図。
【図4】シリコン融液からシリコン単結晶が引き上げら
れた引上げ装置の断面構成図。
【符号の説明】
10 るつぼ用蓋 11 多結晶シリコン 12 石英るつぼ 13 蓋体 13a 通風孔 14 フィルタ 21 チャンバ 26 カーボンヒータ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多結晶シリコン(11)が入れられた石英る
    つぼ(12)の上部開口部を覆うように構成され略中央部に
    通風孔(13c)が形成された蓋体(13)と、 前記通風孔(13c)を覆うように前記蓋体(13)の上部に取
    付けられたフィルタ(14)とを備えたるつぼ用蓋。
  2. 【請求項2】 多結晶シリコン(11)が入れられて上部開
    口部が請求項1記載のるつぼ用蓋(10)で覆われた石英る
    つぼ(12)をチャンバ(21)内に設ける工程と、 前記チャンバ(21)内を真空にした後不活性ガスを前記チ
    ャンバ(21)内に流通させる工程と、 前記チャンバ(21)内を大気圧にした後前記石英るつぼ(1
    2)から前記るつぼ用蓋(10)を取り外す工程と、 前記チャンバ(21)内を真空にした後不活性ガスを前記チ
    ャンバ(21)内に再び流通させる工程と、 不活性ガスを流通させた状態で又は不活性ガスの流通を
    停止させた後の不活性ガス雰囲気中で前記チャンバ(21)
    内に設けられたカーボンヒータ(26)により前記多結晶シ
    リコン(11)を融解する工程とを含むるつぼ用蓋を用いた
    シリコン多結晶の融解方法。
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